JP3890374B2 - 4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体及び4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル誘導体の製造法 - Google Patents
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体及び4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル誘導体の製造法 Download PDFInfo
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【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体、及び4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル誘導体の新規な製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般式
【0003】
【化4】
【0004】
(式中、R3はアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキル基を示す。)で表される4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル誘導体は、感熱記録材料の顕色剤等として有用である。かかるモノエーテル誘導体としては、近年の技術進歩に伴い益々高純度のものが要望されている。
【0005】
上記モノエーテル誘導体は、一般に、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンにアルキルハライド等のエーテル化剤を反応させることにより、合成されているが、原料化合物が水酸基を2個有するため該反応で選択的にモノエーテル誘導体を生成せしめることは極めて困難であり、通常は、モノエーテル誘導体以外に、ジエーテル誘導体及び未反応4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンや少量の核置換体等を含む反応混合物として得られる。
【0006】
従って、従来、目的のモノエーテル誘導体を高純度で得るため、上記反応混合物から、溶剤抽出等によって、ジエーテル誘導体を除去して得られるモノエーテル誘導体及び未反応4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを含有する混合物よりモノエーテル誘導体を分離精製する必要があった。かかる分離精製方法としては、カラムクロマトグラフィーによる方法(特開昭58-20493号、特開昭58-82788号)、該混合物の有機溶媒溶液から未反応物のみを炭酸水素塩水溶液に移行させて除去する方法(特開昭60-56949号)、アルコール、ケトン等の有機溶媒を利用した選択抽出による方法(特開平3-258760号)等が公知である。
【0007】
しかしながら、これらの方法には、分離精製の効率が低い、工程が煩雑である、得られる目的物の純度が不十分である、等の種々の欠点がある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル誘導体の製造中間体として有用な新規化合物である4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体、及び該モノエーテル誘導体を高純度、高収率で収得できる新規な製造法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記従来技術の欠点が全くなく、工業的に有利に目的の4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル誘導体を高純度、高収率で製造できる方法の開発を目的として、鋭意研究した。
【0010】
その結果、新規化合物である特定の4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体を、水素化分解することにより、目的の4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル誘導体を高純度、高収率で収得できることを見出し、かかる知見に基づき本発明を完成するに至った。
【0011】
即ち、本発明は、一般式
【0012】
【化5】
【0013】
(式中、R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、メチル基又はエチル基を示す。R3は前記に同じ。)で表される4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体、並びに、
上記一般式(I)で表される4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体を、水素化分解することを特徴とする上記一般式(II)で表される4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル誘導体の製造法に係る。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明において、R3で示されるアルキル基としては、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ドデシル、オクタデシル基等の炭素数1〜20のアルキル基を挙げることができる。R3で示されるアルケニル基としては、例えばプロペニル、ビニル基等を挙げることができる。また、R3で示されるシクロアルキル基としては、例えばシクロヘキシル、シクロペンチル基等を挙げることができる。
【0015】
本発明の一般式(I)で表される4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体は、文献未載の新規化合物であり、一般式(II)で表される4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル誘導体の製造中間体として、有用である。
【0016】
一般式(I)の4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体は、公知の化合物である4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノベンジルエーテル誘導体(ベンジル基の環上にメチル基及びエチル基のいずれか又は双方を1個又は2個有する場合を含む)から容易に得ることができる。例えば、本願人による特公平3-77186号の方法に従って4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの2個の水酸基の一方のみを効率良くベンジルエーテル化してモノベンジルエーテル誘導体(ベンジル基の環上にメチル基及びエチル基のいずれか又は双方を1個又は2個有する場合を含む)を得、これの他方の水酸基を更にエーテル化してR3基を導入することにより、好適に得られる。
【0017】
上記モノベンジルエーテル誘導体の水酸基のエーテル化は、該誘導体に、式 R3X(式中、R3は前記に同じ、Xは塩素、臭素、沃素等のハロゲン原子を示す。)で表されるハロゲン化物、式 (R3)2SO4(式中、R3は前記に同じ。)で表される硫酸エステル、式 R4−SO2−O−R3(式中、R4は、メチル、エチル基等の低級アルキル基、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル基等の低級フルオロアルキル基、又はトリル、フェニル基等のアリール基を示す。R3は前記に同じ。)で表されるスルホン酸エステル等を反応させることにより、行うことができる。また、通常、反応で副生する酸の中和剤として、アルカリを使用するが、その中でも炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等が好ましい。
【0018】
上記エーテル化反応は、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒等の少なくとも一種の溶媒を用いるか、又は水−水非混和性有機溶媒と相間移動触媒を用いることにより、好適に行うことができる。
【0019】
上記水非混和性有機溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、オクタン、デカン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、クロルベンゼン、ジクロルベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒等を挙げることができ、これらの少なくとも一種を用いる。また、相間移動触媒としては、例えばテトラブチルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムクロライド等の4級ホスホニウム塩、18−クラウン−6等のクラウンエーテル類、PEG−2000等のポリエチレングリコール類等を挙げることができ、これらの少なくとも一種を用いる。
【0020】
上記エーテル化反応は、通常の条件下、例えば20〜250℃程度、好ましくは50〜150℃程度の温度、1〜50時間程度、好ましくは1〜15時間程度の時間で、常圧下、減圧下又は加圧下で、行うことができる。また、必要に応じて、反応に先立ち又は反応中に、共沸による脱水操作を行っても良い。
【0021】
かくして一般式(I)の4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体が得られる。
【0022】
本発明製造法は、一般式(I)の4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体を、水素化分解して目的の前記一般式(II)の4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル誘導体を得るものである。
【0023】
上記水素化分解反応は、通常のベンジルエーテル類の水素化分解反応と同様に、一般式(I)のジエーテル誘導体を溶媒に溶解又は懸濁し、触媒の存在下に水素ガスで還元することにより、行うことができる。
【0024】
溶媒としては、反応に支障を及ぼさないものであれば良く、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の極性溶媒、水等の溶媒を挙げることができ、これらの少なくとも一種を用いる。これらの内、目的物を溶解するものが、目的物の触媒からの分離を容易にする観点から好ましく、具体的には、アルコール系溶媒等が好ましい。
【0025】
溶媒に対する原料化合物の使用量は、特に限定されず、通常、溶媒に対して1〜100重量%程度、好ましくは5〜50重量%程度であるのが良い。
【0026】
触媒としては、ラネーニッケル、パラジウム−カーボン、白金黒等の水素還元用の一般的な触媒をいずれも使用できる。触媒の使用量も、一般的な量で良く、通常、原料化合物に対して20重量%以下好ましくは5重量%以下で用いられ、反応時間が著しく長くならない範囲でできるだけ少ない量にするのがコスト的に望ましい。
【0027】
水素圧力も、特に限定されないが、通常、常圧乃至10kg/cm2程度の範囲で適宜設定すれば良い。
【0028】
反応条件は、触媒の種類、使用量、原料化合物の使用量、水素圧力等により変動するが、通常、0〜200℃程度、好ましくは常温〜100℃程度の温度で、1〜20時間程度、好ましくは1〜10時間程度で反応が終了する。
【0029】
反応容器としては、水素を漏洩しないもので撹拌ができるものであれば良く、通常、オートクレーブ等を使用する。
【0030】
生成した目的物の分離は、通常、固液分離操作で固体の触媒を分離し、反応溶媒を溜去することにより、容易に行える。反応溶媒に生成物が溶解しない場合は、適宜他の溶媒を加えた後同様の操作を行うか、又はアルカリ水で目的物を抽出すれば良く、又触媒との分離が困難な場合は、酸等により触媒を分解・水溶化して除去後同様の操作を行えば良い。
【0031】
かくして、目的の前記一般式(II)の4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル誘導体を、通常、95重量%以上の高純度且つ95%以上の高収率で収得することができる。
【0032】
【実施例】
以下に実施例を挙げて、本発明をより一層明らかにする。
【0033】
参考例1
特公平3-77186号の方法に従って、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンのモノベンジルエーテル誘導体を調製した。
【0034】
即ち、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン250.3g(1.000mol)を、苛性ソーダ40.8g(1.020mol)を含有する2.5リットルの水に60℃で溶解せしめた後、同温度で塩化ベンジル126.6g(1.000mol)を8時間を要して滴下した。更に、同温度で4時間保温後40℃まで冷却し、析出した4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンを濾別して得た。融点は166.0〜169.0℃、収量は313.0g(0.920mol)、出発物質からの収率は92.0%、HPLCによる純度は97%であった。
【0035】
実施例1
参考例1で得た4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン34.0g(0.100mol)、炭酸カリウム13.8g(0.100mol)及びN,N−ジメチルホルムアミド150mlの混合物に、イソプロピルブロマイド18.6g(0.151mol)を加え、120℃で5時間反応させた。反応混合物を水150mlに投入し、析出した結晶を濾取、水洗、乾燥して、4−イソプロピルオキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン38.0g(0.099mol)を得た。融点は146.0〜148.0℃、収率は99.0%、HPLCによる純度は99%であった。
【0036】
