JP3476332B2 - 半導体装置用電子制御レギュレータ - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は流体の流量制御に用
いられる電子制御レギュレータに関し、詳しくは、半導
体製造装置に用いられる電子制御レギュレータに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体製造装置の中で、ウエハー
の断面の研磨を行うＣＭＰ装置が知られている。このＣ
ＭＰ装置においては、研磨の際にウエハーを研磨用クロ
スに押しつけるのにウエハーを保持するトップリングか
ら窒素ガスを噴出させて押し圧を生じさせていた。この
とき、窒素ガスの圧力を一定に制御するコントロールレ
ギュレータとしては、ばね加重設定方式の禁油タイプの
レギュレータが知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のレギュレータは機械式レギュレータであるので、当
該レギュレータの下流側（２次側）流量によって設定さ
れた圧力が変動する問題点があった。

【０００４】また、通常ノンリリーフ構造のため下流側
（２次側）を閉じてしまうと上部パイロット部の空気を
抜いても下流側（２次側）の圧力がなかなか落ちず、圧
力降下速度が遅いという問題点もあった。

【０００５】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、下流側（２次側）の流量の変動
によっても設定された圧力が変動することがなく、ま
た、上部パイロット部（レギュレータの制御部）の空気
を抜けば直ちに下流側（２次側）の圧力が落ちる応答性
のよいレギュレータを提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１に記載の発明の半導体装置用電子制御レ
ギュレータでは、操作空気圧力により流体の圧力を制御
するエアーパイロット式レギュレータ主弁と、当該エア
ーパイロット式レギュレータ主弁に接続され、操作空気
圧力を前記エアーパイロット式レギュレータ主弁の操作
圧入力部に与える操作圧力制御部と、前記エアーパイロ
ット式レギュレータ主弁の下流側流路に設けられたブリ
ードポートとを備えている。

【０００７】上記の構成を有する半導体装置用電子制御
レギュレータでは、操作圧力制御部からエアーパイロッ
ト式レギュレータ主弁の操作圧入力部に操作空気圧力を
印加し、エアーパイロット式レギュレータ主弁が流体の
圧力を制御し、ブリードポートはエアーパイロット式レ
ギュレータ主弁の下流側流路が閉じられた場合に、流体
を排出し、圧力降下速度を速くする。

【０００８】また、請求項２に記載の発明の半導体装置
用電子制御レギュレータでは、請求項１に記載の発明の
構成に加え、前記エアパイロット式レギュレータ主弁の
下流側流路には圧力センサを備えている。この圧力セン
サがエアパイロット式レギュレータ主弁の下流側の圧力
を検出し、操作圧力制御部へフィードバックする。

【０００９】さらに、請求項３に記載の発明の半導体装
置用電子制御レギュレータでは、請求項１又は２に記載
の発明の構成に加えて、前記ブリードポートは常時開オ
リフィスであることを特徴とする構成になっている。上
記のようにブリードポートを常時開オリフィスにするこ
とにより、エアーパイロット式レギュレータ主弁の下流
側の流路が閉じられたとき、当該流路に残った流体は直
ちに排出され圧力も直ちに降下する。また、オリフィス
構造であるためエアーパイロット式レギュレータ主弁の
下流側流路に圧力が付与されているときでも、圧力に与
える影響は殆どない。

【００１０】また、請求項４に記載の発明の半導体装置
用電子制御レギュレータでは、請求項２乃至３の何れか
に記載の発明の構成に加えて、エアーパイロット式レギ
ュレータ主弁と操作圧力制御部とブリードポートと圧力
センサとを一体に形成したことを特徴とする構成になっ
ている。上記のように、エアーパイロット式レギュレー
タ主弁と操作圧力制御部とブリードポートと圧力センサ
とを一体に形成したことにより、構造が強固になり、ま
た、装置の小型化を図ることができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】次に、本発明の一実施の形態であ
る半導体装置用電子制御レギュレータについて図面を参
照して説明する。

【００１２】図１は、本発明の一実施の形態である半導
体装置用電子制御レギュレータ１（以下「電子制御レギ
ュレータ１」という。）が使用されるＣＭＰ装置２のブ
ロック図である。ＣＭＰ装置２はシリコンウエハー３の
断面を研磨する為に使用される半導体製造装置の一種で
ある。

