JP3871668B2 - 半導体発光装置 - Google Patents

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Description

本発明は半導体発光装置に関し、特にLED(light emitting diode:発光ダイオード)などの半導体発光素子と複数種類の蛍光体との組み合わせにより発光する半導体発光装置に関する。
半導体発光素子と蛍光体とを組み合わせた半導体発光装置は、その組み合わせや種類を選択することにより発光色を自由に変化させることができるため、新しい光源として注目されている。すなわち、半導体発光素子から放出される1次光を蛍光体により波長変換して2次光として取り出すことにより、得られる波長の選択の自由度を大幅に拡げることができる。
しかし、本発明者の試作検討の結果、半導体発光素子と複数の種類の蛍光体とを組み合わせた従来の半導体発光装置では以下に詳述する問題があることが分かった。
図9は、従来の半導体発光装置の概略構成を表す断面図である。すなわち、同図の半導体発光装置は、リードフレーム102に形成された凹状のカップ部の底面にLEDチップ101がマウントされ、ワイア106、107により配線され、蛍光体111〜113が塗布されている。ここで、LED101は、紫外光領域で発光するものであり、蛍光体は、その紫外光を吸収して赤色の光を放出する、赤色(R)蛍光体111、緑色の光を放出する緑色(G)蛍光体112、青色の光を放出する青色(B)蛍光体の混合物である。図9に示した半導体発光装置は、このように、LED101からの紫外光を波長変換してRGBからなる白色光を得ることができる。
しかし、本発明者が図9に示したような半導体発光装置を試作・評価したところ、混合斑すなわち発光の「むら」を引き起こしてしまうという問題があることが分かった。具体的には、例えば、図9の半導体発光装置を光の取り出し方向から眺めた場合に、発光部の中央すなわちLED101の垂直上方付近と、それよりも端の周辺部分とでは、発光色が異なるという問題が発見された。
本発明者はさらに詳細な検討を行った結果、このような発光の「むら」は、RGBそれぞれの蛍光体の比重や粒径の違いによるものであり、その塗布および溶解させた樹脂の硬化の工程で発生することを見出した。さらに、この現象にはLEDチップ101の存在による蛍光体塗布面の段差が大きく影響を及ぼしていることを知得するに至った。
すなわち、図9から分かるように、LED101の上部に塗布される蛍光体層と、LED101の周囲のカップ部に塗布される蛍光体層とでは、その塗布厚が大幅に異なる。LED101の厚みは、通常100〜200μmであり、その上に塗布される蛍光体の塗布厚は、数10μmである場合が多い。つまり、LEDの上部と、LEDの周囲のカップ部では、蛍光体の塗布厚が数倍も異なる。
塗布厚が異なると、塗布した蛍光体と溶媒との混合物が乾燥、硬化するまでの時間が異なり、蛍光体の比重の差などによってRGBの蛍光体粒子の偏析の状態が異なる。ここで、蛍光体の粒径と比重について代表的な値を挙げると、赤色(R)蛍光体の粒径は約6μm、比重は約6.4である。また、緑色(G)蛍光体の粒径は約3μm、比重は約3.8であり、青色(B)蛍光体の粒径は約4μm、比重は約4.2である。このように粒径や比重が異なる複数の蛍光体粒子を溶媒に混合して塗布した場合には、塗布厚によって、蛍光体粒子の偏析の状態が異なる。
例えば、塗布厚が厚い部分においては、比重の大きい蛍光体粒子がより顕著に下方に偏析する。その結果として、LED101の上部とその周囲とでは、蛍光体の混合状態が異なり、発光色のバランスが異なるために、発光の「むら」が生ずることとなる。
図9をみても、LEDチップをマウントしたことによる段差の存在により、LEDチップ上部と周辺で蛍光体粒子の比重の違いにより混合比が異なってしまい、その結果として、LEDからの発光を変換した直上方向の光と横方向に向かい反射版で反射した光とでは、その発光色に違いがあることは容易に見てとれる。
本発明は、かかる独自の課題の認識に基づいてなされたものである。すなわち、その目的は、蛍光体の塗布厚を均一にすることにより発光の「むら」を解消することができる半導体発光装置を提供することにある。
本発明の半導体発光装置は、実装部材と、前記実装部材にマウントされた発光素子と、前記発光素子から放出される1次光を吸収して前記1次光とは異なる第1の波長の光を放出する第1の蛍光体と、前記発光素子から放出される1次光を吸収して前記1次光とは異なる第2の波長の光を放出する第2の蛍光体と、を備えた半導体発光装置であって、前記第1の蛍光体は、前記発光素子の光放出面の第1の領域の上に設けられ、前記第2の蛍光体は、前記発光素子の光放出面の前記第1の領域とは異なる第2の領域の上に設けられ、前記第1の領域と前記第2の領域は、遮光板によって分割されていることを特徴とする。
本発明によれば、リードフレームなどの実装部材に対して、LEDなどの発光素子を埋め込まれた形でマウントすることにより、蛍光体の塗布面を実質的に平坦な面とし、この平坦面に蛍光体を塗布することにより、塗布厚を均一にし、蛍光体粒子の比重や粒径の違いにより発生する偏析の状態を均一にすることによって、発光の「むら」を解消することができる。
また、本発明によれば、半導体発光装置の色純度を高めることができ、さらに、色純度の指向性も向上させることができる。
さらに、本発明によれば、単一の蛍光体を用いる場合にも、偏析状態を均一にすることにより、2次光の強度むらを解消して均一な発光を得ることができるという効果が得られる。
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について説明する。
図1は、本発明の第1の実施の形態にかかる半導体発光装置の要部構成を表す概略断面図である。同図において、11はLEDチップであり、12はそのLEDをマウントするリードフレームである。13は赤色(R)蛍光体、14は緑色(G)蛍光体、15は青色(B)蛍光体であり、LED11からの光を吸収してそれぞれの波長帯の2次光を放出するものである。16,17はLEDに駆動電流を供給するためのワイアであり、それぞれLEDの電極とリードフレームのリード部にボンディングされている。
本発明の半導体発光装置が従来例と異なる点は、リードフレーム12に凹部12Aが設けられ、LEDチップ11がこの凹部12Aの内部に埋め込む形でマウントされている点にある。本発明によれば、LED11による段差が発生しないため、LEDの周囲の蛍光体の塗布厚を一定にすることができる。その結果として、蛍光体の偏析の状態を均一にすることができ、図9に関して前述したような発光の「むら」を解消することができる。
また、本実施形態においては、RGB蛍光体のそれぞれを層状に形成している。すなわち、第1層としてR蛍光体13からなる層が設けられ、第2層としてG蛍光体14からなる層が設けられ、第3層としてB蛍光体15からなる層が設けられている。本発明によれば、LED11の周囲において、蛍光体の塗布厚を均一にすることができるので、このような3層構造も確実且つ容易に実現することができる。
図1の半導体発光装置の製造方法は以下の如くである。すなわち、LEDチップ11をフレーム12にマウントした後に、R蛍光体13を含んだ樹脂を塗布して硬化させ、次にG蛍光体14を含んだ樹脂を塗布して硬化させ、次にB蛍光体15を含んだ樹脂を塗布して硬化させて作成する。ここで、塗布する蛍光体の量や順序については、それぞれの蛍光体の変換効率や塗布領域内部での散乱を考慮して適宜決定することができる。
ここで、LED11の平面形状は通常、一辺が400〜500μmの正方形状であるが、リードフレームの加工精度や、LED11をマウントする際の誤差などを考慮すると、リードフレーム12の凹部12Aの開口寸法は、LED11の寸法の一割増し、40〜50μm程度大きめに形成することが望ましい。この場合には、LEDの両側に隙間が生ずるが、この程度の寸法であれば、塗布むらによる悪影響が生ずる心配はない。
かくして得られた半導体発光装置に、ワイア16、17を介してバイアス電流を供給したところ、LEDの上方からみて色斑の無い均一な白色発光が得られた。また本半導体発光装置では指向角に対する色純度も良く、この点でも従来構造の装置よりも優れていることが分かった。
図2は、図1の半導体発光装置に搭載されるLEDの構成を例示する概略断面図である。図中301はサファイア基板、302はn型GaNコンタクト層、303はn型AlGaNクラッド層、304はInGaN活性層、305はp型AlGaNクラッド層、306はp型GaNコンタクト層、307はp側電極、308はn側電極である。図2のLEDは、青色から紫外線領域の波長帯において極めて高い強度の発光を得ることができるので、蛍光体と組み合わせて用いるのに好適である。
なお、図示したLEDは、n側電極308の形成面とp側電極307の形成面との間に段差部を有するが、この段差の高さはせいぜい数μm以下に過ぎず、蛍光体の偏析状態に影響を与えることはない。
本発明において用いることができる発光素子は、蛍光体を励起するのに十分な特性(発光波長、発光強度など)を有すれば良く、図2のLEDに限られるものではない。積層構造および材料を適宜種々変形して作成可能である。例えば、基板301はサファイアに限定されず、その他にも、例えば、スピネル、MgO、ScAlMgO4 、LaSrGaO4 、(LaSr)(AlTa)O3 などの絶縁性基板や、SiCSi、GaAs、GaNなどの導電性基板も同様に用いてそれぞれの効果を得ることができる。ここで、ScAlMgO4 基板の場合には、(0001)面、(LaSr)(AlTa)O3 基板の場合には(111)面を用いることが望ましい。
また、窒化物半導体として用いることができる材料しては、Bx Iny Alz Ga(1-x-y-z) N(O≦x≦1、O≦y≦1、O≦z≦1)なる化学式で表されるあらゆる組成のIII −V族化合物半導体を挙げることができ、さらに、V族元素としては、Nに加えてリン(P)や砒素(As)などを含有する混晶も含むものでも良い。さらに、これらの窒化物半導体以外のIII −V族化合物半導体、II−VI 族化合物半導体、或いはSiCなども同様に用いることができる。
次に、本発明の第2の実施の形態について説明する。
図3は、本発明の第2の実施の形態にかかる半導体発光装置を表す概略断面図である。同図においては、図1と同様の部分については同一の符号を付した。本実施形態の半導体発光装置は、RGB蛍光体13〜15を樹脂に一緒に混合して塗布、硬化させた点で第1実施形態と異なる。すなわち、本実施形態においては、蛍光体13〜15が、ランダムに混合されている。
図9に関して前述したように、従来の半導体発光装置では、LEDによる段差の存在により、発光の「むら」が多く発生してしまったのに対して、本実施形態によればLED11をリードフレーム12に埋め込んで段差を実質的になくしているために、蛍光体をランダムに混合した場合においても発光の「むら」を解消できる。このように蛍光体をランダムに混合する場合は、図1に例示したように層状に塗布するよりも容易に製造することができる。
かくして得られた半導体発光装置にバイアス電流を供給したところ、LED11の上方から観察して色斑の無い均一な白色発光が得られた。つまり、本発明によれば、従来と同様にRGB蛍光体を混合して塗布しても発光「むら」の無い均一な発光を得ることができる。また、本装置では指向角に対する色純度も良く、この点でも従来構造の装置よりも優れていることがわかった。
次に、本発明の第3の実施の形態について説明する。
図4は、本発明の第3の実施の形態にかかる半導体発光装置を表す概略断面図である。本実施形態の半導体発光装置は、発光素子をマウントする実装部材として、前述したリードフレームの代わりに基板22が用いられている点が異なる。すなわち、基板22には凹状のカップ部が形成され、その底面には凹部22Aが設けられている。LED11は、この凹部22Aに埋め込まれるようにマウントされ、ワイア16、17により配線されている。
そして、実質的に平坦な面とされたカップ部の底面とLED11の上面とに蛍光体13〜15が塗布されている。
本実施形態においても、蛍光体の塗布面は段差を有せず、実質的に平坦な面とされているので、図9に関して前述したような偏析状態のむらが生ずることはない。その結果として、均一な発光を得ることができる。
なお、図4においては、RGB蛍光体13〜15を一緒に混合してランダムに塗布した例を表したが、図1に例示したように、各蛍光体13〜15を層状に塗布しても良い。
次に、本発明の第4の実施の形態について説明する。
図5は、本発明の第4の実施の形態にかかる半導体発光装置を表す概略断面図である。本実施形態の半導体発光装置も、前述した第3実施形態と同様に基板22にLED11がマウントされている。しかし、本実施形態においては、基板22のカップ部が樹脂25により埋め込まれている点が異なる。すなわち、基板22には凹状のカップ部が形成され、その底面には凹部22Aが設けられている。このカップ部は、樹脂25により埋め込まれ、この樹脂25の表面に蛍光体13〜15が塗布されている。
本実施形態においても、蛍光体の塗布面すなわち樹脂25の表面は段差を有せず、実質的に平坦な面とされているので、図9に関して前述したような偏析状態のむらが生ずることはない。その結果として、均一な発光を得ることができる。
また、本実施形態によれば、LED11が樹脂25により封止されているので、水分や各種の腐食性雰囲気の侵入によるLEDの劣化や故障を防ぐことができる。その結果として、半導体発光装置の信頼性を向上することができる。
なお、図5においては、RGB蛍光体13〜15を一緒に混合してランダムに塗布した例を表したが、図1に例示したように、各蛍光体13〜15を層状に塗布しても良い。また、図5においては、LED11を基板22に埋込みマウントした例を示したが、本実施形態はこれに限定されず、基板22に凹部22Aを形成せずに、カップ部底面の平坦なマウント面にLED11をマウントしても良い。
次に、本発明の第5の実施の形態について説明する。
図6は、本発明の第5の実施の形態にかかる半導体発光装置を表す概略断面図である。同図においても、前述した第1実施形態及び第2実施形態と同様の構造部分については同一の符号を付した。図中30は、LED11から放出される1次光に対して透明な樹脂により形成されたレンズである。
本実施形態においては、LED11をリードフレーム12上に埋め込みマウントした後に透明樹脂のレンズ30を形成し、その表面にRGB蛍光体を塗布した点に特徴を有する。レンズ30の表面は段差を有しないので、蛍光体を塗布した場合に、図9に関して前述したような偏析状態のむらが生ずることはない。その結果として、均一な発光を得ることができる。
さらに、本実施形態によれば、レンズ30を設けたことによりさらに指向角が広くなり、表示用や照明等の用途に広く適用することが可能となる。また、図6にはリードフレームを用いた場合の構造を例示したが、平面基板上へのマウントによって集積化すればその用途は格段に広がり本発明の利点をさらに引き出すことができる。
なお、図6においては、LED11をリードフレーム12に埋込みマウントした例を示したが、本実施形態はこれに限定されず、リードフレーム12に凹部を形成せずに、平坦なマウント面にLED11をマウントしても良い。
また、蛍光体13〜15も、図6に示したように層状に塗布せずに、溶媒中にRGB蛍光体13〜15を一緒に混合してランダムになるように塗布しても良い。
次に、本発明の第6の実施の形態について説明する。
図7は、本発明の第6の実施の形態にかかる半導体発光装置を表す概略断面図である。同図においても、前述した第1、第2実施形態と同様の部分については、同一の符号を付した。図中60は発光部が3つの領域に分かれたLEDである。本実施形態は、LED60の3分割された発光領域のそれぞれの上部にRGB蛍光体13〜15を分けて塗布した点に特徴を有する。つまり、LED60は、遮光板62によって、3つの領域に分割され、それぞれの領域にRGB蛍光体13〜15のいずれかが塗布されている。塗布されたそれぞれの蛍光体は、LED60からの1次光を吸収して、それぞれの発光波長の2次光を放出する。
本実施形態によれば、1つの半導体発光装置においてRGBそれぞれの発光を別々に取り出すことが可能となり、または、それらの混合色も自由に表現できるようになる。
図8は、第6の実施形態において用いることができるLEDを表す概略断面図である。同図においては、前述した図3と同様の構造部分については同一の符号を付した。図中701は、n型GaN基板である。この導電性基板上へ素子を作成することによってLEDの上下面に電極をそれぞれ形成することができる。発光領域の分離は、p型GaNコンタクト層306からn型GaN層302まで貫通するようにエッチングすることにより行う。その後、p型GaNコンタクト層306の上にp側電極307を形成し、n型GaN基板701の裏面には共通のn側電極308を作成して、本素子が完成する。
なお、図7の半導体発光装置においては、遮光板62を設けることにより、隣接する他の領域からの蛍光体の励起を防いでいる。図示した以外にも、発光領域同士の間隔を広くしたり、励起光に対して吸収するような材質あるいは吸収材を含んだ樹脂を用いて蛍光体を分離するようにしても良い。本実施形態においても、色斑のない均一な発光を得ることができる。
以上、具体例を参照しつつ本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明のこれらの具体例に限定されるものではない。例えば、各実施形態で用いた発光素子は、窒化物半導体を用いたLED以外にも、蛍光体の励起のために十分な波長と発光強度を有する他の材料系の発光素子でもよい。また、各実施形態においては蛍光体としてRGBの3種の蛍光体を用いた場合を例示したが、種類の異なる2種類以上の組み合わせにおいて本発明は有効である。例えば、青色の2次光を放出する蛍光体と黄色の2次光を放出する蛍光体とを組み合わせて白色光を得る場合においても本発明を同様に適用して同様の効果を得ることができる。その他本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施可能である。
本発明の第1の実施の形態にかかる半導体発光装置の要部構成を表す概略断面図である。 図1の半導体発光装置に搭載されるLEDの構成を例示する概略断面図である。 本発明の第2の実施の形態にかかる半導体発光装置を表す概略断面図である。 本発明の第3の実施の形態にかかる半導体発光装置を表す概略断面図である。 本発明の第4の実施の形態にかかる半導体発光装置を表す概略断面図である。 本発明の第5の実施の形態にかかる半導体発光装置を表す概略断面図である。 本発明の第6の実施の形態にかかる半導体発光装置を表す概略断面図である。 第6の実施形態において用いることができるLEDを表す概略断面図である。 従来の半導体発光装置の概略構成を表す断面図である。
符号の説明
11、60、101 LEDチップ
12、102 リードフレーム
13、111 赤色(R)蛍光体
14、112 緑色(G)蛍光体
15、113 青色(B)蛍光体
16、106 n側金ワイヤ
17、107 p側金ワイヤ
22 基板
25 樹脂
30 レンズ
62 遮光板
301 サファイア基板
302 n型GaNコンタクト層
303 n型AlGaNクラッド層
304 InGaN活性層
305 p型AlGaNクラッド層
306 p型GaNコンタクト層
307 p側電極
308 n側電極
701 GaN基板

Claims (4)

  1. 実装部材と、前記実装部材にマウントされた発光素子と、前記発光素子から放出される1次光を吸収して前記1次光とは異なる第1の波長の光を放出する第1の蛍光体と、
    前記発光素子から放出される1次光を吸収して前記1次光とは異なる第2の波長の光を放出する第2の蛍光体と、
    を備えた半導体発光装置であって、
    前記第1の蛍光体は、前記発光素子の光放出面の第1の領域の上に設けられ、
    前記第2の蛍光体は、前記発光素子の光放出面の前記第1の領域とは異なる第2の領域の上に設けられ
    前記第1の領域と前記第2の領域は、遮光板によって分割されていることを特徴とする半導体発光装置。
  2. 前記発光素子が第1領域と第2領域とを有し、
    前記第1領域は、第1導電型の半導体と電気的に接続された第1の活性層と、前記第1の活性層上に形成された第1の第2導電型半導体層と、を有し、
    前記第2領域は、前記第1導電型の半導体と電気的に接続された第2の活性層と、前記第2の活性層上に形成された第2の第2導電型半導体層と、を有し、
    前記第1導電型の半導体に電気的に接続された第1電極が形成され、
    前記第1の第2導電型半導体層に電気的に接続された第1の第2電極が形成され、
    前記第2の第2導電型半導体層に電気的に接続された第2の第2電極が形成され、
    前記第1電極と前記第1の第2電極からの電流注入により前記第1の活性層から前記1次光が放出されて前記第1の蛍光体が励起され、
    前記第1電極と前記第2の第2電極からの電流注入により前記第2の活性層から前記1次光が放出されて前記第2の蛍光体が励起されることを特徴とする請求項1記載の半導体発光装置。
  3. 前記半導体発光装置が、前記発光素子から放出される1次光を吸収して前記1次光とは異なる第3の波長の光を放出する第3の蛍光体をさらに備え、
    前記第3の蛍光体が、前記発光素子の光放出面の前記第1の領域および前記第2の領域とは異なる第3の領域の上に設けられ、
    前記第3の領域が、遮光板によって前記第1の領域および前記第2の領域と分割されており、
    前記半導体発光素子がさらに第3領域を有し、
    前記第3領域は、前記第1導電型の半導体と電気的に接続された第3の活性層と、前記第3の活性層上に形成された第3の第2導電型半導体層と、を有し、
    前記第3の第2導電型半導体層に電気的に接続された第3の第2電極が形成され、
    前記第1電極と前記第3の第2電極からの電流注入により前記第3の活性層から前記1次光が放出されて前記第3の蛍光体が励起されることを特徴とする請求項2記載の半導体発光装置。
  4. 前記1次光が紫外光であり、前記第1の波長の光が青色光であり、前記第2の波長の光が緑色光であり、前記第3の波長の光が赤色光であることを特徴とする請求項3記載の半導体発光装置。
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