上記で得た4−イソプロピルオキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン20.0g(0.052mol)、5%−パラジウム−カーボン1.0g及びメタノール200mlを、オートクレーブに装入し、30℃、撹拌下に、水素圧力2kg/cm2で還元反応を行ったところ、2時間で水素吸収が停止した。反応混合物から触媒を濾別し、溶媒を溜去して、目的の4−イソプロピルオキシ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホン15.3g(0.052mol)を得た。融点は128.0〜130.0℃、収率は100%、HPLCによる純度は99%であった。
【0037】
実施例2
参考例1で得た4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン34.0g(0.100mol)、炭酸カリウム13.8g(0.100mol)及びN,N−ジメチルホルムアミド135mlの混合物に、n−オクチルブロマイド21.3g(0.110mol)を加え、110℃で4時間反応させた。反応混合物を水150mlに投入し、析出した結晶を濾取、水洗、乾燥して、4−n−オクチルオキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン44.8g(0.099mol)を得た。融点は132.0〜134.0℃、収率は99.0%、HPLCによる純度は99%であった。
【0038】
上記で得た4−n−オクチルオキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン30.0g(0.066mol)、ラネーニッケル2.0g及びメタノール180mlを、オートクレーブに装入し、30℃、撹拌下に、水素圧力1kg/cm2で還元反応を行ったところ、8時間で水素吸収が停止した。反応混合物から触媒を濾別し、溶媒を溜去して、目的の4−n−オクチルオキシ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホン23.7g(0.065mol)を得た。融点は58.0〜61.0℃、収率は98.5%、HPLCによる純度は99%であった。
【0039】
実施例3
参考例1で得た4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン34.0g(0.100mol)、炭酸カリウム13.8g(0.100mol)及びN−メチル−2−ピロリドン100mlの混合物に、n−ヘキシルブロマイド19.8g(0.120mol)を加え、120℃で5時間反応させた。反応混合物を水150mlに投入し、析出した結晶を濾取、水洗、乾燥して、4−n−ヘキシルオキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン42.0g(0.099mol)を得た。融点は145.0〜147.0℃、収率は99.0%、HPLCによる純度は99%であった。
【0040】
上記で得た4−n−ヘキシルオキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン40.0g(0.094mol)、ラネーニッケル1.0g及びメタノール150mlを、オートクレーブに装入し、50℃、撹拌下に、水素圧力5kg/cm2で還元反応を行ったところ、4時間で水素吸収が停止した。反応混合物から触媒を濾別し、溶媒を溜去して、目的の4−n−ヘキシルオキシ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホン31.3g(0.094mol)を得た。融点は77.0〜79.0℃、収率は100%、HPLCによる純度は99%であった。
【0041】
実施例4
参考例1で得た4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン34.0g(0.100mol)、炭酸カリウム13.8g(0.100mol)及びN−メチル−2−ピロリドン100mlの混合物に、アリルブロマイド14.5g(0.120mol)を加え、120℃で1.5時間反応させた。反応混合物を水400mlに投入し、析出した結晶を濾取、水洗、乾燥して、4−アリルオキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン34.8g(0.091mol)を得た。融点は152.0〜152.5℃、収率は91.0%、HPLCによる純度は98%であった。
【0042】
上記で得た4−アリルオキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン30.0g(0.078mol)、ラネーニッケル1.0g及びメタノール150mlを、オートクレーブに装入し、50℃、撹拌下に、水素圧力5kg/cm2で還元反応を行ったところ、4時間で水素吸収が停止した。反応混合物から触媒を濾別し、溶媒を溜去して、目的の4−アリルオキシ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホン22.6g(0.077mol)を得た。融点は172.5〜175.5℃、収率は98.7%、HPLCによる純度は99%であった。
【0043】
実施例5
参考例1で得た4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン34.0g(0.100mol)、炭酸カリウム13.8g(0.100mol)及びN−メチル−2−ピロリドン120mlの混合物に、シクロヘキシルアイオダイド25.2g(0.120mol)を加え、120℃で5時間反応させた。反応混合物を水400mlに投入し、析出した結晶を濾取、水洗、乾燥して、4−シクロヘキシルオキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン27.4g(0.065mol)を得た。融点は154.5〜156.0℃、収率は65.0%、HPLCによる純度は96%であった。
【0044】
上記で得た4−シクロヘキシルオキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホン20.0g(0.047mol)、ラネーニッケル1.0g及びメタノール150mlを、オートクレーブに装入し、50℃、撹拌下に、水素圧力5kg/cm2で還元反応を行ったところ、4時間で水素吸収が停止した。反応混合物から触媒を濾別し、溶媒を溜去して、目的の4−シクロヘキシルオキシ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホン15.6g(0.047mol)を得た。融点は127.5〜129.5℃、収率は100%、HPLCによる純度は97%であった。
【0045】
【発明の効果】
本発明法によれば、簡便な工程で且つ煩雑な分離精製操作をすることなく、一般式(II)の4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル誘導体を、高純度、高収率で、工業的に有利に製造できるという格別な効果が奏される。
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