KR950030747A - 저온 플라즈마 발생용 방전장치 - Google Patents

저온 플라즈마 발생용 방전장치 Download PDF

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KR950030747A
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Abstract

본 발명은 고전압 방전형상의 전기적, 물리적, 화학적 작용으로 오존을 발생시키거나, 유해환경오염가스를 처리 및 제거하는 저온 플라즈마 발생용 방전장치에 관한 것이다. 인구의 증가와 산업의 발달에 따라 각종 유해환경오염가스의 방출량 또한 크게 증가하고 있으며, 종래에는 이들 유해환경오염가스를 주로 화학적인 방법으로 처리하였기 때문에 처리수의 재처리과정이 필요하고, 2차 유해물질이 생성되므로 경제성과 효율성이 매우 낮았으며 공간 방전, 고주파 연면방전, 고주파 표면방전등에 의한 저온 플라즈마 발생장치가 일부 사용되었으나, 이 또한 효율성과 신뢰성이 낮아서 실용성이 없었다. 본 발명은 상기의 종래 문제점을 해소하 기위하여 유전체의 표면과 방전전극 부근의 공간에서 부터 전극간의 방전공간에 이르기까지 강력한 코로나 방전이 동시에 발생되게 한 것으로서, 기준 전극 상에 비유 전율이 높은 유전체를 설치하고 일정거리(w) 이격된 유전체의 상부에 금속전극을 형성하되, 폭이 좁고 길이가 긴 방전용 세편(細片)전극을 적정간격으로 설치하므로서 유체상의 표면뿐만 아니라 세편전극의 표면 및 연면에서도 저온 플라즈마가 발생되도록 하여 가스입구(27)로부터 유입되는 유해가스를 처리하도록 하므로서 저온 플라즈마의 방전효율과 방전밀도를 대폭 증가시키고 또한 장치의 소비전력을 대폭 줄일 수 있도록 한 것이다.

Description

저온 플라즈마 발생용 방전장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명 저온 플라즈마 방전장치(가)의 단면구성도, 제5도는 본 발명 저온 플라즈마 방전장치(가)의 사시도, 제6도는 본 발명 방전장치(가)의 특성도표로서 (ㄱ) 이격거리(w)변화에 따른 최재 발생오존농도 특성도표, (ㄴ) 이격거리 (w) 변화에 따른 단위 전력당의 발생 오존농도 특성도표.

Claims (7)

  1. 가스입구(27)와 가스출구(28)가 형성된 케이스(29) 내에 기판전극(31)을 설치하고, 기판전극(31)의 상부표면에 유전체(32)를 고착설치하고, 유전체(32)의 상부에 전극폭(ℓ)이 좁고 길이가 긴 세편전극(33)을 적정거리(w)로 이격되게 절연체(34)로 고정하고, 전극의 외부단자(35)(36)에 교류고주파 전압을 인가함을 특징으로 하는 저온 플라즈마 발생용 방전 장치.
  2. 제1항에 있어서, 세편전극(33)으로 부터 일정거리(Sa) 이격된 상부에 금속 유도 전극(42)을 설치함을 특징으로 하는 저온 플라즈마 발생용 방전장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 세편전극(33)의 전극폭(ℓ)을 전극 간격(s)이나 이격거리(w)보다 크게 형성함을 특징으로 하는 저온 플라즈마 발생용 방전장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 가스입구(27)에 탈수된 건조공기나 순수산소만을 인입하여 오존발생장치로 사용함을 특징으로 하는 저온 플라즈마 발생용 방전장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 전극의 단자로 교류 고주파 고전압을 인가하는 전원회로는 반도체 스위칭소자(SCR, triac, KGBY), 트리거장치(T), LC발진기(Cp)(Lp), 고전압 변압기(T2)(T3)로 된 고주파 고전압부(71)(75)로 구성됨을 특징으로 하는 저온 플라즈마 발생용 방전장치.
  6. 제 5항에 있어서, LC발진기의 펄스형성코일(Lp)은 고전압 변압기(T2)의 일차코일을 이용함을 특징으로 하는 저온 플라즈마 발생용 방전장치.
  7. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 전극의 단자로 교류 고주파 고전압을 인가하는 전원회로는 교류전원부(76)와 직류전원부(78)와, 회전방전간(SG), 펄스형성코일(LPA)(LPB), 펄스형성콘덴서(CPA)(CPD), 고전압 변압기(T4)로 된 고주파와 고전압부(79)로 구성됨을 특징으로 하는 저온 플라즈마 발생용 방전장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100464902B1 (ko) * 2001-02-12 2005-01-05 (주)에스이 플라즈마 대기압에서 저온 플라즈마를 발생시키는 장치
KR100488361B1 (ko) * 2002-04-10 2005-05-11 주식회사 플라즈마트 대기압 저온 평판 플라즈마 발생장치
KR100488359B1 (ko) * 2002-06-14 2005-05-11 주식회사 플라즈마트 대기압 저온 평판형 벌크 플라즈마 발생장치
KR100496809B1 (ko) * 1997-08-26 2005-09-06 인천광역시 플라즈마방전에의한배가스처리장치

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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KR100488361B1 (ko) * 2002-04-10 2005-05-11 주식회사 플라즈마트 대기압 저온 평판 플라즈마 발생장치
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