JP3924609B2 - 真空切換弁装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体チップ等の部材の真空吸着に使用される真空切換弁装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体製造分野において、半導体チップ等の部材の組立,搬送等にマウンターやハンドラー等の装置が多用されている。
このようなマウンターやハンドラー等の装置では、製品である半導体チップ等を、所定の加工機械や測定機械の所定位置に搬送して正確に位置決めしており、その製品を保持する方法として真空吸着が多用されている。
【0003】
図31は、このような真空吸着に使用される真空切換弁装置を示すもので、この真空切換弁装置は、真空吸着用切換弁1と真空破壊用切換弁3とを有している。
真空吸着用切換弁1は、2ポート2位置電磁切換弁からなり真空ポートVが図示しない真空源に接続されている。
真空破壊用切換弁3は、2ポート2位置電磁切換弁からなり加圧ポートPが図示しない加圧源に接続されている。
【0004】
このような真空切換弁装置では、例えば、ハンドラーにおいて、真空吸着用切換弁1のソレノイド5(以下真空用ソレノイドという)をオンすることにより、出力ポートAに接続される図示しない真空吸着手段への製品の吸着が行われる。
そして、製品を所定位置まで搬送して、製品の離脱を行う場合には、真空用ソレノイド5がオフにされ、真空破壊用切換弁3のソレノイド7(以下真空破壊用ソレノイドという)がオンにされる。
【0005】
これにより、真空破壊用切換弁3の加圧ポートPから圧力空気が供給され、出力ポートAに接続される真空吸着手段からの製品の離脱が確実に行われる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような真空切換弁装置では、真空破壊用ソレノイド7のオン時に、真空破壊用切換弁3の加圧ポートPからの圧力空気が、出力ポートAから真空吸着手段に急激に供給されるため、製品吸着部の内圧が急激に上昇してオーバーシュートが生じ、真空吸着手段に吸着された製品をスムーズに離脱することが困難になるという問題があった。
【0007】
すなわち、真空吸着手段に吸着された製品が、製品吸着部から急激に離脱されるため、製品の載置位置等が所定の位置からずれ、次の作業に支障を来すおそれがあった。
そして、この位置ずれは、その周りの製品にまで影響を与え、さらなる製品の位置ずれを発生させるおそれがあった。
【0008】
また、真空吸着力、すなわち、真空圧力にもバラツキがあり、一度設定した破壊エアー流量でも、大気圧までの到達時間やオーバーシュートの量も変化するため、真空吸着手段に吸着された製品を常にスムーズに離脱することが非常に困難であった。
図32は、図31に示した真空切換弁装置の一般的な使用方法における圧力変化特性を示すもので、真空用ソレノイド5への電気信号がオフされた後、t1時間経過後に、真空破壊用ソレノイド7への電気信号がオンされる。また、真空破壊用ソレノイド7に与えられた電気信号はt2時間後にオフされる。
【0009】
そして、この間の圧力変化は、次のようになる。
真空用ソレノイド5への電気信号のオフ後、T1の応答遅れ時間をもって真空用ソレノイド5がオフの状態となり、真空圧力の供給がなくなる。これにより、保持されていた真空圧は徐々に下がり始める。
さらに、真空用ソレノイド5への電気信号のオフのt1時間後に、真空破壊用ソレノイド7への電気信号がオンされる。オン後は、T2の応答遅れ時間をもって真空破壊用ソレノイド7がオンの状態となり、真空破壊圧としての正圧力が供給される。これにより、出力ポートAの圧力が急激に上昇する。
【0010】
真空破壊用ソレノイド7への電気信号は、出力ポートAの圧力が大気の圧力に近くなるまでのt2の時間オン状態にあり、その後オフとされる。真空破壊用ソレノイド7への電気信号がオフとなった後、T3の応答遅れ時間をもって真空破壊用ソレノイド7がオフ状態となり、真空破壊圧の供給がなくなり出力ポートAは大気圧に収束する。
【0011】
しかしながら、このような従来の真空切換弁装置では、次のような問題があった。
例えば、真空圧力をVに設定したとすると、真空圧力の使用量によっては、設定した真空圧力がVまで落ちたり、逆にVまで高くなったりすることにより、真空破壊圧が流入する時のスタート時点での圧力が、V’となったり、V’となったり変動することになる。
【0012】
そして、真空破壊用ソレノイド7のオン時間は一定であるため、真空破壊がV’からスタートすることになった場合には、大気圧に近い分、大気圧を超えてオーバーシュートし、吸着していたワークを吹き飛ばしたり、さらには周りのワークさえも吹き飛ばしてしまうことになる。
そして、逆に、真空破壊がV’からスタートすることになった場合には、大気圧になる前に、真空破壊の工程が済んでしまい、ワークを放し切れずにそのまま次の工程に移ることになる。
【0013】
なお、ワークの吹き飛ばしに対しては、t2の時間を短くし、早めに真空破壊圧の供給を断ち、出力ポートAの圧力上昇を押さえれば良いが、この場合には、ワークを放さない現象が増大することになる。
逆に、ワークを放さないことに対しては、t2の時間を長くし、遅めに真空破壊圧の供給を断つことにより、ワークを放さない現象が抑制される。しかしながら、この場合には、ワークを吹き飛ばしてしまう現象が増大することになる。
【0014】
このような問題を解決するため、従来、図33に示すように、真空破壊用切換弁3の出口側に流量調整用の絞り弁9を設けた真空切換弁装置が知られている。
この真空切換弁装置の一般的な使用方法における圧力変化は、図31に示した真空切換弁装置と略同様である。
しかしながら、この真空切換弁装置では、一連の圧力変化の中で、真空破壊用切換弁3の出口側に設けられた流量調整用の絞り弁9を調整することにより、図34に示すように、圧力上昇が絞り弁9を利用しない時に比較して緩やかになり、大気圧に収束する時点でのワークを吹き飛ばしてしまうようなオーバーシュート現象が軽減されることになる。
【0015】
そして、真空圧力をVに設定した時に、真空圧力がVあるいはVに変化しても同様の効果を得ることができる。
しかしながら、この真空切換弁装置では、圧力上昇が緩やかになる分、圧力上昇に時間がかかり、マウンター等のように、半導体チップを基板に多数搭載するような装置では、タクトタイムに与える影響が非常に大きくなり、装置の性能を左右する大きな負の要因となる。
【0016】
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、真空破壊を迅速かつスムーズに行うことができる真空切換弁装置を提供することを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】
請求項1の真空切換弁装置は、真空吸着用の真空吸着用切換弁と、真空破壊用の真空破壊用切換弁と、前記真空吸着用切換弁の動作に連動して動作する大気開放用切換弁とを単体からなる直方体状の弁本体に一体に組み込んでなり、前記弁本体の底面には、真空源へ接続され内部通路を介して前記弁本体の一側端面に開口する真空ポート、圧力源へ接続され内部通路を介して前記弁本体の他側端面へ開口する加圧ポート、真空吸着部へ接続され内部通路を介して前記弁本体の両側端面へ開口する出力ポートが開口され、前記真空吸着用切換弁は、前記弁本体の前記一側端面に装着され、前記弁本体の前記一側端面に開口する前記真空ポートと前記出力ポートを開閉するための2ポート電磁切換弁を有し、前記真空破壊用切換弁は、前記弁本体の前記他側端面に装着され、前記弁本体の前記他側端面へ開口する前記加圧ポートと前記出力ポートを開閉する2ポート電磁切換弁を有し、前記大気開放用切換弁は、前記真空吸着用切換弁を構成するソレノイドのプランジャー側に設けた真空側弁室と、前記真空吸着用切換弁を構成するソレノイドのプランジャーの軸線と平行に、前記真空側弁室に開口して形成されている大気側弁室と、前記大気側弁室の先端に、通路を介して開口されている大気開放ポートと、前記大気側弁室に固定されている筒状の弁座部材と、後端面が、前記真空吸着用切換弁を構成するソレノイドのプランジャーの先端面に当接され、前記弁座部材との間に間隙が形成される凹部を外周に形成し、前記弁座部材に移動可能に挿入されている大気開放用プランジャーと、前記大気開放用プランジャーの大気開放ポート側に配置されている球体弁と、前記弁座部材の先端に形成され、前記球体弁を封止する弁座と、前記大気側弁室の大気開放ポート側に形成され、前記球体弁を封止する弁座と、前記真空側弁室と前記真空ポートとを連通する通路と、前記真空側弁室と前記真空ポートとを連通する通路の前記真空側弁室側に形成され、前記真空吸着用切換弁を構成するソレノイドのプランジャーの先端面を当接する弁座とを有し、前記真空吸着用切換弁を構成するソレノイドのプランジャーに連動して前記真空ポートを前記大気開放ポートへ連通すると共に、前記真空破壊用切換弁から流入する圧力空気によって前記大気開放ポートを閉鎖することを特徴とする。
【0018】
請求項2の真空切換弁装置は、請求項1記載の真空切換弁装置において、前記弁本体の前記出力ポートから前記真空破壊用切換弁に続く通路途中に絞り弁を設け、前記絞り弁の絞り量の調整を行う操作部を前記弁本体の外部に配置してなることを特徴とする。
【0019】
請求項3の真空切換弁装置は、請求項2記載の真空切換弁装置において、前記絞り弁は、前記弁本体の絞り弁室内に内蔵され、前記絞り弁室内に前記絞り弁と同心状にリリーフ弁を配置してなることを特徴とする。
【0020】
請求項4の真空切換弁装置は、請求項1ないし請求項3のいずれか1項記載の真空切換弁装置において、前記弁本体の底面に、サブベースまたはマニホールドベースを取り付け、前記サブベースまたは前記マニホールドベースを介して、前記真空ポートを前記真空源に、前記加圧ポートを圧力源に、前記出力ポートを真空吸着部に接続してなることを特徴とする。
【0021】
請求項5の真空切換弁装置は、請求項4記載の真空切換弁装置において、前記サブベースまたはマニホールドベースに形成され前記真空ポートと前記真空源とを接続する内部通路に、タンク用空間を形成してなることを特徴とする。
【0022】
(作用)
請求項1の真空切換弁装置では、大気開放用切換弁が、真空吸着用切換弁を構成するソレノイドのプランジャーに連動して動作され、真空吸着用切換弁がオフの時に大気側への通路が開放され、オンの時に大気側への通路が閉止される。
そして、真空吸着用切換弁、真空破壊用切換弁および大気開放用切換弁が本体部に一体的に組み込まれる。
【0023】
請求項2の真空切換弁装置では、真空破壊用切換弁の出口側に絞り弁が設けられ、真空破壊時に、絞り弁により絞られた加圧空気が出力ポートに供給される。
【0024】
請求項3の真空切換弁装置では、絞り弁にリリーフ弁が付加され、真空破壊時には、先ず、絞り弁とリリーフ弁を通過した加圧空気が出力ポートに供給され、次に、絞り弁を通過した加圧空気のみが出力ポートに供給される。
【0025】
請求項4の真空切換弁装置では、真空切換弁装置の本体部が、サブベースまたはマニホールドベースに取り付けられる。
請求項5の真空切換弁装置では、サブベースまたはマニホールドベースに、真空吸着用切換弁の真空ポートに連通するタンク部が形成され、タンク部により真空度の低下が防止される。
【0026】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図面に示す実施形態について説明する。
(第1の実施形態)
図1ないし図4は、本発明の真空切換弁装置の第1の実施形態を示しており、図5は、この第1の実施形態の真空切換弁装置の基本構成を示す回路図である。
【0027】
先ず、この実施形態の真空切換弁装置の基本構成を、図5に示す回路図に基づいて説明する。
この実施形態の真空切換弁装置は、真空吸着用の真空吸着用切換弁11と真空破壊用の真空破壊用切換弁13とを有している。
真空吸着用切換弁11は、2ポート2位置電磁切換弁からなり真空ポートVが図示しない真空源に接続されている。
【0028】
真空破壊用切換弁13は、2ポート2位置電磁切換弁からなり加圧ポートPが図示しない加圧源に接続されている。
そして、真空吸着用切換弁11に隣接して大気開放用切換弁17が設けられている。
この大気開放用切換弁17は、2ポート電磁切換弁からなり、真空吸着用切換弁11の真空用ソレノイド19が共用されている。
【0029】
大気開放用切換弁17は、チェック弁15とチェック弁15’とを有している。
この大気開放用切換弁17は、共用される真空吸着用切換弁11の真空用ソレノイド19がオンで、かつ、真空破壊用切換弁13の真空破壊用ソレノイド21がオフの時に、チェック弁15により大気開放ポートRから真空側への通路を閉鎖する。
【0030】
また、真空用ソレノイド19がオフで、かつ、真空破壊用ソレノイド21がオンの時に、チェック弁15’により大気開放ポートR側への通路を閉鎖する。
次に、この第1の実施形態の真空切換弁装置の具体的構成を、図1ないし図4を用いて詳細に説明する。
この第1の実施形態の真空切換弁装置は、直方体状の弁本体23を有している。
【0031】
弁本体23の一側側面には、真空吸着用切換弁11の真空用ソレノイド19が配置され、他側側面には、真空破壊用切換弁13の真空破壊用ソレノイド21が配置されている。
弁本体23の底面の中央には、図2に示すように、出力ポートAが開口されている。
【0032】
また、弁本体23の底面の真空用ソレノイド19側には、真空吸着用切換弁11の真空ポートVが開口されている。
さらに、弁本体23の底面の真空破壊用ソレノイド21側には、真空破壊用切換弁13
の加圧ポートPが開口されている。
そして、弁本体23の上面の真空用ソレノイド19側には、図3に示すように、大気開放用切換弁17の大気開放ポートRが開口されている。
【0033】
また、弁本体23の上面には、弁本体23を上下方向に貫通する取付穴23a,23bが形成されている。
弁本体23の真空用ソレノイド19側には、図2に示すように、真空側弁室25が形成されている。
この真空側弁室25は、通路23cを介して真空ポートVに開口されている。
【0034】
また、この真空側弁室25は、図1に示すように、通路23dを介して出力ポートAに開口されている。
真空側弁室25には、図2に示すように、真空用ソレノイド19のプランジャー27の先端が位置されている。
プランジャー27は、コイルスプリング29により、弁本体23側に付勢されている。
【0035】
弁本体23の真空側弁室25の上部には、手動切換弁31が配置されている。
弁本体23の真空破壊用ソレノイド21側には、加圧側弁室33が形成されている。
この加圧側弁室33は、通路23eを介して加圧ポートPに開口されている。
また、この加圧側弁室33は、図1に示すように、通路23fを介して出力ポートAに開口されている。
【0036】
加圧側弁室33には、図2に示すように、真空破壊用ソレノイド21のプランジャー35の先端が位置されている。
プランジャー35は、コイルスプリング37により、弁本体23側に付勢されている。
弁本体23の加圧側弁室33の上部には、手動切換弁39が配置されている。
【0037】
そして、この実施形態では、図1に示すように、弁本体23の真空用ソレノイド19側に大気開放用切換弁17が配置されている。
この大気開放用切換弁17は、真空用ソレノイド19のプランジャー27と機械的に連動するように構成されている。
すなわち、図1のD部を拡大して示す図6に示すように、真空用ソレノイド19のプランジャー27の軸線と平行に、大気側弁室41が真空側弁室25に開口して形成されている。
【0038】
この大気側弁室41の先端は、通路23hを介して大気開放ポートRに開口されている。
大気側弁室41には、筒状の弁座部材43が固定されている。
弁座部材43には、大気開放用プランジャー45が移動可能に挿入されている。
この大気開放用プランジャー45の後端面45aは、真空用ソレノイド19のプランジャー27の先端面27aに当接されている。
【0039】
大気開放用プランジャー45の外周には、図7に示すように、凹部45bが形成され、弁座部材43と大気開放用プランジャー45との間に間隙47が形成されている。
大気開放用プランジャー45の大気開放ポートR側には、ゴム等の弾性体からなる球体弁49が配置されている。
【0040】
この球体弁49は、弁座部材43の先端に形成される弁座43a、および、大気側弁室41の大気開放ポートR側に形成される弁座41aを封止可能とされている。
以下、上述した真空切換弁装置の動作を説明する。
上述した真空切換弁装置では、真空用ソレノイド19および真空破壊用ソレノイド21がオフの時には、図6に示したように、真空用ソレノイド19側の真空側弁室25が、大気開放ポートRに連通される。
【0041】
すなわち、この状態では、真空用ソレノイド19のプランジャー27が、コイルスプリング29により真空側弁室25の弁座25aに押圧され、プランジャー27の先端面27aにより、大気開放用プランジャー45の後端面45aが、球体弁49側に押圧される。
この押圧により、弁座部材43の弁座43aと球体弁49との間に間隙51が形成され、真空側弁室25内が、弁座部材43と大気開放用プランジャー45との間隙47、および、弁座部材43の弁座43aと球体弁49との間の間隙51を介して大気開放ポートRに連通される。
【0042】
この状態で、吸着信号が真空用ソレノイド19に印加されると、図8に示すように、真空用ソレノイド19のプランジャー27が、コイルスプリング29の付勢力に抗して図の左側に電磁力により吸引される。
これにより、プランジャー27の先端面27aと真空側弁室25の弁座25aとの間に間隙Gが形成され、真空側弁室25が真空ポートVに連通される。
【0043】
この連通により、真空側弁室25が真空になると、球体弁49が弁座部材43の弁座43aに吸着され、球体弁49により、大気開放ポートRへの連通が遮断される。
そして、真空側弁室25が、図1に示したように、通路23dを介して出力ポートAに連通されているため、出力ポートAの空気が真空状態となり、この状態でワークの搬送等が行われる。
【0044】
この状態で、真空用ソレノイド19がオフになると、図6に示したように、真空用ソレノイド19のプランジャー27が、コイルスプリング29により真空側弁室25の弁座25aに押圧され、プランジャー27の先端面27aにより、大気開放用プランジャー45の後端面45aが、球体弁49側に押圧される。
この押圧により、弁座部材43の弁座43aと球体弁49との間に間隙51が形成され、真空側弁室25内が、弁座部材43と大気開放用プランジャー45との間隙47、および、弁座部材43の弁座43aと球体弁49との間の間隙51を介して大気開放ポートRに連通される。
【0045】
そして、この連通により、真空側弁室25内の真空が破壊され、真空側弁室25および出力ポートA内の圧力が大気圧に向かって変化する。
所定時間後に、真空破壊用ソレノイド21がオンになると、図1および図2に示した真空破壊用ソレノイド21のプランジャー35が、コイルスプリング37の付勢力に抗して図の右側に電磁力により吸引される。
【0046】
これにより、プランジャー35の先端面と加圧側弁室33の弁座33aとの間に間隙が形成され、加圧側弁室33が、通路23fを介して出力ポートAに連通され、出力ポートA内が急激に大気圧に近づく。
また、出力ポートAが、通路23dを介して真空用ソレノイド19側の真空側弁室25に連通されているため、真空側弁室25に加圧空気が供給される。
【0047】
この供給により、真空側弁室25が加圧されると、図9に示すように、球体弁49が大気側弁室41の弁座41aに押圧され、球体弁49により、大気開放ポートRへの連通が遮断される。
図10は、上述した真空切換弁装置の圧力変化特性を示している。
この真空切換弁装置では、真空用ソレノイド19への電気信号のオフ後、T1の応答遅
れ時間をもって真空用ソレノイド19がオフの状態となり、真空圧力の供給がなくなる。この時、機械的に連動している大気開放用切換弁17が同時にオン状態となり、大気開放ポートRより大気が導入され、出力ポートA内の圧力は上昇することになる。
【0048】
導入される圧力は、大気圧であるため、初期的には、急激な圧力上昇を伴うが、大気圧に近づくにつれ、その圧力上昇は緩やかになり、出力ポートA内圧力が大気圧となるには、真空用ソレノイド19への電気信号のオフ後、t3の時間がかかることになる。
しかしながら、この間に、真空用ソレノイド19オフ後t1後、真空破壊用ソレノイド21に電気信号が与えられると、さらに、真空破壊用の正圧力が供給され、出力ポートA内圧力は一気に大気圧に収束することになる。
【0049】
真空用ソレノイド19のオフ後に、真空破壊用ソレノイド21に電気信号を与え強制的に真空破壊用の正圧を加えることは、従来の技術と変わらない。
しかしながら、真空用ソレノイド19のオフ後に、大気圧を導入することで真空破壊圧を加える時点での出力ポートA内圧力は、一般的な使用方法より、より大気圧に近いところで供給されることになり、真空破壊用ソレノイド21に通電している時間、すなわち、真空破壊用ソレノイド21をオンしている時間は、より短時間ですむことになる。
【0050】
そして、このことは、大気圧近くでのオーバーシュートの軽減にも繋がることになる。
上述した真空切換弁装置では、真空吸着用切換弁11に大気開放用切換弁17を連動させたので、真空破壊用切換弁13から圧力空気が流入する前に、自動的に真空側が大気側と連動して、大気圧に近づいてから真空破壊用切換弁13から大気圧より高圧の圧力空気が流入するので、オーバーシュート量を小さく押さえることが可能になり、真空破壊を迅速かつスムーズに行うことができる。
【0051】
また、真空吸着用切換弁11に大気開放用切換弁17を連動させたので、真空破壊用切換弁13による真空破壊が開始する時の真空圧が上がり、かつ、真空圧のバラツキが小さくなり、安定した製品の搬送と離脱を行うことができる。
さらに、真空吸着用切換弁11、真空破壊用切換弁13および大気開放用切換弁17を一体的に組み込んだので、真空切換弁装置をコンパクトに構成し小型化することが可能になり、また、真空切換弁装置を安価に提供することができる。
【0052】
また、上述した真空切換弁装置では、真空吸着用切換弁11と大気開放用切換弁17とを機械的に連動したので、信頼性を向上することができる。
そして、上述した真空切換弁装置では、真空吸着用切換弁11、真空破壊用切換弁13および大気開放用切換弁17を構成する流体通路を、単体の弁本体23に形成したので、部品点数を削減し、コンパクトで小型な真空切換弁装置を得ることができる。
【0053】
さらに、上述した真空切換弁装置では、大気開放用切換弁17をチェック弁15により構成し、真空吸着用切換弁11がオンの時に真空側への通路を閉鎖し、真空破壊用切換弁13がオンの時に大気側への通路を閉鎖するようにしたので、大気開放用切換弁17を、簡易で信頼性の高いものにすることができる。
【0054】
(第2の実施形態)
図11および図12は、本発明の真空切換弁装置の第2の実施形態を示しており、図13は、この第2の実施形態の真空切換弁装置の基本構成を示す回路図である。
なお、この実施形態において第1の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【0055】
この実施形態の真空切換弁装置では、図13に示すように、真空破壊用切換弁13の出
力ポートA側に、絞り弁53が設けられている。
この絞り弁53は、図11および図12に示すように、弁本体23の真空破壊用ソレノイド21側に形成されている。
すなわち、弁本体23の上面には、絞り弁室55が形成されている。
【0056】
この絞り弁室55には、先端先細り形状の絞り弁57が収容されている。
絞り弁57は、操作部59により支持され、操作部59の手動操作により絞り量を設定可能とされている。
絞り弁室55の底面には、絞り穴57aが開口されている。
この絞り穴57aは、加圧側弁室33の弁座33aに開口する通路23iに接続されている。
【0057】
また、絞り弁室55は、通路23jを介して出力ポートAに接続されている。
この実施形態の真空切換弁装置では、真空破壊用ソレノイド21がオンになると、真空破壊用ソレノイド21のプランジャー35が、コイルスプリング37の付勢力に抗して図の右側に電磁力により吸引される。
これにより、プランジャー35の先端面と加圧側弁室33の弁座33aとの間に間隙が形成され、加圧側弁室33が、通路23iを介して絞り弁室55に連通される。
【0058】
そして、図11のE部の詳細を示す図14に示すように、通路23i,57aからの加圧空気が、絞り弁57により絞られた後、通路23jを介して出力ポートAに供給される。
【0059】
図15は、この実施形態の真空切換弁装置の圧力変化特性を示している。
この真空切換弁装置では、真空破壊用ソレノイド21がオンするまでの一連の変化は、第1の実施形態と略同じである。
真空破壊用ソレノイド21に電気信号が与えられ、T2の遅れ時間をもって、真空破壊圧が出力ポートA内に流入することになる。
【0060】
この時流入する真空破壊圧は、流量調整用の絞り弁57により流入流量が調整されており、より理想的な圧力上昇特性を示すことになる。
この実施形態の真空切換弁装置では、真空破壊用切換弁13の出口側に絞り弁53を設け、真空破壊時に、絞り弁53により絞られた加圧空気を出力ポートAに供給するようにしたので、オーバーシュートをより確実に低減することができる。
【0061】
(第3の実施形態)
図16は、本発明の真空切換弁装置の第3の実施形態の要部を示しており、図17は、この第3の実施形態の真空切換弁装置の基本構成を示す回路図である。
なお、この実施形態において第1および第2の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【0062】
この実施形態の真空切換弁装置では、図17に示すように、真空破壊用切換弁13の出力ポートA側に、絞り弁53が設けられ、この絞り弁機構53にリリーフ弁61が付加されている。
図16に示すように、絞り弁53は、第2の実施形態の絞り弁53と同様に構成されている。
【0063】
絞り弁室55の底部には、コイルスプリング63とリリーフシート65とからなるリリーフ弁61が配置されている。
コイルスプリング63は、絞り弁53の取付部67とリリーフシート65との間に配置
され、リリーフシート65が、絞り弁室55の底面に付勢されている。
【0064】
リリーフシート65の中心には、絞り弁57の先端が挿通される貫通穴65aが形成されている。
そして、絞り弁室55の底面には、リリーフシート65の底面に開口する複数の通路55bが形成されている。
この通路55bは、加圧側弁室33の弁座33aに開口する通路23iに接続されている。
【0065】
そして、絞り弁室55は、通路23jを介して出力ポートAに接続されている。
この実施形態の真空切換弁装置では、図18に示すように、通路55bからの加圧空気が、リリーフシート65をコイルスプリング63の付勢力に抗して押し上げ、加圧空気が、リリーフシート65の底面と絞り弁室55の底面との間隙、および、絞り弁57とリリーフシート65の貫通穴65aとの間隙を通り、通路23jを介して出力ポートAに供給される。
【0066】
この供給により、出力ポートAが急激に大気圧に近づき、絞り弁室55内との差圧が小さくなり、図16に示したように、リリーフシート65がコイルスプリング63の付勢力により通路55bを遮断し、絞り弁57とリリーフシート65の貫通穴65aとの間隙を通り、絞り弁57により絞られた加圧空気のみが出力ポートAに供給される。
【0067】
図19は、この実施形態の真空切換弁装置の圧力変化特性を示している。
この真空切換弁装置では、真空破壊圧が供給されるとリリーフシート65が作動し、出力ポートAに流れる真空破壊圧は、リリーフシート65の開口部分を通過するQ2と、絞り弁57を通過するQ1の合計流量が流れる。閉となる圧力が設定されているリリーフシート65は、その圧力となったところで閉じ、これ以降は、絞り弁57を通過するQ1のみとなる。
【0068】
Q1は、適宜調整されており、これによる圧力上昇は、緩やかなものとなる。
すなわち、大気導入後に、Q1+Q2の大流量の真空破壊圧が、リリーフシート65の閉設定圧まで流入し、その後、絞り弁53のQ1だけの流量となり、緩やかに大気圧まで圧力上昇することになる。
この実施形態の真空切換弁装置では、第2の実施形態の絞り弁53にリリーフ弁61を付加し、真空破壊時には、先ず、絞り弁53とリリーフ弁61を通過した加圧空気を出力ポートAに供給し、次に、絞り弁53を通過した加圧空気のみを出力ポートAに供給するようにしたので、オーバーシュートをより確実に低減することができる。
【0069】
(第4の実施形態)
図20および図21は、本発明の真空切換弁装置の第4の実施形態を示しており、図22は、この第4の実施形態の真空切換弁装置の基本構成を示す回路図である。
なお、この実施形態において第1ないし第3の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【0070】
この実施形態の真空切換弁装置では、図22に示すように、真空破壊用切換弁13の出力ポートA側に、リリーフ付き絞り弁69が設けられている。
このリリーフ付き絞り弁69は、第3の実施形態における、絞り弁53にリリーフ弁61を付加したものと同様に構成されている。
そして、この実施形態では、第3の実施形態から大気開放用切換弁17が除去されている。
【0071】
この実施形態の真空切換弁装置では、真空破壊用ソレノイド21がオンになると、真空破壊用ソレノイド21のプランジャー35が、コイルスプリング37の付勢力に抗して図の右側に電磁力により吸引される。
これにより、プランジャー35の先端面と加圧側弁室33の弁座33aとの間に間隙が形成され、加圧側弁室33が、通路23iを介して絞り弁室55に連通される。
【0072】
そして、図18に示したように、通路23iからの加圧空気が、リリーフシート65をコイルスプリング63の付勢力に抗して押し上げ、加圧空気が、リリーフシート65の底面と絞り弁室55の底面との間隙、および、絞り弁57とリリーフシート65の貫通穴65aとの間隙を通り、通路23jを介して出力ポートAに供給される。
【0073】
この供給により、出力ポートAが急激に大気圧に近づき、絞り弁室55内との差圧が小さくなり、図16に示したように、リリーフシート65がコイルスプリング63の付勢力により通路55bを遮断し、絞り弁57とリリーフシート65の貫通穴65aとの間隙を通り、絞り弁57により絞られた加圧空気のみが出力ポートAに供給される。
【0074】
図23は、この実施形態の真空切換弁装置の圧力変化特性を示している。
この実施形態では、真空用ソレノイド19への電気信号のオフ後、T1の応答遅れ時間をもって真空用ソレノイド19がオフの状態となり、真空圧力の供給がなくなる。これにより、保持されていた真空圧は徐々に下がり始める。
さらに、真空用ソレノイド19への電気信号のオフのt1時間後に、真空破壊用ソレノイド21への電気信号がオンされる。オン後は、T2の応答遅れ時間をもって真空破壊用ソレノイド21がオンの状態となり、真空破壊圧としての正圧力が供給される。これにより、出力ポートA内の圧力が急激に上昇する。
【0075】
真空破壊用ソレノイド21への電気信号は、出力ポートA内圧力が大気の圧力に近くなるまでのt2の時間オン状態にあり、その後オフとされる。真空破壊用ソレノイド21への電気信号がオフとなった後、T3の応答遅れ時間をもって真空破壊用ソレノイド21がオフ状態となり、真空破壊圧の供給がなくなり出力ポートA内は大気圧に収束する。この過程は、リリーフ付き絞り弁69を設けない場合と同様である。
【0076】
しかしながら、リリーフ付き絞り弁69を設けた場合は、真空破壊圧が供給されるとリリーフシート65が作動し、出力ポートAに流れる真空破壊圧は、リリーフシート65の開口部分を通過するQ2と、絞り弁57を通過するQ1の合計流量が流れる。閉となる圧力が設定されているリリーフシート65は、その圧力となったところで閉じ、これ以降は、絞り弁57を通過するQ1のみとなる。
【0077】
Q1は、適宜調整されており、これによる圧力上昇は、緩やかなものとなる。
従って、前述した一般的な使用方法における「ワーク吹き飛ばし」、「ワークを放さない」という問題点、さらには、単に絞りを設けた場合の「タクトタイムが延びてしまう」という問題点を解決することができる。
この実施形態の真空切換弁装置では、真空破壊時には、先ず、絞り弁53とリリーフ弁61を通過した加圧空気を出力ポートAに供給し、次に、絞り弁53を通過した加圧空気のみを出力ポートAに供給するようにしたので、オーバーシュートを確実に低減することができる。
【0078】
また、真空吸着用切換弁11、真空破壊用切換弁13およびリリーフ付き絞り弁69を一体的に組み込んだので、真空切換弁装置をコンパクトに構成し小型化することが可能になり、また、真空切換弁装置を安価に提供することができる。
(第5の実施形態)
図24および図25は、本発明の真空切換弁装置の第5の実施形態を示している。
【0079】
この実施形態では、第3の実施形態の真空切換弁装置の弁本体23に、サブベース71が装着されている。
なお、この実施形態において第1ないし第3の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
この実施形態の真空切換弁装置では、図24および図25に示すように、弁本体23の下面に、直方体状のサブベース71が装着されている。
【0080】
このサブベース71は、図24に示すように、弁本体23の取付穴23a,23bに挿入されるビス73により、弁本体23に連結されている。
サブベース71の上面には、貫通穴からなる取付穴75が形成されている。
図26は、サブベース71を図25のX−X線に沿って切断した断面図であり、サブベース71の一側には、弁本体23の出力ポートAに連通する出力ポート部71aが形成されている。
【0081】
また、サブベース71の他側には、弁本体23の真空ポートVに連通する真空ポート部71b、および、加圧ポートPに連通する加圧ポート部71cが形成されている。
そして、サブベース71の真空ポート部71bと弁本体23の真空ポートVとを接続する通路71dには、通路71dより大きな空隙を有するタンク部71eが形成されている。
【0082】
この実施形態では、タンク部71eは、直方体状に形成されている。
この実施形態の真空切換弁装置では、サブベース71に、真空吸着用切換弁11の真空ポートVに連通するタンク部71eを形成したので、真空度の低下を有効に防止することができる。
すなわち、例えば、真空吸着時に、真空度が低下しても、タンク部71eにより、真空度の低下を抑制し、真空保持性能を維持することができる。
【0083】
(第6の実施形態)
図27ないし図29は、本発明の真空切換弁装置の第6の実施形態を示している。
この実施形態では、第3の実施形態の真空切換弁装置77が、マニホールドベース79に複数装着されている。
なお、この実施形態において第1ないし第3の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【0084】
この実施形態の真空切換弁装置では、図27に示すように、マニホールドベース79の上面に、複数の真空切換弁装置77が、所定間隔を置いて平行に装着されている。
真空切換弁装置77は、弁本体23の取付穴23a,23bに挿入されるビス73により、マニホールドベース79に連結されている。
図30は、マニホールドベース79を示す上面図であり、マニホールドベース79の一側には、弁本体23の出力ポートAに連通する出力ポート部79aが所定間隔を置いて形成されている。
【0085】
また、マニホールドベース79の他側には、弁本体23の真空ポートVに連通する真空ポート部79bが所定間隔を置いて形成されている。
さらに、マニホールドベース79の他側の両端には、弁本体23の加圧ポートPに連通する加圧ポート部79cが形成されている。
そして、マニホールドベース79の真空ポート部79bと弁本体23の真空ポートVを接続する通路79dには、通路79dより大きな空隙を有するタンク部79eが形成され
ている。
【0086】
この実施形態では、タンク部79eは、円柱状に形成されている。
この実施形態の真空切換弁装置では、マニホールドベース79に、真空吸着用切換弁11の真空ポートVに連通するタンク部79eを形成したので、真空度の低下を有効に防止することができる。
すなわち、例えば、真空吸着時に、真空度が低下しても、タンク部79eにより、真空度の低下を抑制し、真空保持性能を維持することができる。
【0087】
なお、上述した実施形態では、真空吸着用切換弁11と大気開放用切換弁17とを機械的に連動した例について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではなく、例えば、真空吸着用切換弁11と大気開放用切換弁17とを電気的に連動しても良い。
また、上述した実施形態において、大気開放用切換弁17の大気開放通路に、フィルタ手段を設けることにより、大気側からの塵埃の流入を確実に阻止することができる。
【0088】
【発明の効果】
以上述べたように、請求項1の真空切換弁装置では、真空吸着用切換弁に大気開放用切換弁を連動させたので、真空破壊用切換弁から圧力空気が流入する前に、自動的に真空側が大気側と連動して、大気圧に近づいてから真空破壊用切換弁から大気圧より高圧の圧力空気が流入するので、オーバーシュート量を小さく押さえることが可能になり、真空破壊を迅速かつスムーズに行うことができる。
【0089】
また、真空吸着用切換弁に大気開放用切換弁を連動させたので、真空破壊用切換弁による真空破壊が開始する時の真空圧が上がり、かつ、真空圧のバラツキが小さくなり、安定した製品の搬送と離脱を行うことができる。
さらに、真空吸着用切換弁、真空破壊用切換弁および大気開放用切換弁を一体的に組み込んだので、真空切換弁装置をコンパクトに構成し小型化することが可能になり、また、真空切換弁装置を安価に提供することができる。
【0090】
請求項2の真空切換弁装置では、真空破壊用切換弁の出口側に絞り弁を設け、真空破壊時に、絞り弁により絞られた加圧空気を出力ポートに供給するようにしたので、オーバーシュートをより確実に低減することができる。
請求項3の真空切換弁装置では、絞り弁にリリーフ弁を付加し、真空破壊時には、先ず、絞り弁とリリーフ弁を通過した加圧空気を出力ポートに供給し、次に、絞り弁を通過した加圧空気のみを出力ポートに供給するようにしたので、オーバーシュートをより確実に低減することができる。
【0091】
請求項4の真空切換弁装置では、真空切換弁装置をサブベースまたはマニホールドベー
スに容易,確実に取り付けることができる。
請求項5の真空切換弁装置では、サブベースまたはマニホールドベースに、真空吸着用切換弁の真空ポートに連通するタンク部を形成したので、真空度の低下を有効に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の真空切換弁装置の第1の実施形態を示す図4のC−C線に沿う断面図である。
【図2】 本発明の真空切換弁装置の第1の実施形態を示す図3のB−B線に沿う断面図である。
【図3】 本発明の真空切換弁装置の第1の実施形態を示す上面図である。
【図4】 本発明の真空切換弁装置の第1の実施形態を示す側面図である。
【図5】 本発明の真空切換弁装置の第1の実施形態の回路を示す説明図である。
【図6】 本発明の真空切換弁装置の第1の実施形態の大気開放用切換弁を拡大して示す説明図である。
【図7】 図6の大気開放用切換弁の大気開放用プランジャーを示す説明図である。
【図8】 図6の大気開放用切換弁の真空用ソレノイドがオンで真空破壊用ソレノイドがオフの状態を示す説明図である。
【図9】 図6の大気開放用切換弁の真空用ソレノイドがオフで真空破壊用ソレノイドがオンの状態を示す説明図である。
【図10】 本発明の真空切換弁装置の第1の実施形態の圧力変化特性を示す説明図である。
【図11】 本発明の真空切換弁装置の第2の実施形態を示す断面図である。
【図12】 本発明の真空切換弁装置の第2の実施形態を示す断面図である。
【図13】 本発明の真空切換弁装置の第2の実施形態の回路を示す説明図である。
【図14】 本発明の真空切換弁装置の第2の実施形態の絞り弁を拡大して示す説明図である。
【図15】 本発明の真空切換弁装置の第2の実施形態の圧力変化特性を示す説明図である。
【図16】 本発明の真空切換弁装置の第3の実施形態の要部を示す断面図である。
【図17】 本発明の真空切換弁装置の第3の実施形態の回路を示す説明図である。
【図18】 図16においてリリーフシートが開いた状態を示す説明図である。
【図19】 本発明の真空切換弁装置の第3の実施形態の圧力変化特性を示す説明図である。
【図20】 本発明の真空切換弁装置の第4の実施形態を示す断面図である。
【図21】 本発明の真空切換弁装置の第4の実施形態を示す断面図である。
【図22】 本発明の真空切換弁装置の第4の実施形態の回路を示す説明図である。
【図23】 本発明の真空切換弁装置の第4の実施形態の圧力変化特性を示す説明図である。
【図24】 本発明の真空切換弁装置の第3の実施形態をサブベースに取り付けた状態を示す上面図である。
【図25】 本発明の真空切換弁装置の第3の実施形態をサブベースに取り付けた状態を示す側面図である。
【図26】 図25のサブベースのX−X線に沿う断面図である。
【図27】 本発明の真空切換弁装置の第3の実施形態をマニホールドベースに取り付けた状態を示す上面図である。
【図28】 図27の側面図である。
【図29】 図27の側面図である。
【図30】 図27のマニホールドベースを示す上面図である。
【図31】 従来の真空切換弁装置を示す説明図である。
【図32】 図31の真空切換弁装置の圧力変化特性を示す説明図である。
【図33】 従来の真空切換弁装置の他の例を示す説明図である。
【図34】 図33の真空切換弁装置の圧力変化特性を示す説明図である。
【符号の説明】
11 真空吸着用切換弁
13 真空破壊用切換弁
15 チェック弁
17 大気開放用切換弁
23 弁本体
53 絞り弁
61 リリーフ弁
69 リリーフ付き絞り弁
71 サブベース
79 マニホールドベース
71e,79e タンク部
Claims (5)
- 真空吸着用の真空吸着用切換弁(11)と、真空破壊用の真空破壊用切換弁(13)と、前記真空吸着用切換弁(11)の動作に連動して動作する大気開放用切換弁(17)とを単体からなる直方体状の弁本体(23)に一体に組み込んでなり、
前記弁本体(23)の底面には、真空源へ接続され内部通路を介して前記弁本体(23)の一側端面に開口する真空ポート(V)、圧力源へ接続され内部通路を介して前記弁本体(23)の他側端面へ開口する加圧ポート(P)、真空吸着部へ接続され内部通路を介して前記弁本体(23)の両側端面へ開口する出力ポート(A)が開口され、
前記真空吸着用切換弁(11)は、前記弁本体(23)の前記一側端面に装着され、前記弁本体(23)の前記一側端面に開口する前記真空ポート(V)と前記出力ポート(A)を開閉するための2ポート電磁切換弁を有し、
前記真空破壊用切換弁(13)は、前記弁本体(23)の前記他側端面に装着され、前記弁本体(23)の前記他側端面へ開口する前記加圧ポート(P)と前記出力ポート(A)を開閉する2ポート電磁切換弁を有し、
前記大気開放用切換弁(17)は、
前記真空吸着用切換弁(11)を構成するソレノイド(19)のプランジャー(27)側に設けた真空側弁室(25)と、
前記真空吸着用切換弁(11)を構成するソレノイド(19)のプランジャー(27)の軸線と平行に、前記真空側弁室(25)に開口して形成されている大気側弁室(41)と、
前記大気側弁室(41)の先端に、通路(23h)を介して開口されている大気開放ポート(R)と、
前記大気側弁室(41)に固定されている筒状の弁座部材(43)と、
後端面(45a)が、前記真空吸着用切換弁(11)を構成するソレノイド(19)のプランジャー(27)の先端面(27a)に当接され、前記弁座部材(43)との間に間隙(47)が形成される凹部(45b)を外周に形成し、前記弁座部材(43)に移動可能に挿入されている大気開放用プランジャー(45)と、
前記大気開放用プランジャー(45)の大気開放ポート(R)側に配置されている球体弁(49)と、
前記弁座部材(43)の先端に形成され、前記球体弁(49)を封止する弁座(43a)と、
前記大気側弁室(41)の大気開放ポート(R)側に形成され、前記球体弁(49)を封止する弁座(41a)と、
前記大気側弁室(41)の軸線と平行に、前記真空側弁室(25)に開口して形成される真空側通路と、
前記真空側弁室(25)と前記真空ポート(V)とを連通する通路の前記真空側弁室(25)側に形成され、前記真空吸着用切換弁(11)を構成するソレノイド(19)のプランジャー(27)の先端面(27a)を当接する弁座(25a)と
を有し、
前記真空吸着用切換弁(11)を構成するソレノイド(19)のプランジャー(27)に連動して前記真空ポート(V)を前記大気開放ポート(R)へ連通すると共に、前記真空破壊用切換弁(13)から流入する圧力空気によって前記大気開放ポート(R)を閉鎖する
ことを特徴とする真空切換弁装置。 - 請求項1記載の真空切換弁装置において、
前記弁本体(23)の前記出力ポート(A)から前記真空破壊用切換弁(13)に続く通路途中に絞り弁(53)を設け、前記絞り弁(53)の絞り量の調整を行う操作部(59)を前記弁本体(23)の外部に配置してなることを特徴とする真空切換弁装置。 - 請求項2記載の真空切換弁装置において、
前記絞り弁(53)は、前記弁本体(23)の絞り弁室(55)内に内蔵され、前記絞り弁室(55)内に前記絞り弁(53)と同心状にリリーフ弁(61)を配置してなることを特徴とする真空切換弁装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれか1項記載の真空切換弁装置において、
前記弁本体(23)の底面に、サブベース(71)またはマニホールドベース(79)を取り付け、前記サブベース(71)または前記マニホールドベース(79)を介して、前記真空ポート(V)を前記真空源に、前記加圧ポート(P)を圧力源に、前記出力ポート(A)を真空吸着部に接続してなることを特徴とする真空切換弁装置。 - 請求項4記載の真空切換弁装置において、
前記サブベース(71)またはマニホールドベース(79)に形成され前記真空ポート(V)と前記真空源とを接続する内部通路に、タンク用空間(71e、79e)を形成してなることを特徴とする真空切換弁装置。
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