JP3852758B2 - スラリー回収装置及びその方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、スラリーの一部を回収するスラリー回収装置及びその方法に関する。スラリーは、半導体の製造プロセスにおいて、シリコンウェハを研磨する研磨装置に供給される研磨剤である。
【0002】
【従来の技術】
半導体の製造プロセスにおける化学機械研磨(以下、Chemical MechanicalPolishingを略してCMPという。)は、薄い円盤状のシリコンウェハを、研磨装置を用いて研磨パッドに押圧しつつ回転させ、これと同時に、シリコンウェハと研磨パッドとの間へスラリーを供給して研磨するものである。このようなCMPによれば、スラリー中のケミカル成分、砥粒(例えばアルミナ粉末やシリカパーティクル)による化学的作用に加え、シリコンウェハと研磨パッドの摺接による相乗的な研磨作用を達成できる。
【0003】
具体的に、上記のCMPを行うには、図6及び図7に概略を示した研磨装置Eが用いられた。研磨装置Eは、上面に研磨パッドPを貼着して主回転軸T1の周りに回転するターンテーブルTと、研磨対象物であるシリコンウェハWをターンテーブルTの主回転軸T1に対して偏心した回転軸H1周りに回転させながら研磨パッドPに押圧する研磨ヘッドHとから構成される。上記のスラリーは、ターンテーブルTの上方に配置したスラリー供給管Aの末端A1からターンテーブルT上の研磨パッドPに流下される。
【0004】
研磨装置Eを、例えばメンテナンスを行う等のために長時間停止した場合、スラリー供給管A内に滞留したスラリーや研磨パッド上に付着したスラリーの成分の一部が凝固又は沈殿し、更には乾燥して固化することがある。このような凝固、沈殿又は固化した成分の混入したスラリーを用いてCMPを行うと、シリコンウェハWの表面にスクラッチと称する傷が発生する。
【0005】
そこで、CMPを行うのに先立って、シリコンウェハWに代えてダミーウェハを用いて試運転する等した。この間に、図8に示すように、スラリー供給管Aの途中に設けた開閉弁Bを開放することによって新たなスラリーを研磨装置Eへ供給し、この過程で、スラリー供給管A内で凝固又は沈殿したスラリーを先ず排出すると共に、ターンテーブルT上に付着したスラリーも一緒に洗い流すようにしていた。或いは、これに併せて、開閉弁Bに代えて切替弁を設け、この切替弁より下流側A2を純水で洗浄(パージ)し、同時に、ターンテーブルT上に付着したスラリーも純水で洗浄するようにした。このような純水の供給は試運転中に限らず、CMPの終了間際にターンテーブルT上のスラリーを洗い流すためにも行われた。或いは、上記のようなスラリーの乾燥又は研磨パッドPの乾燥を防止するために純水が供給される場合もある。
【0006】
上記の試運転において、スラリー供給管Aから研磨装置EのターンテーブルT上に流下されるスラリー、或いは、上記のような乾燥の防止又はCMPの終了間際に供給される純水と混じったスラリーは、総てCMPに供することなく、図7に示した排出口Dを経て廃棄される。このようなスラリーを廃棄する主な理由としては、固形分が偏在していたり、又は多量の純水を含み濃度が希釈されているため、再利用が困難であることが挙げられる。
【0007】
しかしながら、従来の研磨装置Eでは、その構造上、本来再利用が可能なスラリーまでも、上記のような再利用が困難なスラリーに混ぜて廃棄しなければならなかった。詳しくは、CMPが実行される際に、スラリー供給管Aを経て新たなスラリーが供給される。この新たなスラリーは、純水を含まず再利用できることは勿論であるが、図7に示したターンテーブルTから流下した後は、上記の再利用が困難なスラリーと同様に、排出口へ流れ込むことになる。
【0008】
このため、排出口Dから排出される総てのスラリーは、排出口Dに連通した排出管等の中で混合する。このような混合液は、その中に固形分が散在する上、純水によって希釈されていたりするので、廃棄処分する他ない。
【0009】
以上に述べたように、廃棄されるスラリーが累積すると、この価格がCMPのコストを高騰させる一因となった。更には、多量のスラリーが排出管を流れ続けると、その固形分が排出管を詰まらせ、頻繁なメンテナンスを必要とすることも問題になった。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、廃棄するスラリーの量を節減でき、しかもスラリーを排出する排出管の詰まりを抑えられるスラリー回収装置及びその方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るスラリー回収装置は、研磨装置のターンテーブルの周りに配置され、このターンテーブル上のスラリーが、ターンテーブルの回転に伴う遠心力によって流入するスラリー回収器と、スラリー回収器へのスラリーの流入を遮断又は許容する遮断部材とを含むものである。
【0012】
本発明に係るスラリー回収装置は、研磨装置のシンクの底面から浮き上がって支持されたターンテーブルの周りに配置され、ターンテーブルの上面より高い位置から低い位置の間を昇降する、ターンテーブルの径方向の外側へ下降傾斜した案内傾斜片と、案内傾斜片の下面に接続し、案内傾斜片がターンテーブルの上面より高い位置に上昇した状態で、ターンテーブルの上面の周縁を囲繞する遮断部材と、遮断部材の周りに配置され、案内傾斜片の、ターンテーブルの径方向の外側の端縁の真下に位置するスラリー回収器とを含むものである。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態に係るスラリー回収装置及びその方法について説明する。以下において、従来の技術と同様の構成については、同符号を付してその詳細な説明を省略する。
【0015】
図1に概略を示すように、スラリー回収装置1は、研磨装置EのターンテーブルTの周りに配置される環形の遮断部材2と、遮断部材2の周りに配置される環形のスラリー回収器3とを含むものである。同図のX−X断面を図2、図3に示した。ターンテーブルTは、研磨装置EのシンクSの底部に突出した主回転軸T1の上端に連結され、シンクSの底部から浮き上がっている。ターンテーブルTの全周とシンクSの内側面との間に、当該スラリー回収装置1が挿入されている。
【0016】
遮断部材2は、その内径がターンテーブルTの外径よりも広い短筒型の胴部20と、ターンテーブルTの径方向の外側へ(シンクSの内側面に向かって)下降傾斜した案内傾斜片21とを含むものである。案内傾斜片21は、胴部20の上端に接続している。遮断部材2の材料としては、耐腐食性に優れたステンレス鋼を圧延した薄板を所望の形状に塑性加工したものでも良い。或いは、この材料として、熱可塑性の合成樹脂を適用すれば、胴部20と案内傾斜片21を一体成形して構造を簡略化し、更には材料費と製造コストを節減できる。
【0017】
遮断部材2の胴部20は、矢印u,dで指す上下方向に直線運動するアクチュエータにより、そのストロークの範囲で昇降又は任意の高さで停止する。このアクチュエータとしては、空気圧又は油圧シリンダー等の自明の技術を適用できるので、図示を省略する。例えば、シンクSの下方に空気圧シリンダを設置する場合、シンクSの底部に挿通孔を穿孔し、この挿通孔を経て空気圧シリンダの作動ロッドを胴部20の下端に接続する。更に、これら挿通孔と作動ロッドの隙間をパッキン材等で密閉する。上記の空気圧シリンダは複数設置してもよい。アクチュエータの動作に係わりなく、手動で遮断部材2を昇降させても良い。
【0018】
スラリー回収器3は、その内径が胴部20の外径より僅かに広く、且つ、その外径がシンクSの内径よりも僅かに狭く設定されている。スラリー回収器3の断面形状は、胴部20の外周面に対面する内側の直立片30と、シンクSの内面又は内周面に対面する外側の直立片31と、これら直立片30,31の下端同士の間を塞ぐ底面部32とを含む略溝形である。
【0019】
直立片30は、その上端が案内傾斜片21の下端(外側の縁部)よりもターンテーブルT寄りに位置する。遮断部材2を図2に示した下限位置まで下降させると、直立片30の上端が、案内傾斜片21と胴部20との間の入り隅部へ進入する。直立片31は、その上端をターンテーブルTの上面よりも高く突出している。
【0020】
CMPが実行される際には、図2に示すように、ターンテーブルTは矢印aで指した方向へ回転する。スラリー供給管AからターンテーブルT上に流下したスラリーは、その遠心力によってターンテーブルTの径方向の外側へ誘導される。このとき、図示の通り遮断部材2を下降させて、案内傾斜片21の上端(内側の縁部)をターンテーブルTの上面より低く位置させる。
【0021】
これにより、ターンテーブルTの径方向の外側へ誘導されたスラリーは、シンクS内へ滴下することなく、案内傾斜片21の上面に受け止められる。この時点で、スラリーに上記の遠心力は加わらなくなる。このスラリーは、下降傾斜した案内傾斜片21を伝わって案内傾斜片21の下端へ至り、スラリー回収器3内へ滴下する。
【0022】
但し、ターンテーブルTを比較的高速で回転させた場合には、強力な遠心力によってターンテーブルTの径方向の外側へ誘導されたスラリーは、更にその慣性力によってターンテーブルTから飛散する。このように飛散したスラリーは、溝形部材3内へ直接落下、又は、外側の直立片31に衝突し、直立片31を伝って溝形部材3内へ流下する。
【0023】
更に、スラリー回収器3内には水勾配が形成され、この水勾配を伝ってスラリーは流動し、スラリー回収器3の適所に設けた排水口34から排出される。以下、このスラリーを回収スラリーと称する。回収スラリーは、排水口34に接続した電動ポンプ等によって引揚げられ、再びスラリー供給管Aを経てターンテーブルT上へ供給される。つまり、回収スラリーは、シンクSの排出口Dへ至ることなく、スラリー供給管A、ターンテーブルT、案内傾斜片21及び溝形部材3内を循環しつつ、CMPに供される。
【0024】
研磨装置Eをメンテナンス等のために長時間停止した後に試運転する場合、或いは、CMPの終了間際の純水による洗浄、又はこの他、純水が研磨装置Eに供給される場合について、以下に述べる。ここで、試運転には、スラリー供給管Aを経て供給される新たなスラリーによって、スラリー供給管A内に残留しているスラリー、及び、ターンテーブルT上に付着したスラリーを洗い流すステップが含まれる。或いは、これらのスラリーを純水で洗浄するステップが含まれる。
【0025】
上記の試運転を行う際、CMPの終了間際にターンテーブルT上のスラリーを純水で洗い流す際、及び、スラリーの乾燥又は研磨パッドPの乾燥を防止するために純水が供給される際にも、ターンテーブルTは回転し続ける。このターンテーブルT上に流下したスラリー又は純水は、ターンテーブルTの径方向の外側へ遠心力で誘導される。このとき、図3に示すように、遮断部材2をその上限まで上昇させて、案内傾斜片21の上端をターンテーブルTの上面より高く位置させる。
【0026】
これにより、ターンテーブルTの径方向の外側へ誘導されたスラリー又は純水は、シンクS内へ滴下し、或いは、ターンテーブルTから遠心力で飛散したスラリー又は純水が胴部20の内周面に衝突し、この内周面を伝ってシンクSの底部へ流れ込む。更に、スラリー又は純水は、シンクSの底部に開口した排出口Dを経て排出管Bへ排出される。以下、このようなスラリー、純水又は両者の混合したものを排出スラリーと称する。排出スラリーは、その固形分が偏在していたり、又は多量の純水を含み濃度が希釈されているので、再利用が困難である。
【0027】
以上に説明した遮断部材2の昇降動作は、研磨装置Eの運転に基づく電気信号によって行われることが望ましい。詳しくは、マイクロプロセッサ等を内蔵する制御手段(図示せず)を設ける。スラリー供給管Aの途中に設けた開閉弁B又は切換弁として電磁弁を適用する。そして、ターンテーブルTを回転させつつ、ターンテーブルT上に電磁弁を経てスラリーを供給するときに、この電磁弁の開閉又は切換え状態を一の電気信号として制御手段が検知する。
【0028】
研磨装置Eを停止していた時間、例えば電磁弁によってスラリーが研磨装置Eへ供給されなかった時間が所定時間を超えたとき、或いは、上記の電磁弁を介して純水がターンテーブルT上に供給されるときに、これを他の電気信号として制御手段が検知する。そして、制御手段が、遮断部材2を昇降させるアクチュエータを制御する。即ち、一の電気信号に基づき遮断部材2を下降させ、他の電気信号に基づき遮断部材2を上昇させる。上記のように、研磨装置Eを停止していた時間を計時し電気信号を発信する手段としては、タイマー回路を適用する。
【0029】
尚、図4に示すように、スラリー回収器3の直立片30と遮断部材2の胴部20を一体とし、スラリー回収器3と遮断部材2を一緒に昇降するようにしてもよい。このようにスラリー回収器3と遮断部材2を一体物にすれば、清掃や清掃時の研磨装置Eへの着脱が容易に行える。更に、スラリー回収器3と遮断部材2を合成樹脂により形成すれば、スラリー回収装置10の全体の軽量化が図れる。このため、スラリー回収装置10を昇降させるアクチュエータの負荷を軽減し、アクチュエータの小型化も図れる。
【0030】
また、図5に示すように、案内傾斜片21の内側に回収スラリーを流入させても良い。即ち、遮断部材2の胴部231の内側に、底面部32と直立片232を形成して断面溝形の部位を成形する。
【0031】
このように構成したスラリー回収装置10の全体を上昇させると、ターンテーブルTから流下する回収スラリーは、胴部231の内側へ導かれる。スラリー回収装置10の全体を下降させると、ターンテーブルTから流下する排出スラリーは、案内傾斜片21を伝ってシンクSに滴下する。この場合、スラリー回収装置10の部品点数を減らし、構造を簡単にし、更に、これに伴ってスラリー回収装置10の清掃が簡単に行えるという利点が有る。
【0032】
以上のように、研磨装置EでCMPを行う際には、回収スラリーを循環させられる。一方、研磨装置Eを長時間停止した後の試運転の際、及びターンテーブルT上に純水が供給される際には、排出スラリーを排出管Bへ排出できる。このように回収スラリーと排出スラリーとを隔絶し、回収スラリーのみを再利用するので、CMPにおいて消費する総てのスラリーの量を節減できる。これに伴って、CMPのコストを低減できる。
【0033】
しかも、スラリー回収器3がターンテーブルTの近傍に配置されているので、ターンテーブルTから滴下した回収スラリーは、スラリー回収器3に最短経路で回収されることになる。このため、回収スラリーに異物が混入する等の可能性が殆どないという利点が有る。
【0034】
また、排出管Bを経て排出スラリーを廃棄するのは、試運転中又は純水がターンテーブルT上に供給された場合に限られるので、多量のスラリーが排出管を流れ続けることがなく、その固形分が排出管を詰まらせる頻度が少なくなる。このため、排出管Bを清掃する等のメンテナンスを頻繁に行わなくて済むという利点が得られる。
【0035】
尚、本発明の実施の形態について、図面に基づいて説明したが、本発明は図示したものに限定されない。本発明の技術的範囲には、その主旨を逸脱しない範囲内で、当業者の知識に基づき種々なる改良、修正又は変更を加えた態様の実施形態も含まれる。また、本発明の作用又は効果を奏する範囲内で、本発明を構成する発明特定事項を、他の技術に置換した実施形態で実施しても良い。
【0036】
【発明の効果】
本発明に係るスラリー回収装置及びその方法によれば、研磨装置でCMPを行うステップにおいて、CMPに供されるスラリーを循環しつつ再利用ができる。即ち、研磨装置を長時間停止した直後、又はターンテーブル上に純水が供給される場合において、これらのスラリー、純水又は両者が混合したものを研磨装置から排出し、これらがCMPに供されるスラリーに混じるのを確実に防止できる。これによりCMPに供するにスラリーの濃度を一定に保持できるので、CMPに供するスラリーを繰り返し使用することが可能となる。従って、スラリーを無駄に廃棄することがなく、CMPにおいて消費する総てのスラリーの量を節減し、CMPのコストを低減できる。
【0037】
また、スラリーを廃棄するのは、研磨装置を長時間停止した直後、又はターンテーブル上に純水が供給される場合であるので、スラリーを研磨装置の外部へ導く排出管に、多量のスラリーが流れ続けることがない。従って、スラリーの固形分が排出管を詰まらせる頻度が少なくなり、排出管を清掃する等のメンテナンスを頻繁に行わなくて良い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係るスラリー回収装置の要部の平面図。
【図2】遮断部材を下降させた状態を示す図1のX−X断面図。
【図3】遮断部材を上昇させた状態を示す図1のX−X断面図。
【図4】本発明の実施の形態に係るスラリー回収装置の一の変形例を示す断面図。
【図5】本発明の実施の形態に係るスラリー回収装置の他の変形例を示す断面図。
【図6】従来技術における研磨装置の要部を示す斜視図。
【図7】従来技術における研磨装置の要部を示す断面図。
【図8】従来技術における研磨装置の要部を示す平面図。
【符号の説明】
1:スラリー回収装置
2:遮断部材
3:スラリー回収器
20:胴部
21:案内傾斜片
30:直立片
31:直立片
32:底面部
T:ターンテーブル
S:シンク
Claims (12)
- 研磨装置のシンクの底面から浮き上がって支持されたターンテーブルの周りに配置され、該ターンテーブルの上面より高い位置から低い位置の間を昇降する、前記ターンテーブルの径方向の外側へ下降傾斜した案内傾斜片と、
前記案内傾斜片と共に昇降し、前記案内傾斜片が前記ターンテーブルの上面より高い位置に上昇した状態で、該ターンテーブルの上面の周縁を囲繞する遮断部材と、
前記遮断部材の周りに配置され、前記案内傾斜片の、前記ターンテーブルの径方向の外側の端縁の真下に位置するスラリー回収器と、
を含むスラリー回収装置。 - 前記案内傾斜片を昇降させるアクチュエータを含む請求項1に記載のスラリー回収装置。
- 前記アクチュエータの昇降動作を制御する制御手段を含む請求項1又は2に記載のスラリー回収装置。
- 前記制御手段が、前記研磨装置の運転に基づく電気信号によって前記アクチュエータの昇降動作を制御する請求項3に記載のスラリー回収装置。
- 前記電気信号が、前記研磨装置にスラリー又は純水を供給する管路に設けた電磁弁から送信される請求項4に記載のスラリー回収装置。
- 前記電気信号が、前記研磨装置へ供給されるスラリーが前記電磁弁によって遮断された時間を計時するタイマー回路から送信される請求項4又は5に記載のスラリー回収装置。
- 前記制御手段が、前記タイマー回路から送信される電気信号に基づき遮断部材を上昇させる請求項6に記載のスラリー回収装置。
- 前記制御手段が、前記研磨装置への純水の供給を前記電磁弁が許容したときに送信される電気信号に基づき遮断部材を上昇させる請求項5乃至7の何れかに記載のスラリー回収装置。
- 前記制御手段が、前記研磨装置へのスラリーの供給を前記電磁弁が許容したときに送信される電気信号に基づき遮断部材を下降させる請求項4乃至6の何れかに記載のスラリー回収装置。
- 前記案内傾斜片、前記遮断部材及び前記スラリー回収器を一体に形成した請求項1乃至9の何れかに記載のスラリー回収装置。
- 研磨装置のシンクの底面から浮き上がって支持されたターンテーブルの周りに、前記ターンテーブルの径方向の外側へ下降傾斜した案内傾斜片を配置し、この案内傾斜片を、前記ターンテーブルの上面より高い位置に上昇させることにより、前記案内傾斜片の下面に接続した遮断部材で前記ターンテーブルの上面の周縁を囲繞し、前記ターンテーブルの回転に伴う遠心力により前記ターンテーブルの外周縁から滴下するスラリーを前記遮断部材の内側を経て前記シンクへ誘導するステップと、
前記案内傾斜片を、前記ターンテーブルの上面より低い位置に下降させることにより、前記ターンテーブルの回転に伴う遠心力により前記ターンテーブルの外周縁から滴下するスラリーを、前記案内傾斜片で受けつつ、前記案内傾斜片の、前記ターンテーブルの径方向の外側の端縁の真下に位置するスラリー回収器へ滴下するステップと、を含むスラリー回収装置の動作方法。 - 前記案内傾斜片の昇降動作をアクチュエータで行う請求項11に記載のスラリー回収装置の動作方法。
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