JP3882784B2 - ポリマー光導波路及び光学装置 - Google Patents
ポリマー光導波路及び光学装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3882784B2 JP3882784B2 JP2003151594A JP2003151594A JP3882784B2 JP 3882784 B2 JP3882784 B2 JP 3882784B2 JP 2003151594 A JP2003151594 A JP 2003151594A JP 2003151594 A JP2003151594 A JP 2003151594A JP 3882784 B2 JP3882784 B2 JP 3882784B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- optical waveguide
- clad layer
- radiation curable
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/138—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by using polymerisation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
- G02B6/1221—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths made from organic materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光導波路の構成要素である上部クラッド層の全面がカバー部材で被覆されたポリマー光導波路に関し、より詳細には、該上部クラッド層と該カバー部材が放射線硬化型接着剤により接着されたポリマー光導波路に関する。
【０００２】
【従来の技術】
マルチメディア時代を迎え、光通信システムやコンピュータにおける情報処理の大容量化および高速化の要求から、光の伝送媒体として光導波路が注目されている。このような目的で使用される光導波路は、伝送損失、偏波依存性などの光学特性が良好なことに加え、その性能が外部環境に影響せず長期に安定していること、また、微細かつ複雑な形状の光導波路を環境汚染することなく、低エネルギー、短時間、少ない工程で歩留まりよく製造することが望まれている。
従来の光導波路としては、石英系導波路が代表的であったが、その製造には、石英膜を堆積する為に高温で長時間の処理が必要であり、導波路のパターン形成には光レジストを用いる工程と危険性の高いガスを用いてエッチングする工程が含まれることから特殊な装置が必要である等の事情により、多数の複雑な工程と特殊な装置を用いても製造時間が長くかかり、かつ歩留まりも低いなどの問題を有している。
これらの問題に対して、光導波路の製造時間の短縮、工程数の削減、歩留まりの向上などの生産性の向上を目的に、コア部とクラッド部の材料として液状の硬化性組成物を用いるポリマー光導波路が近年幾つか提案されている（特許文献１〜３を参照）。
【０００３】
しかし、ポリマー光導波路は、従来の石英系光導波路と比較して工程の簡略化や作製時間の短縮化などからコストメリットが大きい反面、ポリマー材料は無機材料に比較すると吸湿性等関して特性が悪いことが問題であった。上部クラッド層を介して外気から吸湿すると、光導波路の伝送特性にも悪影響があることが知られている。
一方、石英系光導波路に関しては、クラッド層の一部に光学フィルタを固定した樹脂製接着剤の吸湿を防止するため、該接着個所を石英板等により封止する技術が知られているが、ポリマー光導波路のクラッド層自体による吸湿性を充分防止できるものではなかった（特許文献４及び５を参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平０６−１０９９３６号公報
【特許文献２】
特開平１０−２５４１４０号公報
【特許文献３】
特開２０００−１８０６４３号公報
【特許文献４】
特開平９−６１５１５１号公報
【特許文献５】
特開平１１−５２１５０号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
以上述べた従来技術の課題を解決することを目的に鋭意検討した結果、本願発明者らは、本発明に示すポリマー光導波路の発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、基板上に設けられた下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層と、該上部クラッド層の全面を覆うカバー部材とを有するポリマー光導波路であって、前記カバー部材が、石英又はガラスのシートからなり、前記下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層が、放射線硬化性組成物の硬化物からなり、かつ、前記上部クラッド層と前記カバー部材とが、放射線硬化型接着剤からなる接着剤層を介して固着されているポリマー光導波路により、該上部クラッド層を介した吸湿を防止し、厳しい環境条件下でも材料の吸湿による特性の変化や、基板との密着性の低下を抑制し、信頼性試験の前後で光学特性が劣化せず、十分な信頼性が確保でき、安定した伝送特性を得ることのできるポリマー光導波路を提供するものである。
【０００６】
なお、本発明における光学装置とは、基板として、ガラス、石英等の無機材料、シリコン、ガリウムヒ素、アルミニウム、チタン等の半導体や金属材料、ポリイミド、ポリアミド等の高分子材料、または、これらの材料を複合化した材料を用いて、これらの基板上に、光導波路、光合波器、光分波器、光合分波器、光回折器、光増幅器、光減衰器、光干渉器、光フィルター、光スイッチ、波長変換器、発光素子、受光素子あるいは、これらが複合されたものを指す。また、これら基板上には発光ダイオード、フォトダイオード等の半導体装置や電極等の金属膜が形成されることもあり、さらには、基板の保護や基板の屈折率制御のために、基板上に酸化シリコン、窒化シリコン、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化タンタル等の被膜が形成されることもある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、以下のとおりである。
（１） 基板上に設けられた下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層と、該上部クラッド層の全面を覆うカバー部材とを有するポリマー光導波路であって、前記カバー部材が、石英又はガラスのシートからなり、前記下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層が、放射線硬化性組成物の硬化物からなり、かつ、前記上部クラッド層と前記カバー部材とが、放射線硬化型接着剤からなる接着剤層を介して固着されていることを特徴とするポリマー光導波路。
（２） 前記（１）に記載のポリマー光導波路の製造方法であって、基板上に、放射線硬化性組成物を用いて、下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層を形成する工程と、前記上部クラッド層の上に放射線硬化型接着剤を滴下する工程と、前記上部クラッド層の上に前記放射線硬化型接着剤を介在させて、前記上部クラッド層の全面を覆う、石英又はガラスのシートからなるカバー部材を置き、治具で固定する工程と、前記基板ごと回転させて、前記放射線硬化型接着剤からなる均一な接着剤層を形成させる工程と、前記接着剤層に放射線を照射して、ポリマー光導波路を完成させる工程を含むことを特徴とするポリマー光導波路の製造方法。
