JP3895629B2 - 光記録媒体 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電磁波を照射する事により記録材料に光学的な変化を生じさせ、情報の記録・再生を行ない、かつ書き換えが可能な相変化型光記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
光ビーム照射による情報の記録、再生、消去を行い書き換えが可能な光記録媒体の一つとして、結晶−非結晶相間、又は、結晶−結晶相間の相転移を利用する、いわゆる相変化型光ディスクが知られている。この光ディスクは単一ビームによるオーバーライトが可能であり、ドライブ側の光学系が単純な為に、コンピューターやAV関連の記録媒体として使用されている。
その記録材料としては、Ge−Te、Ge−Te−Se、In−Sb、Ga−Sb、Ge−Sb−Te、Ag−In−Sb−Te等が用いられている。中でもAg−In−Sb−Teは高感度で記録マークのアモルファス部の輪郭が明確であるという特徴を有し、マークエッジ記録用材料として使用されている(特開平3−231889号公報、特開平4−191089号公報、特開平4−232779号公報、特開平4-267192号公報、特開平5−345478号公報等参照)。
【0003】
しかし、これらの記録材料は、CD−RW(Compact Disk−Rewritable)等の比較的低い記録密度を有する記録媒体に用いられるものであって、DVD(Digtal Versatile Disk)RAMやDVD−RW等に用いると、記録線速が3.5m/s(1倍速)程度ではオーバーライト可能であるが、2倍速以上になるとオーバーライト特性が劣下するという問題を有する。これは、上記の記録材料の結晶化速度が遅く、高線速下でのオーバーライトが困難になる為である。
Sb量を増やして結晶化速度を速くする事もできるが、そうするとSbの増加により結晶化温度が低下して保存特性が劣下する。
この問題を解決する対策としては、特開平2000−322740号公報に、Ag−In−Ge−Sb−Te系記録材料を用いる方法が開示されている。この方法は、記録線速が3.0〜20m/sの範囲では適用可能であるが、更なる高線速化、例えば20m/s以上には対応する事ができない。
【0004】
一方、高速結晶化材料としてGaSbが提案されている(“phase−change Optical data storage in GaSb”Applied optics/vol.26、No22115 November1987)。この合金系は結晶化速度が極めて速いと報告されているが、結晶化温度が350℃と極めて高い為に初期結晶化が困難である。更に、GaSbにMo、W、Ta、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、As、Bi、S、Se、Te等を添加し、特性の向上を試みたものが米国特許第4,818,666号、及び第5,072,423号に開示されているが、高速記録におけるオーバーライト特性、変調度、及び保存信頼性を同時に満足するものではない。
上記の様に種々の相変化記録材料が報告されているが、何れも書き換え可能相変化型光記録媒体として要求される特性を全て満足し得るものとは云えなかつた。特に、DVD−ROMと同様な高密度記録容量であり、しかも記録線速が更に高速化(〜35m/s)された場合に対応でき、オ−バライト特性、変調度、そして保存信頼性を同時に満足するものではなかった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、DVD−ROMの大容量で、記録線速が、3.5m/sから35m/s広範囲かつ高線速においても、十分な変調度を確保し、オ−バライトの繰り返し特性が良好で保存信頼性の高い相変化型光記録媒体を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決する為、記録材料に着目して鋭意研究を重ねた結果、記録材料として、Ga、Sb、Sn、Coから成る合金を用いた時に上記課題を解決できること、更に、この合金にAg、Cu、In、Ge、C、Bから選ばれる一つの元素が添加する事により保存信頼性の一層の向上を実現できることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
即ち、上記課題は、次の1)〜4)の発明によって解決できる。
1) 基板上に少なくとも第一耐熱保護層、記録層、第二耐熱保護層、反射層をこの順に或いは逆順に有し、電磁波の照射により記録層に可逆的な相変化を生じ、その光学的な変化を利用して情報の記録、再生、消去及び書き換えが行われる相変化型光記録媒体において、記録材料が、Ga、Sb、Sn、Coから成り、記録線速3.5m/s〜35m/sの広い範囲で記録再生可能である事を特徴とする光記録媒体。
2) 記録材料の組成式をGaαSbβSnγCoδとする時(但し、α、β、γ、δは原子%、α+β+γ+δ=100)、α、β、γ、δが次の条件を満たす事を特徴とする1)記載の光記録媒体。
3≦α≦52
42≦β≦92
3≦γ≦25
0.1≦δ≦2
3) 記録材料に、Ag、Cu、In、Ge、C、Bの中から選ばれる一つの元素が添加されている事を特徴とする1)又は2)記載の光記録媒体。
4) 記録材料に添加される元素の添加量をM(原子%)として、Mが、0.1〜10の範囲にある事を特徴とする3)記載の光記録媒体。
