JP3798778B2 - 平面パネルディスプレイ用スペーサの製造方法 - Google Patents
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Description
まず、Al2O3粉末(平均粒径0.5μm、純度99.9%)、TiC粉末(平均粒径0.5μm、純度99%、炭素含有量19%以上でその1%以下は遊離黒鉛である)、TiO2粉末(平均粒径0.1μm)を各々所定量秤量し、ボールミル中でIPA(イソプロピルアルコール;沸点82.4℃)と共に30分粉砕混合し、窒素中で150℃でスプレー造粒し造粒物を得た。ここで、Al2O3粉末、TiC粉末、及び、TiO2粉末を合わせた全重量に対して、Al2O3粉末の含有量が91.3重量%、TiC粉末の含有量が7.2重量%、TiO2粉末の含有量が1.5重量%となるように混合の組成を調整した。また、必要に応じてIPAを添加して造粒物の液体含有量の調節を行い、造粒物全体の5重量%程度、IPAが含まれるようにした。
恒温槽における放置時間を24時間とする以外は、実施例1と同様にして、実施例2のスペーサ用のベースを得た。また、恒温槽における放置時間を100時間とする以外は、実施例1と同様にして、実施例3のスペーサ用のベースを得た。また、恒温槽における放置時間を200時間とする以外は、実施例1と同様にして、実施例4のスペーサ用のベースを得た。
恒温槽における放置時間を12時間とする以外は、実施例1と同様にして、比較例1のスペーサ用のベースを得た。
恒温槽の温度を50℃とする以外は、実施例1と同様にして、実施例5のスペーサ用のベースを得た。また、恒温槽の温度を80℃とする以外は、実施例1と同様にして、実施例6のスペーサ用のベースを得た。また、恒温槽の温度を100℃とする以外は、実施例1と同様にして、実施例7のスペーサ用のベースを得た。また、恒温槽の温度を200℃とする以外は、実施例1と同様にして、実施例8のスペーサ用のベースを得た。
恒温槽の温度を30℃とする以外は、実施例1と同様にして、比較例2のスペーサ用のベースを得た。また、恒温槽の温度を300℃とする以外は、実施例1と同様にして、比較例3のスペーサ用のベースを得た。
恒温槽に入れて放置する工程を実施しない以外は、実施例1と同様にして、比較例4のスペーサ用のベースを得た。
ボールミル中で粉砕混合する有機溶剤をエタノール(沸点78.32℃)とする以外は、実施例1と同様にして、実施例9のスペーサ用のベースを得た。
ボールミル中で粉砕混合する有機溶剤をエタノールとし、恒温槽における放置時間を24時間とする以外は、実施例1と同様にして、実施例10のスペーサ用のベースを得た。また、ボールミル中で粉砕混合する有機溶剤をエタノールとし、恒温槽における放置時間を100時間とする以外は、実施例1と同様にして、実施例11のスペーサ用のベースを得た。また、ボールミル中で粉砕混合する有機溶剤をエタノールとし、恒温槽における放置時間を200時間とする以外は、実施例1と同様にして、実施例12のスペーサ用のベースを得た。
ボールミル中で粉砕混合する有機溶剤をエタノールとし、恒温槽における放置時間を12時間とする以外は、実施例1と同様にして、比較例5のスペーサ用のベースを得た。
また、ボールミル中で粉砕混合する有機溶剤をエタノールとし、恒温槽の温度を50℃とする以外は、実施例1と同様にして、実施例13のスペーサ用のベースを得た。また、ボールミル中で粉砕混合する有機溶剤をエタノールとし、恒温槽の温度を80℃とする以外は、実施例1と同様にして、実施例14のスペーサ用のベースを得た。また、ボールミル中で粉砕混合する有機溶剤をエタノールとし、恒温槽の温度を100℃とする以外は、実施例1と同様にして、実施例15のスペーサ用のベースを得た。また、ボールミル中で粉砕混合する有機溶剤をエタノールとし、恒温槽の温度を200℃とする以外は、実施例1と同様にして、実施例16のスペーサ用のベースを得た。
ボールミル中で粉砕混合する有機溶剤をエタノールとし、恒温槽の温度を30℃とする以外は、実施例1と同様にして、比較例5のスペーサ用のベースを得た。また、ボールミル中で粉砕混合する有機溶剤をエタノールとし、恒温槽の温度を300℃とする以外は、実施例1と同様にして、比較例6のスペーサ用のベースを得た。
ボールミル中で粉砕混合する有機溶剤をエタノールとし、又、恒温槽に入れて放置する工程を実施しない以外は、実施例1と同様にして、比較例8のスペーサ用のベースを得た。
Claims (4)
- Al2O3粉末、TiC粉末及び有機溶剤を含む混合物を成形し成形体を得る成形工程と、前記成形体を焼結し焼結体を得る焼結工程とを有する平面パネルディスプレイ用スペーサの製造方法において、
前記成形工程と前記焼結工程との間に、酸素含有雰囲気下において前記成形体を50℃以上、200℃以下の温度範囲内に24時間以上維持する熱処理工程を有し、
前記有機溶剤はエタノール又はIPAであることを特徴とする平面パネルディスプレイ用スペーサの製造方法。 - 前記熱処理工程における前記温度範囲は前記有機溶剤の沸点よりも低いことを特徴とする請求項1に記載の平面パネルディスプレイ用スペーサの製造方法。
- 前記熱処理工程を常圧よりも減圧された環境下で行うことを特徴とする請求項1又は2記載の平面パネルディスプレイ用スペーサの製造方法。
- 前記混合物はTiO2粉末を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の平面パネルディスプレイ用スペーサの製造方法。
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