JP6310327B2 - 流体取扱装置 - Google Patents
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Description
[2]前記第2貫通孔の少なくとも一方の開口部に、前記基板の前記一方の面側から前記他方の面側に向かうにつれて前記収容部から離れる傾斜面が形成されている、[1]に記載の流体取扱装置。
[3]前記基板の前記他方の面に、凹部が形成されており、前記フィルムの前記第3領域における端部は、前記凹部に収容されている、[1]または[2]に記載の流体取扱装置。
[4]前記基板は、前記第2貫通孔内の前記フィルムの端部と対向する位置に、補強部を有する、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の流体取扱装置。
[5]前記収容部は、毛細管現象により液体が移動可能な流路を有する、[1]〜[4]のいずれか一つに記載の流体取扱装置。
[6]前記伝達層は、金属薄膜または導電性インク層である、[1]〜[5]のいずれか一つに記載の流体取扱装置。
実施の形態1では、試薬や液体試料などの液体の加熱処理などを行うことができるマイクロチップ100について説明する。
図2および図3は、本発明の実施の形態1に係るマイクロチップ100の構成を示す図である。図2Aは、マイクロチップ100の平面図であり、図2Bは、図2Aに示されるB−B線の断面図であり、図2Cは、図2Aに示されるC−C線の断面図である。図3Aは、基板110の平面図であり、図3Bは、伝達層130が形成されたフィルム120の平面図である。
次に、図4を参照して、実施の形態1に係るマイクロチップ100の製造方法について説明する。マイクロチップ100は、以下に述べる工程により製造されうる。
次に、図5を参照して、実施の形態1に係るマイクロチップ100の使用方法について説明する。
以上のように、実施の形態1に係るマイクロチップ100では、第2貫通孔112を介して基板110の両側に伝達層130を配置することができる。ヒータ135および伝達層130は、基板110上において安定した状態で接触することができる。このため、伝達層130およびヒータ135は、十分な接触圧で接続されうる。実施の形態1に係るマイクロチップ100は、ヒータ以外にも、例えば差し込み式のコネクタを有する測定機器などに適切に設置することができ、これにより微量な物質について正確に測定や処理などを行うことができる。
実施の形態2では、毛細管現象により液体が移動可能な流路217を有し、試薬や液体試料などに電圧を印加することができるマイクロ流路チップ200について説明する。
図9は、実施の形態2に係るマイクロ流路チップ200の構成を示す図である。図9Aは、マイクロ流路チップ200の平面図であり、図9Bは、図9Aに示されるB−B線の断面図であり、図9Cは、図9Aに示されるC−C線の断面図である。
以上のように、実施の形態2に係るマイクロ流路チップ200でも、第2貫通孔112を介して基板210の両側に伝達層230を配置することができる。これにより、電極コネクタおよび伝達層230は、基板210上において安定した状態で接触することができる。このため、伝達層230および電極コネクタは、十分な接触圧で接続されうる。実施の形態2に係るマイクロ流路チップ200は、例えば差し込み式の電極コネクタを有する測定機器などに適切に設置することができ、これにより微量な物質について正確に測定や処理などを行うことができる。
14 マイクロチャネル(流路)
18 基板
20 プレート
26 リザーバ
28 電気伝達層
100、100c、200 マイクロ(流路)チップ
110、110a、110b、110c、110d、110e、110f、210 基板
111 第1貫通孔
111f 凹部
112、112a、112b 第2貫通孔
113、113f、213 収容部
114、114a 傾斜面
115 液体
116c 補強部
116d、116e 凹部
117 注入口
118 排出口
119 流路
120 フィルム
121 第1領域
122 第2領域
123 第3領域
130、230 伝達層
135 ヒータ
214 溝(凹部)
215 第4貫通孔
216 第5貫通孔
217 流路
218 第1凹部
219 第2凹部
Claims (6)
- 第1貫通孔または凹部と、第2貫通孔とを含む基板と、
第1領域、前記第1領域に隣接して配置された第2領域および前記第2領域に隣接して配置された第3領域を含むフィルムと、
前記フィルムの一方の面上に、前記第1領域、前記第2領域および前記第3領域に亘って配置された、電気または熱を伝達する伝達層と、
を有し、
前記フィルムの前記第1領域は、前記第1貫通孔の一方の開口部または前記凹部の開口部を閉塞することで液体を収容可能な収容部を形成するように、かつ前記伝達層の一部が前記収容部内に露出するように前記基板の一方の面に接合され、
前記フィルムの前記第2領域は、前記第2貫通孔内に配置され、
前記フィルムの前記第3領域は、前記伝達層の一部が外部に露出するように前記基板の他方の面に接合されている、
流体取扱装置。 - 前記第2貫通孔の少なくとも一方の開口部に、前記基板の前記一方の面側から前記他方の面側に向かうにつれて前記収容部から離れる傾斜面が形成されている、請求項1に記載の流体取扱装置。
- 前記基板の前記他方の面に、凹部が形成されており、
前記フィルムの前記第3領域における端部は、前記凹部に収容されている、
請求項1または請求項2に記載の流体取扱装置。 - 前記基板は、前記第2貫通孔内の前記フィルムの端部と対向する位置に、補強部を有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の流体取扱装置。
- 前記収容部は、毛細管現象により液体が移動可能な流路を有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の流体取扱装置。
- 前記伝達層は、金属薄膜または導電性インク層である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の流体取扱装置。
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