（３） 前記下部クラッド層、コア層、上部クラッド層及び接着剤層を、スピンコート法により形成する前記（２）のポリマー光導波路の製造方法。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施形態を具体的に説明する。本発明にいうポリマー導波路とは、下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層が放射線硬化性組成物の硬化物の樹脂により形成された光導波路をいう。
本発明のポリマー光導波路のコア層やクラッド層を形成する放射線硬化性組成物は特に限定されるものではないが、例えば、光学特性及び、直接露光が可能である点から、感光性ポリシロキサンを含有する放射線硬化性組成物が挙げられる。シロキサン系ポリマーにより光導波路のコア部およびクラッド部を形成すると、シロキサン結合を主骨格に持つことによる優れた耐熱性を有するポリマー光導波路が得られる。
また、本発明の放射線硬化性組成物としてはポリシロキサン系組成物以外にも、感光性アクリルモノマーや感光性エポキシモノマーを主体とする放射線硬化性組成物でもよい。
【０００９】
本発明におけるカバー部材の材質は、透湿性の低い材料であり、低線膨張率および、強度等の観点から石英やガラスのシートが好ましい。
【００１０】
本発明における上部クラッド層とカバー部材を接着する接着剤としては、生産性、室温硬化性の点で放射線硬化型接着剤が用いられる。放射線硬化型接着剤としては、特に限定されるものではないが、アクリル系・エポキシ系、シリコーン系等のものであることが好ましい。このような放射線硬化型接着剤の具体例な市販品としては、ＮＯＡ６０・ＮＯＡ６５・ＮＯＡ８１（ＮＯＲＬＡＮＤ社製）、ＯＧ１１４-４・ＯＧ１４６（ＥＰＯ−ＴＥＫ社製）、スリーボンド３１６０・スリーボンド３１７０Ｂ（スリーボンド社製）、ＡＴ３９２５Ｍ・ＡＴ９５７５Ｍ（ＮＴＴアドバンステクノロジ社製）、ＥＬＣ２７１０・ＥＬＣ２５００ｃｌｅａｒ（エレクトロライト社製）等を挙げることができる。
【００１１】
［光導波路の形成］
光硬化による光導波路の製造を説明する。
１．光導波路形成用放射線硬化性組成物の調製
光導波路を構成するクラッド層を形成するための光導波路形成用の組成物は、前述したポリシロキサン成分と感光性化合物を含む放射線硬化性組成物を用いてもよく、また、熱、光硬化性の組成物を用いても良い。
調製された下層用組成物、コア用組成物および上層用組成物としては、それぞれ、最終的に得られる各部の屈折率の関係が、光導波路に要求される条件を満足するように、例えば、コア径が５〜１０μｍで、コア層とクラッド層の比屈折率差が０．２〜０．６％となるように選ぶことができる。
シロキサン成分の原料である加水分解性シラン化合物の種類等を適宜選択することにより、異なる屈折率を有する硬化膜が得られる光導波路形成用放射線硬化性組成物とすることができる。そして、屈折率の差が適宜の大きさとなるような二種または三種の光導波路形成用放射線硬化性組成物を用い、最も高い屈折率の硬化膜を与える光導波路形成用放射線硬化性組成物をコア用組成物とし、他の組成物を下層用組成物および上層用組成物として用いることが好ましい。
【００１２】
ただし、クラッド層用組成物である下層用組成物および上層用組成物は、同一の光導波路形成用組成物であってもよく、通常は同一の組成物であることが、経済的に有利であり、製造管理も容易となることからより好ましい。
また、クラッド用光導波路形成用組成物を調製する際に、その粘度を、１００〜１０，０００ｃｐｓ（２５℃）の範囲内の値とすることが好ましく、１００〜８，０００ｃｐｓ（２５℃）の範囲内の値とすることがより好ましく、３００〜３，０００ｃｐｓ（２５℃）の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
この理由は、各光導波路形成用組成物の粘度がこれらの範囲外の値となると、取り扱いが困難になったり、均一な塗膜を形成することが困難となる場合があるためである。
なお、光導波路形成用組成物の粘度は、反応性希釈剤や有機溶媒の配合量によって、適宜調整することができる。
【００１３】
２．形成方法
以下に、本発明の放射線硬化性組成物を使用した湿式リソグラフィー法による光導波路の製造工程を、いわゆるチャンネル型光導波路の例を用いて説明する。ただし、本発明における光導波路の構造は、特に限定されるものではない。
光導波路を構成する下部クラッド層、コア層および上部クラッド層は、それらの層を形成するための光導波路形成用組成物を塗工したのち、熱硬化もしくは光硬化することにより形成される。
なお、以下の形成例では、下部クラッド層、コア部分（コア層）および上部クラッド層を、それぞれ硬化後において屈折率が異なる硬化物が得られる光導波路形成用組成物である下層用組成物、コア用組成物、および上層用組成物から形成することを想定して、説明する。
【００１４】
本発明の光導波路中の下部クラッド層、コア層、上部クラッド層を形成する硬化性組成物を塗布する方法について説明する。塗布方法は硬化膜の表面が均一であれば特に制限を受けなく、スピンコート法、スプレー法、ロールコート法、インクジェット法などの方法を用いることができるが、この中では半導体業界で高精度の工業的塗布技術として採用されているスピンコート法が好ましい。
スピンコートの条件は０℃〜１００℃の範囲で１０〜１０００回転／分で１〜６０秒で実施される液状組成物を基板に均一に塗布する第１の工程と高速回転により一定膜厚を形成する第２の工程からなる。表面粗さを制御する為には第２の工程が支配的であり、また、硬化性の液状組成物の粘度に対応した条件が選定される。硬化性の液状組成物の粘度が１００〜３０００ｃｐｓの場合、好ましくは、５００〜５０００回転／分で３０〜１００秒で実施され、粘度が３０００〜１００００ｃｐｓの場合、１０００〜８０００回転／分で６０〜３００秒で実施される。
【００１５】
（１）基板の準備
まず、平坦な表面を有する基板を用意する。
（２）下部クラッド層の形成工程
用意した基板の表面に、下部クラッド層を形成する工程である。具体的には、基板の表面に、下層用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークさせて下層用薄膜を形成する。そして、この下層用薄膜を加熱もしくは、光を照射することにより硬化させて、下部クラッド層を形成することができる。
【００１６】
コア層及びクラッド層の形成に用いる加熱温度は特に制限されないが通常５０℃〜３００℃の範囲で１分〜２４時間で実施される。また、光は、特に制限されるものでは無いが、通常２００〜４５０ｎｍの紫外〜可視領域の光、好ましくは波長３６５ｎｍの紫外線を含む光が用いられる。２００〜４５０ｎｍでの照度は１〜１０００ｍＷ／ｃｍ２、照射量が０．０１〜５０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは０．１〜１０００ｍＪ／ｃｍ２ となるように照射して、露光される。
【００１７】
ここに、照射される放射線の種類としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線、電子線等を用いることができるが、光源の工業的な汎用性から特に紫外線、好ましくは２００〜４００ｎｍ、特に好ましくは３６５ｎｍの紫外線を含む波長が好ましい。そして、照射装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプなどの広い面積を同時に照射するランプ光源、パルス、連続発光のレーザー光源、及び、両者のいずれかの光源から、ミラー、レンズ、光ファイバーを用いて収束光を生じさせるものを用いることができる。収束光を用いて光導波路を形成する場合、収束光もしくは被照射体を移動させることにより光導波路の形状に露光することができる。これらの光源の中で３６５ｎｍの紫外線強度の高い光源が好ましく、例えば、ランプ光源としては高圧水銀ランプ、レーザー光源としてはアルゴンレーザーが好ましい。なお、下部クラッド層の形成工程では、薄膜の全面に光を照射し、その全体を硬化することが好ましい。
