JP3862749B2 - 化学的に混合して反応を起こさせる装置およびそれの製造方法 - Google Patents
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- 238000002156 mixing Methods 0.000 title claims description 32
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 46
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 39
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 10
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 29
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 27
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 22
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 16
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 13
- 238000007514 turning Methods 0.000 description 13
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 9
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 5
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 5
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 5
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 4
- 241000446313 Lamella Species 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 238000009760 electrical discharge machining Methods 0.000 description 2
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 2
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001325354 Lamiinae Species 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N alstonine Natural products C1=CC2=C3C=CC=CC3=NC2=C2N1C[C@H]1[C@H](C)OC=C(C(=O)OC)[C@H]1C2 WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 238000002144 chemical decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011960 computer-aided design Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000004035 construction material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229910021478 group 5 element Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005555 metalworking Methods 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006396 nitration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000007569 slipcasting Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000011410 subtraction method Methods 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010518 undesired secondary reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- B01J19/123—Ultra-violet light
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- B01L3/502—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures
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- B01L3/502746—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures by integrated microfluidic structures, i.e. dimensions of channels and chambers are such that surface tension forces are important, e.g. lab-on-a-chip characterised by the means for controlling flow resistance, e.g. flow controllers, baffles
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Description
本発明は、高速化学反応で用いるに適合した一体式化学処理装置に関し、この装置は、より大型の一体式多重化学処理装置構造物または一体式システムに組み込み可能である。より詳細には、本発明は、中に通す化学品を混合する迅速さが向上していて操作の安全性が向上しておりかつ投資費用が低いことを特徴とする化学処理装置に向けたものである。
発明の背景
効率の良い化学処理を達成するには、数多くの処理パラメーター、例えば温度、圧力、混合条件、反応体と触媒材料の接触、反応体と生成物および/または副生成物の接触、および化学放射線への反応体の暴露などを精密に管理する必要がある。特定の化学反応では、化学反応が非常に急速に起こり、時には反応体が一緒に完全に混ざり合う前に化学反応が起こることから、最適な様式で実施するのが特に困難である。部分的に混ざり合った反応体が特定の非化学量論的比率で存在すると、生産が望まれている反応生成物以外の生成物が生じ得る。
通常の化学処理装置では典型的に比較的多い量で材料が保持されており、その結果として、表面積に対する体積の比率が比較的大きくなり、従ってこのような装置は特に高速化学反応には適さない。このような処理装置に入っている反応体材料のいろいろな部分はいろいろな履歴条件を受ける可能性が高くなる。例えば、通常のタンク型反応槽の場合、これに反応体を導入する時、この反応体は典型的に個別流れで添加され(通常、調節された比率で)た後、一緒に混ざり合う。反応槽のタンクに入れる前の流入流れを一緒に混合する目的でいわゆるTミキサーが用いられてきた。化学反応が迅速、即ち典型的には1秒以内に起こる場合、Tミキサーを用いたとしても、反応が充分に樹立される前の混合が不充分になる可能性がある。混合が不完全な混合物部分には1つまたは他の反応体が不足する可能性があることで、望まれない二次反応が起こって、望ましくない副生成物が生じる可能性がある。
反応体を急速撹拌することでそのような混合履歴差を小さくすることは可能であるが、その差がなくなることはないであろう。混合履歴が不均一な結果として、反応体のいろいろな部分がいろいろな化学反応を起こす可能性がある。そのようないろいろな部分において、望まれない反応がその反応体部分で起こる可能性があり、それによって局所的な加熱が引き起こされ得る。このように局所的な加熱が起こると望まれない反応が助長され得る。その結果として、望まれない廃棄生成物が生じる可能性があり、これは有害でありそして/または適切に処分する必要がある。極端な場合には、反応速度が制御不能なレベルにまで加速される可能性があり、それによって、安全上の害、例えば爆発などが起こる可能性があり得る。
しかしながら、混合すべき反応体流れ各々の体積を実質的に小さくすると、反応体の混合速度を大きく向上させることが可能になることで、反応体混合履歴の均一さの管理を実質的に改良することが可能になる。
流れの乱流度合を高くすると2種以上の反応体が一緒に混ざり合う速度が高くなり得ることは認識されている。迅速に起こる化学反応にとって急速混合が重要であることは公知である。また、乱流度合を高くすると伝熱に加えて混合速度が向上することも公知である。従って、高速化学反応を精密に制御するには内容積が小さくかつ乱流度合が高い構造を持たせるのが特に有利である。
通常の金属細工技術を用いて金属プレートに所望の通路およびチャンバを機械加工した後、そのプレートを組み立てて積み重ねそしてこの積み重ね物を一緒にクランプ止めするか或はその積み重ね物を溶接またはハンダ付けなどで永久的に連結させることにより、高い乱流を作り出すミキサーアセンブリが構築されてきた。その一例は米国特許第3,701,619号である。通常の機械工具技術を用いて成形された構造物の場合、非常に低い体積対表面積比率を経済的に達成するのは不可能である。更に、通常の化学処理装置建設材料、例えば鋼および特殊鉄合金などは、腐食または摩耗を受け得るか、触媒活性に望ましくない影響を与え得るか、或は触媒「毒」になり得る。
本発明の1つの目的は、化学反応が物質移動の理由で制限されないような迅速かつ効率良い様式で反応体を混合する化学処理装置を提供することにある。本発明では、具体的な高速化学反応の必要性に合致するように、1つ以上の混合/反応ユニットを制御素子と一緒に一体化して、より大型の一体式化学処理システムにすることができる。本発明の特徴は、最適な運転パラメーターを測定する場合、基本的化学反応を実施する範囲の精密なサイズの混合/反応ユニットを作り出すように本装置を実験室で経済的に用いることができる点にある。次に、この混合/反応ユニットを複製し、そしてより大型の一体式化学処理システムでそれらを並列運転することにより、商業的生産容積を迅速に達成することができる。
本発明の装置を大型の一体式化学処理装置で用いる場合の利点には、多数の相互連結およびジョイントを省くことができることで漏れの可能性が低下することが含まれる。以下に示す本発明の説明を参照にすることで上記および他の目的、特徴および利点がより良く理解されるであろう。
発明の要約
本明細書では、1種以上の化学品を化学的に混合して反応させるに適した一体式構造物で用いる装置を開示および請求し、ここでは、この装置に、一緒に連結させた複数の薄板を含め、その中を通るように作られていて1種以上の化学品が通るに適応した交差する溝を複数持たせる。この薄板に、その1種以上の化学品に適合性を示すように選択した材料を含め、そして上記溝を、化学反応が物質移動の理由で制限されないに充分な迎え角(angles of attack)およびせん断速度で化学品がその中の交差部分で一緒になるような様式で形成させる。更に、このせん断速度は、境界層の生成を破壊するに充分なせん断速度である。2つ以上の溝が交差地点に20から160度、好適には70から110度、最も好適には約90度の迎え角を作るように位置する様式で溝を配置する。
本発明の装置は本発明の方法に従って製造可能である。この方洪は、最初に、各々が上部と下部を有していてその上か或はその中を通る所望の通路を作り出すに充分な所望厚を有する薄板を複数加工することを含む。次に、この薄板を、所望の迎え角で交差する溝が生じるように正確に配列させて一緒に積み重ねて結合させる。
