JP3929309B2 - 電子線照射装置及び方法 - Google Patents
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Description
技術分野
本発明は電子線照射装置及び方法に係り、特に、例えば火力発電所等から排出される燃焼排ガスに電子線を照射することにより排ガス中の有害成分を除去することに用いられる電子線照射装置及びその電子線の照射方法に関する。
【0002】
背景技術
経済活動の発達に伴いより多くのエネルギーが必要とされるが、エネルギー需要がさらに増加するなかで、エネルギー源としては未だ石炭や石油等の化石燃料に依存している。しかしながら、化石燃料を燃焼させることにより排出される有害物質すなわち汚染物質は地球の汚染にも関係している。世界的に問題となっている大気汚染による地球の温暖化や酸性雨等は、例えば火力発電所等から排出される燃焼排ガス中に存在する、SOx、NOx等の成分に起因していると考えられる。これらのSOx、NOx等の有害成分を除去する方法として、燃焼排ガスに電子線を照射することによって、脱硫・脱硝(SOx、NOx等の有害成分の除去)を行うことが実施されている。
【0003】
電子線を利用することにより燃焼排ガスを処理する排ガス処理システムにおいては、例えばTi等の薄板からなる照射窓から放出された電子線を、燃焼排ガス中の酸素(O2)、水蒸気(H2O)などの分子に照射することにより、非常に酸化力の強い、OH、O、HO2等のラジカルを形成させている。これらのラジカルが、SOx及びNOx等の有害成分を酸化し、中間生成物として硫酸と硝酸とを生成する。これらの中間生成物は、あらかじめ排ガス中に投入しておいたアンモニアガス(NH3)と反応し、硫安及び硝安となり、肥料の原料として回収される。従って、このような排ガス処理システムにおいては、燃焼排ガス中から有害なSOx、NOx等の成分を除去することができると共に、その副生品として有用な硫安・硝安等の肥料の原料として回収することができる。
【0004】
図3は、上記排ガス処理システムに用いられる電子線照射装置の一例を示す。ここで、電子線照射装置11は、熱電子フィラメント等の熱電子発生源12と、その熱電子発生源12より放出された電子を加速する加速管13と、その加速管13にて形成された高エネルギーの電子線に磁界を印加することでその電子線のビーム径を制御するフォーカス用電磁石16と、そのフォーカス用電磁石16によって径が制御された電子線に磁界を印加することで電子線をx方向及びy方向に偏向する走査用電磁石17,18とから主に構成されている。x方向は図3に示すように水平方向であり、y方向はx方向に対して垂直かつ図3の紙面に対して垂直である。これらは、外囲器19及び照射窓部20内に収納され、内部は1.33×10−3〜1.33×10−4Pa(10−5〜10−6Torr)程度の高真空雰囲気下に保持される。加速管13により形成された高エネルギーの電子線は、走査用電磁石17,18により磁界を印加することで、偏向、走査され、照射窓20より下方の排ガスの流路(図3には図示せず)の所定の範囲に放出される。
【0005】
例えばフィラメントなどの熱電子発生源12により発生された熱電子は、加速管13中において例えば800kV程度の高電圧により加速され、高速の電子線となる。そして、フォーカス用電磁石16によりその電子線のビーム径が、図3に示す場合は略同一径の直進ビームとなるように制御され、走査用電磁石17,18が形成する磁界に向けて進行する。ここでフォーカス用電磁石16は軸線周りにリング状のコイルを備えた電磁石であり、電子線の軸線方向に軸対称に磁界が形成され、この磁界の大きさ及び向きにより電子線のビーム径が制御される。つまり、電子線のフォーカスは磁界の大きさ及び向きにより制御されるといえる。このため、電磁石コイルには直流電流I0が供給され、直流電流I0の大小により電子線の収束または発散の程度が調整される。
【0006】
フォーカス用電磁石16でビーム径が制御された電子線は、次に走査用電磁石17,18によりx,y方向に走査される。ここで走査用電磁石17はy方向に電子線を偏向する1組の磁極を備えた電磁石であり、走査用電磁石18はx方向に電子線を偏向する1組の磁極を備えた電磁石である。これらの電磁石17,18のコイルに供給する電流の大きさ及び向きを制御することにより、x,y方向の偏向角が制御される。したがって、電子線は走査され電子線の照射位置が制御される。なお、一例として走査用電磁石17では矩形波を用いてy方向(短手方向)に電子線を走査し、走査用電磁石18では正弦波を用いてx方向(長手方向)に電子線を走査している。
【0007】
しかしながら、走査用電磁石18を用いて電子線をx方向に走査する場合、走査の両端に相当する走査最大点A,B付近において偏角が大きい場合には、電子線は電磁石により形成される磁場によって偏向され、入射角に応じて出射角が異なる。したがって、凸レンズのようなレンズ作用により、電子線が照射窓部のA,B部において集中してしまうという問題がある。即ち、図3の照射窓部A,B,Cに示すように、中央点Cにおいて例えば約10cmφのビーム径が左右両側の走査最大点A,Bにおいては、ビーム径が例えば約5cmφ程度と、ビームの照射領域が著しく集中してしまう。ところで、照射窓部20はチタン(Ti)等の薄膜で構成されており、このように電子線が走査の最大位置A,B付近で集中すると、その部分で電子線のエネルギー密度が上がり、照射窓そのものにダメージを与えてしまうという問題が生じる。また、走査線の最大位置A,B付近で電子線が照射されない領域が形成され、これにより燃焼排ガス中の有害成分を十分に除去できないという問題が生じる。
【0008】
発明の開示
本発明は上述した事情に鑑みてなされたもので、走査最大点で電子線が集中するという問題を防止し、電子線照射が均一に行われ、均一なエネルギー密度の照射領域が全面に安定して得られる電子線照射装置及び方法を提供することを目的とする。
【0009】
本発明にかかる電子線照射装置は、電子線を放出する電子線源と、電子線源より放出された電子を加速する加速管と、加速管にて形成された高エネルギーの電子線に磁界を印加することで電子線のビーム径を制御するフォーカス用電磁石と、電子線に磁界を印加することにより電子線を偏向して走査する電磁石と、電子線を外部に放出する照射窓部とを備え、電子線をフォーカス用電磁石によりフォーカス点で焦点を合わせ電子線を一旦収束させた後に発散させ、照射窓部を通過させて外部に放出させることを特徴とする。
【0010】
本発明によれば、電子線がフォーカス点で一旦収束した後、発散し照射窓部から外部に放出するので、照射窓部における電子線のビーム径を拡大することができる。かかる電子線のビーム径は、中央のC点よりも偏角が大きいA,B点において、より拡大する傾向がある。これにより、走査最大点(偏角の最大点)で電子線のビーム径が十分に拡大されるので、照射窓部における電子線の集中を防止することができる。従って、照射窓部における電子線の照射密度が均一となり、照射窓部にダメージを与えるという問題を防ぐことができる。さらに照射窓部から均一に電子線が放出されるため、燃焼排ガス等への電子線の照射が均一に行われ、排ガスから有害成分を十分に除去することができる。
【0011】
また、電子線を一旦収束させた後に発散させるフォーカス点は、電子線の進行方向において、電子線を偏向・走査する磁界を通過した後に位置することが好ましい。これにより、電子線の加速エネルギーが800kV程度と大きく電子線の速度が光速程度の高速である場合には、相対論的電子線(REB)となるが、本発明はこのような電子線に対しても適用が可能である。従って、偏角が大きくても照射窓部において十分な拡がりを有するビーム径を確保することができる。
【0012】
また、電子線を一旦収束させた後に発散させるフォーカス点の調整は、フォーカス用電磁石に供給される電流値を制御することにより行うことが好ましい。これにより、フォーカス用電磁石の電流値の調整という比較的簡単な手段により、照射窓部における電子線の走査最大点付近においても照射窓部における十分な拡がりを有するビーム径を確保することができる。
【0013】
また、本発明の電子線の照射方法は、高エネルギーの電子線にフォーカス用電磁石によって磁界を印加することで電子線のビーム径を制御し、このビーム径が制御された電子線を偏向・走査し、照射窓部より電子線を外部に放出する電子線照射方法であって、前記高エネルギーの電子線を前記フォーカス用電磁石によりフォーカス点で焦点をあわせ電子線を一旦収束させた後に発散させ、この発散した電子線を前記照射窓部を通過させて外部に放出させることを特徴とする。
【0014】
これにより、高エネルギーの電子線を比較的大きな偏向角で走査する場合にも、電子線の集中という問題を回避することができ、広範囲の走査領域にわたって均一なエネルギー密度での電子線の照射を行うことができる。このため、排ガス処理用の電子線照射装置等の用途において、比較的広範囲な照射領域に均一なエネルギー密度の電子線を供給することが可能となる。また、偏向角を大きく取ることができるようになり、装置の小型化にもつながる。
【0015】
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明の実施の形態による電子線照射装置及び方法について図1を参照しながら説明する。なお、各図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
【0016】
図1に示すように、電子線照射装置11は、熱電子発生源12と、加速管13と、フォーカス用電磁石16と、走査用電磁石17,18とを備え、これにより加速されて走査された電子線が照射窓部20より放出される。この電子線照射装置11の構成は、従来の技術と同様である。また、加速管13では800kV程度の高電圧を用いて電子線を高速に加速して、フォーカス用電磁石16を用いてこの電子線のビーム径を制御し、更にビーム径が制御された電子線を走査用電磁石17,18により所定の範囲に偏向して走査する。かかる構成も従来の技術と同様である。この走査幅としては、概略長手方向(x方向)の長さが3〜4m程度で、短手方向(y方向)の長さが概略60〜40cm程度である。
【0017】
本発明の電子線照射装置においては、フォーカス用電磁石16の直流電流I0を、調節し電子線が照射窓部20に到達する前に電子線をフォーカスさせ照射窓部20に到達した時点では電子線が十分な広がりを有するように調整する。即ち、フォーカス用電磁石16の直流電流I0を大きくして、図1に示すように電子線が走査用電磁石18により形成される主磁界を通過した後に、電子線Eがフォーカス点Fで最大限に収束するように、電子線の収束を調整する。即ち、電子線Eのビーム径はフォーカス点Fで最小となる。従って、電子線Eはフォーカス点Fを通過した後に、再び発散してビーム径を十分に拡大して照射窓部20に到達する。そして、電子線Eは、Ti箔等からなる照射窓部20を通過して、例えば燃焼排ガスの流路に放出され、脱硝または脱硫等の作用を果たす。
【0018】
ここで、電子線Eの照射窓部20におけるビーム径は、中央部の点Cにおいて、従来の図3に示す直進状の電子線のビーム径である約10cm程度である。照射窓部20上の走査最大点であるA,Bにおいては、電子線Eのビーム径は10cm以上である。なお、フォーカス点Fの位置は、直流電流I0の大きさにより調整可能であり、これにより照射窓部20におけるビーム径を適宜調整することが可能である。
【0019】
各種実験の結果によれば、走査用電磁石18により形成される磁界の磁束密度が零の時に、走査用電磁石18の磁界領域を通過した後の位置にフォーカス点を位置させるさせることが好ましい。これにより、走査用電磁石17,18が形成する磁界への電子線の突入角と、その磁界による円運動後に該磁界から射出される角度とが良好に制御され、フォーカス点Fにおける電子線の収束及び発散が良好に行われる。
【0020】
本発明の実施の形態では、排ガス処理用電子線照射装置に必要な電子線のエネルギーは800kV程度であり、光速に近い極めて高速の電子ビームであり、相対論的電子線といわれる。その速度は次式(1)により表される。
式(1)
ここで、eは1.6×10−19Cである素電荷を表し、m0は9.1×10−31kgである電子質量を表し、c は3×108m/sである光速度を表わす。
【0021】
このため、800kVで加速された電子は、光速(c)を用いて表される次式の速度vを有する。
v/c≒0.92
係る高速の相対論的電子線においても、上述した位置にフォーカス点Fを配置することで、照射窓部20における電子線のビーム径を適切な大きさに拡大することができる。中央点Cにおけるよりも走査最大点A,Bにおける電子線のビーム径の方が大きくなる傾向にあることは、相対論的電子線においても同様である。
【0022】
これにより、走査最大点A,Bにおける電子線の集中が防止され、照射窓部の損傷が防止され、照射領域の全面にわたって均一なエネルギー密度の電子線が供給される。
【0023】
図2は、本発明の電子線照射装置を備えた排ガス処理システムを示し、火力発電所などの燃料を燃焼させる設備から排出された排ガスは電子線の照射により処理される。図2に示すように、燃料燃焼設備の一つである火力発電所21から発生した硫黄酸化物を含む排ガスは、熱交換器22で冷却された後に冷却塔24に導入される。冷却塔24では、ポンプ23から供給された工水を流体ノズル26で噴霧し、蒸発させる。冷却塔24に導入された排ガスは所定温度まで冷却された後、反応器25に導入される。
一方、アンモニア供給設備29から供給されたアンモニアは、ラインミキサ30により空気と混合され、その混合ガスと工水供給源(図示せず)から供給された工水は、二流体ノズル31の気液混合室で混合された後、反応器25入口で噴霧注入される。この噴霧注入された混合物に図1に示す電子線照射装置11から電子線が照射される。
【0024】
なお、上述した実施の形態においては、排ガス処理用の電子線照射装置について説明したが、本発明の要旨は、電子線の走査に際してその偏向角に伴う電子線の集中(収束)現象を避けることができるものである。従って、このような本発明の要旨は、電子ビーム溶接装置、走査型電子顕微鏡等の電子線を利用した各種機器にも広く応用が可能である。
【0025】
以上説明したように、本発明によれば、高エネルギーの電子線を比較的大きな偏角で走査する場合にも、電子線の集中(収束)という問題を回避することができ、広範囲な走査領域にわたって均一なエネルギー密度での電子線の照射が行える。
【0026】
産業上の利用可能性
本発明は電子線照射装置及び方法に係り、火力発電所などの燃料燃焼設備から排出される排ガスを処理するための排ガス処理システムや電子線溶接装置や走査電子顕微鏡に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態の電子線照射装置における電子線の収束及び発散を示す概略図である。
【図2】 図1に示す電子線照射装置を備えた排ガス処理システムを示す概略図である。
【図3】 従来の電子線照射装置における電子線の収束及び発散を示す概略図である。
Claims (6)
- 電子線を放出する電子線源と、該電子線源より放出された電子を加速する加速管と、該加速管にて形成された高エネルギーの電子線に磁界を印加することで電子線のビーム径を制御するフォーカス用電磁石と、電子線に磁界を印加することにより電子線を偏向して走査する電磁石と、電子線を外部に放出する照射窓部とを備え、電子線を前記フォーカス用電磁石によりフォーカス点で焦点をあわせ電子線を一旦収束させた後に発散させ、前記照射窓部を通過させて外部に放出させることを特徴とする電子線照射装置。
- 前記フォーカス点は、前記電子線を走査する磁界を前記電子線が通過した後に位置することを特徴とする請求項1に記載の電子線照射装置。
- 前記フォーカス点の位置の調整は、前記フォーカス用電磁石に供給される電流値を制御することにより行うことを特徴とする請求項2に記載の電子線照射装置。
- 高エネルギーの電子線にフォーカス用電磁石によって磁界を印加することで電子線のビーム径を制御し、このビーム径が制御された電子線を偏向・走査し、照射窓部より電子線を外部に放出する電子線照射方法であって、前記高エネルギーの電子線を前記フォーカス用電磁石によりフォーカス点で焦点をあわせ電子線を一旦収束させた後に発散させ、この発散した電子線を前記照射窓部を通過させて外部に放出させることを特徴とする電子線照射方法。
- 前記フォーカス点は、前記電子線を走査する磁界を前記電子線が通過した後に位置することを特徴とする請求項4に記載の電子線照射方法。
- 前記フォーカス点の位置の調整は、前記フォーカス用電磁石に供給される電流値を制御することにより行うことを特徴とする請求項5に記載の電子線照射方法。
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DE906737C (de) * | 1931-05-31 | 1954-03-18 | Siemens Ag | Anordnung zum vergroesserten Abbilden von Gegenstaenden mittels Elektronenstrahlen |
US2907915A (en) * | 1956-02-16 | 1959-10-06 | Gen Electric | Cathode ray tube structure including combined electrostatic and magnetic convergence system |
GB1206623A (en) * | 1966-10-03 | 1970-09-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Recording cathode ray tube |
JPS61216228A (ja) | 1985-03-22 | 1986-09-25 | Hitachi Ltd | 電子線描画装置における焦点調整方式 |
DE3608291A1 (de) * | 1985-10-23 | 1987-04-23 | Licentia Gmbh | Verfahren zur selektiven oder simultanen abscheidung von schadstoffen aus rauchgasen durch bestrahlung der rauchgase mit elektronenstrahlen |
US4864195A (en) * | 1988-05-05 | 1989-09-05 | Rca Licensing Corp. | Color display system with dynamically varied beam spacing |
US5361020A (en) * | 1988-08-12 | 1994-11-01 | Innovative Solutions & Support, Incorporated A Corporation Of Pennsylvania | Methods and apparatus for improving cathode ray tube image quality |
US5319211A (en) * | 1992-09-08 | 1994-06-07 | Schonberg Radiation Corp. | Toxic remediation |
US5623183A (en) * | 1995-03-22 | 1997-04-22 | Litton Systems, Inc. | Diverging beam electron gun for a toxic remediation device with a dome-shaped focusing electrode |
PL187298B1 (pl) | 1996-07-25 | 2004-06-30 | Ebara Corp | Sposób i urządzenie do oczyszczania gazów techniką napromieniania wiązką elektronową |
JPH11281799A (ja) * | 1998-03-27 | 1999-10-15 | Ebara Corp | 電子線照射装置 |
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