JP3924876B2 - 真空ロック室のゲート弁装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は所定真空下で被処理物体に所定の処理を施すための真空処理室に対し該被処理物体を搬入及び（又は）搬出するための該真空処理室に連設された真空ロック室の外部と連通するゲート開口を開閉するゲート弁装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
所定真空下で被処理物体に所定の処理を施すための真空処理室としては、半導体デバイス基板、液晶表示装置のためのガラス基板等の基板などにインオ注入したり、イオンドーピングしたりするためのイオン注入処理室、プラズマＣＶＤ法等によりかかる基板等上に所定の薄膜を形成する膜形成処理室、かかる基板等上に形成されている膜を所定パターンに従って例えばプラズマのもとでエッチングするエッチング処理室等がある。
【０００３】
このような真空処理室に対し被処理物体を搬入及び（又は）搬出するには、物体搬入に用いるときはロードロック室、物体搬出に用いるときはアンロードロック室と呼ばれる真空ロック室が採用されている。
その１例を図４を参照して説明する。
図４には真空処理室１に連設された真空ロック室２が示されている。
【０００４】
真空ロック室２は真空処理室１と連通するためのゲート開口２１を有しているとともに外部と連通するゲート開口２２を有している。
開口２１は真空処理室１と真空ロック室２との略境界部分に設けられたゲート弁（弁体）３１により開閉され、開口２２は真空ロック室２の外側に配置したゲート弁（弁体）３２により開閉される。
【０００５】
ゲート弁３１は支持軸３０に支持されて真空ロック室２の開口２１を閉じる位置Ｒ１と開く位置Ｒ２との間を往復昇降できる。
真空ロック室２には被処理物体Ｗの支持部材２３が設けられており、これは開口２２に臨む位置Ｑ１と真空処理室１内へ突出する位置Ｑ２との間を往復動できる。
【０００６】
また、真空処理室１内には被処理物体搬送のための搬送ロボット４０が設置されている。搬送ロボット４０は、真空処理室１内の物体処理部位（図示省略）との間で被処理物体Ｗをやり取りできる位置と前記突出位置Ｑ２の物体支持部材２３との間で被処理物体Ｗをやり取りできる位置Ｐｘとの間を往復動できる。
開口２２を開閉するゲート弁３２は、開口２２の上方部位２４において真空ロック室２の外壁部に回動可能に支持され、図示を省略した弁体駆動装置により開口２２を閉じる位置Ｘ１又はそこから上方へ回動して開口２２を開く位置Ｘ２に配置される。
【０００７】
この開口２２を開けた状態で外部ロボット５０が真空ロック室２内の物体支持部材２３との間で被処理物体Ｗをやり取りする。
被処理物体Ｗを真空ロック室２と真空処理室１との間でやり取りするときは、真空処理室１内を所定の真空度に維持しておくために真空ロック室２内がこれに接続された排気装置６により排気され、真空処理室１内と同程度の真空度にされる。
【０００８】
かかる真空ロック室２は、真空処理室１内へ被処理物体Ｗを搬入するロードロック室としても、真空処理室１内から処理済の物体Ｗを外部へ取り出すためのアンロードロック室としても使用できる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
以上説明した中で、真空ロック室２における外部と連通する被処理物体搬入又は搬出のための開口２２については、図４に示すように、これを開閉するゲート弁３２が、該開口２２の上方部位２４において真空ロック室２の外壁部に回動可能に支持され、開口２２を閉じる位置Ｘ１又はそこから上方へ回動して開口２２を開く位置Ｘ２に配置される。図示していない他の従来真空ロック室においてもこの点は同様である。
【００１０】
このようにゲート弁３２が開口２２の上方部位２４において回動可能に支持されるのは、外部ロボット５０の設置スペース及びその動作スペースを得るためである。
しかしながら、このようにゲート弁３２が設置されているため、ゲート弁３２が開かれ、外部ロボット５０が真空ロック室２内と物体のやり取りをするとき、該物体はゲート弁３２の下方を通過することになる。
【００１１】
一方、ゲート弁３２が開閉時に真空ロック室２側の弁座と擦れ合う等により、一般にパーティクルと称されている微細な塵埃が発生する。
従って外部ロボット５０に支持されてゲート弁３２の下方を通過する物体Ｗには該パーティクルが降り注ぐ恐れがある。
かかる物体Ｗが回路の高密度化、高集積化が要求される半導体デバイス基板や液晶表示装置におけるガラス基板等であるときには、それにパーティクルが付着すると、高品質の製品が得られなくなるばかりか、極端な場合には、使いものにならない製品が発生することにもなる。
【００１２】
そこで本発明は、所定真空下で被処理物体に所定の処理を施すための真空処理室に対し該被処理物体を搬入及び（又は）搬出するための該真空処理室に連設された真空ロック室の外部と連通するゲート開口を開閉するゲート弁装置であって、該ゲート開口を通じて真空ロック室に対し搬入及び（又は）搬出される被処理物体にパーティクルを付着させることがなく、また、該真空ロック室と外部との間で被処理物体をやり取りする外部ロボットの設置及び動作に支障がないゲート弁装置を提供することを課題とする。
【００１３】
また、本発明はかかるゲート弁装置であって、ゲート開口を確実に気密に閉じることができるゲート弁装置を提供することを課題とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決する本発明のゲート弁装置は、
所定真空下で被処理物体に所定の処理を施すための真空処理室に対し該被処理物体を搬入及び（又は）搬出するための該真空処理室に連設された真空ロック室の外部と連通するゲート開口を開閉するゲート弁装置であり、
前記ゲート開口を開閉するための弁体と、
上端部に該弁体を支持するとともに該弁体よ下方位置で、該弁体を前記真空ロック室に対し接離させる方向に揺動可能に支持され、前記弁体を前記ゲート開口に臨む位置と該位置より下方へ後退した位置との間に昇降駆動する弁体駆動装置と、