一体式構造物を製造する方法では、一般に、この薄板の面に所望の断面領域を持たせて隣接する薄板の表面を合わせると、その上に存在する通路が、この構造物の中を通る通路を形成する。この薄板の面に垂直で1枚以上の薄板を貫く通路を用いてその平面通路を互いに連結させると、所望の全体的三次元形状を有する通路が生じる。
本発明の装置は化学品を混合して反応させる方法で使用可能である。この方法は、(a)上述した構造物の溝の中に1種以上の化学品を導入し、(b)該化学品を導いて上記溝に沿って移動させ、(c)物質移動が理由で化学反応が制限されないことを保証するに充分な迎え角およびせん断速度が存在する移動速度(traversal rate)になるように移動を調整し、そして(d)この構造物の溝から反応生成物を取り出すことを含む。
添付図に関連させて以下に詳述する本発明の説明から本発明がより詳しく理解されるであろう。
図の簡単な説明
図1は、本発明の装置の透視図である。
図2は、本装置を上から見た分解透視図であり、この図は、この構造物の構成で用いる薄板3枚の上部表面を示している。
図3は、本装置を下から見た分解透視図であり、この図は、この構造物の構成で用いる薄板3枚の下部表面を示している。
図4は、図1の区分線4−4に沿って取った拡大第一断面図である。
図5は、図1の区分線5−5に沿って取った拡大第二断面図である。
図6は、図1の装置の一部を示す拡大透視図であり、これは、第一薄板100の下部表面と第二薄板200の上部表面を示している。図6、8、9に一連の混合素子および分配用多岐管を形成する溝の第一態様配列を示す。
図7は、第二薄板200の下部と第三薄板300の上部を示す分解透視図であり、これは、分配用多岐管を形成する溝を示している。
図8は、図6に8−8と表示する部分の拡大図であり、これは混合素子64A2を示している。
図9は、図8に9−9と表示する部分の拡大図である。
図10(これの大きさは図9に相当する)に、一連の混合素子および分配用多岐管を形成する溝の第二態様配列を示す。
図11は、図8の溝およびこの溝の交差を示す簡潔化した透視図である。
図12は、図10の溝およびこの溝の交差を示す簡潔化した透視図である。
図13A−Cは、図9の溝の平面図であり、これらは、溝を個別および重ね合わせた状態で示している。
発明の詳細な説明
本発明は小さい溝(channels)に複雑な三次元形状を持たせることを特徴とし、これは、(1)高い度合の乱流を作り出して混合および伝熱の速度を高める能力を有し、(2)前以て決めた迎え角で他の溝とせん断様式で交差し、(3)表面積に対する体積の比率が非常に小さいことから温度勾配が最小限でかつ伝熱が更に向上しており、そして(4)材料がこれの中で示す滞留時間を調節することにより、より精密な温度制御が達成されそしてその混合して反応させる反応体全体積の全ての部分が示す温度履歴がより均一になる。化学反応体が爆発を起こす可能性がある場合、炎の伝播が容易には起こり得ないほど充分に溝を狭くすることができ、従ってそのような化学反応体を安全に反応させる目的で使用可能である。この溝を断面で約10ミクロメートルの如き小さい寸法にすることも可能である。
以下に示す詳細な説明全体を通して、1から99の参照符号が本発明の全体的特徴を指す。即ち、このような特徴は隣接する薄板を結合させた時点でのみ現れ得る。例えば、図7において、チャンバ50Mは、薄板200上のチャンバ250Mと薄板300上のチャンバ350Mで構成される。薄板に100、200、300の番号を付け、個々の薄板各々上の具体的特徴に101から199、201から299などの番号を付け、これの最後の2つの位数が本発明の全体的特徴に相当する。構造物を貫く垂直な薄板間通路(「バイアス」としても認識する)を表示する目的で付加字「V」を用いる。同様に、付加字「M」は多岐管内の多岐チャンバを示し、付加字「S」および「T」は、通路の直線(straight)部分および変向(turning)部分を示す。特定素子の部分、例えば分枝している多岐管が有する個々の枝などを表示する目的で、ハイフンと数字から成る付加字(−1、−2など)を用いる。ある配列の素子を表示する参照符号に大文字と数字を付ける(例えば配列64のミキサー64A2など)。大括弧{}内に含める数字は、結晶性材料における結晶面を表示する(例えば{100}など)。
図1を参照して、本発明の典型的な装置10を示す。複数の薄板100、200、300を一緒に合着させて一体構造を形成させることで上記装置10を構成させる。1つ以上の入り口(ここでは、入り口20および24を示す)を通して反応体の流れを上記装置に入れることができ、そして1つ以上の出口(ここでは、出口30および34を示す)を通して、生じる反応生成物の流れを上記装置から出すことができる。示すように、入り口20および24と出口30および34を位置させるのは必ずしも薄板100のみでなくてもよく、3枚の薄板全部を貫通するように延長させることも可能であると理解されるべきである(例えば図4における出口34)。例えば、上記素子が薄板の側面の所でその一体構造物に出会うようにこの素子を配置することも可能である(示していない)。この薄板は同じか或は異なる材料で構成可能である。好適には、薄板(またウエハーとしても認識する)100、200、300を周期律表のIII、IVまたはV族の材料で構成させ、ケイ素が最も好適な材料である。望まれるならば、この薄板の1枚以上を代替材料、例えばセラミック、ガラス材料、例えばパイレックスなど、または他の適合し得る材料で構成させることも可能である。
図2に薄板3枚100、200、300の上部表面を示しそして図3に薄板3枚100、200、300の下部表面を示し、これらを用いて図1の装置を形成させる。図2および3に示す装置の有効な特徴は、薄板100の下部表面と薄板200の上部表面に位置させた通路が形成する2つの入り口分配用多岐管40、44;薄板100の下部表面と薄板200の上部表面に位置させた相当する通路が形成するTミキサー62と交差溝混合素子64の直列/並列配置で示されるミキサー/反応チャンバの配列60;薄板200の下部表面と薄板300の上部表面に位置させた相当する通路が形成するフォーク型の出口収集用多岐管50である。
図4および5の断面図では、説明を明瞭する目的で垂直方向の寸法を誇張して示す。組み立てが完了した時点において、この装置の薄板は合着して一体構造になっているが、図4および5では、説明を明瞭にする目的で薄板間の接触面を示す。
この構造の内部に位置する典型的な流路を例示する図4および5において、それぞれ薄板100内に位置する入り口20、24および出口30そして外側の薄板100および300内に位置する出口34に連結している垂直な通路20V、24V、30V、34Vを、典型的には、この薄板を貫く研磨またはドリル加工で形成させる。
図4において、薄板200の上部表面に、3本の通路40−1、40−2、40−3(これらは分配用多岐管40の枝である)および3本の通路44−1、44−2、44−3(これらは分配用多岐管44の枝である)を形成させる。相当する鏡像路である250−1、250−2、250−3、250−4、250−5(これらは薄板200の下部表面に位置する)(図7も参照)と通路350−1、350−2、350−3、350−4、350−5(これらは薄板300の上部表面に位置する)(図7)により、それぞれ、5本の通路50−1、50−2、50−3、50−4、50−5(これらは収集用多岐管50の枝である)を形成させる。
図5において、3番目の水平路50−3の中心軸(図8も参照)(これは枝を5本有する収集用多岐管50の中心枝を含む)がこの断面図の面に位置する。相当する鏡像路[それぞれ薄板200の下部表面に位置する通路250−3(図7)と薄板300の上部表面に位置する通路350−3(図7)]により、水平な通路50−3を形成させる。この典型的な装置では、その枝を5本有する収集用多岐管50を含む通路をエッチング技術で形成させる。
図5において、通路160A、160B、160C、160Dは、分配用多岐管40、44の枝40−1、44−1;44−1、40−2;40−2、44−2:および40−3、44−3との組み合わせ(図4および7)で、図6、7に関連させて以下に記述する効果を示すTミキサー構造物62の配列を形成させる。薄板100の下部表面に位置する通路164と薄板200の上部表面に位置する通路264とが協力して混合チャンバの配列64を形成し、このチャンバの各々が、交差する溝を複数含む(図6)。
図5の左側に垂直な通路20Vが位置しており、この垂直な通路20Vは薄板100を貫通して伸びていて、入り口20を多岐管40の共通チャンバ40Mにつなげている。図5の右側に垂直な通路24Vが位置しており、この垂直な通路24Vは薄板100を貫通して伸びていて、入り口24を多岐管44の共通チャンバ44Mにつなげている。それぞれ薄板200の下部表面および薄板300の上部表面に位置させた相当する鏡像通路250−3と350−3(図7)で、その枝を5本有する多岐管50の第三分枝50−3を形成させる。図5では、混合チャンバ64A3、64B3、64C3、64D3を見ることができる。
図6に、協力してミキサー/反応チャンバの配列60と1対の分配用多岐管40、44を形成する通路の配列を示す。第一分配用多岐管40を共通チャンバ40Mと枝通路40−1、40−2、40−3で構成させる。第一薄板100の下部表面に位置するチャンバ140Mと薄板200の上部表面に位置するチャンバ240Mを組み合わせることでチャンバ40Mを形成させる。また、入り口20を共通チャンバ40Mにつなげている垂直な通路20Vの開口部も示す。
第二分配用多岐管44を共通チャンバ44Mと枝通路44−1、44−2、44−3で構成させる。第一薄板200の下部表面に位置するチャンバ144Mと薄板200の上部表面に位置するチャンバ244Mを組み合わせることでチャンバ44Mを形成させる。また、入り口24を共通チャンバ44Mにつなげている垂直な通路24Vの開口部も示す。
一連の曲がりくねった通路164を第一薄板100の下部表面に形成させ、これを薄板200の相当する曲がりくねった通路264と協力させることにより、ミキサー配列60の交差溝混合素子の配列64を形成させる(ここでは、図6において、164A5と264A5から64A5を形成させる)。このミキサー配列60に、複数の平行なミキサー64から成る複数のグループ60A(例えば64A1−64A5)、60B、60C、60Dを含める。この示す特定実施例では、各グループにミキサーを5個存在させ、これらをそれぞれ64A1、64A2、64A3、64A4、64A5から、64D1、64D2、64D3、64D4、64D5で表示する。図6にはまたこの上で述べたチャンバ40Mおよび44Mも示す。
各ミキサー64を2本の曲がりくねった通路で構成させ、ここでは、その第一通路164を第一薄板100の下部に形成させそして第二通路264を第二薄板200の上部に形成させる。この第一および第二通路の各々を一連の直線セグメントと変向セグメントで形成させ、これらを一緒につなぐことで連続路を生じさせる。相当する変向セグメントが繰り返し交差するように縦方向にセグメントを片寄らせて第一および第二通路を接触表面上に位置させる。このミキサー素子64(ミキサー素子64A2で示す如き)は曲がりくねった路を2本持つとしてこれを記述することができる(図11で最も良く分かる)。
4本の通路160A、160B、160Cおよび160Dがそれぞれ多岐管40の枝40−1、40−2、40−3、多岐管44の枝44−1、44−2、44−3および曲がりくねった通路264各々の第一直線セグメント264Sと協力して一連のTミキサー62を形成する(図7で最も良く分かる)。このようにして第一直線セグメント264S各々が各Tミキサー62をミキサー配列60の曲がりくねったミキサー64各々につなげている。
