JP3911154B2 - 接着体及びその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、第1の基材と第2の基材とを接着剤を介して接着した接着体に関し、いずれか一方あるいは両方が薄い基材の接着に好適な接着体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来から、第1の基材と第2の基材とを接着剤を介して接着した接着体は、種々の構成のものが知られている。また、そのような用途に使用する接着剤も多種多様のものが知られている。そのうち、一般的な接着剤としては、エポキシ樹脂、アクリレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂などが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
上述した接着体のうち、基材の厚さが非常に薄い接着体を得るための接着剤には、接着層の厚さおよび接着層の厚さのばらつきを精密に制御できる必要があり、同時に十分な接着強度を有していることが求められる。上述した一般的な接着剤樹脂では、これら両方の特性を同時に満たすことは困難であった。
【0004】
例えば、エポキシ樹脂は、接着強度が高いものの、樹脂粘度が大きいため接着層の厚さにばらつきが生じ、均一な厚さの接着層が得られない。そのため、研削や研磨などによって基材を薄く加工していったときに基材の厚さにばらつきが生じる。低粘度のアクリレート樹脂では、均一な厚さの接着層を得ることができるが、研削あるいは研磨によって基材の厚さを薄くしていった場合に基材に割れや剥離が生じ、10μm以下の厚さのものを得ることができない。また、熱膨張率の異なる基材を加熱硬化することによって接着した場合には、基材の熱膨張率差に起因する応力によって接着体が反る問題もあった。
【0005】
本発明の目的は上述した課題を解消して、いずれか一方あるいは両方の基材が薄い場合でも基材の剥離が生ぜず好適な接着を達成できる接着体及びその製造方法を提供しようとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明の接着体は、第1の基材と第2の基材との接着体であり、第1の基材と、第2の基材と、前記第1の基材と前記第2の基材との間に存在する接着層を備えており、前記接着層がフルオレン骨格を有する樹脂組成物からなり、前記第1の基材と第2の基材の少なくとも一方の基材が光学単結晶またはガラスからなり、前記第1の基材と第2の基材の少なくとも一方の厚さが0.1μm以上10μm以下であることを特徴とするものである。
【0007】
また、本発明の接着体の製造方法は、第1の基材と第2の基材との接着体であり、第1の基材と、第2の基材と、前記第1の基材と前記第2の基材との間に存在する接着層を備えており、前記接着層がフルオレン骨格を有する樹脂組成物からなり、前記第1の基材と第2の基材の少なくとも一方の厚さが0.1μm以上10μm以下である接着体を製造するのに際し、接着層としてフルオレン骨格を有する樹脂組成物を用いて接着することを特徴とするものである。
【0008】
本発明の好適な具体例としては、接着体が光学部品特にニオブ酸リチウム、MgO添加ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウムの接着体であること、及び、フルオレン骨格を有する樹脂組成物が、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂またはフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂であることがある。
【0009】
本発明の特徴は、フルオレン骨格を有する樹脂を接着剤として使用して、少なくとも一方の基材の厚さが非常に薄い構造体を得るという点である。フルオレン骨格を有する樹脂は、ガラス転移点温度Tgや分解温度が高く、中にはTgが200℃以上のものもあることから、得られた構造体は耐熱性に優れたものとなる。基材に光学単結晶やガラスを使用すれば、得られた構造体を光導波路などに利用することも可能である。
【0010】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の接着体の一例の構成を示す図である。図1に示す例において、本発明の接着体11は、第1の基材1と、第2の基材2と、第1の基材1と第2の基材2との間に存在する接着層3とを備えている。そして、接着層3はフルオレン骨格を有する樹脂組成物から構成されている。また、第1の基材1と第2の基材2の少なくとも一方(図1に示す例では第1の基材1)の厚さが0.1μm以上10μm以下である。
【0011】
上述した構成の接着体11において、フルオレン骨格を有する樹脂は、樹脂組成によって容易に十分な接着強度を発現させることが可能である。また、フルオレン骨格を有する樹脂は、堅く、薄層化加工時の応力によって変形しにくい。さらに、硬化を行う前のフルオレン骨格を有する樹脂は溶剤で希釈することができるため、樹脂粘度を所望の値に調節することができ、接着層3の厚さを制御することができる。そのため、フルオレン骨格を有する樹脂を用いて接着した接着体11は、第1の基材1および/または第2の基材2の厚さを10μm以下に精度よく薄く研磨することが可能である。また、熱膨張率の異なる基材を加熱硬化することによって接着した接着体11の反りは、接着体11の第1の基材1または第2の基材2の厚さを10μm以下に薄く研磨することによって緩和することができる。
【0012】
接着層3の成分としては、フルオレン骨格(図2に示す)を有する樹脂組成物であればどのようなものでもかまわない。フルオレン骨格を有する樹脂組成物としては、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂、フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂、フルオレン骨格を有するポリイミド樹脂、フルオレン骨格を有するポリアミド樹脂、フルオレン骨格を有するポリスルホン樹脂、フルオレン骨格を有するポリエステル樹脂などをあげることができる。その中でもフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂やフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂が特に望ましい。通常、接着剤として用いられるエポキシ樹脂やアクリレート樹脂などは、フルオレン骨格を有していない。それに対して、上述したようなフルオレン骨格を有した特殊なエポキシ樹脂やアクリレート樹脂などを使用することにより、本発明の効果を得ることができる。
【0013】
第1の基材1及び第2の基材2の材質・形態はどのようなものでもかまわない。また、あらかじめ必要な形態に用意された構造体であってもよいし、他の材料上に製膜などにより形成した材料でもよい。第1の基材1及び第2の基材2を薄く加工する方法は限定されない。研削、ラッピング、ポリッシング、スライシング、サンドブラスト、RIE、イオンミリング、酸・アルカリなどによるエッチングなどを例示することができる。
【0014】
第1の基材1と第2の基材2の接着方法や接着剤樹脂の硬化方法は特に限定されない。接着は、接着剤樹脂を被着体上に滴下しもう一方の被着体を押し当てるという方法や、被着体上にスピンコートやディップコートなどの方法によって接着剤樹脂をコートしておきその上にもう一方の被着体を押し当てるという方法や、被着体同士をつきあわせておいてその隙間に接着剤樹脂を流し込むなどの方法により行うことができる。必要な接着状態を保つように被着体同士を加圧した状態で仮硬化した後に、加圧せずに本硬化することが望ましいが、加圧したまま本硬化を行ったり、全く加圧せずに硬化を行ったり、加圧せずに仮硬化した後に加圧した状態で本硬化を行うことも可能である。
【0015】
接着層3の厚さは特に限定されない。接着強度は接着剤樹脂の種類と接着層の厚さによって変化する。要求される接着強度の値は、基材と、基材を薄く加工する加工方法によって異なる。例えば、フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂を使用して接着した2枚のニオブ酸リチウム単結晶基板の接着体の、ニオブ酸リチウム単結晶基板をラッピングによって薄く加工する場合には、接着強度として60kgf/cm2以上が望ましい。そのため、ニオブ酸リチウム単結晶基板をラッピングによって薄く加工する場合には、十分な接着強度を得るため、接着層3の厚さを0.05μm以上とすることが好ましく、0.1μm以上とすることがさらに好ましい。また、基材1、2を精度よく薄く加工するには、接着層3の厚さのばらつきが小さいほど望ましい。接着層3の厚さのばらつきを抑えるための方法としては、例えば、接着層3の厚さを薄くするという方法をあげることができる。この場合、接着層3の厚さを1μm以下とすることが好ましく、0.5μm以下とすることがさらに好ましい。接着層3の厚さを薄くするには、接着時に加圧を行う方法、低粘度の樹脂を使用する方法、またはこれらを組み合わせた方法などを用いることができる。3kgf/cm2以下の加圧で接着層3の厚さを1μm以下とするためには、接着剤樹脂の粘度は200cps以下が望ましく、100cps以下がさらに望ましい。
【0016】
【実施例】
以下、実際の例について説明する。
実施例1
本発明例の接着体における剥離状態を調べた。まず、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂を接着剤として使用し、15mm角に切り出した1mm厚のXカットのニオブ酸リチウム基板(第1の基材)と、20mm角に切り出した1mm厚のXカットのニオブ酸リチウム基板(第2の基材)との接着を行った。
【0017】
フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂として新日鐵化学株式会社製のカルド型エポキシ樹脂(V−259EH)を使用し、樹脂粘度を7cpsとなるように調製して使用した。第1の基材と第2の基材を洗浄した後、第2の基材上にフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂溶液を滴下し、第1の基材を重ねて加圧することにより接着を行った。貼り合わせを行った基板を、100℃で1時間仮硬化した後、200℃で1時間硬化し、接着体を得た。この接着体の接着層の厚さは0.1μmとした。第1の基材を機械研削装置及び研磨装置によって研削・研磨し、第1の基材の厚さを3μmとした。第1の基材には割れ・剥離は見られなかった。また、この接着体を121℃、湿度100%の高温高湿度下に96時間曝露したが、第1の基材の剥離はみられなかった。
【0018】
実施例2
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂を接着剤として使用し、15mm角に切り出した1mm厚のYカットのMgO添加ニオブ酸リチウム基板(第1の基材)と、20mm角に切り出した1mm厚のYカットのMgO添加ニオブ酸リチウム基板(第2の基材)との接着を行った。
【0019】
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂として新日鐵化学株式会社製のカルド型アクリレート樹脂(V−259PA)を使用し、樹脂粘度を70cpsとなるように調製して使用した。第1の基材と第2の基材を洗浄した後、第2の基材上にフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂溶液を滴下し、第1の基材を重ねて加圧することにより接着を行った。貼り合わせを行った基板を、100℃で1時間仮硬化した後、200℃で1時間硬化し、接着体を得た。この接着体の接着層の厚さは0.2μmとした。第1の基材を機械研削装置及び研磨装置によって研削・研磨し、第1の基材の厚さを3μmとした。第1の基材には割れ・剥離は見られなかった。また、この接着体を121℃、湿度100%の高温高湿度下に96時間曝露したが、第1の基材の剥離はみられなかった。
【0020】
実施例3
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂を接着剤として使用し、15mm角に切り出した0.5mm厚のYカットのMgO添加ニオブ酸リチウム基板(第1の基材)と、20mm角に切り出した1mm厚のXカットのニオブ酸リチウム基板(第2の基材)との接着を行った。
【0021】
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂として新日鐵化学株式会社製のカルド型アクリレート樹脂(V−259PA)を使用し、樹脂粘度を70cpsとなるように調製して使用した。第1の基材と第2の基材を洗浄した後、第2の基材上にフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂溶液を滴下し、第1の基材を重ねて加圧することにより接着を行った。貼り合わせを行った基板を、100℃で1時間仮硬化した後、200℃で1時間硬化し、接着体を得た。この接着体の接着層の厚さは0.2μmとした。第1の基材を機械研削装置及び研磨装置によって研削・研磨し、第1の基材の厚さを3μmとした。第1の基材には割れ・剥離は見られなかった。また、この接着体を121℃、湿度100%の高温高湿度下に96時間曝露したが、第1の基材の剥離はみられなかった。
【0022】
実施例4
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂を接着剤として使用し、35mm角に切り出した0.5mm厚のXカットのニオブ酸リチウム基板(第1の基材)と、45mm角に切り出した1mm厚のXカットのニオブ酸リチウム基板(第2の基材)との接着を行った。
【0023】
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂として新日鐵化学株式会社製のカルド型アクリレート樹脂(V−259PA)を使用し、樹脂粘度を70cpsとなるように調製して使用した。第1の基材と第2の基材を洗浄した後、第2の基材上にフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂溶液を滴下し、第1の基材を重ねて加圧することにより接着を行った。貼り合わせを行った基板を、100℃で1時間仮硬化した後、200℃で1時間硬化し、接着体を得た。この接着体の接着層の厚さは0.3μmとした。第1の基材を機械研削装置及び研磨装置によって研削・研磨し、第1の基材の厚さを3μmとした。第1の基材には割れ・剥離は見られなかった。また、この接着体を121℃、湿度100%の高温高湿度下に96時間曝露したが、第1の基材の剥離はみられなかった。
【0024】
実施例5
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂を接着剤として使用し、35mm角に切り出した0.5mm厚のYカットのMgO添加ニオブ酸リチウム基板(第1の基材)と、45mm角に切り出した1mm厚のYカットのMgO添加ニオブ酸リチウム基板(第2の基材)との接着を行った。
【0025】
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂として新日鐵化学株式会社製のカルド型アクリレート樹脂(V−259PA)を使用し、樹脂粘度を70cpsとなるように調製して使用した。第1の基材と第2の基材を洗浄した後、第2の基材上にフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂溶液を滴下し、第1の基材を重ねて加圧することにより接着を行った。貼り合わせを行った基板を、100℃で1時間仮硬化した後、200℃で1時間硬化し、接着体を得た。この接着体の接着層の厚さは0.3μmとした。第1の基材を機械研削装置及び研磨装置によって研削・研磨し、第1の基材の厚さを3μmとした。第1の基材には割れ・剥離は見られなかった。また、この接着体を121℃、湿度100%の高温高湿度下に96時間曝露したが、第1の基材の剥離はみられなかった。
【0026】
実施例6
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂を接着剤として使用し、35mm角に切り出した0.5mm厚のYカットのMgO添加ニオブ酸リチウム基板(第1の基材)と、45mm角に切り出した1mm厚のXカットのニオブ酸リチウム基板(第2の基材)との接着を行った。
【0027】
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂として新日鐵化学株式会社製のカルド型アクリレート樹脂(V−259PA)を使用し、樹脂粘度を70cpsとなるように調製して使用した。第1の基材と第2の基材を洗浄した後、第2の基材上にフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂溶液を滴下し、第1の基材を重ねて加圧することにより接着を行った。貼り合わせを行った基板を、100℃で1時間仮硬化した後、200℃で1時間硬化し、接着体を得た。この接着体の接着層の厚さは0.3μmとした。第1の基材を機械研削装置及び研磨装置によって研削・研磨し、第1の基材の厚さを3μmとした。第1の基材には割れ・剥離は見られなかった。また、この接着体を121℃、湿度100%の高温高湿度下に96時間曝露したが、第1の基材の剥離はみられなかった。
【0028】
実施例7
フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂を接着剤として使用し、35mm角に切り出した0.5mm厚のZカットのMgO添加ニオブ酸リチウム基板(第1の基材)と、45mm角に切り出した1mm厚のZカットのニオブ酸リチウム基板(第2の基材)との接着を行った。
【0029】
フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂として新日鐵化学株式会社製のカルド型エポキシ樹脂(V―259EH)を使用し、樹脂粘度を5cpsとなるように調製して使用した。第1の基材と第2の基材を洗浄した後、スピンコーターを用いて回転数4000rpmで第2の基材上にフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂溶液を回転塗布して乾燥した後、第1の基材を重ねて加圧することにより接着を行った。貼り合わせを行った基板を、100℃で1時間仮硬化した後、200℃で1時間硬化し、接着体を得た。この接着体の接着層の厚さは0.4μmとした。第1の基材を機械研削装置及び研磨装置によって研削・研磨し、第1の基材の厚さを3μmとした。第1の基材には割れ・剥離は見られなかった。また、この接着体を121℃、湿度100%の高温高湿度下に96時間曝露したが、第1の基材の剥離はみられなかった。
【0030】
実施例8
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂を接着剤として使用し、3インチの0.5mm厚のYカットのMgO添加ニオブ酸リチウムウェハ(第1の基材)と、3インチの1mm厚のXカットのニオブ酸リチウムウェハ(第2の基材)との接着を行った。
【0031】
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂として新日鐵化学株式会社製のカルド型アクリレート樹脂(V−259PA)を使用し、樹脂粘度を70cpsとなるように調製して使用した。第1の基材と第2の基材を洗浄した後、第2の基材上にフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂溶液を滴下し、第1の基材を重ねて加圧することにより接着を行った。加圧は、中央部が周縁部よりも0.5mm膨らんだシリコーンゴム円盤を使用し、基材の中央部から順に加圧することによって接着層の厚さを均一にし、接着を行った。貼り合わせを行った基板を、100℃で1時間仮硬化した後、200℃で1時間硬化し、接着体を得た。この接着体の接着層の厚さは0.4μmとした。第1の基材を機械研削装置及び研磨装置によって研削・研磨し、第1の基材の厚さを3μmとした。第1の基材には割れ・剥離は見られなかった。また、この接着体を121℃、湿度100%の高温高湿度下に96時間曝露したが、第1の基材の剥離はみられなかった。
【0032】
実施例9
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂を接着剤として使用し、3インチの0.5mm厚のZカットのMgO添加ニオブ酸リチウムウェハ(第1の基材)と、3インチの1mm厚のZカットのニオブ酸リチウムウェハ(第2の基材)との接着を行った。第1の基材もしくは第2の基材の接着面には、樹脂を逃がす目的で、幅100μm・深さ20μmの溝を1本以上形成し、貼り合わせに使用した。
【0033】
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂として新日鐵化学株式会社製のカルド型アクリレート樹脂(V−259PA)を使用し、樹脂粘度を70cpsとなるように調製して使用した。第1の基材と第2の基材を洗浄した後、第2の基材上にフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂溶液を滴下し、第1の基材を重ねて加圧することにより接着を行った。貼り合わせを行った基板を、100℃で1時間仮硬化した後、200℃で1時間硬化し、接着体を得た。この接着体の接着層の厚さは0.4μmとした。第1の基材を機械研削装置及び研磨装置によって研削・研磨し、第1の基材の厚さを3μmとした。第1の基材には割れ・剥離は見られなかった。また、この接着体を121℃、湿度100%の高温高湿度下に96時間曝露したが、第1の基材の剥離はみられなかった。
【0034】
実施例10
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂を接着剤として使用し、3インチの0.5mm厚のYカットのMgO添加ニオブ酸リチウムウェハ(第1の基材)と、3インチの1mm厚のXカットのニオブ酸リチウムウェハ(第2の基材)との接着を行った。
【0035】
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂として新日鐵化学株式会社製のカルド型アクリレート樹脂(V−259PA)を使用し、樹脂粘度を5cpsとなるように調製して使用した。第1の基材と第2の基材を洗浄した後、スピンコーターを用いて回転数4000rpmで第2の基材上にフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂溶液を回転塗布して乾燥した後、第1の基材を重ねて加圧することにより接着を行った。貼り合わせを行った基板を、100℃で1時間仮硬化した後、200℃で1時間硬化し、接着体を得た。この接着体の接着層の厚さは0.4μmであった。第1の基材を機械研削装置及び研磨装置によって研削・研磨し、第1の基材の厚さを3μmとした。第1の基材には割れ・剥離は見られなかった。また、この接着体を121℃、湿度100%の高温高湿度下に96時間曝露したが、第1の基材の剥離はみられなかった。
【0036】
実施例11
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂を接着剤として使用し、3インチの0.5mm厚のYカットのMgO添加ニオブ酸リチウムウェハ(第1の基材)と、3インチの1mm厚のYカットのMgO添加ニオブ酸リチウムウェハ(第2の基材)との接着を行った。
【0037】
フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂として新日鐵化学株式会社製のカルド型アクリレート樹脂(V−259PA)を使用し、樹脂粘度を15cpsとなるように調製して使用した。第1の基材と第2の基材を洗浄した後、第2の基材上にフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂溶液を滴下し、第1の基材を重ねた後にスピンコーターを用いて回転数5000rpmで回転して、樹脂を延展することにより接着層の厚さを均一にし、接着を行った。貼り合わせを行った基板を、100℃で1時間仮硬化した後、200℃で1時間硬化し、接着体を得た。この接着体の接着層の厚さは0.4μmであった。第1の基材を機械研削装置及び研磨装置によって研削・研磨し、第1の基材の厚さを3μmとした。第1の基材には割れ・剥離は見られなかった。また、この接着体を121℃、湿度100%の高温高湿度下に96時間曝露したが、第1の基材の剥離はみられなかった。
【0038】
実施例12
本発明例の接着体と比較例の接着体とを比較した。以下に示す樹脂A〜樹脂Dを接着剤として使用し、実施例1と同様に、15mm角に切り出した1mm厚のXカットのニオブ酸リチウム基板(第1の基材)と、20mm角に切り出した1mm厚のXカットのニオブ酸リチウム基板(第2の基材)との接着を行い、接着体を得た。第1の基材をラッピングによって研磨した。研磨後の第1の基材の厚さと第1の基材の状態について調査した。結果を表1に示す。なお、樹脂Aはフルオレン骨格を有する本発明例の樹脂を示し、樹脂B〜樹脂Dはいずれもフルオレン骨格を有さない比較例の樹脂を示す。
【0039】
使用した樹脂の種類:
樹脂A: 新日鐵化学株式会社製, カルド型アクリレート樹脂(V-259PA);
樹脂B: ニチバン株式会社製, エポキシ樹脂(アラルダイト);
樹脂C: EPOXY TECHNOLOGY, INC.製, エポキシ樹脂(301-2);
樹脂D: 株式会社アーデル製, 光硬化型アクリレート樹脂(A200)。
【0040】
【表1】
【0041】
表1の結果から、樹脂Aを使用した本発明例では、第1の基材の厚さが0.1μmまで剥離がなく厚さも均一であることがわかった。一方、樹脂B、Cを使用した比較例では第1の基材の厚さ50μmでも均一な厚さを得ることができず、さらに0.5μm以下になると剥離が発生することがわかった。また、樹脂Dを使用した比較例では第1の基材の厚さが10μmの段階ですでに剥離が発生することがわかった。以上のことから、本発明によれば、比較例に比べて、十分な接着力を有し、基材の厚さが均一で薄い接着体が得られることがわかった。
【0042】
実施例14
本発明例の接着体における基材の厚さと基材の熱膨張率差に起因する変形量との関係を調べた。フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂を接着剤として使用し、15mm角に切り出した1mm厚のXカットのニオブ酸リチウム基板(第1の基材)と、20mm角に切り出した0.35mm厚の27°オフカットのY面(63°Zカット)のタンタル酸リチウム基板(第2の基材)との接着を行った。フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂として新日鐵化学株式会社製のカルド型アクリレート樹脂(V−259PA)を使用し、樹脂粘度を70cpsとなるように調製して使用した。第1の基材と第2の基材を洗浄した後、第2の基材上にフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂溶液を滴下し、第1の基材を重ねて加圧することにより接着を行った。貼り合わせを行った基板を、100℃で1時間仮硬化した後、200℃で1時間硬化し、接着体を得た。
【0043】
この接着体の接着層の厚さは0.2μmとした。第1の基材と第2の基材の熱膨張率の差から、接着体には変形が生じた。第1の基材を機械研削装置及び研磨装置によって研削・研磨し、第1の基材の厚さを薄くしていったところ、第1の基材の厚さが10μm以下となると接着体の変形量が大幅に減少した。その結果を図3に示す。
【0044】
実施例15
本発明例の接着体における接着層の厚さと圧縮せん断接着強度との関係を調べた。フルオレン骨格を有するアクリレート樹脂として新日鐵化学株式会社製のカルド型アクリレート樹脂(V−259PA)を使用し、15mm角に切り出したXカットのニオブ酸リチウム単結晶を2枚、実施例1と同様の方法に従って接着した。その際、カルド型アクリレート樹脂の粘度を変化させて、接着層の厚さを変化させた。得られた接着体から、5mm角の試験片を切り出し、切り出した試験片の圧縮せん断接着強度を求めた。結果を図4に示す。
【0045】
図4の結果から、接着層の厚さが0.05μm以上であれば目標とする60kgf/cm2以上の接着強度を達成できるため好ましいことがわかる。また、接着層が破壊の起因とならない、基板が破壊する範囲が0.1μm以上であることから、接着層の厚さを0.1μm以上とするとさらに好ましいことがわかる。
【0046】
以上の実施例1〜実施例3の結果から、本発明の接着体では、第1の基材と第2の基材の少なくとも一方の厚さが0.1μm以上10μm以下である場合に、十分な接着力を有し、基材の厚さが均一で薄い接着体を得ることができることがわかる。また、実施例4の結果から、接着体の接着層の厚さは0.05μm以上が好ましく、0.1μm以上であるとさらに好ましいことがわかる。
【0047】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、第1の基材と第2の基材とをフルオレン骨格を有する接着剤を介して接着しているため、いずれか一方あるいは両方の基材が0.1μm以上10μm以下と薄い場合でも、十分な接着力を有する接着体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の接着体の一例の構成を示す図である。
【図2】フルオレン骨格構造の一例を示す図である。
【図3】本発明の接着体における基材の厚さと基材の熱膨張率差に起因する変形量との関係を示すグラフである。
【図4】本発明の接着体における接着層の厚さと圧縮せん断接着強度との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
1 第1の基材、2 第2の基材、3 接着層、11 接着体
Claims (10)
- 第1の基材と第2の基材との接着体であり、第1の基材と、第2の基材と、前記第1の基材と前記第2の基材との間に存在する接着層を備えており、前記接着層がフルオレン骨格を有する樹脂組成物からなり、前記第1の基材と第2の基材の少なくとも一方の基材が光学単結晶またはガラスからなり、前記第1の基材と第2の基材の少なくとも一方の厚さが0.1μm以上10μm以下であることを特徴とする、接着体。
- 光学部品であることを特徴とする、請求項1記載の接着体。
- 前記フルオレン骨格を有する樹脂組成物が、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂またはフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂であることを特徴とする、請求項1または2記載の接着体。
- 第1の基材および第2の基材がニオブ酸リチウムであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の接着体。
- 第1の基材および第2の基材がMgO添加ニオブ酸リチウムであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の接着体。
- 第1の基材がMgO添加ニオブ酸リチウムであり第2の基材がニオブ酸リチウムであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の接着体。
- 第1の基材がニオブ酸リチウムであり第2の基材がタンタル酸リチウムであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の接着体。
- 第1の基材と第2の基材との接着体であり、第1の基材と、第2の基材と、前記第1の基材と前記第2の基材との間に存在する接着層を備えており、前記接着層がフルオレン骨格を有する樹脂組成物からなり、前記第1の基材と第2の基材の少なくとも一方の厚さが0.1μm以上10μm以下である接着体を製造するのに際し、接着層としてフルオレン骨格を有する樹脂組成物を用いて接着することを特徴とする、接着体の製造方法。
- 光学部品であることを特徴とする、請求項8記載の接着体の製造方法。
- 前記フルオレン骨格を有する樹脂組成物が、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂またはフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂であることを特徴とする、請求項8または9記載の接着体の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001378199A JP3911154B2 (ja) | 2001-03-16 | 2001-12-12 | 接着体及びその製造方法 |
US10/095,290 US7087294B2 (en) | 2001-03-16 | 2002-03-11 | Bonding body and method of producing the same |
EP20020251820 EP1241238B1 (en) | 2001-03-16 | 2002-03-14 | Bonding body and method of producing the same |
DE2002601280 DE60201280T2 (de) | 2001-03-16 | 2002-03-14 | Verbundener Gegenstand und Verfahren zu dessen Herstellung |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001-76022 | 2001-03-16 | ||
JP2001076022 | 2001-03-16 | ||
JP2001378199A JP3911154B2 (ja) | 2001-03-16 | 2001-12-12 | 接着体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002337274A JP2002337274A (ja) | 2002-11-27 |
JP3911154B2 true JP3911154B2 (ja) | 2007-05-09 |
Family
ID=26611430
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001378199A Expired - Lifetime JP3911154B2 (ja) | 2001-03-16 | 2001-12-12 | 接着体及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7087294B2 (ja) |
EP (1) | EP1241238B1 (ja) |
JP (1) | JP3911154B2 (ja) |
DE (1) | DE60201280T2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101501151B (zh) * | 2006-08-04 | 2012-02-15 | 日立化成工业株式会社 | 粘接剂组合物和电路部件的连接结构 |
JP4733094B2 (ja) | 2007-09-28 | 2011-07-27 | 住友大阪セメント株式会社 | 光素子 |
JP2011087079A (ja) * | 2009-10-14 | 2011-04-28 | Ngk Insulators Ltd | 弾性表面波素子 |
JP6144684B2 (ja) | 2012-09-24 | 2017-06-07 | 日本碍子株式会社 | テラヘルツ波検出素子とその作製方法および観察装置 |
EP2899514B1 (en) | 2012-09-24 | 2021-03-31 | NGK Insulators, Ltd. | Terahertz-wave detection element, production method therefor, joined body, and observation device |
EP2902755A4 (en) | 2012-09-24 | 2016-06-15 | Ngk Insulators Ltd | THROTTLE WAVE DETECTION ELEMENT, METHOD OF MANUFACTURING THEREOF, COMPOUND BODY AND OBSERVATION DEVICE |
JP6231394B2 (ja) * | 2014-02-03 | 2017-11-15 | デクセリアルズ株式会社 | アクリル系接着剤の反応率測定方法、及びアクリル系接着剤 |
JP6438102B2 (ja) * | 2017-10-19 | 2018-12-12 | デクセリアルズ株式会社 | 接続体、及び接続体の製造方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4769399A (en) | 1987-03-12 | 1988-09-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Epoxy adhesive film for electronic applications |
US4902574A (en) * | 1987-10-14 | 1990-02-20 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Methods of using fluoroepoxy compounds as adhesives for fluoroplastic adherends and products made therefrom |
US4980234A (en) | 1987-12-23 | 1990-12-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Epoxide resin compositions and method |
US4983672A (en) | 1987-12-23 | 1991-01-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Epoxide resin compositions and method |
JPH03106918A (ja) | 1989-09-19 | 1991-05-07 | Nitto Denko Corp | 紫外線硬化型樹脂組成物 |
WO1991004360A1 (en) * | 1989-09-20 | 1991-04-04 | Ibiden Co., Ltd. | Thin film of lithium niobate single crystal and production thereof |
JPH03243185A (ja) | 1990-02-21 | 1991-10-30 | Sanyo Electric Co Ltd | 超電導回転機 |
US5551959A (en) * | 1994-08-24 | 1996-09-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive article having a diamond-like coating layer and method for making same |
DE69628563T2 (de) * | 1995-08-24 | 2004-05-06 | Asahi Glass Co., Ltd. | Fluorinierten film, hieraus gebildetes laminat und verfahren zur herstellung des laminats |
JPH09241340A (ja) | 1996-03-13 | 1997-09-16 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 光学材料用アクリレート樹脂及びこれを用いた光学材料 |
US6002515A (en) * | 1997-01-14 | 1999-12-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for producing polarization inversion part, optical wavelength conversion element using the same, and optical waveguide |
JP3094948B2 (ja) * | 1997-05-26 | 2000-10-03 | 日本電気株式会社 | 半導体素子搭載用回路基板とその半導体素子との接続方法 |
JP2000305117A (ja) * | 1999-02-19 | 2000-11-02 | Fuji Xerox Co Ltd | 光デバイス、光デバイスの駆動方法、及び光デバイスの製造方法 |
EP1109054B1 (en) * | 1999-12-15 | 2005-08-17 | Ngk Insulators, Ltd. | Travelling wave optical modulators and a method for the production thereof |
JP4354100B2 (ja) * | 2000-07-27 | 2009-10-28 | 日本碍子株式会社 | 光導波路素子 |
US6846428B2 (en) * | 2001-03-20 | 2005-01-25 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Thin film lithium niobate and method of producing the same |
JP2002293861A (ja) * | 2001-04-02 | 2002-10-09 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | 硬化性化合物、該化合物を含有する硬化性樹脂組成物および硬化材の易解体方法 |
-
2001
- 2001-12-12 JP JP2001378199A patent/JP3911154B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-03-11 US US10/095,290 patent/US7087294B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-03-14 EP EP20020251820 patent/EP1241238B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-03-14 DE DE2002601280 patent/DE60201280T2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7087294B2 (en) | 2006-08-08 |
DE60201280T2 (de) | 2005-12-29 |
JP2002337274A (ja) | 2002-11-27 |
EP1241238B1 (en) | 2004-09-22 |
EP1241238A3 (en) | 2003-04-02 |
DE60201280D1 (de) | 2004-10-28 |
EP1241238A2 (en) | 2002-09-18 |
US20020187339A1 (en) | 2002-12-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041224 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
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|
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130202 Year of fee payment: 6 |
|
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130202 Year of fee payment: 6 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |