JP3834691B2 - 半導体メモリ素子 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明が属する技術分野】
本発明は、半導体メモリ素子に関し、特に長いデータバスラインを経由する信号伝達において信号伝達の安定性を確保することのできる半導体メモリ素子に関する。
【0002】
【従来の技術】
長いデータバスラインを経由する信号を安定的伝達するために、従来には二つの直列連結されたインバータで構成されたレピータ(repeater)を含むプレチャージ回路及び遅延回路を利用してきた。遅延部により所定時間遅延された信号に応答してプレチャージ回路は次の信号の伝達のためにデータバスラインをプレチャージさせる。
【0003】
図1は、プレチャージ回路を有する従来のデータバスラインを表す図面である。図1を参照すると、駆動回路1、2の間に信号伝達のための第1データバスラインDBと第2データバスライン/DBが連結されている。通常的に、第1及び第2データバスラインDB、/DB上にはアクティブロード(active load)、LCロード(LC load)のようなロード3乃至6が存在するため、これによって伝えられた信号のレベルが低下する。
【0004】
第1データバスラインDBをプレチャージするための第1プレチャージ部12はフィードバックループ(feedback loop)を形成し、レピータ10と二つのPMOSトランジスタP1、P2とで構成されている。上記二つのPMOSトランジスタの中一つのPMOSトランジスタP2は遅延手段7を介して第1データバスDBの遅延された信号に応答してターン−オンされて第1データバスラインDBをプレチャージさせる。他のPMOSトランジスタP1は、ゲートが接地電源端に連結されていてターン−オン状態を維持しているため第1データバスラインDBは平常の時“ハイ”電圧レベルでプレチャージ状態を維持している。第2データバスライン/DBも第1データバスラインDBと同様に適用される。
【0005】
一方、読み出しモードや書き込みモードの際、駆動部1、2が動作して第1、第2データバスラインDB、/DBの中ひとつが“ロー”電圧レベルに遷移することになる。例えば、第1データバスラインDBが“ロー”電圧レベルに遷移されたとすれば、ノードNaでの電圧レベルが“ロー”に遷移することになり遅延部7によって所定の時間遅延後プレチャージ部12のPMOSトランジスタP2をターン−オンさせて第1データバスラインDBをまた“ハイ”電圧レベルにプレチャージさせる。第2データバスラインの場合も第1データバスラインと同様に動作する。
【0006】
しかし、上記のようにプレチャージ回路を使用する場合、データバスラインのレベル遷移(level transition)時間は優秀であるが、インバータで構成されたレピータ10によって引き起こされる信号伝達の遅延は避けられない。また、データバスラインが読み出しモード及び書き込みモードに全部使われる両方向性データバスラインである場合、読み出しモードであるか、または書き込み動作であるかを決定するフラグが制御信号に用いねばならず、またバンク別にバスラインを共有するならば互いに衝突が生じないバンク情報も制御信号に用いなければならない。このような場合、回路が複雑になり回路面積が増加して素子の集積度が低下することになる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、上記問題点を解決するために案出された本発明は、信号またはデータを伝達することにおける安定性の保障ができる半導体メモリ素子を提供することを目的とする。
【0008】
また、本発明は、信号またはデータラインに安定化回路を追加して高速に動作できる半導体メモリ素子を提供することを目的とする。
【0009】
さらに、本発明は、信号伝達において安定的な高速動作を確保することによって全体のパルス幅を減らして素子の全体的な動作速度を増加させることのできる半導体メモリ素子を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、駆動部に連結され、駆動部からの信号を伝達するための伝送ラインと、前記伝送ラインに連結され、伝送ラインのレベルを遅延させて遅延された信号を出力するための遅延手段と、前記遅延された信号が入力されるプレチャージ手段であって、前記伝送ラインをプレチャージさせることによって、伝送ラインを第1論理レベルに速かに到達させるためのプレチャージ手段と、前記伝送ラインに連結され、前記伝送ラインのレベル遷移を感知するためのレベル遷移感知手段、及び前記レベル遷移感知手段で感知された信号及び前記遅延された信号に応答してスイッチング動作を通じて前記伝送ラインを第2論理レベルに速やかに到達させるためのスイッチング手段とを備えることを特徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】
次に、本発明にかかる、半導体メモリ素子の実施の形態の具体例を図面を参照しながら説明する。
【0012】
図2を参照すると、ロード24乃至27を有するデータバスラインが駆動部20、21間に連結され、多数の安定化回路部22、23がデータバスラインに連結されて駆動部20、21の信号伝達の駆動動作を補助している。
【0013】
図3を参照すると、駆動部1、2間に第1データバスラインDB及び第2データバスライン/DBが連結されており、通常的にデータバスラインDB、/DB上にはロード3乃至6が存在する。第1データバスラインDB及び第2データバスライン/DBに遅延部7、8、プレチャージ部12、13、及び安定化回路部30、31が各々連結されている。
【0014】
第1プレチャージ部12は第1遅延部7の出力信号を入力される二つの直列連結されたインバータ10及び二つのPMOSトランジスタP1、P2とを含む。一つのPMOSトランジスタP1は、電源電圧端と第1データバスラインDBとの間に連結されてゲート端が接地電源端に連結されている。他のPMOSトランジスタP2は、電源電圧端と第1データバスラインDBとの間に連結されてゲート端に二つの直列連結されたインバータ10の出力信号が入力される。
【0015】
第1安定化回路部30は第1データバスラインのレベル遷移をするためのレベル遷移感知部30A及びレベル遷移感知部30Aからの出力信号に応答してスイッチング動作を介して第1データバスラインDBのレベル遷移が速かに行われるようにする第1スイッチング部30Bを含む。
【0016】
レベル遷移感知部30Aは、本発明にかかる一実施例としてインバータで具現可能である。第1スイッチング部30Bは、接地電源端と第1データバスラインDBとの間に直列連結された二つのNMOSトランジスタ33、34を含む。第1NMOSトランジスタ33は第1データバスラインDBに連結され、ゲートに第1レベル遷移感知部30Aの出力信号が入力される。第2NMOSトランジスタ34は第1NMOSトランジスタ33及び接地電源端間に連結され、遅延部7の出力信号がゲートに入力される。
【0017】
同様に、第2データバスライン/DBに連結された第2安定化回路部31は、第1安定化回路部30と同じ回路構成を有する。
【0018】
図3を参照して本発明にかかる半導体メモリ素子の信号伝達動作について説明する。
平常の時には、プレチャージ部12、13によって第1及び第2データバスラインDB、/DBが“ハイ”レベル状態にプレチャージされてノードNbでのレベルは“ハイ”レベル状態になる。したがって、第1NMOSトランジスタ33は、ゲートでインバータ30Aによって反転された信号に応答してターン−オフ状態を維持しており、第1データバスラインDBに連結された遅延手段7によって遅延された信号に応答して、第2NMOSトランジスタ34はターン−オフ状態になる。
【0019】
読み出しモードまたは書き込みモードで、駆動部1、2が動作することになり、第1、第2データバスラインDB、/DBの中ひとつが“ロー”レベルになる。例えば、第1データバスラインDBが“ロー”レベルになると、ノードNbでのレベルが“ロー”状態になり、ノードNbが“ハイ”状態から“ロー”状態へ行く途中に、インバータ30Aは、しきい電圧に到達して“ハイ”レベルを出力し、インバータ30Aから出力された信号に応答して第1NMOSトランジスタ33がターン−オンされて接地電源端に連結されるためノードNbが速い速度でローレベルに到達することになる。この際、第2NMOSトランジスタ34は、遅延部7によって所定時間の間以前の“ハイ”レベルを維持するためターン−オン状態にある。次いで、第1プレチャージ部12は、所定の時間後に遅延部7からの“ロー”レベルに応答してノードNbを“ハイ”レベルにプレチャージさせる。
【0020】
この際、第1プレチャージ部12は、二つの直列連結されたインバータで構成されたレピータ(repeater)10を有しているので、遅延部7からの“ロー”レベル信号に応答して第2NMOSトランジスタ34がターン−オンされた後、所定の時間以後にプレチャージ部12のPMOSトランジスタP2がターン−オンされて、プレチャージさせる際、電源電圧端から接地電源端に流れる漏洩電流を防止する。また、第2データバスライン/DBも第1データバスラインDBと同様に動作する。
【0021】
図4は、本発明の他の実施例を示す。安定化回路部50、51は第1データバスラインDB及び第2データバスライン/DBに連結され、第1及び第2データラインのレベル遷移を感知するためのエッジ検出器50A、51Aと、エッジ検出器50A、51Aからの出力信号に応答してスイッチング動作を介して第1及び第2データバスラインのレベル遷移が速かに行われるようにするNMOSトランジスタ50B、51Bを含む。また、NMOSトランジスタ50Bは、第1データバスラインDBと接地電源端との間に連結され、第1エッジ検出器50Aからの出力信号がゲートに入力される。同様に、NMOSトランジスタ51Bは、第2データバスライン/DBと接地電源端との間に連結され、第2エッジ検出器51Aからの出力信号がゲートに入力される。
【0022】
図3のように、平常の時には、第1及び第2データバスラインDB、/DBがプレチャージ部12、13によって“ハイ”レベルを維持している。一方、読み出しモードや、書き込みモードの際、駆動部1、2によって第1、第2データバスラインDB、/DBの中ひとつが“ロー”レベルになる。第1データバスラインDBが“ロー”レベルになるとノードNcのレベルが“ロー”レベルになり、エッジ検出器50Aがレベル遷移を感知してパルス信号を発生させる。この際、第1NMOSトランジスタ50Bは、パルス信号に応答してターン−オンされて第1データバスラインDBのレベルを“ロー”に急速に落とし第1データバスラインDBがレベル遷移を速かに行われるようにする。
【0023】
次いで、第1データバスラインDBは、プレチャージ手段12により、また“ハイ”レベルにプレチャージされることになる。上記のように一つのトランジスタを使用して補助駆動回路を具現するためには、第1NMOSトランジスタ50Bがターン−オンされた後、プレチャージ部12がターン−オンされるようにパルス幅を調節しなければならない。
【0024】
図5は、データバスラインの長さが15000μmである時の信号伝達特性を表すグラフである。図5で、符号1と2は、各々図1のノードN1及びノードN2での信号を表し、符号3と4は、一つの安定化回路部が連結された場合に、図3のノードN3及びノードN4での信号を表す。図面に示したことのように、駆動部から伝えられる信号のレベル遷移特性が約1.5ns程度改善される。
【0025】
図6は、データバスラインの長さが20000μmである時の信号伝達特性を表すグラフである。図6で、符号1と2は、各々図1でのノードN1及びノードN2での信号を表し、図面符号3と4は、一つの安定化回路部が連結された場合に、図3のノードN3及びノードN4での信号を各々表す。また、符号5及び6は、三つの安定化回路部が連結された場合に、図3のノードN3及びノードN4での信号を各々表す。図面から分かるように、安定化回路手段が多く連結されるほど、データバスラインでのレベル遷移特性がさらに向上される。
【0026】
尚、本発明は、前述した実施例及び添付した図面によって限定されるものではなく、本発明の技術的思想を抜け出さない範囲内で種々の置換、変形及び変更が可能である。
【0027】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明は、簡単な安定化回路を追加することによって信号伝達の際、データバスラインが完全な“ロー”レベルになるように容易に具現できる。さらに、このような安定した動作は全体のパルス幅を減らすことができるため高速の動作が容易であり、波形の傾斜が改善されることによってインバータに流れる短絡(short)電流を減らすことができて素子の消費電力を減らすことのできる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の半導体メモリ素子のデータバスラインを示した図面である。
【図2】本発明による半導体メモリ素子の安定化回路を有するデータバスラインを示した図面である。
【図3】本発明による半導体メモリ素子の一実施例での安定化回路を有するデータバスラインを示した図面である。
【図4】本発明による半導体メモリ素子の他の実施例での安定化回路を有するデータバスラインを示した図面である。
【図5】従来の半導体メモリ素子のデータバスラインの信号伝達特性を表したグラフである。
【図6】本発明による半導体メモリ素子のデータバスラインの信号伝達特性を表したグラフである。
【符号の説明】
1、2 駆動部
7、8 遅延部
12、13 プレチャージ部
24〜27 ロード
30、31 安定化回路部
30A レベル遷移感知部
30B スイッチング部
50、51 安定化回路部
50A、51A エッジ検出器

Claims (8)

  1. 駆動部に連結され、駆動部からの信号を伝達するための伝送ラインと、
    前記伝送ラインに連結され、伝送ラインのレベルを遅延させて遅延された信号を出力するための遅延手段と、
    前記遅延された信号が入力されるプレチャージ手段であって、前記伝送ラインをプレチャージさせることによって、伝送ラインを第1論理レベルに速かに到達させるためのプレチャージ手段と、
    前記伝送ラインに連結され、前記伝送ラインのレベル遷移を感知するためのレベル遷移感知手段、及び前記レベル遷移感知手段で感知された信号及び前記遅延された信号に応答してスイッチング動作を通じて前記伝送ラインを第2論理レベルに速やかに到達させるためのスイッチング手段とを備えることを特徴とする半導体メモリ素子。
  2. 前記レベル遷移感知手段は、前記伝送ライン及び前記スイッチング手段間に連結された第1インバータであることを特徴とする請求項1記載の半導体メモリ素子。
  3. 前記スイッチング手段は、前記伝送ラインに連結され、ゲートに前記レベル遷移感知手段で感知された信号が入力される第1NMOSトランジスタと、
    前記第1NMOSトランジスタ及び接地電源端間に連結され、ゲートに前記遅延手段からの遅延された信号が入力される第2NMOSトランジスタとを含むことを特徴とする請求項2記載の半導体メモリ素子。
  4. 前記プレチャージ手段は、前記遅延手段から遅延された信号が入力される多数の第2インバータと、
    電源電圧端及び前記伝送ライン間に連結され、ゲートに前記第2インバータの出力信号が入力される第1PMOSトランジスタと、
    電源電圧端及び前記伝送ライン間に連結されて、ゲートが接地電源端に連結された第2PMOSトランジスタとを含むことを特徴とする請求項記載の半導体メモリ素子。
  5. 前記レベル遷移感知手段は、前記伝送ラインのレベル遷移を感知して所定のパルス幅を有するパルス信号を出力するためのエッジ検出器であることを特徴とする請求項1記載の半導体メモリ素子。
  6. 前記スイッチング手段は、接地電源端及び前記伝送ライン間に連結され、ゲートに前記エッジ検出器の出力信号が入力されるNMOSトランジスタであることを特徴とする請求項5記載の半導体メモリ素子。
  7. 前記第1論理レベルは、“ハイ”レベルであり、第2論理レベルは、“ロー”レベルであることを特徴とする請求項1に記載の半導体メモリ素子。
  8. 前記第1論理レベルは、“ロー”レベルであり、第2論理レベルは、“ハイ”レベルであることを特徴とする請求項1に記載の半導体メモリ素子。
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