図7に、協力して収集用多岐管50を形成する通路の配列を示す。図6および7で分かるように、収集用多岐管50を共通チャンバ50Mと枝通路50−1、50−2、50−3、50−4および50−5で構成させる。垂直路64A1V、64A2V、64A3V、64A4Vおよび64A5Vが、ミキサーの最終セグメント64A1、64A2、64A3、64A4、64A5をそれぞれ収集用多岐管の枝50−1、50−2、50−3、50−4および50−5につなげており、垂直路64B1V、64B2V、64B3V、64B4Vおよび64B5Vが、ミキサーの最終セグメント64B1、64B2、64B3、64B4、64B5をそれぞれ収集用多岐管の枝50−1、50−2、50−3、50−4および50−5につなげており、垂直路64C1V、64C2V、64C3V、64C4Vおよび64C5Vが、ミキサーの最終セグメント64C1、64C2、64C3、64C4、64C5をそれぞれ収集用多岐管の枝50−1、50−2、50−3、50−4および50−5につなげており、そして垂直路64D1V、64D2V、64D3V、64D4Vおよび64D5Vが、ミキサーの最終セグメント64D1、64D2、64D3、64D4、64D5をそれぞれ収集用多岐管の枝50−1、50−2、50−3、50−4および50−5につなげている。垂直路30Vが収集用多岐管50を薄板100の第一側で出口30につなげている。垂直路34Vが多岐管50を薄板100の第一側および薄板300の第二側の両方で出口34につなげている(図5で最も良く分かるように)。
図8で最も良く分かるように、各通路160は、多岐管40および44と曲がりくねった通路264の第一直線セグメントと協力してTミキサー62を形成する。これは、複数の直線セグメント264Sと変向セグメント264Tで構成されている曲がりくねったミキサー64と連結している。また、図8で分かるであろうように、通路160の各部分、例えば多岐管40−1とセグメント264S1の間の部分160A−1、および多岐管44−2とセグメント264S1の間の部分160A−2などにいろいろな断面サイズを持たせることにより、混合すべき各化学品が所望の流量を示すようにすることができる。混合の要求および処理すべき化学品の流れ特徴に従って、直線セグメントと変向セグメント164S、164Tおよび264S、264Tの数そして164および264の各セグメントの断面サイズを選択することができる。
図9で分かるように、曲がりくねった通路164、264を、付加字「S」を付けて表示する直線セグメント(171S、172S、173S、174S、175Sおよび271S、272S、273S、274S、275S)と付加字「T」を付けて表示する変向セグメント(171T、172T、173T、174T、175Tおよび271T、272T、273T、274T、275T)で構成させる。通路164および264の相当する変向セグメント(例えば171T、271T)は90度の迎え角でせん断様式で交差する。望まれるならば、通路164の位置を通路264に対して若干片寄らせることで上記迎え角を変えることも可能である。薄板100を薄板200に対して回転させそして直線セグメント(付加字S)と変向セグメント(付加字T)の間隔を適切に変えることにより、ほとんど全ての所望迎え角を達成することができる。20度から160度の範囲内の迎え角は容易に実現化可能であり、これを本発明の範囲内に入れることを意図する。
図10に溝の代替配列を示し、これは図6、8および9に示す配列の代わりに使用可能である。図10では、薄板100の下部表面に2本の溝181、182を示し、これらは交差地点で一緒になり、溝183として一緒になった形態で移動した後、2本の溝184、185に分かれ、そして次に溝186として再び一緒になった後、溝187、188に分かれる。薄板200の上部表面に位置する溝281は、交差地点で2本の溝282、283に分かれた後、溝284として再び一緒になり、そして次に2本の溝285、286に分かれた後、溝287として再び一緒になる。前以て決めた迎え角およびせん断速度で、溝181は溝282と交差しそして溝182は溝283と交差する。同様に、溝184は溝282と交差し、溝185は溝283と交差し、溝184は溝286と交差し、溝185は溝287と交差し、溝187は溝286と交差し、溝188は溝287と交差する。
図11に、溝の形状、相対的位置および交差をより良く見ることができるようにいくらか簡潔化した様式で図9の溝を示す。図9および11から理解されるであろうように、2本の溝が繰り返し交差することで二重螺旋構造を形成し、ここでは、第一溝164を第一面の直線セグメントと変向セグメントで構成させそして第二溝264を第二面の直線セグメントと変向セグメントで構成させる。
第一溝内の化学品は下記のシーケンスを繰り返し受ける:(a)左巻き乱流、(b)左巻き乱流で、第二溝内に位置する化学品とのせん断交差、(c)右巻き乱流、(d)右巻き乱流、(e)右巻き乱流で、第二溝内に位置する化学品とのせん断交差、(f)左巻き乱流。
図12に、溝の形状、相対的位置および交差をより良く見ることができるようにいくらか簡潔化した様式で図10の溝を示す。この図において、2本の溝がある迎え角およびせん断速度で交差することが分かるであろう。各溝は溝を2本以上含み、これらは交差地点で一緒になり、一緒になった形態で移動し、次に2本以上の溝に分かれた後、再び一緒になる。
図13(A)−(C)は図9の溝の平面図である。それに溝164単独(図13(C))、溝264単独(図13(A))、および264と一緒に重ね合わせた164(図13(B))を示す。この溝の交差地点に溝164の中心線164Cと溝264の中心線264Cを示す。この中心線間の開先角度αを溝2本の「迎え角」として定義する。
化学的に混合して反応させる装置のユニット複数を次々にか或は縦に1列に並べて用いることができる。次々または縦に1列に並べた様式で如何なる数でニットを組み込むかは、望ましい化学処理結果を得ることに応じて本分野の技術者が成すべきデザイン選択である。
図9および10で分かるように、変向部分(例えば171T)の所に作り出されるところの溝壁の個々の角度は、ケイ素が有する結晶面の配向による。例示する実施例では各薄板にケイ素ウエハーを含め、このウエハーは{100}結晶面にこのウエハーの主要な平面を有する。直線セグメント(例えば171S、271S)の側面が{100}結晶面になるようにこれらを配列する。異方性エッチでエッチングすると、このセグメントの主要な側面は垂直から57度の角度で斜めに切られて{111}結晶面内に位置することになる。直接セグメント171Sと変向セグメント171Tの間の外側隅は正確に直角ではなく、2つの、いわゆる傾斜切り子面(これは{210}結晶面である)で斜めに切られ、このように傾斜隅を形成する[これは図9および10で最も良く分かる]。
装置の製造
多段階製造過程で本発明の装置を達成する。最初に、一組の平面薄板、即ちウエハーを加工して各薄板の主要な片面または両面にか或はこの薄板の厚みを通して通路を所望の模様で作り出す。次に、上記薄板を一緒に結合させて交差する溝(この溝は化学品が通るに適応している)を複数形成させる。
本図の好適な態様では、上記薄板を配置しそして隣接する薄板内の溝の位置を決めるように正確に配向させる。上記溝は各々の薄板に沿って連続または不連続であってもよい。不連続な溝の場合、隣接する薄板間でそこを通る連続通路が生じるに充分な如くつながる様式でこれらを配置する。典型的な溝を、第一面内の直線セグメントと変向セグメント、第二面内の直線セグメントと変向セグメント、およびこの2つの面間の過渡セグメントで構成させる。1つの溝の直線セグメントまたは変向セグメントを、全体が1つの薄板内に位置するグルーブ、即ち谷として形成させてもよい。このグルーブを組み立てると、このブルーブは、隣接する薄板の面する平らな表面と協力して、該溝の断面を密封する。これは、図4において、分配用多岐管40の断面図で最も良く示されている(40−1、40−2および40−3として見られる)。隣接する薄板の面する表面に位置する鏡像グルーブ、即ち谷を協力させることで対称的な断面を有する溝を形成させてもよい。これは、図4において、収集用多岐管50の断面図で最も良く示されている(50−1、50−2、50−3、50−4および50−5として見られる)。この溝の過渡セグメントは、薄板を貫いていて第一薄板上の溝セグメントを第二薄板上の別のセグメントにか或は分配用もしくは収集用多岐管につなげている通路であってもよい。これは、図5において、垂直路64A3Vから64D3Vの断面図で最も良く示されている。
薄板の加工
薄板を加工して通路を形成させる過程は、減法方法(subtractive processes)、付加方法(additive processes)および成形方法(forming processes)から成る群から選択される方法で実施可能である。減法方法には化学的エッチング、電気化学加工(ECM)、放電加工(EDM)、レーザーアブレーション、ドリル加工および切削、摩滅研磨および単ダイアモンド点カッティング(single diamond point cutting)(例えばセラミック品の加工で用いられる如き)が含まれる。付加方法には付着方法、例えば電型法、選択的メッキ、化学蒸着、ステレオリソグラフィック光成形および溶接が含まれる。成形方法には鋳込み、流し込みおよび打ち抜きが含まれる。その処理した薄板を結合させる前に、この薄板に任意に耐摩耗性コーティング物、例えば半金属の炭化吻などを薄膜の形態で付着させることも可能である。
構成材料
薄板材料の選択は、混合して反応させるべき化学品に対して材料が示す適合性を基とする。本明細書で用いる如き「混合して反応させるべき化学品に対して示す適合性」には、これらに限定するものでないが、化学的劣化に対する抵抗力;操作条件、例えば温度および圧力;伝熱要求;薄板内に作り出すように要求される特徴(サイズ、幾何形状および精度が含まれる);薄板材料の密封性;および経済的考慮が含まれる。
本発明の混合/反応ユニットの構築では多様な材料が使用可能である。特に極めて小さい断面の通路を有する混合/反応ユニットが望まれる場合、例えば迅速に反応する気体を処理すべき場合などでは、フォトリソグラフィック技術で加工可能な結晶性材料を用いることができる。このような結晶性材料には典型的に周期律表のIII族からV族の元素、例えばケイ素などが含まれる。化学品の攻撃に対して抵抗力を有することで選択される他の化合物材料も該薄板の加工でか或はこの薄板上のコーティング物として使用可能である。セラミック材料、例えば炭化ケイ素、炭化タングステン、アルミナおよびサファイアなども使用可能であり、これらは例えば公知成形技術、プレス加工技術および焼結技術などで該薄板に成形可能である。例えば、化学蒸着技術などで該薄板の表面に薄膜を付着させることで、該通路が化学品の攻撃に対して示す抵抗力を向上させるか或は該薄板の接着を助長することができる。ガラス材料、例えば融解石英、高純度シリカガラスおよびボロシリケートガラスなどに加えて、複合材料、例えばセラミック複合体およびポリマー複合体などを用いることができる。
例えば、半導体電子工学構成要素の製造で用いられるウエハーと同様なウエハー、例えば単結晶ケイ素ウエハーなどを用いることができる。このようなケイ素ウエハーの場合、減法技術の組み合わせを用いて通路を作り出すことができる。その後、その薄板を正確な配列で積み重ねて一緒に結合させることにより(接着または締め付けなどで)一体式構造物にする。図1の実施例で示すように、3枚の薄板を1つの装置として連結させる。上記薄板は同じか或は異なる材料で出来ていてもよい。外側の薄板はケイ素であってもよいか、或は保護材料、例えば金属、セラミック、複合材料またはガラスなどであってもよいが、内側の薄板を典型的にはケイ素にする。薄板全部がケイ素である場合、熱融解結合がこの薄板を結合させるに好適な方法である、と言うのは、達成される結合部の強度が薄板自身の強度に近付くからである。
装置の運転
図1−3を参照して、反応させるべき2つの材料を入り口20、24に通してユニットの中に流し込むと、それらは垂直路20V、24Vを通って分配用多岐管40、44に入った後、ミキサー配列60に流れ込む。このミキサー配列60を所望温度に維持する目的で任意に温度制御手段(示していない)を用いてもよい。その混合された材料は収集用多岐管50内に集められた後、垂直通路30Vを通って出口30に導かれるか、或は垂直通路34Vを通って出口34に導かれる。
微細加工の追加的工程制御素子、例えばプロポーショナルバルブ、圧力センサー、温度センサーおよび流れセンサーなどを本発明の構造物に組み込むことも可能である。このような素子を外部制御と一緒に用いることにより、この一体式化学処理ユニット内で起こる反応体の流れを調節することができ、従って滞留時間を管理することができる。本発明の一体式構造物を用いて如何なる迅速化学過程も実施可能であり、例えば加水分解、ニトロ化、重合および酸化などを実施することができる。
薄板の製造
好適な態様において、この製造方法の大部分の段階は、一般に、ケイ素ウエハーで知られる半導体加工技術に相当する。各ウエハーの各側にパターンを作り出すためのフォトツール(photo−tools)を、よく知られているコンピューター補助設計技術で調製する。主要な表面に{100}結晶面および他の配向を有していて既に研磨されたケイ素ウエハーは商業的給源から購入可能である。この研磨されているウエハーを最初に一般によく知られている洗浄技術、例えば「RCA方法」などで奇麗にする。よく知られている標準技術を用いてそのウエハー上に酸化物フィルムを成長させる。公知化学蒸着方法を用いてその酸化物層上に窒化物層を付着させる。この窒化物層は、ケイ素のエッチングで用いるエッチ(etch)による攻撃からその酸化物を保護する。フォトレジスト製造業者の指示に従い、よく知られているスピンコーティング技術でフォトレジストを取り付ける。
最初に、所望パターンの画像を有するフォトツールで上記ウエハーをマスクすることを通して、所望パターンを生じさせるが、ここでは、これを該ウエハーの結晶面に関して正確に整列させる。典型的には、このパターンの直線部分を{110}結晶面に沿って配列させる。上記フォトレジストを露光させて現像した後、現像されなかったフォトレジストを除去して窒化物/酸化物フィルム層の一部を露出させる。最終的に、この露出した窒化物/酸化物フィルムにエッチングを受けさせることにより、所望パターンを有する窒化物/酸化物フィルムのネガ画像を生じさせる。
等方性または異方性いずれかのエッチ(これの選択は所望通路の形状に依存する)を用いてケイ素のエッチングを行うことにより、上記ウエハーの表面に通路を形成させる。湾曲した形状物のエッチングでは等方性エッチを用いる。直線形状物では、通路の所望断面形状に応じていずれかのエッチを用いることができる。台形の断面が望まれている場合、異方性エッチを用いる。
一定のウエハーで、それの主要表面の両方を同じエッチでエッチングする場合、このウエハーの両側をレジストでマスクし、各表面に所望パターンでレジストを露光させ、現像し、洗浄した後、窒化物/酸化物のエッチングを両表面同時に行ってもよい。次に、ケイ素のエッチングを両表面同時に行ってもよい。このウエハーの各側で異なる種類のエッチング液を用いる場合、1番目のエッチに関する段階が全部完了した後、2番目のエッチに関する段階を繰り返す。このエッチング段階全部が完了した後、典型的にはパルス型ネオジム−YAGレーザーカッティングシステムを用いて上記ウエハーを貫くレーザーカッティングを行うことにより、このウエハーを貫通する垂直通路、即ちバイアスを形成させる。レーザーカッティング後、このウエハーを再び洗浄することでカッティングくずを除去する。残存するネガ画像の窒化物層を適切な溶媒、例えば沸騰する燐酸などでそのウエハーから除去することにより、無傷の酸化物層を露出させる。この残存する酸化物層のネガ画像を適切な溶媒、例えば緩衝フッ化水素などで任意にそのウエハーから除去してもよい。この上に記述した如き技術を用いてそのウエハーを再び洗浄する。
該薄板の材料に応じて他の技術も使用可能である。薄板がIII、IVまたはV族の材料で構成されている場合、これらは、エッチングし、研磨し、ドリル加工しそして磨き研磨する技術を用いて加工可能である。ガラス、パイレックスまたは融解シリカで出来ている薄板の場合、これらは、ガラスを切断し、ドリル加工し、研磨しそして磨き研磨する通常技術を用いて加工可能である。セラミック材料で出来ている薄板の場合、これらは、よく知られている技術を用いてスリップキャスティングし、プレス加工で圧密化しそして焼成することで成形可能である。
該薄板全部を個別に加工した後、これらの薄板を正確に配列させる様式で注意深く積み重ねて融解接着させる。ケイ素薄板の良好な接着を達成するには、その表面は高度に平らでなければならず、そして各表面の酸化物層は無傷でなければならない。ケイ素はいくらか赤外線を透過することから、任意に各ウエハー上に配列の印を付けて、赤外ビデオカメラ付きの顕微鏡を用いることにより、上記ウエハーを融解接着させる前にそれらが正確に配列していることを確保することができる。外側の薄板をガラスで構成させる場合、その後、上記薄板を、既に合着させた内側の薄板積み重ね物に陽極接着させる。
本明細書の上に挙げた如き本発明の教示の利点を身につけた本分野の技術者はそれの修飾形を数多く生み出し得るであろう。このような修飾形は本発明の範囲の精神から逸脱しない限り成し得ることは容易に理解されるであろう。従って、そのような修飾形は添付請求の範囲に挙げる如き本発明の範囲内に包含されると解釈されるべきである。
本願発明の好ましい態様を整理して記載すれば、下記のとおりである。
1. 1種以上の化学品を化学的に混合して反応させるに適した一体式構造物で用いるための装置であって、一緒に連結している複数の薄板を含み、そしてその中を通るように作られていて1種以上の化学品が通るに適応した交差する溝を複数有し、
上記薄板が、該1種以上の化学品に適合性を示すように選択された材料を含み、
上記溝が、化学反応が物質移動の理由で制限されないような充分な迎え角およびせん断速度で化学品がその中の交差点で一緒になるように形成されている、
装置。
2. 該溝が一般に平らで第一溝が第一面に位置しておりそして第二溝が第二面に位置しており、ここで、該第一面と第二面が平行で互いに隣接しており、そして該溝が一般に曲がりくねっていて交差地点で該第一溝と第二溝がせん断様式で繰り返し交差して迎え角を作るように互いから片寄っている上記第1項の装置。
3. 2本以上の溝が交差地点で20から160度の迎え角を作るように位置している上記第2項の装置。
4. 該迎え角が70−110度である上記第3項の装置。
5. 該迎え角が90度である上記第3項の装置。
6. せん断速度が境界層の生成を崩壊させるに充分である上記第1項の装置。
7. 2本以上の溝が上述した迎え角およびせん断速度で交差し、各溝が2本以上の溝を含んでいて、これらが交差地点で一緒になり、一緒になった形態で移動し、次に2本以上の溝に分かれた後、再び一緒になる上記第1項の装置。
8. 少なくとも2本の溝が繰り返し交差して二重螺旋形態を形成し、ここで、
第一溝が第一面内の直線セグメントおよび変向セグメントで構成されており、
第二溝が第二面内の直線セグメントおよび変向セグメントで構成されており、ここで、
該第一溝内の化学品が繰り返し下記のシーケンス:
(a)左巻き乱流、
(b)左巻き乱流で、第二溝内の化学品とのせん断交差、
(c)右巻き乱流、
(d)右巻き乱流、
(e)右巻き乱流で、第二溝内の化学品とのせん断交差、および
(f)左巻き乱流、
を受ける、
上記第7項の装置。
9. 隣接する平らな表面で溝が限定されている上記第1項の装置。
10. 直線溝部分いずれかが示す水力直径に対する長さの比率が8未満である上記第9項の装置。
11. 上記薄板が周期律表のIII、IVおよびV族元素、セラミック、ガラス、ポリマー、複合体および金属から成る群から選択される材料を更に含む上記第1項の装置。
12. 上記薄板が周期律表のIII、IVおよびV族元素から成る群から選択される材料を更に含む上記第11項の装置。
13. 上記薄板が周期律表のIVA族から選択される材料を更に含む上記第12項の装置。
14. 上記薄板がケイ素およびゲルマニウムから成る群から選択される材料を更に含む上記第13項の装置。
15. 上記薄板が炭化ケイ素、サファイアおよびアルミナから成る群から選択されるセラミックを更に含む上記第11項の装置。
16. 1種以上の化学品を化学的に混合して反応させるに適した一体式構造物で用いるための装置の製造方法であって、
(a)各々が上部と下部を有していてその上か或はその中を通る所望の通路を形成させるに充分な所望厚を有する薄板を複数加工し、
(b)所望の迎え角で交差する溝が生じるように正確に配列させて上記薄板を一緒に積み重ねて接着させる、
ことを含む方法。
17. 上記加工段階(a)を減法方法、付加方法および成形方法から成る群から選択される方法で実施する上記第16項の方法。
18. 上記減法方法を化学的エッチング、電気化学加工、放電加工、レーザーアブレーション、ドリル加工および切削、摩滅研磨および単ダイアモンド点カッティングから成る群から選択する上記第17項の方法。
19. 上記付加方法を電型法、選択的メッキ、化学蒸着、ステレオリソグラフィック光成形および溶接から成る群から選択する上記第17項の方法。
20. 上記成形方法を鋳込み、流し込みおよび打ち抜きから成る群から選択する上記第17項の方法。
21. 化学品を混合して反応させる方法であって、
(a)上記第1項の構造物の溝の中に1種以上の化学品を導入し、
(b)上記化学品を導いて溝に沿って移動させ、
(c)迎え角およびせん断速度が上記第1項に示したように充分であるような移動速度になるように移動を調整し、
(d)反応生成物を取り出す、
ことを含む方法。
Claims (3)
- (a)少なくとも1つの入り口(20、24)と少なくとも1つの出口(30、34)とを有する複数の薄板(100、200、300)を具備し、該薄板の各々が、平坦な第1の表面と平坦な第2の表面とを有し、それぞれの第1の表面が隣接する第2の表面に結合されるように、薄板が相互に連結されており、薄板が、複数の交差する溝を有し、該溝が、該入り口(20、24)及び該出口(30、34)に連結されており、
(b)該溝(164,264)が、略平坦であり、1つ又は複数の溝(164)が薄板の平坦な第1の表面内の溝として形成されており、1つ又は複数の溝(264)が隣接する薄板の平坦な第2の表面内の溝として形成されており、
(c)該溝(164,264)が、全体として曲がりくねっていて、相互にずれていて、1つの薄板とそれに隣接する薄板の溝(164,264)が、並置する様式で繰り返し交差し、交差する点において所定の迎え角(α)を形成している
ことを特徴とする混合装置。 - 1つ以上の化学品を化学的に混合して反応させる、一体の構造で使用される装置の作成方法であって、
(a)各々が、所望の通路を形成するのに十分な厚さと頂部と底部とを有する複数の薄板(100,200,300)を処理し、
(b)所望の迎え角で繰り返し交差する溝(164,264)を形成するように正確に整合させて薄板を重ねて固定すること
を含むことを特徴とする作成方法。 - 化学品を混合して反応させる方法において、
(a)請求項1に従う構造の溝内に1つ以上の化学品を導入し、
(b)溝を通過するように化学品を方向付け、
(c)化学品の反応が物質移動の理由によって制限されないような十分な迎え角及びせん断速度で、化学品が溝の交差点において結合されるような移送速度で化学品の移送を調整し、
(d)反応生成物を取り出す
ことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/280,046 US5595712A (en) | 1994-07-25 | 1994-07-25 | Chemical mixing and reaction apparatus |
US08/280,046 | 1994-07-25 | ||
PCT/US1995/009834 WO1996003206A1 (en) | 1994-07-25 | 1995-07-20 | Chemical mixing and reaction apparatus and processes for the preparation thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10503708A JPH10503708A (ja) | 1998-04-07 |
JP3862749B2 true JP3862749B2 (ja) | 2006-12-27 |
Family
ID=23071411
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50599796A Expired - Fee Related JP3862749B2 (ja) | 1994-07-25 | 1995-07-20 | 化学的に混合して反応を起こさせる装置およびそれの製造方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5595712A (ja) |
EP (1) | EP0772490B1 (ja) |
JP (1) | JP3862749B2 (ja) |
KR (1) | KR100361411B1 (ja) |
AT (1) | ATE173181T1 (ja) |
BR (1) | BR9508431A (ja) |
DE (1) | DE69505986T2 (ja) |
RU (1) | RU2149054C1 (ja) |
WO (1) | WO1996003206A1 (ja) |
Families Citing this family (138)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
MY110990A (en) * | 1993-06-03 | 1999-07-31 | Atomaer Pty Ltd | Multiphase staged passive reactor |
US5571410A (en) * | 1994-10-19 | 1996-11-05 | Hewlett Packard Company | Fully integrated miniaturized planar liquid sample handling and analysis device |
US5658537A (en) * | 1995-07-18 | 1997-08-19 | Basf Corporation | Plate-type chemical reactor |
US6063633A (en) | 1996-02-28 | 2000-05-16 | The University Of Houston | Catalyst testing process and apparatus |
US7244622B2 (en) | 1996-04-03 | 2007-07-17 | Applera Corporation | Device and method for multiple analyte detection |
US6825047B1 (en) | 1996-04-03 | 2004-11-30 | Applera Corporation | Device and method for multiple analyte detection |
JP4912517B2 (ja) * | 1996-04-03 | 2012-04-11 | アプライド バイオシステムズ リミテッド ライアビリティー カンパニー | 複数の分析物の検出のためのデバイスおよび方法 |
US7235406B1 (en) | 1996-04-03 | 2007-06-26 | Applera Corporation | Nucleic acid analysis device |
JPH1094723A (ja) * | 1996-09-20 | 1998-04-14 | Eiichi Sugiura | 気体混合液中の気体の微粒化装置 |
JP2001521622A (ja) * | 1997-04-04 | 2001-11-06 | カリパー テクノロジーズ コーポレイション | 閉ループ生化学分析器 |
US5993750A (en) * | 1997-04-11 | 1999-11-30 | Eastman Kodak Company | Integrated ceramic micro-chemical plant |
US5961932A (en) * | 1997-06-20 | 1999-10-05 | Eastman Kodak Company | Reaction chamber for an integrated micro-ceramic chemical plant |
US5842787A (en) | 1997-10-09 | 1998-12-01 | Caliper Technologies Corporation | Microfluidic systems incorporating varied channel dimensions |
AU1517999A (en) * | 1997-10-15 | 1999-05-03 | Aclara Biosciences, Inc. | Laminate microstructure device and method for making same |
DE19746583A1 (de) * | 1997-10-22 | 1999-04-29 | Merck Patent Gmbh | Mikromischer |
DE19746584A1 (de) * | 1997-10-22 | 1999-04-29 | Merck Patent Gmbh | Gehäuse für Mikromischer |
EP1054694A2 (en) | 1998-02-13 | 2000-11-29 | Selective Genetics, Inc. | Concurrent flow mixing methods and apparatuses for the preparation of gene therapy vectors and compositions prepared thereby |
US6149882A (en) * | 1998-06-09 | 2000-11-21 | Symyx Technologies, Inc. | Parallel fixed bed reactor and fluid contacting apparatus |
US20050244954A1 (en) * | 1998-06-23 | 2005-11-03 | Blackburn Gary F | Binding acceleration techniques for the detection of analytes |
US6494614B1 (en) * | 1998-07-27 | 2002-12-17 | Battelle Memorial Institute | Laminated microchannel devices, mixing units and method of making same |
WO2000019193A1 (en) * | 1998-09-28 | 2000-04-06 | Varian Inc | Split flow electrospray device for mass spectrometry |
US6572830B1 (en) | 1998-10-09 | 2003-06-03 | Motorola, Inc. | Integrated multilayered microfludic devices and methods for making the same |
US6592696B1 (en) | 1998-10-09 | 2003-07-15 | Motorola, Inc. | Method for fabricating a multilayered structure and the structures formed by the method |
US7150994B2 (en) * | 1999-03-03 | 2006-12-19 | Symyx Technologies, Inc. | Parallel flow process optimization reactor |
FR2790684B1 (fr) * | 1999-03-09 | 2001-05-11 | Biomerieux Sa | Appareil permettant en son sein le transfert de liquides par capillarite |
US6942771B1 (en) * | 1999-04-21 | 2005-09-13 | Clinical Micro Sensors, Inc. | Microfluidic systems in the electrochemical detection of target analytes |
US20040053290A1 (en) * | 2000-01-11 | 2004-03-18 | Terbrueggen Robert Henry | Devices and methods for biochip multiplexing |
US20020177135A1 (en) * | 1999-07-27 | 2002-11-28 | Doung Hau H. | Devices and methods for biochip multiplexing |
DE19927554C2 (de) * | 1999-06-16 | 2002-12-19 | Inst Mikrotechnik Mainz Gmbh | Mikromischer |
DE19935433A1 (de) * | 1999-08-01 | 2001-03-01 | Febit Ferrarius Biotech Gmbh | Mikrofluidischer Reaktionsträger |
US6932951B1 (en) | 1999-10-29 | 2005-08-23 | Massachusetts Institute Of Technology | Microfabricated chemical reactor |
US20020112961A1 (en) * | 1999-12-02 | 2002-08-22 | Nanostream, Inc. | Multi-layer microfluidic device fabrication |
US7241423B2 (en) * | 2000-02-03 | 2007-07-10 | Cellular Process Chemistry, Inc. | Enhancing fluid flow in a stacked plate microreactor |
US7056477B1 (en) | 2000-02-03 | 2006-06-06 | Cellular Process Chemistry, Inc. | Modular chemical production system incorporating a microreactor |
US6537506B1 (en) | 2000-02-03 | 2003-03-25 | Cellular Process Chemistry, Inc. | Miniaturized reaction apparatus |
US7435392B2 (en) * | 2000-02-03 | 2008-10-14 | Acclavis, Llc | Scalable continuous production system |
ATE287291T1 (de) | 2000-03-07 | 2005-02-15 | Symyx Technologies Inc | Prozessoptimierungsreaktor mit parallelem durchfluss |
US7485454B1 (en) * | 2000-03-10 | 2009-02-03 | Bioprocessors Corp. | Microreactor |
US6561208B1 (en) | 2000-04-14 | 2003-05-13 | Nanostream, Inc. | Fluidic impedances in microfluidic system |
DE10025699A1 (de) * | 2000-05-23 | 2001-12-06 | Merck Patent Gmbh | Emulgier- und Trennvorrichtung für flüssige Phasen |
US7413714B1 (en) | 2000-07-16 | 2008-08-19 | Ymc Co. Ltd. | Sequential reaction system |
DE10036602A1 (de) * | 2000-07-27 | 2002-02-14 | Cpc Cellular Process Chemistry | Mikroreaktor für Reaktionen zwischen Gasen und Flüssigkeiten |
AU2001281076A1 (en) * | 2000-08-07 | 2002-02-18 | Nanostream, Inc. | Fluidic mixer in microfluidic system |
US6890093B2 (en) * | 2000-08-07 | 2005-05-10 | Nanostream, Inc. | Multi-stream microfludic mixers |
GB2372948A (en) * | 2000-10-31 | 2002-09-11 | Chart Heat Exchangers Ltd | A bonded stack of plates forming a heat exchanger and/or fluid mixing apparatus |
US6632014B2 (en) * | 2000-12-04 | 2003-10-14 | Yeda Research And Development Co., Ltd. | Device and method for mixing substances |
TWI241343B (en) * | 2000-12-07 | 2005-10-11 | Effector Cell Inst Inc | Well unit for detecting cell chemotaxis and separating chemotactic cells |
JP3738899B2 (ja) * | 2000-12-07 | 2006-01-25 | 株式会社 エフェクター細胞研究所 | 微量試料処理装置 |
US7101514B2 (en) | 2001-01-31 | 2006-09-05 | Po-Hao Adam Huang | Control devices for evaporative chemical mixing/reaction |
DE10106952C2 (de) * | 2001-02-15 | 2003-01-16 | Cognis Deutschland Gmbh | Chip-Reaktor |
US7118917B2 (en) | 2001-03-07 | 2006-10-10 | Symyx Technologies, Inc. | Parallel flow reactor having improved thermal control |
US20040058407A1 (en) * | 2001-04-10 | 2004-03-25 | Miller Scott E. | Reactor systems having a light-interacting component |
US20040132166A1 (en) * | 2001-04-10 | 2004-07-08 | Bioprocessors Corp. | Determination and/or control of reactor environmental conditions |
JP2004527247A (ja) * | 2001-04-10 | 2004-09-09 | バイオプロセッサーズ コーポレイション | 微小発酵器デバイスおよび細胞ベースのスクリーニング法 |
US20040058437A1 (en) * | 2001-04-10 | 2004-03-25 | Rodgers Seth T. | Materials and reactor systems having humidity and gas control |
US20050032204A1 (en) * | 2001-04-10 | 2005-02-10 | Bioprocessors Corp. | Microreactor architecture and methods |
US20050009101A1 (en) * | 2001-05-17 | 2005-01-13 | Motorola, Inc. | Microfluidic devices comprising biochannels |
JP3694877B2 (ja) * | 2001-05-28 | 2005-09-14 | 株式会社山武 | マイクロ混合器 |
US6919046B2 (en) * | 2001-06-07 | 2005-07-19 | Nanostream, Inc. | Microfluidic analytical devices and methods |
JP2005501711A (ja) * | 2001-06-27 | 2005-01-20 | エヌユー エレメント, インコーポレイテッド | 流体処理デバイス用モジュラーマイクロリアクタアーキテクチャおよび方法 |
US6939632B2 (en) * | 2001-08-06 | 2005-09-06 | Massachusetts Institute Of Technology | Thermally efficient micromachined device |
US20030029795A1 (en) * | 2001-08-07 | 2003-02-13 | Galik George M. | Apparatus and methods for dispersing one fluid in another fluid using a permeable body |
US20030175947A1 (en) * | 2001-11-05 | 2003-09-18 | Liu Robin Hui | Enhanced mixing in microfluidic devices |
US6877892B2 (en) * | 2002-01-11 | 2005-04-12 | Nanostream, Inc. | Multi-stream microfluidic aperture mixers |
US20050026134A1 (en) * | 2002-04-10 | 2005-02-03 | Bioprocessors Corp. | Systems and methods for control of pH and other reactor environment conditions |
AU2003235968A1 (en) * | 2002-04-30 | 2003-11-17 | Arkray, Inc. | Analytical instrument |
JP4855680B2 (ja) * | 2002-05-09 | 2012-01-18 | ザ・ユニバーシティ・オブ・シカゴ | 圧力駆動プラグによる輸送と反応のための装置および方法 |
TWI229931B (en) * | 2002-05-15 | 2005-03-21 | Amkor Technology Inc | Solder ball and conductive wire for a semiconductor package, and its manufacturing method, and its evaporation method |
US20040011650A1 (en) * | 2002-07-22 | 2004-01-22 | Frederic Zenhausern | Method and apparatus for manipulating polarizable analytes via dielectrophoresis |
EP1398077A1 (en) * | 2002-09-16 | 2004-03-17 | Corning Incorporated | Method and microfluidic reaction for photocatalysis |
GB2394912B (en) * | 2002-11-01 | 2006-07-12 | Norchip As | A microfabricated fluidic device for fragmentation |
DE20218972U1 (de) * | 2002-12-07 | 2003-02-13 | Ehrfeld Mikrotechnik Ag | Statischer Laminationsmikrovermischer |
CA2510166A1 (en) | 2002-12-20 | 2004-09-30 | Caliper Life Sciences, Inc. | Single molecule amplification and detection of dna |
TW200506364A (en) | 2003-04-09 | 2005-02-16 | Effector Cell Inst Inc | Apparatus for detecting cell chemo-taxis |
EP1618372A2 (en) * | 2003-04-14 | 2006-01-25 | Cellular Process Chemistry, Inc. | System and method for determining optimal reaction parameters using continuously running process |
US7442350B1 (en) * | 2003-04-17 | 2008-10-28 | Uop Llc | Plate design for mixer sparger |
JP4804718B2 (ja) * | 2003-04-28 | 2011-11-02 | 富士フイルム株式会社 | 流体混合装置、及び、流体混合システム |
US20040228211A1 (en) * | 2003-05-13 | 2004-11-18 | Koripella Chowdary R. | Internal micromixer |
US7435391B2 (en) * | 2003-05-23 | 2008-10-14 | Lucent Technologies Inc. | Light-mediated micro-chemical reactors |
US20050026273A1 (en) * | 2003-06-05 | 2005-02-03 | Zarur Andrey J. | Reactor with memory component |
JP4708342B2 (ja) | 2003-07-25 | 2011-06-22 | デックスコム・インコーポレーテッド | 埋設可能な装置に用いる酸素増大膜システム |
DE10333922B4 (de) * | 2003-07-25 | 2005-11-17 | Wella Ag | Bauteile für statische Mikromischer, daraus aufgebaute Mikromischer und deren Verwendung zum Mischen, zum Dispergieren oder zur Durchführung chemischer Reaktionen |
JP4559790B2 (ja) * | 2003-09-05 | 2010-10-13 | 大日本印刷株式会社 | 水素製造用のマイクロリアクターおよびその製造方法 |
JP4504751B2 (ja) * | 2003-10-07 | 2010-07-14 | 大日本印刷株式会社 | 水素製造用のマイクロリアクター |
US8066955B2 (en) * | 2003-10-17 | 2011-11-29 | James M. Pinchot | Processing apparatus fabrication |
US6994245B2 (en) * | 2003-10-17 | 2006-02-07 | James M. Pinchot | Micro-reactor fabrication |
US20050084072A1 (en) * | 2003-10-17 | 2005-04-21 | Jmp Industries, Inc., An Ohio Corporation | Collimator fabrication |
EP1525917A1 (en) * | 2003-10-23 | 2005-04-27 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Microfluidic device with feed-through |
EP1526290A1 (en) * | 2003-10-23 | 2005-04-27 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Microchannel with a non-closing valve |
US7080937B1 (en) * | 2003-11-13 | 2006-07-25 | Automatic Bar Controls, Inc. | Nonclogging static mixer |
US20070140042A1 (en) * | 2004-06-04 | 2007-06-21 | Gerhard Schanz | Multicomponent packaging with static micromixer |
EP1761331A2 (en) * | 2004-06-07 | 2007-03-14 | Bioprocessors Corporation | Control of reactor environmental conditions |
EP1765487A1 (en) * | 2004-06-07 | 2007-03-28 | Bioprocessors Corporation | Reactor mixing |
JP2008501365A (ja) * | 2004-06-07 | 2008-01-24 | バイオプロセッサーズ コーポレイション | 反応器における剪断力の生成 |
WO2005121307A2 (en) * | 2004-06-07 | 2005-12-22 | Bioprocessor Corp. | Gas control in a microreactor |
US7955504B1 (en) | 2004-10-06 | 2011-06-07 | State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University | Microfluidic devices, particularly filtration devices comprising polymeric membranes, and method for their manufacture and use |
US7391936B2 (en) * | 2005-01-21 | 2008-06-24 | Lucent Technologies, Inc. | Microfluidic sensors and methods for making the same |
WO2006110458A1 (en) * | 2005-04-08 | 2006-10-19 | Velocys, Inc. | Flow control through plural, parallel connecting channels to/from a manifold |
US20060272713A1 (en) * | 2005-05-31 | 2006-12-07 | Garner Sean M | Microfluidic devices with integrated tubular structures |
US20060285433A1 (en) * | 2005-06-20 | 2006-12-21 | Jing-Tang Yang | Fluidic mixer of serpentine channel incorporated with staggered sudden-expansion and convergent cross sections |
CA2618105A1 (en) * | 2005-08-11 | 2007-03-01 | Daniel M. Hartmann | Microfluidic reduction of diffusion and complience effect in a fluid mixing region |
FR2891911B1 (fr) * | 2005-10-07 | 2008-04-25 | Horiba Abx Sas Soc Par Actions | "dispositif modulaire destine a l'analyse d'un fluide biologique, notamment sanguin" |
US20090298139A1 (en) * | 2006-02-28 | 2009-12-03 | Jin Zou | Method for Polymer Synthesis Using Microfluidic Enzymatic Cascade |
TW200738328A (en) | 2006-03-31 | 2007-10-16 | Lonza Ag | Micro-reactor system assembly |
US20080108122A1 (en) * | 2006-09-01 | 2008-05-08 | State of Oregon acting by and through the State Board of Higher Education on behalf of Oregon | Microchemical nanofactories |
WO2008052168A2 (en) * | 2006-10-26 | 2008-05-02 | Symyx Technologies, Inc. | High pressure parallel fixed bed reactor and method |
US20080153152A1 (en) * | 2006-11-22 | 2008-06-26 | Akira Wakabayashi | Microfluidic chip |
US8206025B2 (en) | 2007-08-07 | 2012-06-26 | International Business Machines Corporation | Microfluid mixer, methods of use and methods of manufacture thereof |
US20090211977A1 (en) * | 2008-02-27 | 2009-08-27 | Oregon State University | Through-plate microchannel transfer devices |
US8414182B2 (en) * | 2008-03-28 | 2013-04-09 | State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University | Micromixers for nanomaterial production |
US8430558B1 (en) * | 2008-09-05 | 2013-04-30 | University Of Central Florida Research Foundation, Inc. | Microfluidic mixer having channel width variation for enhanced fluid mixing |
US20100081577A1 (en) * | 2008-09-30 | 2010-04-01 | Symyx Technologies, Inc. | Reactor systems and methods |
BRPI1007625B1 (pt) * | 2009-04-23 | 2020-03-10 | Koninklijke Philips N.V. | Sistema microfluídico para misturar um fluido, cartucho, e método para misturar fluidos |
AU2010257118B2 (en) * | 2009-06-04 | 2014-08-28 | Lockheed Martin Corporation | Multiple-sample microfluidic chip for DNA analysis |
US8801922B2 (en) * | 2009-06-24 | 2014-08-12 | State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University | Dialysis system |
JP2012531256A (ja) * | 2009-06-24 | 2012-12-10 | ステイト オブ オレゴン アクティング バイ アンド スルー ザ ステイト ボード オブ ハイヤー エデュケーション オン ビハーフ オブ オレゴン ステイト ユニバーシティー | 透析用マイクロ流体デバイス |
JP2011050936A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-03-17 | Nisso Engineering Co Ltd | 流通式管型反応装置 |
US20110189048A1 (en) * | 2009-12-05 | 2011-08-04 | Curtis James R | Modular dialysis system |
US8753515B2 (en) | 2009-12-05 | 2014-06-17 | Home Dialysis Plus, Ltd. | Dialysis system with ultrafiltration control |
WO2011084665A1 (en) | 2009-12-17 | 2011-07-14 | Actamax Surgical Materials Llc | Dispensing device having an array of laterally spaced tubes |
WO2011078790A1 (en) | 2009-12-23 | 2011-06-30 | Agency For Science, Technology And Research | Microfluidic mixing apparatus and method |
US8580161B2 (en) | 2010-05-04 | 2013-11-12 | State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University | Fluidic devices comprising photocontrollable units |
US8501009B2 (en) | 2010-06-07 | 2013-08-06 | State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University | Fluid purification system |
MX2013004184A (es) | 2010-10-15 | 2013-07-29 | Lockheed Corp | Diseño optico microfluidico. |
US9079140B2 (en) | 2011-04-13 | 2015-07-14 | Microfluidics International Corporation | Compact interaction chamber with multiple cross micro impinging jets |
ES2640953T3 (es) | 2011-10-07 | 2017-11-07 | Outset Medical, Inc. | Purificación de líquido de intercambio de calor para un sistema de diálisis |
US9322054B2 (en) | 2012-02-22 | 2016-04-26 | Lockheed Martin Corporation | Microfluidic cartridge |
KR101666425B1 (ko) * | 2013-11-25 | 2016-10-14 | 주식회사 엘지화학 | 미세 유로 반응기 |
ES2864727T3 (es) | 2014-04-29 | 2021-10-14 | Outset Medical Inc | Sistema y métodos de diálisis |
JP6310327B2 (ja) * | 2014-05-27 | 2018-04-11 | 株式会社エンプラス | 流体取扱装置 |
KR101647551B1 (ko) * | 2014-06-23 | 2016-08-23 | 경희대학교 산학협력단 | 미세입자 분리 장치 및 이를 이용한 분리 방법 |
US9943819B2 (en) | 2014-11-03 | 2018-04-17 | Singh Instrument LLC | Small-scale reactor having improved mixing |
EP3031518B1 (en) * | 2014-12-08 | 2021-01-20 | Lonza Ltd | Fluid mixing structure, continuous reaction unit, continuous reaction reactor and method of using the same |
DE102015205543A1 (de) * | 2015-03-26 | 2016-09-29 | Robert Bosch Gmbh | Hydraulikblock für ein Hydroaggregat einer Bremsregelung einer hydraulischen Fahrzeugbremsanlage |
DE102015113432A1 (de) | 2015-08-14 | 2017-02-16 | Karlsruher Institut für Technologie | Strömungsleitelemente in einem Kanal |
JP7025408B2 (ja) | 2016-08-19 | 2022-02-24 | アウトセット・メディカル・インコーポレイテッド | 腹膜透析システム及び方法 |
WO2021031201A1 (zh) * | 2019-08-22 | 2021-02-25 | 于志远 | 一种微通道反应器及制备锂电池正极材料和负极材料的前驱体微纳米粒子的方法 |
DE202020107313U1 (de) | 2019-09-13 | 2021-02-12 | Hte Gmbh The High Throughput Experimentation Company | Vorrichtung zur Untersuchung von chemischen Prozessen |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1160401A (en) * | 1967-02-15 | 1969-08-06 | British Motor Corp Ltd | Mixing Liquids. |
NL6917131A (ja) * | 1969-11-14 | 1971-05-18 | ||
US3881701A (en) * | 1973-09-17 | 1975-05-06 | Aerojet General Co | Fluid mixer reactor |
US3856270A (en) * | 1973-10-09 | 1974-12-24 | Fmc Corp | Static fluid mixing apparatus |
US4002289A (en) * | 1974-05-28 | 1977-01-11 | Moore Thomas B | Static-type mixer and receptacle |
US4222671A (en) * | 1978-09-05 | 1980-09-16 | Gilmore Oscar Patrick | Static mixer |
US4593446A (en) * | 1984-04-18 | 1986-06-10 | Hayner Paul F | Method of manufacturing a fluid flow restrictor |
JPS62108156A (ja) * | 1985-11-07 | 1987-05-19 | Sord Comput Corp | シリコン・ウエハ−キヤピラリイ・カラム |
FR2592320B1 (fr) * | 1985-12-30 | 1988-04-08 | Inst Francais Du Petrole | Nouveau procede d'oxydation d'une charge oxydable en phase gazeuse et reacteur pour la mise en oeuvre de ce procede. |
EP0285725B1 (en) * | 1987-04-10 | 1992-09-30 | Chugoku Kayaku Kabushiki Kaisha | Mixing apparatus |
US5252294A (en) * | 1988-06-01 | 1993-10-12 | Messerschmitt-Bolkow-Blohm Gmbh | Micromechanical structure |
FR2640620B1 (fr) * | 1988-12-20 | 1993-02-05 | Inst Francais Du Petrole | Procede de fabrication de pieces en materiau ceramique comportant des canaux calibres |
DE3926466C2 (de) * | 1989-08-10 | 1996-12-19 | Christoph Dipl Ing Caesar | Mikroreaktor zur Durchführung chemischer Reaktionen von zwei chemischen Stoffen mit starker Wärmetönung |
US5094788A (en) * | 1990-12-21 | 1992-03-10 | The Dow Chemical Company | Interfacial surface generator |
CH680788A5 (en) * | 1991-01-16 | 1992-11-13 | Alusuisse Lonza Services Ag | Filter or catalyst carrier - has structured flow channels and hollow zones for even exhaust gas flow without loss of pressure |
JP3025027B2 (ja) * | 1991-01-21 | 2000-03-27 | 株式会社日立製作所 | 酸素センサ |
DE69413012T2 (de) * | 1993-03-19 | 1999-03-25 | Du Pont | Integrierte vorrichtung für chemische verfahrensschritte und herstellungsverfahren dafür |
US5320139A (en) * | 1993-03-30 | 1994-06-14 | Millipore Corporation | Fluid delivery system |
-
1994
- 1994-07-25 US US08/280,046 patent/US5595712A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-07-20 EP EP95928291A patent/EP0772490B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-07-20 JP JP50599796A patent/JP3862749B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-07-20 RU RU97102694A patent/RU2149054C1/ru not_active IP Right Cessation
- 1995-07-20 AT AT95928291T patent/ATE173181T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-07-20 BR BR9508431A patent/BR9508431A/pt not_active IP Right Cessation
- 1995-07-20 KR KR1019970700480A patent/KR100361411B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1995-07-20 DE DE69505986T patent/DE69505986T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-07-20 WO PCT/US1995/009834 patent/WO1996003206A1/en active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10503708A (ja) | 1998-04-07 |
US5595712A (en) | 1997-01-21 |
DE69505986D1 (de) | 1998-12-17 |
KR970704510A (ko) | 1997-09-06 |
BR9508431A (pt) | 1998-06-09 |
EP0772490A1 (en) | 1997-05-14 |
RU2149054C1 (ru) | 2000-05-20 |
KR100361411B1 (ko) | 2003-02-11 |
DE69505986T2 (de) | 1999-05-20 |
WO1996003206A1 (en) | 1996-02-08 |
EP0772490B1 (en) | 1998-11-11 |
ATE173181T1 (de) | 1998-11-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060207 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20060508 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20060619 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060807 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060919 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060927 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101006 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111006 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121006 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131006 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |