KR100496809B1 - 플라즈마방전에의한배가스처리장치 - Google Patents

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Abstract

플라즈마 발생효율을 증대시키기 위해 종자전자 발생 수단이 구비된 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리장치에 관하여 개시된다. 개시된 배가스 처리장치는: 양전극과 음전극에 인가되는 고전압에 의해 종자전자들을 가속시켜 전자선을 발생시키는 플라즈마 반응기 내부에 배가스를 도입하여 상기 전자선에 의해 발생되는 산화력 강한 라디칼로 배가스중의 유해화합물을 산화시켜 제거하는 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리장치에 있어서: 상기 플라즈마 반응기는 상기 음전극 측에 설치되어 종자전자를 발생시키는 종자전자 발생수단을 구비하는 것을 특징으로 한다. 여기에서, 상기 종자전자 발생수단은 필라멘트형 전자총인 것이 바람직하다. 따라서, 본 발명에 의한 배가스 처리장치는 고에너지 전자가 효율적으로 발생되어 넓은 영역에 걸쳐 플라즈마가 형성되므로 배가스 중의 유해화합물의 제거효율이 높아지고, 대용량의 배가스를 처리할 수 있게 된다. 또한, 전자선 가속기의 단점인 X-선의 발생이 없게 되며, 플라즈마 반응기에 인가되는 전압을 낮출 수 있게 된다.

Description

플라즈마 방전에 의한 배가스 처리장치
본 발명은 각종의 엔진이나 보일러, 연소로 등에서 발생하는 배가스를 저온 플라즈마에 의해 처리하는 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리장치에 관한 것으로, 특히 플라즈마 발생효율을 증대시키기 위해 종자전자 발생 수단이 구비된 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리장치에 관한 것이다.
각종 가열로, 각종 보일러 또는 엔진 등에서 배출되는 연소 배가스중에는 황산화물(SOX), 질소산화물(NOX) 등의 유해한 화합물이 함유되어 있어, 이들을 제거하기 위한 방법에 관하여 많은 연구가 행하여지고 있다. 이러한 유해화합물을 제거하는 종래의 방법으로는 다음과 같은 방법들이 공지되어 있다.
황산화물(SOX)의 가장 일반적인 제거 방법으로는 배가스를 황산화물과 반응하는 석회 등과 같은 시료의 현탁액(Water suspension)으로 세정하는 습식세정(Wet scrubbling) 방법과, 건식법의 대표적인 예로서 소각로 등의 화로내에 CaCO3나 Ca(OH)2등의 Ca계 탈황제를 직접 투입하여 로내에서 발생한 황산화물을 흡수, 제거하는 로내 탈황 방법이 주로 사용된다. 그리고, 질소산화물(NOX)의 제거 방법은 건식법과 습식법으로 분류되며, 일반적으로는 건식법인 선택적 촉매 환원법(SCR, Selective catalytic reduction)이 사용된다. 선택적 촉매 환원법은 환원제로서 암모니아 가스(NH3), 탄화수소 또는 일산화탄소를 이용하며, 백금과 같은 귀금속 또는 산화알루미늄(Al2O3) 및 이산화티탄(TiO2)과 같은 여러 가지 금속산화물중 하나를 NOX가스와 암모니아 가스의 반응 촉매로서 사용한다.
그러나, 이러한 종래의 배가스중의 유해화합물 제거 방법은 그 처리 공정이 처리 장치가 대형화 되어 실비비 및 운전비의 부담이 크며, 잔류 슬러리 또는 폐액 등의 후처리가 필요하는 등의 문제점이 있다. 또한, 그 처리 시설이 방대해져 대규모 화력발전소 등과는 달리 소규모의 배연량을 발생시키는 소각로, 보일러 등에 적용하기에는 문제점이 있다.
이와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 여러 가지 방법이 도입되고 있으며, 그 중 한가지로 보다 간단한 장치 및 방법으로도 배가스 중에 함유되는 유해화합물을 효율적으로 제거할 수 있는 저온 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리 방법이 사용되고 있다.
도 1은 종래의 블라즈마 방전에 의한 배가스 처리공정을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 1을 참조하면, 일반적으로 배가스원(110)으로부터 배출되는 배가스 중에는 황산화물(SOX), 질소산화물(NOX) 등과 같은 유해화합물이 함유되어 있다. 상기 배가스는 통상 집진장치(미도시)를 통과하며 그 내부의 분진이나 고체상태의 이물질 등이 제거된 상태로 플라즈마 반응기(130)로 도입된다. 이 과정에서 상기 배가스내에 중화제로서 암모니아(NH3)를 소정량 주입한다. 상기 암모니아는 암모니아 주입장치(120)에 의해 배가스 내로 주입되어, 배가스와 함께 플라즈마 반응기(130) 내부로 도입된다. 상기 플라즈마 반응기(130)에 도입된 배가스 중의 유해화합물은 전자선에 의해 발생된 산화력이 강한 OH 라디칼에 의해 산화되어 산을 생성시킨다. 즉, 상기 OH 라디칼은 상기 유해화합물중의 SOX 및 NOX를 산화시켜 H2SO4 와 HNO3를 생성시키게 되고, 생성된 H2SO4 와 HNO3는 상기 암모니아에 의해 중화되어 안정하고 무해한 암모늄염을 생성시킨다. 상기 반응에서 생성된 암모늄염은 그 크기가 약 50㎛ 이하의 미세한 입자로 생성되어 집진장치(150)에 의해 포집되어 제거되므로 최종적으로는 세정가스만 배출된다.
도 2는 도 1에 도시된 종래의 플라즈마 반응기의 구조를 도시한 단면도이다.
도 2를 참조하면 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리장치는 그 내부에 플라즈마 반응실(139)이 형성되는 플라즈마 반응기(130)와, 상기 플라즈마 반응기(130)에 고전압을 인가하기 위한 전원장치(140)를 포함하여 구성된다.
플라즈마 반응기(130)의 원통형 케이스(131)는 통상 음극으로 이용되고, 양전극(136)은 절연체(137)에 의해 지지되어 상기 케이스(131)의 중앙부를 가로질러 설치된다. 물론, 상기 양극과 음극은 서로 바뀌어 사용될 수 있다. 상기 케이스(131)는 절연체로 된 카바(132,133)에 의해 양단이 밀폐되어 그 내부에 상기 플라즈마 반응실(139)이 형성된다. 그리고, 상기 케이스(131)의 배가스 도입단측에는 배가스 도입관(134)이 설치되고, 그 반대측에는 배가스 배출관(135)이 설치된다.
이와 같은 구성을 갖는 종래의 배가스 처리장치에 사용되는 플라즈마 반응기(130)는 수천 내지 수만 볼트의 고전압이 인가되어, 그 내부를 지나가는 배가스 중에 자연적으로 존재하는 매우 적은 수의 전자들을 가속하고, 가속된 전자들이 다른 배가스 분자와 충돌하여 연속적으로 2차, 3차 전자들을 가속시켜 필요한 전자선을 발생시킨다. 이렇게 발생된 전자선은 상술한 바와 같이 유해화합물의 산화에 필요한 라디칼을 생성시킨다.
그런데, 이와 같은 종래의 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리방법은 저온 플라즈마의 발생을 위하여 단지 자연적으로 존재하는 희박한 밀도의 전자들을 종자전자로 이용하기 때문에 전기에너지에 의한 플라즈마 발생효율이 낮아 결과적으로 유해화합물의 제거효율이 낮고, 또한 전극간의 간격이 멀어지면 더욱 더 높은 전압이 인가되어야 하므로 플라즈마 반응기(130)의 크기가 제한되어 대용량의 배가스를 처리하는데는 적합하지 못한 문제점이 있다.
한편, 최근에는 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 전자선 가속기를 사용한 배가스 처리방법이 제안되고 있다. 이 방법에 의하면 전자선 가속기 내에 내장된 전자총으로부터 다량의 종자전자를 발생시키고, 이들 종자전자는 300 ~ 1000KeV의 고에너지로 가속되어 빛에 가까운 속도를 얻게 되며, 이들이 반응기 내의 배가스 분자들과 충돌하며 수많은 2차, 3차 전자들을 발생시킨다. 따라서, 상기 종자전자들은 배가스 중의 투과거리가 커지게 되어 하나의 반응기 내에서 대용량의 배가스 처리가 가능하지만, 고속의 전자들이 급격하게 에너지를 잃으면서 X-선을 방출하기 때문에 두께 1m 이상의 방호벽이 필요하게 되는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 플라즈마 반응기에 종자전자 발생 수단을 설치하여 플라즈마 발생효율을 증대시킨 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리장치를 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리장치는: 음전극으로 사용되며 내부에 플라즈마 반응실이 형성되는 케이스와, 상기 케이스 내부에 마련되는 양전극을 구비하며, 상기 양전극과 음전극에 인가되는 고전압에 의해 상기 플라즈마 반응실 내의 종자전자들을 가속시켜 전자선을 발생시키는 플라즈마 반응기, 및 상기 플라즈마 반응기의 양전극과 음전극에 고전압을 인가하는 전원장치;를 포함하는 것으로, 상기 플라즈마 반응실에 배가스를 도입하여 상기 전자선에 의해 발생되는 산화력 강한 라디칼로 상기 배가스중의 유해화합물을 산화시켜 제거하는 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리장치에 있어서: 상기 플라즈마 반응기는 상기 음전극 측에 설치되어 종자전자를 발생시키는 종자전자 발생수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.
여기에서, 상기 종자전자 발생수단은 상기 케이스에 설치되는 전자총인 것이 바람직하고, 특히 상기 전자총은 보다 넓은 영역에 걸쳐 종자전자가 발생되도록 하는 필라멘트형인 것이 바람직하며, 소정 간격을 두고 적어도 두 개 이상 설치되는 것이 바람직하다.
따라서, 플라즈마 반응기 내부의 보다 넓은 영역에 걸쳐 플라즈마가 형성되므로 대용량의 배가스를 효율적으로 처리할 수 있게 된다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리장치에 사용되는 플라즈마 반응기의 구조를 도시한 단면도이다.
도 3에 따르면, 본 발명에 따른 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리장치는 그 내부에 플라즈마 반응실(339)이 형성되는 플라즈마 반응기(330)와, 상기 플라즈마 반응기(330)에 고전압을 인가하기 위한 전원장치(340)를 포함하여 구성된다.
플라즈마 반응기(330)는 통상 음극으로 이용되는 원통형 케이스(331)를 구비하고, 상기 케이스(331)는 절연체로 된 카바(332,333)에 의해 양단이 밀폐되어 그 내부에 상기 플라즈마 반응실(339)이 형성된다. 그리고, 상기 케이스(331)의 배가스 도입단에 설치된 카바(332)에는 적어도 하나 이상의 배가스 도입관(334)이 플라즈마 반응실(339)와 연통되도록 설치되며, 그 반대측에 설치된 카바(333)에는 적어도 하나 이상의 배가스 배출관(335)이 설치된다. 또한, 상기 케이스(331)의 중앙부에는 절연체(337)에 의해 지지되는 양전극(336)이 설치되며, 상기 양전극(336)은 상기 카바(332,333)에 의해 음극으로 사용되는 상기 케이스(331)와 절연된다.
여기에서, 본 발명의 특징부는 다음과 같다.
상기 플라즈마 반응실(339)에 종자전자를 발생시키는 종자전자 발생수단이 음극으로 사용되는 상기 케이스(331)에 설치된다. 상기 종자전자 발생수단으로는 필라멘트형으로 된 전자총(338)을 적어도 두 개 이상 사용하는 것이 보다 넓은 영역에 걸쳐 다량의 종자전자가 발생되므로 바람직하다. 이와 같이 설치되는 상기 전자총(338)은 음극으로 사용되는 케이스(331)에 설치되어 수십 KeV의 에너지를 갖는 다량의 종자전자를 발생시킨다. 상기 종자전자는 상기 전원장치(340)에 의해 음극으로 사용되는 케이스(331)와 양전극(336) 사이에 인가된 수천 내지 수만볼트의 고전압에 의해 가속되고, 가속된 종자전자들은 다른 배가스 분자와 충돌하여 연속적으로 2차, 3차 전자들을 가속시켜 다량의 전자선을 발생시키므로, 플라즈마 반응실(339)에는 넓은 범위에 걸쳐서 플라즈마가 형성된다.
이와 같이 전자총(338)에 의해 발생되는 종자전자들의 에너지는 수십 KeV이내면 충분하며, 너무 에너지가 높으면 투입되는 전력이 과다하게 되므로 오히려 비효율적이다. 따라서, 플라즈마 반응기(330)의 양 전극에 인가되는 전압은 전자총(338)을 사용하지 않는 종래의 경우보다 낮출 수 있게 되어 배가스 처리량 및 플라즈마 반응기(330)의 크기에 따라 인가되는 전압을 가변적으로 조절하여 사용할 수 있게 되므로, 대용량의 배가스를 처리할 수 있게 된다.
상술한 바와 같이 구성되어 작동되는 플라즈마 반응기(330)에 도입된 배가스 중의 황산화물(SOX), 질소산화물(NOX) 등과 같은 유해화합물은 상기 전자선에 의해 발생된 산화력이 강한 OH 라디칼에 의해 산화되어 H2SO4 와 HNO3로 변환되며, 다시 미리 주입된 암모니아에 의해 중화되어 안정하고 무해한 암모늄염을 생성시킨다. 상기 반응에서 생성된 암모늄염은 그 크기가 약 50㎛ 이하의 미세한 입자로 생성되어 집진장치(도 1의 150)에 의해 포집되어 제거되므로 최종적으로는 세정가스만 배출된다. 이때, 상술한 바와 같이 플라즈마 반응실(339)에는 전자총(338)에 의해 넓은 영역에 걸쳐 플라즈마가 형성되므로 산화력이 강한 OH 라디칼의 발생효율이 높아지고, 이에 따라 배가스 중의 유해화합물의 산화, 제거효율이 높아지게 된다. 또한, 전자선 가속기의 단점인 X-선의 발생이 없게 되어 부대 설비가 간단해진다.
따라서, 이러한 장치는 박용엔진 등과 같은 대형 디젤엔진의 배가스 처리, 중소형 보일러의 배가스 처리 등에 광범위한 적용이 가능하다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리장치는 플라즈마 반응기에 설치되는 전자총에 의해 고에너지 전자가 효율적으로 발생되어 넓은 영역에 걸쳐 플라즈마가 형성되므로 배가스 중의 유해화합물의 제거효율이 높아지고, 대용량의 배가스를 처리할 수 있게 된다. 또한, 전자선 가속기의 단점인 X-선의 발생이 없게 되며, 플라즈마 반응기에 인가되는 전압을 낮출 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래의 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리공정을 개략적으로 나타낸 도면,
도 2는 도 1에 도시된 종래의 플라즈마 반응기의 구조를 도시한 단면도,
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리장치에 사용되는 플라즈마 반응기의 구조를 도시한 단면도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
110. . .배가스원 120. . .암모니아 주입장치
130,330. . .플라즈마 반응기 131,331. . .케이스
132,133,332,333. . . 카바 134,334. . .배가스 도입관
135,335. . .배가스 배출관 136,336. . .양전극
137,337. . .절연체 139,339. . .플라즈마 반응실
140,340. . .전원장치 150. . .집진장치
338. . .전자총

Claims (1)

  1. 음전극으로 사용되며 내부에 플라즈마 반응실이 형성되는 케이스와, 상기 케이스 내부에 마련되는 양전극을 구비하며, 상기 양전극과 음전극에 인가되는 고전압에 의해 상기 플라즈마 반응실 내의 종자전자들을 가속시켜 전자선을 발생시키는 플라즈마 반응기; 및 상기 플라즈마 반응기의 양전극과 음전극에 고전압을 인가하는 전원장치;를 포함하는 것으로, 상기 플라즈마 반응실에 배가스를 도입하여 상기 전자선에 의해 발생되는 산화력 강한 라디칼로 상기 배가스중의 유해화합물을 산화시켜 제거하는 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리장치에 있어서:
    상기 플라즈마 반응기는 상기 음전극 측에 설치되어 종자전자를 발생시키는 종자전자 발생수단을 구비하되 상기 종자전자 발생수단은 넓은 영역에 걸쳐 종자전자가 발생되도록 하는 필라멘트가 설치된 다수 개의 전자총인 것을 특징으로 하는 플라즈마 방전에 의한 배가스 처리장치.
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60122062A (ja) * 1983-12-05 1985-06-29 Nippon Soken Inc 空気清浄器
JPH01128337A (ja) * 1987-11-11 1989-05-22 Hitachi Ltd 電子銃の放電洗浄装置
KR920020614A (ko) * 1991-04-26 1992-11-21 이노우에 아키라 플라즈마를 이용하는 처리장치
KR950030747A (ko) * 1994-04-21 1995-11-24 문재덕 저온 플라즈마 발생용 방전장치
JPH08311665A (ja) * 1995-05-10 1996-11-26 Haruhisa Kinoshita プラズマプロセス装置の反応室のクリーニング方法
US5746984A (en) * 1996-06-28 1998-05-05 Low Emissions Technologies Research And Development Partnership Exhaust system with emissions storage device and plasma reactor
KR100194975B1 (ko) * 1995-12-14 1999-06-15 김덕중 다공다침식 코로나 방전장치를 이용한 배기가스 정화장치

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60122062A (ja) * 1983-12-05 1985-06-29 Nippon Soken Inc 空気清浄器
JPH01128337A (ja) * 1987-11-11 1989-05-22 Hitachi Ltd 電子銃の放電洗浄装置
KR920020614A (ko) * 1991-04-26 1992-11-21 이노우에 아키라 플라즈마를 이용하는 처리장치
KR950030747A (ko) * 1994-04-21 1995-11-24 문재덕 저온 플라즈마 발생용 방전장치
JPH08311665A (ja) * 1995-05-10 1996-11-26 Haruhisa Kinoshita プラズマプロセス装置の反応室のクリーニング方法
KR100194975B1 (ko) * 1995-12-14 1999-06-15 김덕중 다공다침식 코로나 방전장치를 이용한 배기가스 정화장치
US5746984A (en) * 1996-06-28 1998-05-05 Low Emissions Technologies Research And Development Partnership Exhaust system with emissions storage device and plasma reactor

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