JP3838242B2 - 紫外線硬化性被覆用組成物 - Google Patents
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Description
2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、1,3−プロパンジオールモノ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、2−ブテン−1,4−ジオールモノ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート、グリシドールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノ(ないしペンタ)(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA−ジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸との反応生成物。
2,6−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、メチレンビス(4−フェニルイソシアネート)[MDI]、1,5−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、トランスシクロヘキサン−1,4−ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート[XDI]、水添XDI、水添MDI、リジンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、1,8−ジイソシアネート−4−イソシアネートメチルオクタン、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート。
多価アルコールとしては、2〜8個の水酸基を有する多価アルコールが好ましく、特に2〜6個の水酸基を有する多価アルコールが好ましい。多価アルコールは脂肪族の多価アルコールはもちろん、脂環族多価アルコールや芳香核を有する多価アルコールであってもよい。
高分子量のポリオールとしてはポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルエステルポリオール、ポリカーボネートポリオールなどがある。
また、ポリオールとして水酸基含有ビニルポリマーをも使用できる。これら多価アルコールやポリオールは2種以上併用することもできる。
エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、2,2,4ートリメチル−1,3−ペンタンジオール、シクロヘキサンジオール、ジメチロールシクロヘキサン、トリメチロールプロパン、グリセリン、トリス(ヒドロキシアルキル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、3,9−ビス(ヒドロキシメチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、ビスフェノールA−ジグリシジルエーテルの開環物、ビニルシクロヘキセンジオキシドの開環物。
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ビスフェノールA−アルキレンオキシド付加物、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテルポリオール。ポリブタジエンジオール、水添ポリブタジエンジオール等の脂肪族ポリオール。ポリε−カプロラクトンポリオール。アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、マレイン酸、フマル酸、アゼライン酸、グルタル酸等の多塩基酸と上記多価アルコールとの反応で得られるポリエステルポリオール。1,6−ヘキサンジオールとホスゲンの反応で得られるポリカーボネートジオール。
ビスフェノールA−ジグリシジルエーテル、ビスフェノールF−ジグリシジルエーテル、テトラブロモビスフェノールA−ジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ノボラックポリグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンジオキシド、ジシクロペンタジエンジオキシド。
以下の脂肪族多価アルコールの(メタ)アクリレート。
1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、炭素数14〜15の長鎖脂肪族ジオールのジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、トリグリセロールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールとトリメチロールプロパンとの縮合物からなるジオールのジ(メタ)アクリレート。
ジ(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)ビスフェノールA、ジ(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)ビスフェノールS、ジ(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)ビスフェノールF、トリス(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ビス(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)−(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、ビスフェノールAジメタクリレート。
トリメチロールプロパン−エチレンオキシド付加物のトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン−プロピレンオキシド付加物のトリ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール−カプロラクトン付加物のヘキサ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート−カプロラクトン付加物のトリ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール[200〜1000]ジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール[200〜1000]ジ(メタ)アクリレート。
ビス(アクリロイルオキシネオペンチルグリコール)アジペート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル−カプロラクトン付加物のジ(メタ)アクリレート、ビス(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)ホスフェート、トリス(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)ホスフェート。
ビスフェノールA−ジグリシジルエーテルの(メタ)アクリル酸付加物、ビニルシクロヘキセンジオキシド−(メタ)アクリル酸付加物、ジシクロペンタジエンジオキシド−(メタ)アクリル酸付加物、グリシジル(メタ)アクリレートとエチレングリコールの反応生成物、グリシジル(メタ)アクリレートとプロピレングリコールの反応生成物、グリシジル(メタ)アクリレートとジエチレングリコールの反応生成物、グリシジル(メタ)アクリレートと1,6−ヘキサンジオールの反応生成物、グリシジル(メタ)アクリレートとグリセロールの反応生成物、グリシジル(メタ)アクリレートとトリメチロールプロパンの反応生成物、グリシジル(メタ)アクリレートとフタル酸の反応生成物。
アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド−(メタ)アクリル酸付加物のアリルエーテル化物、ビニルシクロヘキセンジオキシド−(メタ)アクリル酸付加物のメチルエーテル化物、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート。
トリス(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ビス(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)−(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのε−カプロラクトン1〜3分子付加物からなるトリオールのトリ(メタ)アクリレートまたはジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのエチレンオキシド1〜3分子付加物からなるトリオールのトリ(メタ)アクリレートまたはジ(メタ)アクリレート。
水。メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、エチレングリコールのような低級アルコール類。メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類。ジメチルアセトアミド、トルエン、キシレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンなど。
HS−R−SiXnR1 3−n ・・・(1)
式(1)におけるRは炭素数2〜6(最も好ましくは3)のアルキレン基が好ましい。このHS−R−なる基が上記にいうメルカプト基を有する有機基の好ましい例である。R1は炭素数4以下のアルキル基、特にメチル基とエチル基が好ましい。Xは上記のような加水分解性基であることが好ましく、特に炭素数4以下のアルコキシ基が好ましい。このアルコキシ基としてはさらにメトキシ基とエトキシ基が加水分解性が良好であり好ましい。nは2〜3が好ましい。
HS−CH2CH2CH2−Si(OMe)3、
HS−CH2CH2CH2−Si(OEt)3、
HS−CH2CH2CH2−Si(OPr)3、
HS−CH2CH2CH2−SiMe(OMe)2、
HS−CH2CH2CH2−SiMe(OEt)2、
HS−CH2CH2CH2−SiMe(OPr)2、
HS−CH2CH2CH2−SiMe2(OMe)、
HS−CH2CH2CH2−SiMe2(OEt)、
HS−CH2CH2CH2−SiMe2(OPr)、
HS−CH2CH2CH2−SiCl3、
HS−CH2CH2CH2−SiBr3、
HS−CH2CH2CH2−SiMeCl2、
HS−CH2CH2CH2−SiMeBr2、
HS−CH2CH2CH2−SiMe2Cl、
HS−CH2CH2CH2−SiMe2Br。
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラn−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラn−ブトキシシラン、テトラヘキシルオルトシリケート、テトラフェニルオルトシリケート、テトラベンジルオルトシリケート、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メトキシエチルトリエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン。
水。メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノールのような低級アルコール類。アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンのようなケトン類。テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類。メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類。ジメチルアセトアミド等。
テーバー磨耗試験法により、2つのCS−10F磨耗輪にそれぞれ500gの重りを組み合わせ100回転と500回転させたときの曇価をヘーズメータにて測定した。なお、曇価(ヘーズ)の測定は磨耗サイクル軌道の4カ所で行い、平均値を算出した。初期曇価は磨耗試験前の曇価の値(%)を、耐磨耗性は(磨耗試験後曇価)−(磨耗試験前曇価)の値(%)を示す。
サンプルに剃刀の刃で1mm間隔で縦横それぞれ11本の切れ目を付け、100個の碁盤の目を作る。そして、市販のセロハンテープをよく密着させた後、90度手前方向に急激にはがした際の、被膜が剥離せずに残存したマス目の数(X)をX/100で表す。
50mm×300mmの短冊状のサンプルを60℃、95%RHの湿熱オーブンに4週間コート面を外側に向くようにして、180mmRの曲率を保ったまま保持した後、サンプルのコート面のクラックの有無を観察し、○、△、×の3段階で評価した。
50mm×300mmの短冊状のサンプルを170℃のオーブンに10分間コート面を外側に向くようにして保持する。その後それぞれ64mmRの曲率を持った凹型と凸型からなる成形型を用い、サンプルのコート面が凸型表面に接触する様にサンプルを成形型に置いて成形を行った。成形されたサンプルのコート面のクラックの有無を観察し、○、△、×の3段階で評価した。
サンシャインウエザーメータを用いてブラックパネル温度63℃で、降雨12分、乾燥48分のサイクルで2000時間暴露後、外観の評価を行った。
[耐候性2]
サンシャインウエザーメータを用いてブラックパネル温度63℃で、降雨12分、乾燥48分のサイクルで3000時間暴露後、外観の評価を行った。
エチルセロソルブ分散型コロイド状シリカ(シリカ含量30重量%、平均粒径11nm)50重量部に3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン5重量部と0.01N塩酸1.5重量部を加え、40℃にて4時間加熱撹拌した後12時間室温下で熟成することにより、メルカプトシラン修飾コロイド状シリカ分散液を得た。
例1と同じエチルセロソルブ分散型コロイド状シリカを50重量部のかわりに100重量部用いた他は例1と同じにして、メルカプトシラン修飾コロイド状シリカ分散液を得た。
エチルセロソルブ分散型コロイド状シリカのかわりにイソプロパノール分散型コロイド状シリカ(シリカ含量30重量%、平均粒径11nm)50重量部を用いた他は例1と同じにして、メルカプトシラン修飾コロイド状シリカ分散液を得た。
例3と同じイソプロパノール分散型コロイド状シリカを50重量部のかわりに100重量部用いた他は例1と同じにして、メルカプトシラン修飾コロイド状シリカ分散液を得た。
3−メルカプトプロピルトリメトキシシランのかわりに3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン5重量部を用いた他は例1と同じにして、エポキシシラン修飾コロイド状シリカ分散液を得た。
3−メルカプトプロピルトリメトキシシランのかわりにN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン5重量部を用いた他は例3と同じにして、アミノシラン修飾コロイド状シリカ分散液を得た。
撹拌機および冷却管を装着した300mLの4つ口フラスコに、イソプロパノール15g、酢酸ブチル15g、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン500mg、2−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール300mg、およびレベリング剤(ビック・ケミー社製BYK306)200mgを加え溶解させた。
例1で得た修飾コロイド状シリカ分散液のかわりに、例2で得た修飾コロイド状シリカ分散液を同量用いた他は例7と同じにして被覆用組成物を調製し、例7と同じ条件でサンプルを製造した。
例7の2種のポリアクリレート合計10gのかわりに、水酸基を有するジペンタエリスリトールポリアクリレートと部分ヌレート化ヘキサメチレンジイソシアネートの反応生成物であるウレタンアクリレート(1分子あたり平均15個のアクリロイル基を含有、以下ウレタンアクリレートAという)10gを用い、かつ例1で得た修飾コロイド状シリカ分散液のかわりに例3で得た修飾コロイド状シリカ分散液を同量用いた他は例7と同じにして被覆用組成物を調製し、例7と同じ条件でサンプルを製造した。
例3で得た修飾コロイド状シリカ分散液のかわりに例4で得た修飾コロイド状シリカ分散液を同量用いた他は例9と同じにして被覆用組成物を調製し、例9と同じ条件でサンプルを製造した。
例7の2種のポリアクリレート合計10gのかわりに、ジペンタエリスリトールポリアクリレート(1分子あたり平均6個のアクリロイル基を含有、以下ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートという)5gとヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのジアクリレート5gとの混合物を用いた他は例7と同じにして被覆用組成物を調製し、例7と同じ条件でサンプルを製造した。
例7の2種のポリアクリレート合計10gのかわりに、例9に用いたものと同じウレタンアクリレートA5gと1,6−ヘキサンジオールジアクリレート5gの混合物を用い、かつ例1で得た修飾コロイド状シリカ分散液のかわりに例3で得た修飾コロイド状シリカ分散液を同量用いた他は例7と同じにして被覆用組成物を調製し、例7と同じ条件でサンプルを製造した。
例7〜12で用いた修飾コロイド状シリカ分散液のかわりに、その修飾コロイド状シリカ分散液の原料である未修飾のコロイド状シリカ分散液を同量用いた他は各例と同じにして被覆用組成物を調製し、例7と同じ条件でサンプルを製造した。例13〜18(比較例)は順次例7〜12(実施例)に対応する。
例1で得た修飾コロイド状シリカ分散液のかわりに、例5で得た表面修飾されたコロイド状シリカ分散液を同量用いた他は例7と同じにして被覆用組成物を調製し、例7と同じ条件でサンプルを製造した。
例1で得た修飾コロイド状シリカ分散液のかわりに、例6で得た表面修飾されたコロイド状シリカ分散液を同量用いた他は例7と同じにして被覆用組成物を調製し、例7と同じ条件でサンプルを製造した。
例1と同じエチルセロソルブ分散型コロイド状シリカ50重量部に3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン5重量部と0.1N塩酸1.5重量部を加え、100℃にて6時間加熱撹拌した後12時間室温下で熟成することにより、メルカプトシラン修飾コロイド状シリカ分散液を得た。
例1と同じエチルセロソルブ分散型コロイド状シリカを50重量部のかわりに100重量部用いた他は例21と同じにして、メルカプトシラン修飾コロイド状シリカ分散液を得た。
エチルセロソルブ分散型コロイド状シリカのかわりにイソプロパノール分散型コロイド状シリカ(シリカ含量30重量%、平均粒径11nm)50重量部を用いた他は例21と同じにして、メルカプトシラン修飾コロイド状シリカ分散液を得た。
例23と同じイソプロパノール分散型コロイド状シリカを50重量部のかわりに100重量部用いた他は例21と同じにして、メルカプトシラン修飾コロイド状シリカ分散液を得た。
撹拌機および冷却管を装着した300mLの4つ口フラスコに、イソプロパノール15g、酢酸ブチル15g、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン500mg、2−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール300mg、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン200mg、およびレベリング剤(ビック・ケミー社製BYK306)200mgを加え溶解させた。
例21で得た修飾コロイド状シリカ分散液のかわりに、例22で得た修飾コロイド状シリカ分散液を同量用いた他は例25と同じにして被覆用組成物を調製し、例25と同じ条件でサンプルを製造した。
撹拌機および冷却管を装着した300mLの4つ口フラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテル7.5g、酢酸ブチル15g、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン500mg、2−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール300mg、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン200mg、およびレベリング剤(ビック・ケミー社製BYK306)200mgを加え溶解させた。
例23で得た修飾コロイド状シリカ分散液のかわりに、例24で得た修飾コロイド状シリカ分散液を同量用いた他は例27と同じにして被覆用組成物を調製し、例27と同じ条件でサンプルを製造した。
例27におけるイソシアヌレート系アクリレート10gの代わりに、同イソシアヌレート系アクリレート5gとウレタンアクリレートA5gとの混合物を用い、それ以外は例27と同じ組成の被覆用組成物を調製し、例27と同じ条件でサンプルを製造した。
例25におけるトリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート10gの代わりに、同トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート5gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート5gとの混合物を用い、それ以外は例25と同じ組成の被覆用組成物を調製し、例25と同じ条件でサンプルを製造した。
例27におけるイソシアヌレート系アクリレート10gの代わりに、同イソシアヌレート系アクリレート1gとウレタンアクリレートA9gとの混合物を用い、それ以外は例27と同じ組成の被覆用組成物を調製し、例27と同じ条件でサンプルを製造した。
例25におけるトリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート10gの代わりに、同トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート1gとジペンタエリスリトールヘキサアクリレート9gとの混合物を用い、それ以外は例25と同じ組成の被覆用組成物を調製し、例25と同じ条件でサンプルを製造した。
Claims (7)
- 紫外線によって重合しうる重合性官能基を2以上有する多官能性化合物であって、かつその20重量%以上がペンタエリスリトールまたはポリペンタエリスリトールとアクリル酸またはメタクリル酸との水酸基を1以上残したポリエステルとポリイソシアネートを反応させて得られるアクリルウレタンである多官能性化合物(a)、メルカプト基を有する有機基と加水分解性基または水酸基とがケイ素原子に結合しているメルカプトシラン化合物で平均粒径1〜200nmのコロイド状シリカを表面修飾して得られる修飾コロイド状シリカ(b)、および、光重合開始剤(c)を含む紫外線硬化性の被覆用組成物であって、曲げ加工性を有する硬化塗膜が表面に形成された基材を得るための被覆用組成物。
- 多官能性化合物(a)100重量部に対し、修飾コロイド状シリカ(b)を5〜300重量部、光重合開始剤(c)を0.01〜20重量部含む、請求項1記載の組成物。
- メルカプトシラン化合物が、下記式(1)で表される化合物である、請求項1または2記載の組成物。
HS−R−SiXnR1 3−n ・・・(1)
ただし、式(1)においてRは2価の炭化水素基、R1は1価の炭化水素基、Xは水酸基または加水分解性基、nは1〜3の整数を表す。 - 修飾コロイド状シリカ(b)が、コロイド状シリカが分散した有機分散媒にメルカプトシラン化合物を添加して加水分解することにより得られるコロイド状シリカである、請求項1、2または3記載の組成物。
- 請求項1、2、3または4記載の組成物から得られる硬化物で表面が被覆された基材。
- 基材が芳香族ポリカーボネート樹脂の成形物である請求項5記載の基材。
- 請求項5または6記載の基材を熱曲げ加工することを特徴とする加工方法。
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