【0007】
以下、上記本発明について詳細に説明する。
前記課題を解決するための手段として、本発明では、Ga、Sb、Sn、Coから成る新規な記録材料を開発した。
先ず、非晶相と結晶相との間の相転移を利用する光記録媒体において、35m/sの高線速下でもオーバーライトできる為には、レーザビーム径を1μmφとして、結晶化時間が約29ns(ナノ秒)でなければならない事が計算できる。更にDVDの様な高密度記録では、使用するレーザの波長が650nmであって、従来の780nmよりも短くなる為に、そのビーム径も1μmφより小さくなり、レーザビームが35m/sの線速で回転デスク上の一点を横切る速度は29nsより更に短くなる。例えば、ビーム径を0.7μmφとすると、その時間は約20nsとなり、この時間内でオーバーライト〔古いマークを消去(結晶化)して新しいマークを書く〕しなければならない。即ち、20nsで結晶化する必要がある。
従来技術であるAg−In−Sb−Te系やGaSb系、更にはGe−Sb−Te系においても、この時間内で高速結晶化することは可能であるが、保存信頼性や初期結晶化の問題があり、35m/sの線速で全ての特性を満足できる様な記録材料はなかった。
【0008】
本発明ではGaSbの持つ高速結晶化性能に注目し、この2元素を高速結晶化の為の構成元素とし、Snを加えて結晶化温度を下げる事により、GaSbの欠点である高い結晶温度からくる初期結晶化の困難さを解決すると同時に、GaSbに比べて更なる高速結晶化を実現し、十分な変調度を獲得する事に成功した。またCoを加える事により保存信頼性とオーバーライト特性の向上を実現した。GaとSbから成る記録材料が何故に高速で結晶化するのかは現在解析中であるが、一つの考え方として、GaSbの最隣接原子間距離が、非晶相の場合に2.65Å、結晶相の場合に2.64Åと極めて近い為、非晶相から結晶相への相転移が容易に行なわれるのではないかと推測される。
また、Snは共有結合性が弱い為、共有結合をしているGaSbに対して結合力を弱める働きをし、結晶化温度を低下させると同時に原子の再配列を容易にして結晶化速度を速める事ができる。また、Snを加える事により、GaSbと比較してその非晶相と結晶相の構造の変化が大きくなる為に、相転移に伴う二相間の光学定数の変化が大きくなり、十分な変調度を実現する事ができる。
なお、Coの添加により保存信頼性とオーバーライト特性が向上する理由は、今のところ不明であるが、Coの添加により不動態を作り酸化の進行を防止する為でないかと考えられる
【0009】
上記記録材料としては、組成式を、GaαSbβSnγCoδ(但し、α、β、γ、δは原子%、α+β+γ+δ=100)として、次の条件を満足するものが好ましい。
3≦α≦52
42≦β≦92
3≦γ≦25
0.1≦δ≦2
ここで、αとβがそれぞれ3原子%及び42原子%より少ないと、結晶化速度が低下し、35m/sの線速下でオーバーライトが困難となり、αとβがそれぞれ52原子%及び92原子%より多いと、オーバーライトの繰り返し回数が低下する。また、γが3より少ないと結晶化温度が低くならず初期結晶化が困難になると同時に十分な変調度を確保し難くなり、γが25より多いと保存信頼性が低下する。更に、δが0.1より少ないと保存信頼性とオーバーライト性能が低下し、2より多いと記録感度が低下する。
【0010】
更に、本発明では、Ga、Sb、Sn、Coから成る記録材料に、Ag、Cu、In、Ge、C、Bの中から選ばれた一つの元素を加える事により、保存特性の一層の向上を図る事ができる。
その理由は、Ge、C、Bの場合には共存結合性が強いので母材の未結合手と結合し、酸化を防止する為と考えられる。Ag、Cu、Inについては不明であるが、同様に母材の未結合手と結合し、酸化を防止する為と考えている。
これらの元素の好ましい添加量は、0.1〜10原子%の範囲にあり、0.1原子%よりも少ないと効果が少なく、10原子%よりも多いと結晶化速度が遅くなり35m/sの線速下でのオーバーライトが困難となる。
【0011】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の光記録媒体の構成例を図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の光記録媒体の構成例を示すもので、基板1上に第一耐熱保護層2、記録層3、第二耐熱保護層4、反射放熱層5が設けられている。
耐熱保護層は、必ずしも記録層の両側に設ける必要はないが、基板1がポリカボネート樹脂のように耐熱性が低い材料からなる場合には、第一耐熱保護層を設けることが望ましい。
更に、図示していないが、必要に応じて環境保護層を設けてもよい。
基板1の材料は、通常、ガラス、セラミックス又は樹脂であり、成形性、コストの点から樹脂基板が好適である。
樹脂の代表例としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられるが、加工性、光学特性等の点からポリカーボネート樹脂が好ましい。
また、基板の形状は、ディスク状、カード状、シート状などの何れでもよい。
【0012】
耐熱保護層、即ち誘電体層は、(ZnS)・(SiO)を用いてスパッタ法により膜形成を行う。
この誘電体層は、耐熱保護層としての機能と光干渉層としての機能を有することから、これらの機能を最大限に活かすことが必要であり、そのためには、膜厚を、200〜3000Å、好ましくは、350〜2000Åとする。
200Å未満の場合は、耐熱保護層としての機能が失われ、また、3000Åを越えると界面剥離が生じ易くなるので好ましくない。
また、本発明の記録層は、通常スパッタ法により膜形成が行なわれ、その膜厚は、100〜1000Å、好ましくは、200〜350Åである。
100Åより薄いと、光吸収能が低下して記録層としての機能を失い、1000Åより厚いと透過光が少なくなるため、干渉効果が期待できなくなる。
本発明の反射層にはAg合金が用いられ、その膜形成は、スパッタ法により行うことができる。反射層は放熱層としての機能も有する。
膜厚は、500〜2000Å、好ましくは、700〜1500Åである。
【0013】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これらの実施例によって何ら限定されるものではない。
【0014】
実施例1〜10、比較例1〜5
トラックピッチ0.7μm、溝深さ400Å、厚さ0.6mm、直径120mmφのポリカーボネート基板上に、第一耐熱保護層(厚さ650Å)、記録層(厚さ150Å)、第二耐熱保護層(厚さ250Å)、反射層(厚さ1000Å)をスパッタ法により順次設け、更に、反射層の上に、スピンコート法により環境保護層を設けて光記録媒体を作製した。
記録層には、下記〔表1〕に示す材料を用い、第一及び第二耐熱保護層には、ZnS・SiO(20:80モル%)を用い、反射層には、Ag96CuNiを用いた。
次いで、得られた光記録媒体を初期結晶化した後、記録線速及び記録パワーを3.5m/s(10mW)、15m/s(16mW)、25m/s(26mW)、35m/s(36mW)で記録した。
この時の記録用レーザの波長は650nmとし、EFMランダムパターンでオーバーライトの繰り返しを行い、再生信号特性の評価は、3T信号のジッタ値と、14T信号の変調度で行ない、保存特性は1000回オーバーライトした光記録媒体を80℃、85%の温度下で300時間保持した後のオーバーライト1回目の3T信号ジッタ値と14T信号の変調度で評価した。
その結果を下記〔表2〕、〔表3〕に示す。
【0015】
【表1】
Figure 0003895629
【0016】
【表2】
Figure 0003895629
【0017】
【表3】
Figure 0003895629
【0018】
上記〔表2〕、〔表3〕から明らかな様に、本発明の記録材料を用いて構成された光記録媒体は、3.5m/s、15m/s、25m/s、35m/sの広い範囲の線速、特に従来技術では困難であった25m/sを越える線速においてもオーバーライトが可能で、その再生信号のジッタ値と変調度が良好であり、保存信頼性とオーバーライトの繰り返し特性に優れている事が分る。
これに対し、従来技術である、記録材料としてGa50Sb50化合物、又は共晶組成のGa12Sb88を用いた光記録媒体(比較例1、2)の場合には、高線速下でのオーバーライトは可能であるが、本発明の記録材料を用いた光記録媒体と比較して、ジッタ値、変調度、保存信頼性、オーバーライトの繰り返し特性が劣り、初期結晶化し難く、また、共晶組成のGa12Sb88に添加元素としてSnを加えた比較例3の場合は、変調度と初期結晶は改善されているもののオーバーライトによる繰り返し特性と保存信頼性が低下する。また、共晶組成のGa12Sb88に添加元素としてGeを加えた比較例4の場合は、保存信頼性は良好であるが変調度が低く、オーバーライトの繰り返し特性も比較例3より悪い。また、比較例5のAg−In−Sb−Te記録材料の場合は、線速25m/s、35m/sにおけるオーバーライトが不可能である。
【0019】
【発明の効果】
本発明によれば、DVD−ROMと同容量で、記録線速が3.5m/s〜35m/sという広い範囲において十分な変調度を確保でき、オーバーライトの繰り返し特性が良好で保存信頼性に優れた相変化型光記録媒体を提供でき、光情報記録分野に寄与するところは極めて大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光記録媒体の構成例を示す断面図である。
【符号の説明】
1 基板
2 第一耐熱保護層
3 記録層
4 第二耐熱保護層
5 反射層

Claims (4)

  1. 基板上に少なくとも第一耐熱保護層、記録層、第二耐熱保護層、反射層をこの順に或いは逆順に有し、電磁波の照射により記録層に可逆的な相変化を生じ、その光学的な変化を利用して情報の記録、再生、消去及び書き換えが行われる相変化型光記録媒体において、記録材料がGa、Sb、Sn、Coから成り、記録線速3.5m/s〜35m/sの広い範囲で記録再生可能である事を特徴とする光記録媒体。
  2. 記録材料の組成式をGaαSbβSnγCoδとする時(但し、α、β、γ、δは原子%、α+β+γ+δ=100)、α、β、γ、δが次の条件を満たす事を特徴とする請求項1記載の光記録媒体。
    3≦α≦52
    42≦β≦92
    3≦γ≦25
    0.1≦δ≦2
  3. 記録材料に、Ag、Cu、In、Ge、C、Bの中から選ばれる一つの元素が添加されている事を特徴とする請求項1又は2記載の光記録媒体。
  4. 記録材料に添加される元素の添加量をM(原子%)として、Mが、0.1〜10の範囲にある事を特徴とする請求項3記載の光記録媒体。
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