JP3858717B2 - セラミックコンデンサとその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はセラミックコンデンサとその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
この種セラミックコンデンサは誘電体層と誘電体層の表裏面にそれぞれ設けた電極とを備えた構成となっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
このようなセラミックコンデンサにおける要望としては大容量化が求められており、そのためには誘電体層の高誘電率化が求められている。しかしながら、このセラミックコンデンサにおいて小型大容量化を達成しようとした場合、誘電体層として求められる厚さは1〜2μm以下となっており、このような1〜2μm以下の誘電体層を用いたセラミックコンデンサの誘電率を3000程度にしか高めることができていないのが現状である。すなわち、この1〜2μm以下の誘電体層を形成するためのBaTiO3の粉体はできるだけ小さな粒径のものを用いる必要があり、このような小さな粒経のBaTiO3を用いた場合には、その誘電率がどんどん小さくなってしまうことから、現在のところ、誘電率を3000程度にしか高めることができなかった。
【0004】
そこで本発明は、このように誘電体層の厚さが1〜2μm以下というようなものであったとしても、その誘電率を3500以上にすることができるようにすることを目的とするものである。
【0005】
そして、この目的を達成するために本発明の請求項1に記載の発明は、2μm以下の誘電体層とこの誘電体層表裏面にそれぞれ設けた電極とを備え、前記誘電体層は平均粒径が0.5μm以下のBaTiO3を主成分とし、このBaTiO3が100モルに対してMgOが1モル以下だけ添加されるとともに1200℃以上の温度で焼成された多結晶体よりなり、前記多結晶体の結晶構造は正方晶ペロブスカイト型であって、c軸/a軸比の値が1.005から1.009としたものである。これにより、誘電体層の厚さが1〜2μm以下というようなものであったとしても、従来では困難とされていた誘電率を3500以上の極めて高いものにすることができる。
【0006】
次に本発明の請求項2に記載の発明は、それを製造するにあたって、c軸/a軸比の値を1.005から1.009にするために、平均粒径が0.5μm以下のBaTiO3を主成分とし、このBaTiO3が100モルに対してMgOを1モル以下だけ添加するとともに1200℃以上の温度で焼成するものである。通常であれば、コアシェル構造を得るためにMgOを2モル以上添加することが常識となっていたが、高い誘電率を得ることを目指し敢えてその添加量を半分の1モル以下だけにし、c軸/a軸比の値を1.005から1.009にすることによって極めて高い高誘電率のセラミックコンデンサが製造できるようにするものである。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下本発明の一実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【0008】
図1は本発明の一実施の形態のセラミックコンデンサを示している。この図1において、1は誘電体層で、この誘電体層1の内部には所定間隔をおいて、交互に電極2が設けられている。そして、これら交互に設けられた電極はその両端に引き出され、そこにおいて外部電極3に接続されている。この構成は全て一般的なセラミックコンデンサの構造であるので、これ以上の説明は省略する。
【0009】
本発明において重要なことは、この図1において誘電体層1及び誘電体層1の上下において対向する電極2間における誘電体層1の厚さとその厚さの中における結晶構造である。具体的には図1に示すセラミックコンデンサは小型大容量のセラミックコンデンサであって、電極2間の誘電体層1の層厚は1〜2μmとなっている。つまり電極2間の誘電体層1の膜厚を薄くして、電極2間をできるだけ近くで対向させることにより、大きな静電容量を得ようとしているものである。
【0010】
さて、そのような大きな静電容量を得るためには、このような接近した電極2間における誘電体層1の誘電率を高くすることが極めて重要となる。そのために本発明においては、この誘電体層1は次のようにして形成した。すなわち、出発材料としては平均粒径0.2μmのBaTiO3の粉体に対して各種添加物を添加する。その添加物は、具体的にはMgO,MnO2,Dy2O3,V2O5,Ba−Al−Si−O系ガラスである。このような材料を混合し、乾燥し、仮焼し、粉砕する。そしてこの粉砕粉を各種バインダーとまぜて、シート成形したものが、この図1における電極2間の誘電体層1となるものである。
【0011】
次に、上記シートと電極2を交互に積層し、その状態で1200〜1300℃で焼成し、その後その両端面を削ることによりその両端面に電極を露出させ、この露出させた部分に外部電極3を設けて図1のセラミックコンデンサを完成させる。
【0012】
この場合に重要なことは、図2にも示したが、電極2間は焼成後わずか1〜2μm程度の誘電体層1となっており、この1〜2μmの誘電体層1の間に平均粒径が0.5μm以下の結晶粒4が、2段、3段、あるいは4段に積み重なった構成になっていることである。しかし、この実施形態において作成したものは、電極2間における結晶粒4の平均粒径は0.5μm以下となっている。このように0.5μm以下となっても、その結晶粒4の結晶構造は図3に示したようになっている。すなわち、そのc軸/a軸比の値は1.005から1.009になるように上述した添加物、例えばMgOの添加量をコントロールすることによって達成している。先に結論について説明するが、このように結晶粒4のc軸/a軸比の値を1.005から1.009になるようにした場合には、図4に示すように電極2間における誘電体層1の誘電率を3500以上にすることが可能であった。我々はこのように結晶粒4のc軸/a軸比の値を1.005から1.009に設定することによってのみ、従来では到底達成することができなかった3500もの誘電率を得ることが可能になるということを発見した。このことに重大な起点を置いて我々はそのようにするためには、どのように材料を選定することが重要なのか、具体的になぜ3500もの誘電率になるのかについて各種の考察をした。
【0013】
つまり本来であれば結晶粒4の平均粒径が0.5μm以下のものは図5に示すようにc軸/a軸比の値はほぼ1.000になる。これは結晶粒4の平均粒径が小さくなればなるほどこの値は1.000に極めて近くなる。このように、1.000に近いということは図4から明らかなように、やはり従来でもそうであったようにその誘電率は高くとも3000程度のものしか得られないというものであった。それに対して我々は、どのようにすれば3000をはるかに越えた高い誘電率のものを得られるかを鋭意検討し、上述したc軸/a軸比の値を1.005から1.009に設定するためにMgOの添加量を従来のセラミックコンデンサであれば、BaTiO3が100モルに対してMgOを2モル以上添加するのが常識であったものを1モル以下に抑えるようにした。このようにすれば、なぜc軸/a軸比の値を1.005から1.009にできるのかということは現在のところ充分には解明できていないが、おそらくこのようにMgOの量を減少させればコアシェル構造においてその表面にシェルができない結晶粒4ができることによってコアシェル構造を持つものに対してストレスを加え、このストレスによってc軸が伸張しこれによって、c軸/a軸比の値が1.005から1.009になるものではないかと考えている。いずれにせよ、我々が選択したようにc軸/a軸比の値を1.005から1.009にすることにより図4からも明らかなように従来ではとても得ることができなかった誘電率3500以上を達成でき、これによりますます小型大容量のセラミックコンデンサを得ることができたものである。
【0014】
【発明の効果】
以上のように本発明は、平均粒径が0.5μm以下のBaTiO3を主成分とし、このBaTiO3が100モルに対してMgOを1モル以下だけ添加された正方晶ペロブスカイト型BaTiO3の結晶構造において、c軸/a軸比の値を1.005から1.009にしたことにより、従来ではとても得ることができなかった2μm以下の誘電体層からなる大容量のセラミックコンデンサを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施の形態のセラミックコンデンサを示す一部切欠斜視図
【図2】 その内部電極と誘電体層を示す模式図
【図3】 その誘電体層を構成する結晶粒の結晶構造を示す図
【図4】 その特性図
【図5】 比較のための結晶粒の結晶構造を示す図
【符号の説明】
1 誘電体層
2 電極
3 外部電極
4 結晶粒
Claims (2)
- 2μm以下の誘電体層とこの誘電体層表裏面にそれぞれ設けた電極とを備え、前記誘電体層は平均粒径が0.5μm以下のBaTiO3を主成分とし、このBaTiO3が100モルに対してMgOが1モル以下だけ添加されるとともに1200℃以上の温度で焼成された多結晶体よりなり、前記多結晶体の結晶構造は正方晶ペロブスカイト型であって、c軸/a軸比の値が1.005から1.009であることを特徴とするセラミックコンデンサ。
- 請求項1のセラミックコンデンサを製造するにあたって、c軸/a軸比の値が1.005から1.009になるようにするために、BaTiO3が100モルに対してMgOを1モル以下だけ添加するとともに1200℃以上の温度で焼成するセラミックコンデンサの製造方法。
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