【００１３】図１に示すように、ＣＭＰ装置２は図示外
のモータにより回転するターンテーブル４と当該ターン
テーブル４上に貼付され、シリコンウエハー３の底面３
ａを研磨する研磨クロス５と、シリコンウエハー４を保
持するトップリング６と、トップリング６の上下動をを
駆動するシリンダ７と、シリンダ７を駆動する窒素ガス
の圧力やシリコンウエハー３の裏面押え用の窒素ガスの
圧力や研磨クロス５の表面の毛ば立て（ドレッシング）
用の窒素ガスの圧力を制御する電子制御レギュレータ１
と、電子制御レギュレータ１に制御信号を与えるメイン
ＣＰＵ８と、制御バルブ９，１０，１１，１２と、窒素
ガスの噴出及び空気の吸引を切り替えるセパレータ１３
とから構成されている。

【００１４】このＣＭＰ装置２では、研磨前のシリコン
ウエハー３が、トップリング６から空気を吸引すること
により保持され、図示外の移動機構により図示外のマガ
ジンからターンテーブル４上に運ばれる。図示外のモー
タによりターンテーブル４が回転されると、セパレータ
１３の切り替えにより、トップリング６からの空気の吸
引が窒素ガスの噴出に切り替えられる。従って、トップ
リング６はシリコンウエハー３の上面３ｂに押え用圧力
を与える。また、シリンダ７に窒素ガスが供給されてい
るためトップリング６はシリコンウエハー３をターンテ
ーブル４上の研磨クロス５に押圧する。従って、シリコ
ンウエハー３の底面３ａが研磨クロス５により研磨され
る。

【００１５】また、研磨動作が済むと、トップリング６
からの押え用圧力は停止され、空気の吸引によりトップ
リング６がシリコンウエハー３の上面３ｂを吸引保持し
て、図示外の移動機構によりターンテーブル４上から図
示外のマガジンへ移動され、トップリング６の空気の吸
引が停止して、シリコンウエハー３がトップリング６か
ら離脱する。その後、研磨クロス５上は、トップリング
６による毛ば立て（ドレッシング）、または、窒素ガス
の噴出による毛ば立て（窒素ガスブロー）が行われる。

【００１６】このとき、本発明の一実施の形態である電
子制御レギュレータ１は上記の各処理で窒素ガスの圧力
を規定の圧力に制御する。その一例としては、押え用圧
力は０．０５乃至０．５kgf/cm²であり、ドレッシング
圧は５kgf/cm²であり、窒素ガスブロー圧は３kgf/cm²で
ある。

【００１７】次に、本発明の一実施の形態である電子制
御レギュレータ１について図２乃至図１０を参照して詳
述する。

【００１８】まず、電子制御レギュレータ１のシステム
について、図２に示すシステムブロック図を参照して説
明する。電子制御レギュレータ１は、被制御流体である
窒素ガスの圧力をコントロールする主弁であるエアーパ
イロット式レギュレータ主弁１５と、当該エアーパイロ
ット式レギュレータ主弁１５への操作空気圧力の入力部
である操作圧入力口１６へ操作圧を印加する操作圧力制
御部１７と、エアーパイロット式レギュレータ主弁１５
の下流側（２次側）流路の圧力を測定し、前記操作圧力
制御部１７へフィードバックする圧力センサ１８とから
構成されている。

【００１９】次に、電子制御レギュレータ１の構造につ
いて図３乃至図６を参照して説明する。図３は電子制御
レギュレータ１の正面図、図４は電子制御レギュレータ
１の平面図、図５は電子制御レギュレータ１の側面図、
図６は電子制御レギュレータ１の底面図である。

【００２０】図１に示すように、電子制御レギュレータ
１は、エアーパイロット式レギュレータ主弁１５と、エ
アーパイロット式レギュレータ主弁１５の下流側に接続
された下流側流路ブロック１９と、エアーパイロット式
レギュレータ主弁１５の上部に載置された操作圧力制御
部１７と、下流側流路ブロック１９上に載置された圧力
センサ１８とから構成されている。図１及び図２に示す
ように、圧力センサ１８の上部には圧力センサ１８の出
力を操作圧力制御部１７に伝達するセンサケーブル２０
の一端が接続され、センサケーブル２０の他端は操作圧
力制御部１７の側面に接続されている。なお、操作圧力
制御部１７の上部には、図３乃至図５に示すように、メ
インＣＰＵ８からの制御信号を伝達する制御信号ケーブ
ル２７が接続されている。

【００２１】また、下流側流路ブロック１９の内部には
流路２１が形成されており、流路２１の図３における右
端部には前記トップリング６へ窒素ガスを出力する流路
ＯＵＴポート２２が形成され、流路２１の図３における
左端部は、エアーパイロット式レギュレータ主弁１５の
ＯＵＴポート２３に接続されている。

【００２２】さらに、下流側流路ブロック１９の中間部
には、ブリードポート２４が設けられている。このブリ
ードポート２４は微細な孔であるオリフィス２５により
流路２５と接続され、このオリフィス２５が常時開口し
ている。ここで、オリフィス２５の一例としては、流路
２１内の窒素ガス圧が０．５kgf/cm²の時に４ｌ/分で窒
素ガスが流出する程度の固定オリフィスにしておけば十
分であり、オリフィス２５の直径は０．６mm程度であ
る。このブリードポート２４のオリフィス２５はエアー
パイロット式レギュレータ主弁１５が閉じて、ＯＵＴポ
ート２３への加圧がなくなった場合には、残留した窒素
ガスの圧力を外部に逃がすことが出来、圧力の降下速度
を高めることができる。また、流路２１を流れる窒素ガ
スに圧力がかかっているときには、オリフィス２５が微
細な孔に形成されているため、加圧されている圧力への
影響は少ない。尚、ブリードポート２４の上部には止め
ねじ２６が螺合されている。

【００２３】また、図３又は図５に示すように、エアー
パイロット式レギュレータ主弁１５の左側面には、加圧
された窒素ガスが吸気されるＩＮポート２８が形成され
ている。このＩＮポート２８及びＯＵＴポート２３に
は、雌ねじが切られており、図示外の配管等を接続でき
るようになっている。さらに、図５に示すように、操作
圧力制御部１７には、操作圧用の加圧された空気を吸気
する吸気ポート２９と、操作圧用の空気を排気する排気
ポート３０が形成されている。さらに、図６に示すよう
に、下流側流路ブロック１９の底面には、固定用の取り
付け穴３１，３２が形成されている。

【００２４】次に、図７及び図８を参照して、操作圧力
制御部１７について説明する。図７は操作圧力制御部１
７のブロック図であり、図８は操作圧力制御部１７の電
気的構成を示す図である。

【００２５】図７に示すように、操作圧力制御部１７
は、吸・排気用電磁弁動作時間演算回路３３に、指令信
号電圧（圧力目標値）が制御信号ケーブル２７により入
力され、また、圧力センサ１８の実測値がセンサフィー
ドバック信号電圧として、センサケーブル２０により入
力されている。また、吸・排気用電磁弁動作時間演算回
路３３は、吸気ポート２９から吸気された操作圧用の加
圧空気を制御する吸気用電磁弁３４と、操作圧用の空気
の排気を制御する排気用電磁弁３５が接続されている。
吸・排気用電磁弁動作時間演算回路３３は、指令信号電
圧とセンサフィードバック信号電圧とからＰＩＤによる
比例演算によりＰＷＭ制御（パルス幅変調制御）で吸気
用電磁弁３４及び排気用電磁弁３５をコントロールし
て、吸気用電磁弁３４と排気用電磁弁３５の中間部に設
けられている操作圧力出力口４１から操作空気圧力をエ
アーパイロット式レギュレータ主弁１５の操作圧入力部
である操作圧入力口１６に出力している。

【００２６】次に、吸・排気用電磁弁動作時間演算回路
３３の電気的構成について図８を参照して説明する。図
８に示すように、吸・排気用電磁弁動作時間演算回路３
３は演算基盤３６にＰＩＤ回路３７とＰＷＭ回路３８と
が設けられていおり、ＰＩＤ回路３７には指令信号電圧
（目標値）とセンサフィードバック信号電圧（実測値）
が入力されている。ＰＷＭ回路３８の出力は吸気用電磁
弁３４の駆動用のドライバトランジスタ３９と排気用電
磁弁３５の駆動用のドライバトランジスタ４０に各々接
続されている。

【００２７】次に、エアーパイロット式レギュレータ主
弁１５の構造について、図９に示す断面図を参照して説
明する。エアーパイロット式レギュレータ主弁１５は、
上部ボディ４２と上部ボディ４３とから構成されてい
る。上部ボディ４２には、操作圧力制御部１７の操作圧
力出力口４１からの操作空気圧力を入力する操作圧入力
口１６が設けられている。また、上部ボディ４２と下部
ボディ４３との間にはダイアフラム４４が設けられ、当
該ダイアフラム４４は、ダイアフラムリティナー４５に
よって保持されている。さらに、上部ボディ４２内のダ
イヤフラム４４の上部には、操作圧入力口１６に繋がっ
たパイロットチャンバ４６が形成されており、前記ダイ
アフラム４４に操作空気圧力を加えるようになってい
る。

【００２８】また、下部ボディ４３には、被制御流体で
ある加圧窒息ガスを吸気するＩＮポート２８が形成さ
れ、ＩＮポート２８の内部には、流体を濾過する通気性
のあるフィルタ４７が設けられている。さらに、下部ボ
ディ４３には、上部が一段細くなっている二段円筒状の
バルブ孔４８が形成されており、前記ＩＮポート２８に
接続されている。バルブ孔４８の上部孔４８ａは、通気
孔４９によりＯＵＴポート２３に接続されている。ま
た、バルブ孔４８内には、中間部に円錐状の膨らみを有
するバルブ５０が上下に移動可能に配置され、バルブ５
０の下部の周囲にはバルブスプリング５１が配置され、
バルブスプリング５１はスプリングレスト５２により保
持されてる。さらに、バルブ５０の上端部はダイアフラ
ム４４に接続されている。

【００２９】ここで、エアーパイロット式レギュレータ
主弁の動作について説明すると、操作空気圧力が操作圧
入力口１６に印加されると、パイロットチャンバ４６も
当該操作空気圧力と同じ圧力になり、ダイアフラム４４
が下方向に変形する。すると、バルブ５０が下方に移動
して、ＩＮポート２８から吸気される加圧窒素ガスは、
フィルタ４７を通過してバルブ孔４８、上部孔４８ａ及
び通気孔４９を介してＯＵＴポート２３まで達する。ま
た、操作空気圧力の印加が停止されると、ダイヤフラム
４４が元の状態に戻るとともに、バルブ５０は上方に移
動する。このとき、バルブスプリング５１によりバルブ
５０の円錐状の部分がバルブ孔４８の細くなっている上
部孔４８ａの下端部を塞ぎ、窒息ガスの通過は出来なく
なり、ＯＵＴポート２３への圧力の印加も無くなる。

【００３０】次に、圧力センサ１８の構造について図１
０の縦断面図を参照して説明する。図１０（ａ）はダイ
レクトタイプの圧力センサ１８をの縦断面図を示してい
る。このダイレクトタイプの圧力センサは、圧力センサ
ケース５４の底部に金属ダイアフラム５５を設け、当該
金属ダイアフラム５５の上面に歪みゲージ又は半導体圧
力センサ５６を直接蒸着し、当該歪みゲージ又は半導体
圧力センサ５６の出力を信号増幅回路５７で増幅してセ
ンサフィードバック信号として出力するものである。こ
の信号ににより下流側流路ブロック１９内の流路２１内
の窒素ガスの圧力の実測値が操作圧力制御部にセンサケ
ーブル２０を介してフィードバックされる。

【００３１】なお上記のダイレクトタイプ以外の圧力セ
ンサとしては、図１０（ｂ）に示す間接タイプ５８のも
のがある。この間接タイプ５８は、金属ダイアフラム５
９の上側にシリコングリス６０からなる伝達機構６１の
上部に歪みゲージまたは半導体圧力センサ６２を設け、
当該歪みゲージまたは半導体圧力センサ６２の出力を信
号増幅回路６３によりセンサフィードバック信号として
出力するものである。

【００３２】次に、上記実施の形態の電子制御レギュレ
ータ１の動作について説明する。電子制御レギュレータ
１の操作圧力制御部１７の吸・排気用電磁石弁動作時間
演算回路３３にシリコンウエハー３を研磨するための指
令信号（窒素ガス加圧信号）電圧がメインＣＰＵ８から
入力されると、吸気用電磁弁３４がＰＷＭ制御により開
かれ吸気ポート２９から加圧空気が吸気され、排気用電
磁弁３５がＰＷＭ制御により閉じられる。そして、操作
圧力出力口４１から操作空気圧力がエアーパイロット式
レギュレータ主弁１５の操作圧入力口１６に印加され
る。すると、パイロットチャンバ４６も当該操作空気圧
力と同じ圧力になり、ダイアフラム４４が下方向に変形
する。すると、バルブ５０が下方に移動して、ＩＮポー
ト２８から吸気される加圧窒素ガスは、フィルタ４７を
通過してバルブ孔４８、上部孔４８ａ及び通気孔４９を
介してＯＵＴポート２３まで達する。

【００３３】ここで、圧力センサ１８が下流側流路ブロ
ック１９内の流路２１内の窒素ガスの圧力を実測してセ
ンサフィードバック信号電圧として吸・排気用電磁石弁
動作時間演算回路３３にフィードバックするので、流路
２１内の窒素ガスの圧力は目標値になるように補正され
てい維持される。

【００３４】次に、操作圧力制御部１７の吸・排気用電
磁石弁動作時間演算回路３３にシリコンウエハー３を研
磨を停止するための指令信号（窒素ガス停止信号）電圧
がメインＣＰＵ８から入力されると、ＰＷＭ制御により
吸気用電磁弁３４が閉じられ、ＰＷＭ制御により排気用
磁弁３５が開かれ、操作空気圧力は、排気ポート３０か
ら排気される。従って、操作空気圧力が、エアーパイロ
ット式レギュレータ主弁１５の操作圧入力口１６から操
作圧力出力口４１方向に排気されて操作空気圧力の印加
が停止される。ダイヤフラム４４は元の状態に戻るとと
もに、バルブ５０は上方に移動する。このとき、バルブ
スプリング５１によりバルブ５０の円錐状の部分がバル
ブ孔４８の細くなっている上部孔４８ａの下端部を塞
ぎ、窒息ガスの通過は出来なくなり、ＯＵＴポート２３
への圧力の印加も無くなる。

【００３５】このとき、下流側流路ブロック１９の中間
部には、ブリードポート２４が設けられている。このブ
リードポート２４は微細な孔であるオリフィス２５によ
り流路２５と接続され、このオリフィス２５が常時開口
している。従って、エアーパイロット式レギュレータ主
弁１５が閉じて、ＯＵＴポート２３への加圧がなくなっ
た場合には、残留した窒素ガスの圧力を外部に逃がすこ
とが出来、圧力の降下速度を高めることができる。ま
た、流路２１を流れる窒素ガスに圧力がかかっていると
きには、オリフィス２５が微細な孔に形成されているた
め、加圧されている圧力への影響は少ない。

【００３６】以上説明したように、本実施の形態の電子
制御レギュレータ１は、エアーパイロット式レギュレー
タ主弁１５のバルブ５０を閉じた場合に、下流側の流路
２１内に残った加圧された窒素ガスがブリードポート２
４から直ちに排出されるため、圧力降下の指令信号に対
する応答性がよくなるという効果がある。

【００３７】また、流路２１を流れる窒素ガスに圧力が
かかっているときには、オリフィス２５が微細な孔に形
成されているため、加圧されている圧力への影響は少な
い。

【００３８】さらに、圧力センサ１８を設けて流路２１
の圧力の実測値の信号電圧を、操作電圧制御部１７にフ
ィードバックしているので、被制御流体である窒素ガス
の圧力の変動に対して補正が可能であり、常に一定の下
流側（２次側）圧力を得ることができる。

【００３９】また、電子制御レギュレータ１は、操作圧
力制御部１７とエアーパイロット式レギュレータ主弁１
５と圧力センサ１８とブリードポート２４とを一体構造
にしているので、強度が高くなり、小型化も実現でき
る。

【００４０】なお、上記の実施の形態では、流体として
窒素ガスを使用しているが、他のガスについても使用可
能なことはいうまでもない。また、半導体製造装置以外
にも使用できることもいうまでもない。さらに、本発明
は上記の実施の形態に限られず、各種の変形が可能であ
る。

【００４１】

【発明の効果】請求項１に記載の発明の半導体装置用電
子制御レギュレータでは、操作圧力制御部からエアーパ
イロット式レギュレータ主弁の操作圧入力部に操作空気
圧力を印加を中止した場合には、エアーパイロット式レ
ギュレータ主弁が閉じ当該主弁の下流側への圧力の印加
が中止されるが、このとき下流側流路に残った加圧流体
を、ブリードポートは直ちに排出し、圧力降下速度を速
くすることができるので、指令信号応答性のよい電子制
御レギュレータを実現できる。

【００４２】また、請求項２に記載の発明の半導体装置
用電子制御レギュレータでは、請求項１に記載の発明の
効果に加え、圧力センサがエアーパイロット式レギュレ
ータ主弁の下流側の圧力を検出し、操作圧力制御部へフ
ィードバックするので、常に下流側の流体の圧力を一定
に保つことができる。

【００４３】さらに、請求項３に記載の発明の半導体装
置用電子制御レギュレータでは、請求項１又は２に記載
の発明の効果に加えて、ブリードポートを常時開オリフ
ィスにすることにより、エアーパイロット式レギュレー
タ主弁の下流側の流路が閉じられたとき、当該流路に残
った流体は直ちに排出され圧力も直ちに降下することが
可能になり、また、オリフィス構造であるためエアーパ
イロット式レギュレータ主弁の下流側流路に圧力が付与
されているときでも、圧力に与える影響は殆どない。

【００４４】また、請求項４に記載の発明の半導体装置
用電子制御レギュレータでは、請求項２乃至３の何れか
に記載の発明の効果に加えて、エアーパイロット式レギ
ュレータ主弁と操作圧力制御部とブリードポートと圧力
センサとを一体に形成したことにより、構造が強固にな
り、また、装置の小型化を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態の電子制御レギュレータ
が使用されるＣＭＰ装置のブロック図である。

【図２】上記のＣＭＰ装置のブロック図である。

【図３】本発明の一実施の形態の電子制御レギュレータ
の正面図である。

【図４】本発明の一実施の形態の電子制御レギュレータ
の平面図である。

【図５】本発明の一実施の形態の電子制御レギュレータ
の左側面図である。

【図６】本発明の一実施の形態の電子制御レギュレータ
の底面図である。

【図７】上記電子制御レギュレータの操作圧力制御部の
ブロック図である。

【図８】上記電子制御レギュレータの操作圧力制御部の
電気的構成を示す図である。

【図９】上記電子制御レギュレータのエアーパイロット
式レギュレータ主弁の縦断面図である。

【図１０】上記電子制御レギュレータの圧力センサの縦
断面図である。

【符号の説明】

１ 電子制御レギュレータ １５ エアーパイロット式レギュレータ主弁 １６ 操作圧入力口 １７ 操作圧力制御部 １８ 圧力センサ １９ 下流側流路ブロック ２０ センサケーブル ２１ 流路 ２２ 流路ＯＵＴポート ２３ ＯＵＴポート ２４ ブリードポート ２５ オリフィス

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−20605（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−357507（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−9327（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−143611（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G05D 16/20 H01L 21/304 621

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 操作空気圧力により流体の圧力を制御す
   るエアーパイロット式レギュレータ主弁と、 当該エアーパイロット式レギュレータ主弁に接続され、
   操作空気圧力を前記エアーパイロット式レギュレータ主
   弁の操作圧入力部に与える操作圧力制御部と、 前記エアーパイロット式レギュレータ主弁の下流側流路
   に設けられた常時開オリフィスとを備えたことを特徴と
   する半導体装置用電子制御レギュレータ。
2. 【請求項２】 前記エアパイロット式レギュレータ主弁
   の下流側流路には圧力センサを設けたことを特徴とする
   請求項１に記載の半導体装置用電子制御レギュレータ。
3. 【請求項３】 前記エアーパイロット式レギュレータ主
   弁と前記操作圧力制御部と前記ブリードポートと前記圧
   力センサとを一体に形成したことを特徴とする請求項２
   に記載の半導体装置用電子制御レギュレータ。