【００１８】
また、塗布組成物のレオロジー特性を塗布方法に適切に対応したものとするために、表面張力低下剤以外の添加剤を必要に応じて配合することができる。また、下部クラッド層用組成物からなる膜は、塗布後、５０〜２００℃でプリベークすることが好ましい。
なお、下部クラッド層の形成工程における塗布方法や、レオロジー特性の改良等については、後述するコア部分の形成工程や、上部クラッド層の形成工程においてもあてはまる内容である。
【００１９】
また、露光後に、塗膜全面が十分硬化するように、さらに加熱処理（以下、「ポストベーク」という。）を行うことが好ましい。この加熱条件は、光導波路形成用組成物の配合組成、添加剤の種類等により変わるが、通常、３０〜４００℃、好ましくは５０〜３００℃で、例えば５分間〜７２時間の加熱条件とすれば良い。
なお、下部クラッド層の形成工程における光の照射量、種類、および照射装置等については、後述するコア部分の形成工程や、上部クラッド層の形成工程においてもあてはまる内容である。
【００２０】
（３）コア部分（コア層）の形成
次に、この下部クラッド層上にコア用組成物を塗布し、乾燥またはさらにプリベークさせてコア用薄膜を形成する。
その後、コア用薄膜の上面に対して、所定のパターンに従って、例えば所定のラインパターンを有するフォトマスクを介して光の照射を行うことが好ましい。
これにより、光が照射された箇所のみが硬化するので、それ以外の未硬化の部分を現像除去することにより、下部クラッド層上に、パターニングされた硬化膜よりなるコア部分を形成することができる。
また、コア部分を形成するためのコア用薄膜に対する光の照射を、所定のパターンを有するフォトマスクに従って行った後、現像液により未露光部分を現像することにより、未硬化の不要な部分が除去され、これによってコア部分が形成される。
【００２１】
このように所定のパターンに従って光の照射を行う方法としては、光の透過部と非透過部とからなるフォトマスクを用いる方法に限られず、例えば、以下に示すａ〜ｃの方法が挙げられる。
ａ．液晶表示装置と同様の原理を利用した、所定のパターンに従って光透過領域と不透過領域とよりなるマスク像を電気光学的に形成する手段を利用する方法。
ｂ．多数の光ファイバーを束ねてなる導光部材を用い、この導光部材における所定のパターンに対応する光ファイバーを介して光を照射する方法。
ｃ．レーザ光、あるいはレンズ、ミラー等の集光性光学系により得られる収束光を走査させながら組成物に照射する方法。
【００２２】
なお、露光後、露光部分の硬化を促進させるために、加熱処理（以下、「ＰＥＢ」という。）を行うことが好ましい。その加熱条件は、光導波路形成用組成物の配合組成、添加剤の種類等により変わるが、通常、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃である。
一方、露光前に、光導波路形成用組成物からなる塗膜を、室温条件に、１〜１０時間放置するだけで、コア部分の形状を半円形とすることができる。したがって、半円形のコア部分を得たい場合には、このように露光前に、室温条件に、数時間放置することが好ましい。
【００２３】
このようにして所定のパターンに従ってパターン露光し、選択的に硬化させた薄膜に対しては、硬化部分と未硬化部分との溶解性の差異を利用して、現像処理することができる。したがって、パターン露光後、未硬化部分を除去するとともに、硬化部分を残存させることにより、結果として、コア部分を形成することができる。
ここで、現像液としては、水酸化ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、などの塩基性物質と水、メタノール、エタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アセトンなどの溶媒で希釈された溶液を用いることができる。
また、現像液中の塩基性物質の濃度を、通常０．０５〜２５重量％、好ましくは０．１〜３．０重量％の範囲内の値とすることが好ましい。
【００２４】
また、現像時間は、通常３０〜６００秒間であり、また現像方法は液盛り法、ディッピング法、シャワー現像法などの公知の方法を採用することができる。
現像液として有機溶媒を用いた場合はそのまま風乾することにより、また、アルカリ水溶液を用いた場合には流水洗浄を、例えば３０〜９０秒間行い、圧縮空気や圧縮窒素等で風乾させることによって表面上の水分を除去することにより、パターン状被膜が形成される。
【００２５】
次いで、パターニング部をさらに硬化させるために、ホットプレートやオーブンなどの加熱装置により、例えば３０〜４００℃の温度で５〜６００分間ポストベーク処理すれば、硬化されたコア部分が形成されることになる。
また、酸拡散制御剤をコア、クラッドの両層に添加する場合、酸拡散制御剤の含有量はコア層の濃度が高いように設定することが好ましい。クラッド層をパターニングする必要のない場合はクラッド層に酸拡散制御剤を添加しなくてもよい。
このように構成することにより、コア部分のパターン精度をより向上させることができる一方、下部クラッド層用組成物や上部クラッド層用組成物では、優れた保存安定性が得られるとともに、比較的少ない光照射量で、十分に硬化させることができる。
【００２６】
（４）上部クラッド層の形成
次いで、コア部分が形成された下部クラッド層の表面に、上層用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークさせて上層用薄膜を形成する。この上層用薄膜に対し、光を照射して硬化させることにより、上部クラッド層を形成することができる。
また、光の照射によって得られる上部クラッド層は、必要に応じて、さらに上述したポストベークすることが好ましい。ポストベークすることにより、硬度および耐熱性に優れた上部クラッド層を得ることができる。
（５）カバー部材の接着
作製した光導波路基板をスピンコーター上に固定し、光導波路の上部クラッド層上に接着剤を滴下し、カバー部材を置き、カバー部材の位置がずれないよう治具で固定する。続いて、スピンコート法と同様の手順で光導波路基板ごと回転させる。回転速度と回転時間を制御することで、均一な接着剤層を有するカバー部材封止光導波路基板が得られる。なお、上部クラッド層の全面をカバー部材で被覆することが好ましい。
【００２７】
【実施例】
以下の実施例においては基材としてシリコンウエハーを用いた。光導波路の形成手順については前述した手順に従い実施した。本実施例においては下部クラッド層及び上部クラッド層用の放射線硬化性組成物としてＰＪ５０２５（ＪＳＲ（株）製）を、コア層用の放射線硬化性組成物としてＰＪ５０２４（ＪＳＲ（株）製）を用いた。表１の実施例（）においては、クラッド層を熱硬化により形成した。それ以外の実施例ならびに比較例では光硬化によりクラッド層を硬化した。コア層はマスクを用いた露光により直線光導波路パターンを形成した。下部クラッド層の厚みは１５μｍ、コア層の厚みは８μｍ、幅は８μｍ、長さ６ｃｍ、コア間のスペースは２０μｍ、上部クラッド層の厚みは１５μｍになるように実施した。また、シングルモード光導波路の設計としてコア層の屈折率がクラッド層の屈折率の１．００３倍高めになるように組成を設計した。
【００２８】
評価
［光学特性の測定試料］
光学装置用の光導波路基板として４インチシリコンウェハに作製した8μm×8μm角のコアを有する直線光導波路を用意した。続いて、この基板上に各種の接着剤と100μｍ厚のガラス板を用いて固着し、ダイシングにより、光導波路長を10mmとするサンプルを作製した。
［冷熱衝撃試験による光学特性変化］
初期値の挿入損失を測定後、同一サンプルを−４０℃３０分放置後に８５℃３０分放置するヒートサイクルで５００サイクル冷熱処理した後に、直線光導波路の挿入損失を測定し、冷熱処理前後における挿入損失の変化量を測定した。挿入損失の変化量が1ｄB以上のものは×、1ｄB以内のものは○とした。
［恒温恒湿試験による光学特性変化］
初期値の挿入損失を測定後、同一サンプルを恒温恒湿（８５℃、相対湿度８５％）の環境に２０００時間放置した後に、直線光導波路の挿入損失を測定し、恒温恒湿処理前後における挿入損失の変化量を測定した。挿入損失の変化量が1ｄB以上のものは×、1ｄB以内のものは○とした。
【００２９】
【表１】
【００３０】
【発明の効果】
本発明によれば、厳しい環境条件下でも材料の吸湿による特性の変化や、基板との密着性の低下を抑制し、信頼性試験の前後で光学特性が劣化せず、十分な信頼性が確保できるとともに、作業性も良好な光導波路及び光学装置を提供することができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、光導波路の構成要素である上部クラッド層の全面がカバー部材で被覆されたポリマー光導波路に関し、より詳細には、該上部クラッド層と該カバー部材が放射線硬化型接着剤により接着されたポリマー光導波路に関する。
【０００２】
【従来の技術】
マルチメディア時代を迎え、光通信システムやコンピュータにおける情報処理の大容量化および高速化の要求から、光の伝送媒体として光導波路が注目されている。このような目的で使用される光導波路は、伝送損失、偏波依存性などの光学特性が良好なことに加え、その性能が外部環境に影響せず長期に安定していること、また、微細かつ複雑な形状の光導波路を環境汚染することなく、低エネルギー、短時間、少ない工程で歩留まりよく製造することが望まれている。
従来の光導波路としては、石英系導波路が代表的であったが、その製造には、石英膜を堆積する為に高温で長時間の処理が必要であり、導波路のパターン形成には光レジストを用いる工程と危険性の高いガスを用いてエッチングする工程が含まれることから特殊な装置が必要である等の事情により、多数の複雑な工程と特殊な装置を用いても製造時間が長くかかり、かつ歩留まりも低いなどの問題を有している。
これらの問題に対して、光導波路の製造時間の短縮、工程数の削減、歩留まりの向上などの生産性の向上を目的に、コア部とクラッド部の材料として液状の硬化性組成物を用いるポリマー光導波路が近年幾つか提案されている（特許文献１〜３を参照）。
【０００３】
しかし、ポリマー光導波路は、従来の石英系光導波路と比較して工程の簡略化や作製時間の短縮化などからコストメリットが大きい反面、ポリマー材料は無機材料に比較すると吸湿性等関して特性が悪いことが問題であった。上部クラッド層を介して外気から吸湿すると、光導波路の伝送特性にも悪影響があることが知られている。
一方、石英系光導波路に関しては、クラッド層の一部に光学フィルタを固定した樹脂製接着剤の吸湿を防止するため、該接着個所を石英板等により封止する技術が知られているが、ポリマー光導波路のクラッド層自体による吸湿性を充分防止できるものではなかった（特許文献４及び５を参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平０６−１０９９３６号公報
【特許文献２】
特開平１０−２５４１４０号公報
【特許文献３】
特開２０００−１８０６４３号公報
【特許文献４】
特開平９−６１５１５１号公報
【特許文献５】
特開平１１−５２１５０号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
以上述べた従来技術の課題を解決することを目的に鋭意検討した結果、本願発明者らは、本発明に示すポリマー光導波路の発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、基板上に設けられた下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層と、該上部クラッド層の全面を覆うカバー部材とを有するポリマー光導波路であって、前記カバー部材が、石英又はガラスのシートからなり、前記下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層が、放射線硬化性組成物の硬化物からなり、かつ、前記上部クラッド層と前記カバー部材とが、放射線硬化型接着剤からなる接着剤層を介して固着されているポリマー光導波路により、該上部クラッド層を介した吸湿を防止し、厳しい環境条件下でも材料の吸湿による特性の変化や、基板との密着性の低下を抑制し、信頼性試験の前後で光学特性が劣化せず、十分な信頼性が確保でき、安定した伝送特性を得ることのできるポリマー光導波路を提供するものである。
【０００６】
なお、本発明における光学装置とは、基板として、ガラス、石英等の無機材料、シリコン、ガリウムヒ素、アルミニウム、チタン等の半導体や金属材料、ポリイミド、ポリアミド等の高分子材料、または、これらの材料を複合化した材料を用いて、これらの基板上に、光導波路、光合波器、光分波器、光合分波器、光回折器、光増幅器、光減衰器、光干渉器、光フィルター、光スイッチ、波長変換器、発光素子、受光素子あるいは、これらが複合されたものを指す。また、これら基板上には発光ダイオード、フォトダイオード等の半導体装置や電極等の金属膜が形成されることもあり、さらには、基板の保護や基板の屈折率制御のために、基板上に酸化シリコン、窒化シリコン、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化タンタル等の被膜が形成されることもある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、以下のとおりである。
（１） 基板上に設けられた下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層と、該上部クラッド層の全面を覆うカバー部材とを有するポリマー光導波路であって、前記カバー部材が、石英又はガラスのシートからなり、前記下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層が、放射線硬化性組成物の硬化物からなり、かつ、前記上部クラッド層と前記カバー部材とが、放射線硬化型接着剤からなる接着剤層を介して固着されていることを特徴とするポリマー光導波路。
（２） 前記（１）に記載のポリマー光導波路の製造方法であって、基板上に、放射線硬化性組成物を用いて、下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層を形成する工程と、前記上部クラッド層の上に放射線硬化型接着剤を滴下する工程と、前記上部クラッド層の上に前記放射線硬化型接着剤を介在させて、前記上部クラッド層の全面を覆う、石英又はガラスのシートからなるカバー部材を置き、治具で固定する工程と、前記基板ごと回転させて、前記放射線硬化型接着剤からなる均一な接着剤層を形成させる工程と、前記接着剤層に放射線を照射して、ポリマー光導波路を完成させる工程を含むことを特徴とするポリマー光導波路の製造方法。
（３） 前記下部クラッド層、コア層、上部クラッド層及び接着剤層を、スピンコート法により形成する前記（２）のポリマー光導波路の製造方法。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施形態を具体的に説明する。本発明にいうポリマー導波路とは、下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層が放射線硬化性組成物の硬化物の樹脂により形成された光導波路をいう。
本発明のポリマー光導波路のコア層やクラッド層を形成する放射線硬化性組成物は特に限定されるものではないが、例えば、光学特性及び、直接露光が可能である点から、感光性ポリシロキサンを含有する放射線硬化性組成物が挙げられる。シロキサン系ポリマーにより光導波路のコア部およびクラッド部を形成すると、シロキサン結合を主骨格に持つことによる優れた耐熱性を有するポリマー光導波路が得られる。
また、本発明の放射線硬化性組成物としてはポリシロキサン系組成物以外にも、感光性アクリルモノマーや感光性エポキシモノマーを主体とする放射線硬化性組成物でもよい。
【０００９】
本発明におけるカバー部材の材質は、透湿性の低い材料であり、低線膨張率および、強度等の観点から石英やガラスのシートが好ましい。
【００１０】
本発明における上部クラッド層とカバー部材を接着する接着剤としては、生産性、室温硬化性の点で放射線硬化型接着剤が用いられる。放射線硬化型接着剤としては、特に限定されるものではないが、アクリル系・エポキシ系、シリコーン系等のものであることが好ましい。このような放射線硬化型接着剤の具体例な市販品としては、ＮＯＡ６０・ＮＯＡ６５・ＮＯＡ８１（ＮＯＲＬＡＮＤ社製）、ＯＧ１１４-４・ＯＧ１４６（ＥＰＯ−ＴＥＫ社製）、スリーボンド３１６０・スリーボンド３１７０Ｂ（スリーボンド社製）、ＡＴ３９２５Ｍ・ＡＴ９５７５Ｍ（ＮＴＴアドバンステクノロジ社製）、ＥＬＣ２７１０・ＥＬＣ２５００ｃｌｅａｒ（エレクトロライト社製）等を挙げることができる。
【００１１】
［光導波路の形成］
光硬化による光導波路の製造を説明する。
１．光導波路形成用放射線硬化性組成物の調製
光導波路を構成するクラッド層を形成するための光導波路形成用の組成物は、前述したポリシロキサン成分と感光性化合物を含む放射線硬化性組成物を用いてもよく、また、熱、光硬化性の組成物を用いても良い。
調製された下層用組成物、コア用組成物および上層用組成物としては、それぞれ、最終的に得られる各部の屈折率の関係が、光導波路に要求される条件を満足するように、例えば、コア径が５〜１０μｍで、コア層とクラッド層の比屈折率差が０．２〜０．６％となるように選ぶことができる。
シロキサン成分の原料である加水分解性シラン化合物の種類等を適宜選択することにより、異なる屈折率を有する硬化膜が得られる光導波路形成用放射線硬化性組成物とすることができる。そして、屈折率の差が適宜の大きさとなるような二種または三種の光導波路形成用放射線硬化性組成物を用い、最も高い屈折率の硬化膜を与える光導波路形成用放射線硬化性組成物をコア用組成物とし、他の組成物を下層用組成物および上層用組成物として用いることが好ましい。
【００１２】
ただし、クラッド層用組成物である下層用組成物および上層用組成物は、同一の光導波路形成用組成物であってもよく、通常は同一の組成物であることが、経済的に有利であり、製造管理も容易となることからより好ましい。
また、クラッド用光導波路形成用組成物を調製する際に、その粘度を、１００〜１０，０００ｃｐｓ（２５℃）の範囲内の値とすることが好ましく、１００〜８，０００ｃｐｓ（２５℃）の範囲内の値とすることがより好ましく、３００〜３，０００ｃｐｓ（２５℃）の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
この理由は、各光導波路形成用組成物の粘度がこれらの範囲外の値となると、取り扱いが困難になったり、均一な塗膜を形成することが困難となる場合があるためである。
なお、光導波路形成用組成物の粘度は、反応性希釈剤や有機溶媒の配合量によって、適宜調整することができる。
【００１３】
２．形成方法
以下に、本発明の放射線硬化性組成物を使用した湿式リソグラフィー法による光導波路の製造工程を、いわゆるチャンネル型光導波路の例を用いて説明する。ただし、本発明における光導波路の構造は、特に限定されるものではない。
光導波路を構成する下部クラッド層、コア層および上部クラッド層は、それらの層を形成するための光導波路形成用組成物を塗工したのち、熱硬化もしくは光硬化することにより形成される。
なお、以下の形成例では、下部クラッド層、コア部分（コア層）および上部クラッド層を、それぞれ硬化後において屈折率が異なる硬化物が得られる光導波路形成用組成物である下層用組成物、コア用組成物、および上層用組成物から形成することを想定して、説明する。
【００１４】
本発明の光導波路中の下部クラッド層、コア層、上部クラッド層を形成する硬化性組成物を塗布する方法について説明する。塗布方法は硬化膜の表面が均一であれば特に制限を受けなく、スピンコート法、スプレー法、ロールコート法、インクジェット法などの方法を用いることができるが、この中では半導体業界で高精度の工業的塗布技術として採用されているスピンコート法が好ましい。
スピンコートの条件は０℃〜１００℃の範囲で１０〜１０００回転／分で１〜６０秒で実施される液状組成物を基板に均一に塗布する第１の工程と高速回転により一定膜厚を形成する第２の工程からなる。表面粗さを制御する為には第２の工程が支配的であり、また、硬化性の液状組成物の粘度に対応した条件が選定される。硬化性の液状組成物の粘度が１００〜３０００ｃｐｓの場合、好ましくは、５００〜５０００回転／分で３０〜１００秒で実施され、粘度が３０００〜１００００ｃｐｓの場合、１０００〜８０００回転／分で６０〜３００秒で実施される。
【００１５】
（１）基板の準備
まず、平坦な表面を有する基板を用意する。
（２）下部クラッド層の形成工程
用意した基板の表面に、下部クラッド層を形成する工程である。具体的には、基板の表面に、下層用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークさせて下層用薄膜を形成する。そして、この下層用薄膜を加熱もしくは、光を照射することにより硬化させて、下部クラッド層を形成することができる。
【００１６】
コア層及びクラッド層の形成に用いる加熱温度は特に制限されないが通常５０℃〜３００℃の範囲で１分〜２４時間で実施される。また、光は、特に制限されるものでは無いが、通常２００〜４５０ｎｍの紫外〜可視領域の光、好ましくは波長３６５ｎｍの紫外線を含む光が用いられる。２００〜４５０ｎｍでの照度は１〜１０００ｍＷ／ｃｍ２、照射量が０．０１〜５０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは０．１〜１０００ｍＪ／ｃｍ２ となるように照射して、露光される。
【００１７】
ここに、照射される放射線の種類としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線、電子線等を用いることができるが、光源の工業的な汎用性から特に紫外線、好ましくは２００〜４００ｎｍ、特に好ましくは３６５ｎｍの紫外線を含む波長が好ましい。そして、照射装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプなどの広い面積を同時に照射するランプ光源、パルス、連続発光のレーザー光源、及び、両者のいずれかの光源から、ミラー、レンズ、光ファイバーを用いて収束光を生じさせるものを用いることができる。収束光を用いて光導波路を形成する場合、収束光もしくは被照射体を移動させることにより光導波路の形状に露光することができる。これらの光源の中で３６５ｎｍの紫外線強度の高い光源が好ましく、例えば、ランプ光源としては高圧水銀ランプ、レーザー光源としてはアルゴンレーザーが好ましい。なお、下部クラッド層の形成工程では、薄膜の全面に光を照射し、その全体を硬化することが好ましい。
【００１８】
また、塗布組成物のレオロジー特性を塗布方法に適切に対応したものとするために、表面張力低下剤以外の添加剤を必要に応じて配合することができる。また、下部クラッド層用組成物からなる膜は、塗布後、５０〜２００℃でプリベークすることが好ましい。
なお、下部クラッド層の形成工程における塗布方法や、レオロジー特性の改良等については、後述するコア部分の形成工程や、上部クラッド層の形成工程においてもあてはまる内容である。
【００１９】