前記弁体が前記ゲート開口に臨む位置に配置された状態で該弁体を前記ゲート開口を閉じる位置又は該位置より離反した位置に配置するように前記弁体駆動装置を揺動させるための揺動駆動装置とを備えていることを特徴とする真空ロック室のゲート弁装置を提供する。
【００１５】
このゲート弁装置によると、弁体駆動装置により弁体を上昇させて真空ロック室の外部と通じるゲート開口に臨む位置に配置し、そのあと揺動駆動装置により弁体駆動装置及びそれに支持された該弁体の全体を揺動させて該弁体をゲート開口を閉じる位置に配置し、該開口を確実に気密に閉じることができる。
また、ゲート開口を開くときは、弁体がゲート開口を閉じている状態から、先ず、揺動駆動装置にて弁体駆動装置及びそれに支持されている弁体の全体を真空ロック室から離れる方向に揺動させて該弁体をゲート開口から離反させ、そのあと弁体駆動装置により該弁体をゲート開口より下方へ下降させ、待機位置に置けばよい。
【００１６】
このようにゲート開口が開かれると、外部ロボットは真空ロック室内と被処理物体をやり取りすることができ、且つ、そのとき被処理物体はゲート開口下方位置に待機する弁体より上方位置を通過する。従って、弁体から被処理物体上にパーティクルが降り注ぐことはない。
また、このゲート弁装置は弁体をゲート開口に臨む位置とそれより下方の位置との間で昇降させるものであるが、真空ロック室に接近した領域にコンパクトに設置することができるので、真空ロック室と外部との間で被処理物体をやり取りする外部ロボットの設置及び動作に支障はない。
【００１７】
該真空ロック室と外部との間で被処理物体をやり取りする外部ロボットの設置に支障がない前記弁体駆動装置やこれを揺動させる前記揺動駆動装置は種々のものを採用できるが、例えば流体圧（空気圧や油圧等）で作動するピストンシリンダ装置を挙げることができる。
弁体駆動装置としてピストンシリンダ装置を採用するとき、該装置が、そのピストンロッドの自由端部側で前記弁体を支持するとともにシリンダ部で揺動可能に支持され、前記弁体は、該ピストンロッドの自由端部側に、該自由端部が前記ゲート開口の方へ揺動駆動されたときゲート開口の弁座に密着できるように揺動可能に支持される例を挙げることができる。揺動駆動装置を構成するピストンシリンダ装置は弁体駆動装置を構成するピストンシリンダ装置のシリンダ部に連結すればよい。
【００１８】
弁体駆動装置（例えばピストンシリンダ装置）の揺動可能な支持は、普通には、真空ロック室やこれに接続された部材等の定位置で行うことができる。
また、揺動駆動装置を構成するピストンシリンダ装置は弁体駆動装置を構成するピストンシリンダ装置のシリンダ部に連結すればよいが、普通には、該シリンダ部と真空ロック室やこれに接続された部材等の定位置とに渡し連結すればよい。
【００１９】
また、弁体駆動装置としてピストンシリンダ装置を採用する場合、前記弁体は前記ピストンロッドの自由端部に支持部材を介して揺動可能に支持し、該支持部材には、前記弁体の揺動支点より下方で前記弁体に当接可能であって該弁体側への突出量を調節できる弁体戻り止め部材を設けるとともに、前記弁体の前記揺動支点より上方で前記弁体を前記ゲート開口へ向け弾力的に押圧する押圧装置を設けてもよい。これにより、弁体の弁座への密着度や弁座へ密着させるときの円滑さを調節でき、より安定的に確実にゲート開口を閉じることができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
図１は本発明に係るゲート弁装置の１例を搭載した真空ロック室の例とその周辺部分の断面図である。図２は図１に示すゲート弁装置の正面図である。図３は図１に示すゲート弁装置における弁体とその周辺部分の一部の拡大断面図である。
【００２１】
図示の真空ロック室２は真空処理室１と連通するためのゲート開口２１を有しているとともに外部と連通するゲート開口２２を有している。
開口２１は真空処理室１と真空ロック室２との略境界部分に設けられたゲート弁（弁体）３１により開閉され、開口２２は真空ロック室２の外側に配置したゲート弁（弁体）７１により開閉される。このゲート弁７１はゲート弁装置７の一部を構成している。ゲート弁装置７については後ほど詳述する。
【００２２】
ゲート弁３１は支持軸３０により支持され、この支持軸３０が昇降駆動されることで支持軸３０とともに真空ロック室２の開口２１を閉じる位置Ｒ１と開く位置Ｒ２との間を往復昇降できる。
真空ロック室２にはさらに被処理物体の支持部材２３が設けられており、これは開口２２に臨む位置Ｑ１と真空処理室１内へ突出する位置Ｑ２との間を往復動できる。
【００２３】
また、真空処理室１内には被処理物体搬送のための搬送ロボット４０が設置されている。搬送ロボット４０は、真空処理室１内の物体処理部位（図示省略）との間で被処理物体Ｗをやり取りできる位置と前記突出位置Ｑ２の物体支持部材２３との間で被処理物体Ｗをやり取りできる位置Ｐｘとの間を往復動できる。
ロボット４０は例えば被処理物体を保持したり、放したりできる一対の開閉アームや爪部材、或いは物体を下方から掬い支持できるアームを備えるものである。
【００２４】
開口２２はゲート弁７１により開閉されるが、この開口２２を開けた状態で外部ロボット５０が真空ロック室２内の物体支持部材２３との間で被処理物体Ｗをやり取りする。ロボット５０も例えば被処理物体を保持したり、放したりできる一対の開閉アームや爪部材、或いは物体を下方から掬い支持できるアームを備えるものである。
【００２５】
以上説明した真空ロック室２を真空処理室１内へ被処理物体Ｗを搬入するロードロック室として使用するときは、当初、図示を省略した排気装置により真空処理室１内が所定真空状態に設定される。このとき、物体支持部材２３は真空ロック室２内の開口２２に臨む位置Ｑ１に置かれる。さらに真空ロック室２の開口２１がゲート弁３１で閉じられる。
【００２６】
次に被処理物体Ｗを真空処理室１内の物体処理部位へ搬入するために、まず開口２１がゲート弁３１で閉じられた状態とされ、ゲート弁７１が開かれた状態とされる。かくして外部の搬送ロボット５０に支持された被処理物体Ｗが開口２２から真空ロック室２内へ搬入され、物体支持部材２３上に載置される。その後ゲート弁７１は閉じられ、真空ロック室２内がこれに接続された排気装置６にて排気され、真空処理室１内と同等の真空状態に設定される。
【００２７】
真空ロック室２内が所定の真空状態に設定されると、ゲート弁３１が上昇駆動され、開口２１が開かれる。また、これとともに又はその後に物体支持部材２３が上昇駆動され、真空処理室１内に突出し、これにより被処理物体Ｗが真空処理室１内に配置される。ここで搬送ロボット４０が位置Ｐｘに移され、該物体Ｗを保持し、物体処理部位へ搬送し、そこに設置する。
【００２８】
ロボット４０が物体Ｗを保持して物体処理部位へ移動すると、空になった物体支持部材２３が真空ロック室２内へ下降し、ゲート弁３１も下降して開口２１を閉じる。次いで真空ロック室２内気圧が、リーク弁２０を開いて窒素ガス等を導入することで大気圧と同程度に戻され、ゲート弁７１が開かれる。そして次の被処理物体Ｗが物体支持部材２３へ搬入され、再びゲート弁７１が閉じられ、真空ロック室２内が真空処理室１内と同等の真空状態に設定される。該物体Ｗは真空処理室１内への搬入のため待機する。
【００２９】
また真空ロック室２を真空処理室１内から処理後の物体Ｗを搬出するアンロードロック室として使用するときは、搬送ロボット４０が物体処理部位から処理済の物体Ｗを保持して真空ロック室２の上方へ移動する。ロボット４０が真空ロック室２へ到来してくると、或いはそれに先立ってゲート弁３１が開かれ、また、物体支持部材２３が真空処理室１内に突出し、該ロボットから処理済物体Ｗを受け取る。この状態ではゲート弁７１は閉じられており、真空ロック室２内は真空処理室１内と同等の真空状態におかれている。次いでロボット４０は待機位置に戻され、ゲート弁３１が開口２１を閉じる。次いで真空ロック室２内がリーク弁２０を開くことで略大気圧程度に戻され、ゲート弁７１が開かれ、外部の搬送ロボット５０が真空ロック室２内の処理済物体Ｗを外部へ取り出す。
【００３０】
その後はゲート弁７１が再び閉じられ、真空ロック室２内が次の物体取り出しに備えて排気装置６にて所定真空状態に設定される。
前記のゲート弁装置７について以下に詳述する。
ゲート弁装置７は、図１から図３に示すように、ゲート開口２２を開閉するためのゲート弁（弁体）７１と、弁体駆動装置としての空気圧駆動できる第１ピストンシリンダ装置７２と、第１ピストンシリンダ装置７２を揺動させる揺動駆動装置としての空気圧駆動できる第２ピストンシリンダ装置７３とを備えている。
【００３１】
第１ピストンシリンダ装置７２は、そのピストンロッド７２１の上端部に弁体支持部材７４を介して前記のゲート弁７１を揺動可能に支持している。ピストンシリンダ装置７２のシリンダ部７２２は、真空ロック室２から垂下された支持フレーム８の中程の定位置に揺動可能に支持されている。
さらに説明すると、支持フレーム８の中程には一対のシリンダ部支持アーム８１が突設されているとともに、シリンダ部７２２の両側面に一対の軸受け部材８２が設けられている。そして各支持アーム８１に片持ち支持された軸棒８３が該軸受け部材８２に嵌められている。かくしてシリンダ部７２２は、弁体７１を真空ロック室のゲート開口２２周囲の弁座２２１に対し接離させる方向に揺動可能に支持されている。
【００３２】
なお図２中、７２ａはピストンロッド７２１と平行なガイドロッドであり、上端部が弁体支持部材７４に接続されていて、ピストンロッド７２１とともに上下動する。
ゲート弁７１は、ピストンシリンダ装置７２の駆動、すなわちそのピストンロッド７２１の出退によりゲート開口２２に臨む位置Ｐ１と該位置より下方へ後退した位置Ｐ２との間に昇降できる。
【００３３】
第２ピストンシリンダ装置７３は、そのピストンロッド７３１が第１ピストンシリンダ装置７２のシリンダ部７２２に連結され、シリンダ部７３２が前記の支持フレーム８の下端部に固定接続されている。ピストンロッド７３１はその自由端部にピン７３１ａを有しており、該ピンが、第１ピストンシリンダ装置７２のシリンダ部７２２に接続された部材７２３下端部の上下方向の長孔７２３ａに遊嵌している。かくしてゲート弁７１はゲート開口２２に臨む位置Ｐ１に配置された状態で、第２ピストンシリンダ装置７３の駆動、すなわちそのピストンロッド７３１の出退により、ゲート開口周囲の弁座２２１に密着してゲート開口２２を気密に閉じる位置Ｐ３又は該位置より離反した位置Ｐ１に配置される。
【００３４】
ゲート弁７１は既述のとおり第１ピストンシリンダ装置７２のピストンロッド７２１の自由端部に支持部材７４を介して揺動可能に支持されいるが、この点を図３等を参照してさらに説明する。
弁体支持部材７４は水平部材７４１とその両端部に立設されたピン支持部材７４２とからなっている。第１ピストンシリンダ装置７２のピストンロッド７２１やガイドロッド７２ａはこれに接続されている。ゲート弁７１の背面には一対の部材７４０が立設されており、ゲート弁７１はこの部材７４０の部分で、各ピン支持部材７４２にピン７４ａで揺動可能に支持されている。各ピン支持部材７４２には、ピン７４ａより下方部位に弁体戻り止め部材７４４が設けられているとともにピン７４ａより上方部位に押圧装置７４３が設けられている。
【００３５】
図３に示すように弁体戻り止め部材７４４はピン支持部材７４２に螺合されたボルトからなっており、ゲート弁７１へ向けての支持部材７４（ピン支持部材７４２）からの突出量の調節が可能であり、その先端の表面球面状の部分７４４ａが支点ピン７４ａより下方でゲート弁７１に当接するようになっている。７４４ｂはボルトに螺合されたいわゆるロックナットである。
【００３６】
押圧装置７４３はピン支持部材７４２に螺合されたボルト７４３１とこれに嵌合支持されたバネ７４３２とからなっており、該バネ７４３２が支持部材７４２と弁体７１との間にあってピン７４ａより上方でゲート弁７１に当接し、ゲート弁７１をゲート開口２２（より正確には弁座２２１）の方へ弾力的に押圧するようになっている。７４３３はボルト７４３１に螺合したいわゆるロックナットである。
【００３７】
弁体戻り止め部材７４４の突出量を調節することで、ゲート開口２２に臨むゲート弁７１の姿勢を制御でき、また、その姿勢を制御することで、ゲート弁７１が弁座２２１に円滑に且つ確実に気密に密着できる。
なおゲート弁７１の弁座２２１に向けられた面には無端シールリングＳを嵌めてある。
【００３８】
以上説明したゲート弁装置７によると、第１ピストンシリンダ装置７２によりゲート弁７１を上昇させて真空ロック室２のゲート開口２２に臨む位置Ｐ１に配置し、そのあと第２ピストンシリンダ装置７３により第１ピストンシリンダ装置７２及びそれに支持されたゲート弁７１の全体を揺動させて該ゲート弁７１を弁座２２１に密着してゲート開口２２を閉じる位置Ｐ３に配置し、開口２２を確実に気密に閉じることができる。
【００３９】
また、ゲート開口２２を開くときは、ゲート弁７１がゲート開口２２を閉じている状態から、先ず、第２ピストンシリンダ装置７３にて第１ピストンシリンダ装置７２及びそれに支持されているゲート弁７１の全体を真空ロック室２から離れる方向に揺動させてゲート弁７１をゲート開口２２から位置Ｐ１へ離反させ、そのあと第１ピストンシリンダ装置７２によりゲート弁７１をゲート開口２２より下方へ下降させ、待機位置Ｐ２に置けばよい。
【００４０】
このようにゲート開口２２が開かれると、外部ロボット５０は真空ロック室２内と被処理物体Ｗをやり取りすることができ、且つ、そのとき被処理物体３はゲート開口２２下方位置に待機するゲート弁７１より上方位置を通過する。従って、ゲート弁７１から被処理物体Ｗ上にパーティクルが降り注ぐことはない。
また、このゲート弁装置７はゲート弁体７１をゲート開口２２に臨む位置Ｐ１や開口閉じ位置Ｐ３とそれより下方の位置Ｐ２との間で昇降させるものであるが、真空ロック室２に接近した領域にコンパクトに設置できるので、外部ロボット５０の設置及び動作に支障はない。
【００４１】
なお、前記第１ピストンシリンダ装置７２や第２ピストンシリンダ装置７３に代えて他の弁体駆動装置や揺動駆動装置を採用することもでき、例えば、それら装置としてモータ駆動される伸縮ネジ機構やモータ駆動されるラックピニオン機構利用の装置等を採用できる。
前記弁体支持部材７４における弁体戻り止め部材７４４や押圧装置７４３についても、これに代えて他の構成の弁体戻り止め部材（例えば所定量ずつ突出量を調節できるもの）や押圧装置（例えばバネに代えてゴム用弾性部材を利用したもの）を採用してもよい。
【００４２】
また以上説明した真空処理室１は半導体デバイス基板、液晶表示装置のためのガラス基板等の基板などにインオ注入したり、イオンドーピングしたりするためのイオン注入処理室、プラズマＣＶＤ法等によりかかる基板等上に所定の薄膜を形成する膜形成処理室、かかる基板等上に形成されている膜を所定パターンに従って例えばプラズマのもとでエッチングするエッチング処理室等の何であってもよい。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によると、所定真空下で被処理物体に所定の処理を施すための真空処理室に対し該被処理物体を搬入及び（又は）搬出するための該真空処理室に連設された真空ロック室の外部と連通するゲート開口を開閉するゲート弁装置であって、該ゲート開口を通じて真空ロック室に対し搬入及び（又は）搬出される被処理物体にパーティクルを付着させることがなく、また、該真空ロック室と外部との間で被処理物体をやり取りする外部ロボットの設置及び動作に支障がないゲート弁装置を提供することができる。
【００４４】
また本発明によると、かかるゲート弁装置であって、ゲート開口を確実に気密に閉じることができるゲート弁装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るゲート弁装置の１例を搭載した真空ロック室の例とその周辺部分の断面図である。
【図２】図１に示すゲート弁装置の正面図である。
【図３】図１に示すゲート弁装置における弁体とその周辺部分の一部の拡大断面図である。
【図４】従来例の側面図である。
【符号の説明】
１ 真空処理室
２ 真空ロック室
２１ 真空ロック室の真空処理室に通じるゲート開口
２２ 真空ロック室の外部に通じるゲート開口
２２１ 弁座
２３ 物体支持部材
Ｑ１ 物体支持部材の真空ロック室内位置
Ｑ２ 物体支持部材の真空処理室内へ出た位置
３１ ゲート弁（弁体）
Ｒ１ ゲート弁３１の閉位置
Ｒ２ ゲート弁３１の開位置
４０ 真空処理室内搬送ロボット
５０ 外部搬送ロボット
６ 排気装置
２０ リーク弁
７ ゲート弁装置
７１ ゲート弁（弁体）
７２ 第１ピストンシリンダ装置（弁体駆動装置）
７２１ ピストンロッド
７２２ シリンダ部
７２３ シリンダ部７２２に接続された部材
７２３ａ 長孔
７３ 第２ピストンシリンダ装置（揺動駆動装置）
７３１ ピストンロッド
７３１ａ ピン
７３２ シリンダ部
７４ 弁体支持部材
７４ａ ピン
７４４ 弁体戻り止め部材
７４３ 押圧装置
７４３１ ボルト
７４３２ バネ
８ 支持フレーム
８１ シリンダ部支持アーム
８２ 軸受け部材
８３ 軸棒
Ｐ１ ゲート弁７１のゲート開口２２に臨む位置
Ｐ２ ゲート弁７１の下方後退位置
Ｐ３ ゲート弁７１のゲート開口閉じ位置
Ｗ 被処理物体
【発明の属する技術分野】
本発明は所定真空下で被処理物体に所定の処理を施すための真空処理室に対し該被処理物体を搬入及び（又は）搬出するための該真空処理室に連設された真空ロック室の外部と連通するゲート開口を開閉するゲート弁装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
所定真空下で被処理物体に所定の処理を施すための真空処理室としては、半導体デバイス基板、液晶表示装置のためのガラス基板等の基板などにインオ注入したり、イオンドーピングしたりするためのイオン注入処理室、プラズマＣＶＤ法等によりかかる基板等上に所定の薄膜を形成する膜形成処理室、かかる基板等上に形成されている膜を所定パターンに従って例えばプラズマのもとでエッチングするエッチング処理室等がある。
【０００３】
このような真空処理室に対し被処理物体を搬入及び（又は）搬出するには、物体搬入に用いるときはロードロック室、物体搬出に用いるときはアンロードロック室と呼ばれる真空ロック室が採用されている。
その１例を図４を参照して説明する。
図４には真空処理室１に連設された真空ロック室２が示されている。
【０００４】
真空ロック室２は真空処理室１と連通するためのゲート開口２１を有しているとともに外部と連通するゲート開口２２を有している。
開口２１は真空処理室１と真空ロック室２との略境界部分に設けられたゲート弁（弁体）３１により開閉され、開口２２は真空ロック室２の外側に配置したゲート弁（弁体）３２により開閉される。
【０００５】
ゲート弁３１は支持軸３０に支持されて真空ロック室２の開口２１を閉じる位置Ｒ１と開く位置Ｒ２との間を往復昇降できる。
真空ロック室２には被処理物体Ｗの支持部材２３が設けられており、これは開口２２に臨む位置Ｑ１と真空処理室１内へ突出する位置Ｑ２との間を往復動できる。
【０００６】
また、真空処理室１内には被処理物体搬送のための搬送ロボット４０が設置されている。搬送ロボット４０は、真空処理室１内の物体処理部位（図示省略）との間で被処理物体Ｗをやり取りできる位置と前記突出位置Ｑ２の物体支持部材２３との間で被処理物体Ｗをやり取りできる位置Ｐｘとの間を往復動できる。
開口２２を開閉するゲート弁３２は、開口２２の上方部位２４において真空ロック室２の外壁部に回動可能に支持され、図示を省略した弁体駆動装置により開口２２を閉じる位置Ｘ１又はそこから上方へ回動して開口２２を開く位置Ｘ２に配置される。
【０００７】
この開口２２を開けた状態で外部ロボット５０が真空ロック室２内の物体支持部材２３との間で被処理物体Ｗをやり取りする。
被処理物体Ｗを真空ロック室２と真空処理室１との間でやり取りするときは、真空処理室１内を所定の真空度に維持しておくために真空ロック室２内がこれに接続された排気装置６により排気され、真空処理室１内と同程度の真空度にされる。
【０００８】
かかる真空ロック室２は、真空処理室１内へ被処理物体Ｗを搬入するロードロック室としても、真空処理室１内から処理済の物体Ｗを外部へ取り出すためのアンロードロック室としても使用できる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
以上説明した中で、真空ロック室２における外部と連通する被処理物体搬入又は搬出のための開口２２については、図４に示すように、これを開閉するゲート弁３２が、該開口２２の上方部位２４において真空ロック室２の外壁部に回動可能に支持され、開口２２を閉じる位置Ｘ１又はそこから上方へ回動して開口２２を開く位置Ｘ２に配置される。図示していない他の従来真空ロック室においてもこの点は同様である。
【００１０】
このようにゲート弁３２が開口２２の上方部位２４において回動可能に支持されるのは、外部ロボット５０の設置スペース及びその動作スペースを得るためである。
しかしながら、このようにゲート弁３２が設置されているため、ゲート弁３２が開かれ、外部ロボット５０が真空ロック室２内と物体のやり取りをするとき、該物体はゲート弁３２の下方を通過することになる。
【００１１】
一方、ゲート弁３２が開閉時に真空ロック室２側の弁座と擦れ合う等により、一般にパーティクルと称されている微細な塵埃が発生する。
従って外部ロボット５０に支持されてゲート弁３２の下方を通過する物体Ｗには該パーティクルが降り注ぐ恐れがある。
かかる物体Ｗが回路の高密度化、高集積化が要求される半導体デバイス基板や液晶表示装置におけるガラス基板等であるときには、それにパーティクルが付着すると、高品質の製品が得られなくなるばかりか、極端な場合には、使いものにならない製品が発生することにもなる。
【００１２】
そこで本発明は、所定真空下で被処理物体に所定の処理を施すための真空処理室に対し該被処理物体を搬入及び（又は）搬出するための該真空処理室に連設された真空ロック室の外部と連通するゲート開口を開閉するゲート弁装置であって、該ゲート開口を通じて真空ロック室に対し搬入及び（又は）搬出される被処理物体にパーティクルを付着させることがなく、また、該真空ロック室と外部との間で被処理物体をやり取りする外部ロボットの設置及び動作に支障がないゲート弁装置を提供することを課題とする。
【００１３】
また、本発明はかかるゲート弁装置であって、ゲート開口を確実に気密に閉じることができるゲート弁装置を提供することを課題とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決する本発明のゲート弁装置は、
所定真空下で被処理物体に所定の処理を施すための真空処理室に対し該被処理物体を搬入及び（又は）搬出するための該真空処理室に連設された真空ロック室の外部と連通するゲート開口を開閉するゲート弁装置であり、
前記ゲート開口を開閉するための弁体と、
上端部に該弁体を支持するとともに該弁体よ下方位置で、該弁体を前記真空ロック室に対し接離させる方向に揺動可能に支持され、前記弁体を前記ゲート開口に臨む位置と該位置より下方へ後退した位置との間に昇降駆動する弁体駆動装置と、
前記弁体が前記ゲート開口に臨む位置に配置された状態で該弁体を前記ゲート開口を閉じる位置又は該位置より離反した位置に配置するように前記弁体駆動装置を揺動させるための揺動駆動装置とを備えていることを特徴とする真空ロック室のゲート弁装置を提供する。
【００１５】
このゲート弁装置によると、弁体駆動装置により弁体を上昇させて真空ロック室の外部と通じるゲート開口に臨む位置に配置し、そのあと揺動駆動装置により弁体駆動装置及びそれに支持された該弁体の全体を揺動させて該弁体をゲート開口を閉じる位置に配置し、該開口を確実に気密に閉じることができる。
また、ゲート開口を開くときは、弁体がゲート開口を閉じている状態から、先ず、揺動駆動装置にて弁体駆動装置及びそれに支持されている弁体の全体を真空ロック室から離れる方向に揺動させて該弁体をゲート開口から離反させ、そのあと弁体駆動装置により該弁体をゲート開口より下方へ下降させ、待機位置に置けばよい。
【００１６】
このようにゲート開口が開かれると、外部ロボットは真空ロック室内と被処理物体をやり取りすることができ、且つ、そのとき被処理物体はゲート開口下方位置に待機する弁体より上方位置を通過する。従って、弁体から被処理物体上にパーティクルが降り注ぐことはない。
また、このゲート弁装置は弁体をゲート開口に臨む位置とそれより下方の位置との間で昇降させるものであるが、真空ロック室に接近した領域にコンパクトに設置することができるので、真空ロック室と外部との間で被処理物体をやり取りする外部ロボットの設置及び動作に支障はない。
【００１７】
該真空ロック室と外部との間で被処理物体をやり取りする外部ロボットの設置に支障がない前記弁体駆動装置やこれを揺動させる前記揺動駆動装置は種々のものを採用できるが、例えば流体圧（空気圧や油圧等）で作動するピストンシリンダ装置を挙げることができる。
弁体駆動装置としてピストンシリンダ装置を採用するとき、該装置が、そのピストンロッドの自由端部側で前記弁体を支持するとともにシリンダ部で揺動可能に支持され、前記弁体は、該ピストンロッドの自由端部側に、該自由端部が前記ゲート開口の方へ揺動駆動されたときゲート開口の弁座に密着できるように揺動可能に支持される例を挙げることができる。揺動駆動装置を構成するピストンシリンダ装置は弁体駆動装置を構成するピストンシリンダ装置のシリンダ部に連結すればよい。
【００１８】
弁体駆動装置（例えばピストンシリンダ装置）の揺動可能な支持は、普通には、真空ロック室やこれに接続された部材等の定位置で行うことができる。
また、揺動駆動装置を構成するピストンシリンダ装置は弁体駆動装置を構成するピストンシリンダ装置のシリンダ部に連結すればよいが、普通には、該シリンダ部と真空ロック室やこれに接続された部材等の定位置とに渡し連結すればよい。
【００１９】
また、弁体駆動装置としてピストンシリンダ装置を採用する場合、前記弁体は前記ピストンロッドの自由端部に支持部材を介して揺動可能に支持し、該支持部材には、前記弁体の揺動支点より下方で前記弁体に当接可能であって該弁体側への突出量を調節できる弁体戻り止め部材を設けるとともに、前記弁体の前記揺動支点より上方で前記弁体を前記ゲート開口へ向け弾力的に押圧する押圧装置を設けてもよい。これにより、弁体の弁座への密着度や弁座へ密着させるときの円滑さを調節でき、より安定的に確実にゲート開口を閉じることができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
図１は本発明に係るゲート弁装置の１例を搭載した真空ロック室の例とその周辺部分の断面図である。図２は図１に示すゲート弁装置の正面図である。図３は図１に示すゲート弁装置における弁体とその周辺部分の一部の拡大断面図である。
【００２１】
図示の真空ロック室２は真空処理室１と連通するためのゲート開口２１を有しているとともに外部と連通するゲート開口２２を有している。
開口２１は真空処理室１と真空ロック室２との略境界部分に設けられたゲート弁（弁体）３１により開閉され、開口２２は真空ロック室２の外側に配置したゲート弁（弁体）７１により開閉される。このゲート弁７１はゲート弁装置７の一部を構成している。ゲート弁装置７については後ほど詳述する。
【００２２】
ゲート弁３１は支持軸３０により支持され、この支持軸３０が昇降駆動されることで支持軸３０とともに真空ロック室２の開口２１を閉じる位置Ｒ１と開く位置Ｒ２との間を往復昇降できる。
真空ロック室２にはさらに被処理物体の支持部材２３が設けられており、これは開口２２に臨む位置Ｑ１と真空処理室１内へ突出する位置Ｑ２との間を往復動できる。
【００２３】
また、真空処理室１内には被処理物体搬送のための搬送ロボット４０が設置されている。搬送ロボット４０は、真空処理室１内の物体処理部位（図示省略）との間で被処理物体Ｗをやり取りできる位置と前記突出位置Ｑ２の物体支持部材２３との間で被処理物体Ｗをやり取りできる位置Ｐｘとの間を往復動できる。
ロボット４０は例えば被処理物体を保持したり、放したりできる一対の開閉アームや爪部材、或いは物体を下方から掬い支持できるアームを備えるものである。
【００２４】
開口２２はゲート弁７１により開閉されるが、この開口２２を開けた状態で外部ロボット５０が真空ロック室２内の物体支持部材２３との間で被処理物体Ｗをやり取りする。ロボット５０も例えば被処理物体を保持したり、放したりできる一対の開閉アームや爪部材、或いは物体を下方から掬い支持できるアームを備えるものである。
【００２５】
以上説明した真空ロック室２を真空処理室１内へ被処理物体Ｗを搬入するロードロック室として使用するときは、当初、図示を省略した排気装置により真空処理室１内が所定真空状態に設定される。このとき、物体支持部材２３は真空ロック室２内の開口２２に臨む位置Ｑ１に置かれる。さらに真空ロック室２の開口２１がゲート弁３１で閉じられる。
【００２６】
次に被処理物体Ｗを真空処理室１内の物体処理部位へ搬入するために、まず開口２１がゲート弁３１で閉じられた状態とされ、ゲート弁７１が開かれた状態とされる。かくして外部の搬送ロボット５０に支持された被処理物体Ｗが開口２２から真空ロック室２内へ搬入され、物体支持部材２３上に載置される。その後ゲート弁７１は閉じられ、真空ロック室２内がこれに接続された排気装置６にて排気され、真空処理室１内と同等の真空状態に設定される。
【００２７】
真空ロック室２内が所定の真空状態に設定されると、ゲート弁３１が上昇駆動され、開口２１が開かれる。また、これとともに又はその後に物体支持部材２３が上昇駆動され、真空処理室１内に突出し、これにより被処理物体Ｗが真空処理室１内に配置される。ここで搬送ロボット４０が位置Ｐｘに移され、該物体Ｗを保持し、物体処理部位へ搬送し、そこに設置する。
【００２８】
ロボット４０が物体Ｗを保持して物体処理部位へ移動すると、空になった物体支持部材２３が真空ロック室２内へ下降し、ゲート弁３１も下降して開口２１を閉じる。次いで真空ロック室２内気圧が、リーク弁２０を開いて窒素ガス等を導入することで大気圧と同程度に戻され、ゲート弁７１が開かれる。そして次の被処理物体Ｗが物体支持部材２３へ搬入され、再びゲート弁７１が閉じられ、真空ロック室２内が真空処理室１内と同等の真空状態に設定される。該物体Ｗは真空処理室１内への搬入のため待機する。
【００２９】
また真空ロック室２を真空処理室１内から処理後の物体Ｗを搬出するアンロードロック室として使用するときは、搬送ロボット４０が物体処理部位から処理済の物体Ｗを保持して真空ロック室２の上方へ移動する。ロボット４０が真空ロック室２へ到来してくると、或いはそれに先立ってゲート弁３１が開かれ、また、物体支持部材２３が真空処理室１内に突出し、該ロボットから処理済物体Ｗを受け取る。この状態ではゲート弁７１は閉じられており、真空ロック室２内は真空処理室１内と同等の真空状態におかれている。次いでロボット４０は待機位置に戻され、ゲート弁３１が開口２１を閉じる。次いで真空ロック室２内がリーク弁２０を開くことで略大気圧程度に戻され、ゲート弁７１が開かれ、外部の搬送ロボット５０が真空ロック室２内の処理済物体Ｗを外部へ取り出す。
【００３０】
その後はゲート弁７１が再び閉じられ、真空ロック室２内が次の物体取り出しに備えて排気装置６にて所定真空状態に設定される。
前記のゲート弁装置７について以下に詳述する。
ゲート弁装置７は、図１から図３に示すように、ゲート開口２２を開閉するためのゲート弁（弁体）７１と、弁体駆動装置としての空気圧駆動できる第１ピストンシリンダ装置７２と、第１ピストンシリンダ装置７２を揺動させる揺動駆動装置としての空気圧駆動できる第２ピストンシリンダ装置７３とを備えている。
【００３１】
第１ピストンシリンダ装置７２は、そのピストンロッド７２１の上端部に弁体支持部材７４を介して前記のゲート弁７１を揺動可能に支持している。ピストンシリンダ装置７２のシリンダ部７２２は、真空ロック室２から垂下された支持フレーム８の中程の定位置に揺動可能に支持されている。
さらに説明すると、支持フレーム８の中程には一対のシリンダ部支持アーム８１が突設されているとともに、シリンダ部７２２の両側面に一対の軸受け部材８２が設けられている。そして各支持アーム８１に片持ち支持された軸棒８３が該軸受け部材８２に嵌められている。かくしてシリンダ部７２２は、弁体７１を真空ロック室のゲート開口２２周囲の弁座２２１に対し接離させる方向に揺動可能に支持されている。
【００３２】
なお図２中、７２ａはピストンロッド７２１と平行なガイドロッドであり、上端部が弁体支持部材７４に接続されていて、ピストンロッド７２１とともに上下動する。
ゲート弁７１は、ピストンシリンダ装置７２の駆動、すなわちそのピストンロッド７２１の出退によりゲート開口２２に臨む位置Ｐ１と該位置より下方へ後退した位置Ｐ２との間に昇降できる。
【００３３】
第２ピストンシリンダ装置７３は、そのピストンロッド７３１が第１ピストンシリンダ装置７２のシリンダ部７２２に連結され、シリンダ部７３２が前記の支持フレーム８の下端部に固定接続されている。ピストンロッド７３１はその自由端部にピン７３１ａを有しており、該ピンが、第１ピストンシリンダ装置７２のシリンダ部７２２に接続された部材７２３下端部の上下方向の長孔７２３ａに遊嵌している。かくしてゲート弁７１はゲート開口２２に臨む位置Ｐ１に配置された状態で、第２ピストンシリンダ装置７３の駆動、すなわちそのピストンロッド７３１の出退により、ゲート開口周囲の弁座２２１に密着してゲート開口２２を気密に閉じる位置Ｐ３又は該位置より離反した位置Ｐ１に配置される。
【００３４】
ゲート弁７１は既述のとおり第１ピストンシリンダ装置７２のピストンロッド７２１の自由端部に支持部材７４を介して揺動可能に支持されいるが、この点を図３等を参照してさらに説明する。
弁体支持部材７４は水平部材７４１とその両端部に立設されたピン支持部材７４２とからなっている。第１ピストンシリンダ装置７２のピストンロッド７２１やガイドロッド７２ａはこれに接続されている。ゲート弁７１の背面には一対の部材７４０が立設されており、ゲート弁７１はこの部材７４０の部分で、各ピン支持部材７４２にピン７４ａで揺動可能に支持されている。各ピン支持部材７４２には、ピン７４ａより下方部位に弁体戻り止め部材７４４が設けられているとともにピン７４ａより上方部位に押圧装置７４３が設けられている。
【００３５】
図３に示すように弁体戻り止め部材７４４はピン支持部材７４２に螺合されたボルトからなっており、ゲート弁７１へ向けての支持部材７４（ピン支持部材７４２）からの突出量の調節が可能であり、その先端の表面球面状の部分７４４ａが支点ピン７４ａより下方でゲート弁７１に当接するようになっている。７４４ｂはボルトに螺合されたいわゆるロックナットである。
【００３６】
押圧装置７４３はピン支持部材７４２に螺合されたボルト７４３１とこれに嵌合支持されたバネ７４３２とからなっており、該バネ７４３２が支持部材７４２と弁体７１との間にあってピン７４ａより上方でゲート弁７１に当接し、ゲート弁７１をゲート開口２２（より正確には弁座２２１）の方へ弾力的に押圧するようになっている。７４３３はボルト７４３１に螺合したいわゆるロックナットである。
【００３７】
弁体戻り止め部材７４４の突出量を調節することで、ゲート開口２２に臨むゲート弁７１の姿勢を制御でき、また、その姿勢を制御することで、ゲート弁７１が弁座２２１に円滑に且つ確実に気密に密着できる。
なおゲート弁７１の弁座２２１に向けられた面には無端シールリングＳを嵌めてある。
【００３８】
以上説明したゲート弁装置７によると、第１ピストンシリンダ装置７２によりゲート弁７１を上昇させて真空ロック室２のゲート開口２２に臨む位置Ｐ１に配置し、そのあと第２ピストンシリンダ装置７３により第１ピストンシリンダ装置７２及びそれに支持されたゲート弁７１の全体を揺動させて該ゲート弁７１を弁座２２１に密着してゲート開口２２を閉じる位置Ｐ３に配置し、開口２２を確実に気密に閉じることができる。
【００３９】
また、ゲート開口２２を開くときは、ゲート弁７１がゲート開口２２を閉じている状態から、先ず、第２ピストンシリンダ装置７３にて第１ピストンシリンダ装置７２及びそれに支持されているゲート弁７１の全体を真空ロック室２から離れる方向に揺動させてゲート弁７１をゲート開口２２から位置Ｐ１へ離反させ、そのあと第１ピストンシリンダ装置７２によりゲート弁７１をゲート開口２２より下方へ下降させ、待機位置Ｐ２に置けばよい。
【００４０】
このようにゲート開口２２が開かれると、外部ロボット５０は真空ロック室２内と被処理物体Ｗをやり取りすることができ、且つ、そのとき被処理物体３はゲート開口２２下方位置に待機するゲート弁７１より上方位置を通過する。従って、ゲート弁７１から被処理物体Ｗ上にパーティクルが降り注ぐことはない。
また、このゲート弁装置７はゲート弁体７１をゲート開口２２に臨む位置Ｐ１や開口閉じ位置Ｐ３とそれより下方の位置Ｐ２との間で昇降させるものであるが、真空ロック室２に接近した領域にコンパクトに設置できるので、外部ロボット５０の設置及び動作に支障はない。
【００４１】
なお、前記第１ピストンシリンダ装置７２や第２ピストンシリンダ装置７３に代えて他の弁体駆動装置や揺動駆動装置を採用することもでき、例えば、それら装置としてモータ駆動される伸縮ネジ機構やモータ駆動されるラックピニオン機構利用の装置等を採用できる。
前記弁体支持部材７４における弁体戻り止め部材７４４や押圧装置７４３についても、これに代えて他の構成の弁体戻り止め部材（例えば所定量ずつ突出量を調節できるもの）や押圧装置（例えばバネに代えてゴム用弾性部材を利用したもの）を採用してもよい。
【００４２】
また以上説明した真空処理室１は半導体デバイス基板、液晶表示装置のためのガラス基板等の基板などにインオ注入したり、イオンドーピングしたりするためのイオン注入処理室、プラズマＣＶＤ法等によりかかる基板等上に所定の薄膜を形成する膜形成処理室、かかる基板等上に形成されている膜を所定パターンに従って例えばプラズマのもとでエッチングするエッチング処理室等の何であってもよい。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によると、所定真空下で被処理物体に所定の処理を施すための真空処理室に対し該被処理物体を搬入及び（又は）搬出するための該真空処理室に連設された真空ロック室の外部と連通するゲート開口を開閉するゲート弁装置であって、該ゲート開口を通じて真空ロック室に対し搬入及び（又は）搬出される被処理物体にパーティクルを付着させることがなく、また、該真空ロック室と外部との間で被処理物体をやり取りする外部ロボットの設置及び動作に支障がないゲート弁装置を提供することができる。
【００４４】
また本発明によると、かかるゲート弁装置であって、ゲート開口を確実に気密に閉じることができるゲート弁装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るゲート弁装置の１例を搭載した真空ロック室の例とその周辺部分の断面図である。
【図２】図１に示すゲート弁装置の正面図である。
【図３】図１に示すゲート弁装置における弁体とその周辺部分の一部の拡大断面図である。
【図４】従来例の側面図である。
【符号の説明】
１ 真空処理室
２ 真空ロック室
２１ 真空ロック室の真空処理室に通じるゲート開口
２２ 真空ロック室の外部に通じるゲート開口
２２１ 弁座
２３ 物体支持部材
Ｑ１ 物体支持部材の真空ロック室内位置
Ｑ２ 物体支持部材の真空処理室内へ出た位置
３１ ゲート弁（弁体）
Ｒ１ ゲート弁３１の閉位置
Ｒ２ ゲート弁３１の開位置
４０ 真空処理室内搬送ロボット
５０ 外部搬送ロボット
６ 排気装置
２０ リーク弁
７ ゲート弁装置
７１ ゲート弁（弁体）
７２ 第１ピストンシリンダ装置（弁体駆動装置）
７２１ ピストンロッド
７２２ シリンダ部
７２３ シリンダ部７２２に接続された部材
７２３ａ 長孔
７３ 第２ピストンシリンダ装置（揺動駆動装置）
７３１ ピストンロッド
７３１ａ ピン
７３２ シリンダ部
７４ 弁体支持部材
７４ａ ピン
７４４ 弁体戻り止め部材
７４３ 押圧装置
７４３１ ボルト
７４３２ バネ
８ 支持フレーム
８１ シリンダ部支持アーム
８２ 軸受け部材
８３ 軸棒
Ｐ１ ゲート弁７１のゲート開口２２に臨む位置
Ｐ２ ゲート弁７１の下方後退位置
Ｐ３ ゲート弁７１のゲート開口閉じ位置
Ｗ 被処理物体
Claims (2)
- 所定真空下で被処理物体に所定の処理を施すための真空処理室に対し該被処理物体の搬入及び搬出のうち少なくとも一方を行うための該真空処理室に連設された真空ロック室の外部と連通するゲート開口を開閉するゲート弁装置であり、
前記ゲート開口を開閉するための弁体と、
前記弁体を昇降駆動する弁体駆動装置と、
前記弁体駆動装置を揺動させるための揺動駆動装置とを備えており、
前記弁体駆動装置は、流体圧で作動するピストンシリンダ装置からなり、該ピストンシリンダ装置のピストンロッドの自由上端部に前記弁体を支持しているとともに該弁体を前記真空ロック室に対し接離させる方向に揺動させることができるように該ピストンシリンダ装置の、該弁体より下方のシリンダ部で揺動可能に支持されており、前記弁体を前記ゲート開口に臨む位置と該位置より下方へ後退した位置との間に昇降駆動可能であり、
前記揺動駆動装置は、前記弁体が前記ゲート開口に臨む位置に配置された状態で該弁体を前記ゲート開口を閉じる位置又は該ゲート開口を閉じる位置より離反した位置に配置するように前記弁体駆動装置を揺動させることができ、
前記弁体は、該弁体が前記ゲート開口に臨む位置に配置された状態で前記ピストンロッドの自由上端部が該ゲート開口の方へ揺動駆動されたとき該ゲート開口の弁座に密着できるように該ピストンロッドの自由上端部に支持部材を介して揺動可能に支持されており、該支持部材には、該弁体の該支持部材における揺動支点を間にして弁体戻り止め部材及び押圧装置が設けられており、該弁体戻り止め部材は該弁体に当接可能であって該弁体側への突出量を調節でき、該押圧装置は該弁体を前記ゲート開口へ向け弾力的に押圧することを特徴とする真空ロック室のゲート弁装置。 - 前記揺動駆動装置は、前記弁体駆動装置であるピストンシリンダ装置のシリンダ部に連結された流体圧で作動するピストンシリンダ装置である請求項１記載のゲート弁装置。
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