また、露光後に、塗膜全面が十分硬化するように、さらに加熱処理（以下、「ポストベーク」という。）を行うことが好ましい。この加熱条件は、光導波路形成用組成物の配合組成、添加剤の種類等により変わるが、通常、３０〜４００℃、好ましくは５０〜３００℃で、例えば５分間〜７２時間の加熱条件とすれば良い。
なお、下部クラッド層の形成工程における光の照射量、種類、および照射装置等については、後述するコア部分の形成工程や、上部クラッド層の形成工程においてもあてはまる内容である。
【００２０】
（３）コア部分（コア層）の形成
次に、この下部クラッド層上にコア用組成物を塗布し、乾燥またはさらにプリベークさせてコア用薄膜を形成する。
その後、コア用薄膜の上面に対して、所定のパターンに従って、例えば所定のラインパターンを有するフォトマスクを介して光の照射を行うことが好ましい。
これにより、光が照射された箇所のみが硬化するので、それ以外の未硬化の部分を現像除去することにより、下部クラッド層上に、パターニングされた硬化膜よりなるコア部分を形成することができる。
また、コア部分を形成するためのコア用薄膜に対する光の照射を、所定のパターンを有するフォトマスクに従って行った後、現像液により未露光部分を現像することにより、未硬化の不要な部分が除去され、これによってコア部分が形成される。
【００２１】
このように所定のパターンに従って光の照射を行う方法としては、光の透過部と非透過部とからなるフォトマスクを用いる方法に限られず、例えば、以下に示すａ〜ｃの方法が挙げられる。
ａ．液晶表示装置と同様の原理を利用した、所定のパターンに従って光透過領域と不透過領域とよりなるマスク像を電気光学的に形成する手段を利用する方法。
ｂ．多数の光ファイバーを束ねてなる導光部材を用い、この導光部材における所定のパターンに対応する光ファイバーを介して光を照射する方法。
ｃ．レーザ光、あるいはレンズ、ミラー等の集光性光学系により得られる収束光を走査させながら組成物に照射する方法。
【００２２】
なお、露光後、露光部分の硬化を促進させるために、加熱処理（以下、「ＰＥＢ」という。）を行うことが好ましい。その加熱条件は、光導波路形成用組成物の配合組成、添加剤の種類等により変わるが、通常、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃である。
一方、露光前に、光導波路形成用組成物からなる塗膜を、室温条件に、１〜１０時間放置するだけで、コア部分の形状を半円形とすることができる。したがって、半円形のコア部分を得たい場合には、このように露光前に、室温条件に、数時間放置することが好ましい。
【００２３】
このようにして所定のパターンに従ってパターン露光し、選択的に硬化させた薄膜に対しては、硬化部分と未硬化部分との溶解性の差異を利用して、現像処理することができる。したがって、パターン露光後、未硬化部分を除去するとともに、硬化部分を残存させることにより、結果として、コア部分を形成することができる。
ここで、現像液としては、水酸化ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、などの塩基性物質と水、メタノール、エタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アセトンなどの溶媒で希釈された溶液を用いることができる。
また、現像液中の塩基性物質の濃度を、通常０．０５〜２５重量％、好ましくは０．１〜３．０重量％の範囲内の値とすることが好ましい。
【００２４】
また、現像時間は、通常３０〜６００秒間であり、また現像方法は液盛り法、ディッピング法、シャワー現像法などの公知の方法を採用することができる。
現像液として有機溶媒を用いた場合はそのまま風乾することにより、また、アルカリ水溶液を用いた場合には流水洗浄を、例えば３０〜９０秒間行い、圧縮空気や圧縮窒素等で風乾させることによって表面上の水分を除去することにより、パターン状被膜が形成される。
【００２５】
次いで、パターニング部をさらに硬化させるために、ホットプレートやオーブンなどの加熱装置により、例えば３０〜４００℃の温度で５〜６００分間ポストベーク処理すれば、硬化されたコア部分が形成されることになる。
また、酸拡散制御剤をコア、クラッドの両層に添加する場合、酸拡散制御剤の含有量はコア層の濃度が高いように設定することが好ましい。クラッド層をパターニングする必要のない場合はクラッド層に酸拡散制御剤を添加しなくてもよい。
このように構成することにより、コア部分のパターン精度をより向上させることができる一方、下部クラッド層用組成物や上部クラッド層用組成物では、優れた保存安定性が得られるとともに、比較的少ない光照射量で、十分に硬化させることができる。
【００２６】
（４）上部クラッド層の形成
次いで、コア部分が形成された下部クラッド層の表面に、上層用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークさせて上層用薄膜を形成する。この上層用薄膜に対し、光を照射して硬化させることにより、上部クラッド層を形成することができる。
また、光の照射によって得られる上部クラッド層は、必要に応じて、さらに上述したポストベークすることが好ましい。ポストベークすることにより、硬度および耐熱性に優れた上部クラッド層を得ることができる。
（５）カバー部材の接着
作製した光導波路基板をスピンコーター上に固定し、光導波路の上部クラッド層上に接着剤を滴下し、カバー部材を置き、カバー部材の位置がずれないよう治具で固定する。続いて、スピンコート法と同様の手順で光導波路基板ごと回転させる。回転速度と回転時間を制御することで、均一な接着剤層を有するカバー部材封止光導波路基板が得られる。なお、上部クラッド層の全面をカバー部材で被覆することが好ましい。
【００２７】
【実施例】
以下の実施例においては基材としてシリコンウエハーを用いた。光導波路の形成手順については前述した手順に従い実施した。本実施例においては下部クラッド層及び上部クラッド層用の放射線硬化性組成物としてＰＪ５０２５（ＪＳＲ（株）製）を、コア層用の放射線硬化性組成物としてＰＪ５０２４（ＪＳＲ（株）製）を用いた。表１の実施例（）においては、クラッド層を熱硬化により形成した。それ以外の実施例ならびに比較例では光硬化によりクラッド層を硬化した。コア層はマスクを用いた露光により直線光導波路パターンを形成した。下部クラッド層の厚みは１５μｍ、コア層の厚みは８μｍ、幅は８μｍ、長さ６ｃｍ、コア間のスペースは２０μｍ、上部クラッド層の厚みは１５μｍになるように実施した。また、シングルモード光導波路の設計としてコア層の屈折率がクラッド層の屈折率の１．００３倍高めになるように組成を設計した。
【００２８】
評価
［光学特性の測定試料］
光学装置用の光導波路基板として４インチシリコンウェハに作製した8μm×8μm角のコアを有する直線光導波路を用意した。続いて、この基板上に各種の接着剤と100μｍ厚のガラス板を用いて固着し、ダイシングにより、光導波路長を10mmとするサンプルを作製した。
［冷熱衝撃試験による光学特性変化］
初期値の挿入損失を測定後、同一サンプルを−４０℃３０分放置後に８５℃３０分放置するヒートサイクルで５００サイクル冷熱処理した後に、直線光導波路の挿入損失を測定し、冷熱処理前後における挿入損失の変化量を測定した。挿入損失の変化量が1ｄB以上のものは×、1ｄB以内のものは○とした。
［恒温恒湿試験による光学特性変化］
初期値の挿入損失を測定後、同一サンプルを恒温恒湿（８５℃、相対湿度８５％）の環境に２０００時間放置した後に、直線光導波路の挿入損失を測定し、恒温恒湿処理前後における挿入損失の変化量を測定した。挿入損失の変化量が1ｄB以上のものは×、1ｄB以内のものは○とした。
【００２９】
【表１】
【発明の効果】
本発明によれば、厳しい環境条件下でも材料の吸湿による特性の変化や、基板との密着性の低下を抑制し、信頼性試験の前後で光学特性が劣化せず、十分な信頼性が確保できるとともに、作業性も良好な光導波路及び光学装置を提供することができる。
Claims (3)
- 基板上に設けられた下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層と、該上部クラッド層の全面を覆うカバー部材とを有するポリマー光導波路であって、前記カバー部材が、石英又はガラスのシートからなり、前記下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層が、放射線硬化性組成物の硬化物からなり、かつ、前記上部クラッド層と前記カバー部材とが、放射線硬化型接着剤からなる接着剤層を介して固着されていることを特徴とするポリマー光導波路。
- 請求項１に記載のポリマー光導波路の製造方法であって、
基板上に、放射線硬化性組成物を用いて、下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層を形成する工程と、
前記上部クラッド層の上に放射線硬化型接着剤を滴下する工程と、
前記上部クラッド層の上に前記放射線硬化型接着剤を介在させて、前記上部クラッド層の全面を覆う、石英又はガラスのシートからなるカバー部材を置き、治具で固定する工程と、
前記基板ごと回転させて、前記放射線硬化型接着剤からなる均一な接着剤層を形成させる工程と、
前記接着剤層に放射線を照射して、ポリマー光導波路を完成させる工程
を含むことを特徴とするポリマー光導波路の製造方法。 - 前記下部クラッド層、コア層、上部クラッド層及び接着剤層を、スピンコート法により形成する請求項２に記載のポリマー光導波路の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003151594A JP3882784B2 (ja) | 2003-05-28 | 2003-05-28 | ポリマー光導波路及び光学装置 |
| KR1020057022512A KR20060015621A (ko) | 2003-05-28 | 2004-05-28 | 중합체 광 도파로 및 광학 장치 |
| US10/558,299 US20070104439A1 (en) | 2003-05-28 | 2004-05-28 | Polymer optical waveguide and optical device |
| TW093115355A TW200508681A (en) | 2003-05-28 | 2004-05-28 | Polymer optical waveguide and optical device |
| CNA2004800147458A CN1795407A (zh) | 2003-05-28 | 2004-05-28 | 聚合物光波导及光学装置 |
| PCT/JP2004/007733 WO2004106998A1 (ja) | 2003-05-28 | 2004-05-28 | ポリマー光導波路及び光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003151594A JP3882784B2 (ja) | 2003-05-28 | 2003-05-28 | ポリマー光導波路及び光学装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004354651A JP2004354651A (ja) | 2004-12-16 |
| JP3882784B2 true JP3882784B2 (ja) | 2007-02-21 |
Family
ID=33487232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003151594A Expired - Fee Related JP3882784B2 (ja) | 2003-05-28 | 2003-05-28 | ポリマー光導波路及び光学装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20070104439A1 (ja) |
| JP (1) | JP3882784B2 (ja) |
| KR (1) | KR20060015621A (ja) |
| CN (1) | CN1795407A (ja) |
| TW (1) | TW200508681A (ja) |
| WO (1) | WO2004106998A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009036924A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Nitto Denko Corp | 光導波路フィルム、光基板およびこれらの製造方法 |
| US9093003B2 (en) | 2011-10-11 | 2015-07-28 | Corning Incorporated | Manipulation of color illumination using light diffusing fiber |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4693556A (en) * | 1985-06-04 | 1987-09-15 | Laser Therapeutics, Inc. | Apparatus for producing a spherical pattern of light and method of manufacture |
| JP2000180642A (ja) * | 1998-12-16 | 2000-06-30 | Hitachi Cable Ltd | 石英系ガラス導波路及びその製造方法 |
| US6272275B1 (en) * | 1999-06-25 | 2001-08-07 | Corning Incorporated | Print-molding for process for planar waveguides |
| JP2001033640A (ja) * | 1999-07-22 | 2001-02-09 | Kyocera Corp | 光導波路 |
| JP4487297B2 (ja) * | 1999-09-05 | 2010-06-23 | 日立化成工業株式会社 | 保護層を備えた樹脂製光導波路、その製造方法および光部品 |
| JP2001074952A (ja) * | 1999-09-06 | 2001-03-23 | Hitachi Chem Co Ltd | 保護層を備えた樹脂製光導波路、その製造方法および光部品 |
| KR100632281B1 (ko) * | 2001-12-28 | 2006-10-12 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 폴리머 광도파로 필름 |
| US20040146262A1 (en) * | 2003-01-23 | 2004-07-29 | 3M Innovative Properties Company | Frozen-fluid fiber guide |
-
2003
- 2003-05-28 JP JP2003151594A patent/JP3882784B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-05-28 US US10/558,299 patent/US20070104439A1/en not_active Abandoned
- 2004-05-28 CN CNA2004800147458A patent/CN1795407A/zh active Pending
- 2004-05-28 WO PCT/JP2004/007733 patent/WO2004106998A1/ja active Application Filing
- 2004-05-28 KR KR1020057022512A patent/KR20060015621A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-05-28 TW TW093115355A patent/TW200508681A/zh unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2004354651A (ja) | 2004-12-16 |
| WO2004106998A1 (ja) | 2004-12-09 |
| CN1795407A (zh) | 2006-06-28 |
| TW200508681A (en) | 2005-03-01 |
| US20070104439A1 (en) | 2007-05-10 |
| KR20060015621A (ko) | 2006-02-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1323742B1 (en) | Radiation sensitive refractive index changing composition and refractive index changing method | |
| KR20040048312A (ko) | 도파로의 형성방법 및 그로부터 형성된 도파로 | |
| KR20070108354A (ko) | 광학재료용 수지 조성물, 광학재료용 수지필름 및 이것을이용한 광도파로 | |
| AU2001280157B2 (en) | Composition having refractive index sensitively changeable by radiation and method for forming refractive index pattern | |
| JPWO2006121102A1 (ja) | 積層光学素子 | |
| JP2007052120A (ja) | 光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路及び光導波路パターンの形成方法 | |
| US7108954B2 (en) | Radiation-sensitive composition changing in refractive index and method of changing refractive index | |
| JP2016139134A (ja) | 感光性樹脂組成物、その感光性樹脂組成物から形成された硬化膜、及びその硬化膜を備えた画像表示装置 | |
| JPH04159503A (ja) | プリズムカプラー | |
| US7071255B2 (en) | Radiation-sensitive composition capable of having refractive index distribution | |
| JP3882784B2 (ja) | ポリマー光導波路及び光学装置 | |
| JP3903940B2 (ja) | 光導波路チップ及びそれを含む光学部品の製造方法 | |
| KR20120021006A (ko) | 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 포함하는 액정표시장치 | |
| TWI653286B (zh) | Photocurable resin composition for optical waveguide, photocurable thin film for forming optical waveguide core layer, optical waveguide using the same, and hybrid flexible printed wiring board for photoelectric transmission | |
| JP2007505355A (ja) | 導波路形成方法及びそれで形成された導波路 | |
| JP3896584B2 (ja) | 感放射線性屈折率変化性組成物および屈折率変化法 | |
| JP2010102106A (ja) | 光導波路用組成物およびその製造方法、ならびにそれを用いた光導波路、光導波路の製造方法 | |
| JP5130671B2 (ja) | 有機高分子組成物及び光導波路並びに光導波路の製造方法 | |
| WO2016133074A1 (ja) | ポリマー光導波路複合体 | |
| JP2002341169A (ja) | プラスチック光導波路の製造方法 | |
| JP2002350663A (ja) | ポリマ導波路及びその製造方法 | |
| JP2002311263A (ja) | ポリマ導波路及びその製造方法 | |
| RU2272054C2 (ru) | Чувствительная к излучению композиция с изменяемым показателем преломления и способ изменения показателя преломления | |
| Liu et al. | Capped optical polymeric waveguide | |
| RU2239859C2 (ru) | Чувствительная к облучению композиция с изменяющимся показателем преломления и способ изменения показателя преломления |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050722 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050809 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060606 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060613 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061024 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061106 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3882784 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091124 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091124 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101124 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101124 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111124 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111124 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121124 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121124 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131124 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |