JP3797124B2

JP3797124B2 - ｎ型ＧａＰ単結晶基板、その製造方法、ＧａＰ緑色系発光ダイオード用エピタキシャル基板およびＧａＰ緑色系発光ダイオード

Info

Publication number: JP3797124B2
Application number: JP2001074304A
Authority: JP
Inventors: 敦吉永
Original assignee: Showa Denko KK
Current assignee: Showa Denko KK
Priority date: 2001-03-15
Filing date: 2001-03-15
Publication date: 2006-07-12
Anticipated expiration: 2021-03-15
Also published as: TW578316B; JP2002280605A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はＧａＰ緑色系発光ダイオード用エピタキシャル基板に使用されるｎ型ＧａＰ単結晶基板とその製造方法に関するものであり、特に高輝度で、かつ低い順方向電圧で駆動可能なＧａＰ緑色系発光ダイオードを作製するために好適に用いられるｎ型ＧａＰ単結晶基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＧａＰは緑色に対応するバンドギャップ（約２．２６ｅＶ）を持つ化合物半導体であり、主に緑色の発光ダイオード（ＬＥＤ）の材料として用いられている。
【０００３】
ＧａＰは間接遷移型の結晶であるため内部量子効率が低く、原理的に輝度が低い。これを改善する方法として、発光層（通常はｐｎ接合を形成するｎ層）に窒素（Ｎ）を発光中心としてドープすると輝度が飛躍的に向上することが発見され、実用化に至っている。Ｎの形成する準位は伝導帯から約７ｍｅＶ下にあるため、このＮをドープしたＬＥＤの発光波長は５６５〜５７０ｎｍとなり、色としては黄緑色になる（黄緑色ＬＥＤ）。
【０００４】
また、基板と発光層の間にバッファ層を積層することにより、ＧａＰ単結晶基板からその上にエピタキシャル成長させたｐｎ接合構造の発光層へ伝搬する結晶欠陥を低減する技術や、ＧａＰ層のエピタキシャル成長中に主にリン（Ｐ）の脱離でＧａＰ層中に発生する結晶欠陥をエピタキシャル成長雰囲気中のＰ分圧を制御して低減する技術などの開発により、発光中心をドープしない緑色のＬＥＤについても高輝度化が実現された。このＬＥＤはＮのような発光中心を用いないので、輝度は黄緑色ＬＥＤよりも低いが、発光波長は約５５５ｎｍであり、色としては純緑色になる（純緑色ＬＥＤ）。
【０００５】
これら黄緑色ＬＥＤと純緑色ＬＥＤをあわせて、ＧａＰ緑色系発光ダイオード（ＧａＰ緑色系ＬＥＤ）と呼ぶ。
以下にＧａＰ緑色系ＬＥＤについて図を用いてさらに詳細に説明する。
【０００６】
黄緑色ＬＥＤの一般的な構造の概略を図１に示す。まず、ｎ型ＧａＰ単結晶基板１の上に、必要に応じてｎ型ＧａＰバッファ層２を成長する。ｎ型ＧａＰバッファ層２は、成長させなくともかまわないが、一般に、成長させた方がその上に形成するＧａＰ層の結晶性は向上し、より高輝度のＬＥＤが得られる。ｎ型ＧａＰバッファ層２は複数の層を積層しても良い。次に、その上に、ｎ型ＧａＰエピタキシャル層３、Ｎをドープしたｎ型ＧａＰエピタキシャル層４、およびｐ型ＧａＰエピタキシャル層５を順次成長させる。
【０００７】
純緑色ＬＥＤの一般的な構造の概略を図２に示す。まずｎ型ＧａＰ単結晶基板６の上に、必要に応じてｎ型ＧａＰバッファ層７を成長させる。黄緑色ＬＥＤの場合と同様、ｎ型ＧａＰバッファ層７は、成長させなくともかまわないが、一般に、成長させた方がその上に形成するＧａＰ層の結晶性は向上し、より高輝度のＬＥＤが得られる。ｎ型ＧａＰバッファ層７は複数の層を積層しても良い。次に、その上に、Ｎをドープしないｎ型ＧａＰエピタキシャル層８，およびｐ型ＧａＰエピタキシャル層９を順次成長させる。
【０００８】
このようにＧａＰ単結晶基板上にＧａＰエピタキシャル層を積層した基板を本明細書ではエピタキシャル基板と呼ぶ。上記のようにして作製したＬＥＤ用エピタキシャル基板のｎ型の表面とｐ型の表面にそれぞれＡｕＧｅ、ＡｕＢｅ等の電極用金属薄膜を蒸着し、熱処理によりこれらの電極用金属薄膜材料とエピタキシャル基板を合金化する。さらに、フォトリソグラフィーによりｎ電極、ｐ電極を形成して、ダイシングによりＬＥＤに分離する。
【０００９】
これらのＬＥＤ用エピタキシャル基板は、通常液体封止チョクラルスキー法（ＬＥＣ法）で育成したＧａＰ単結晶インゴットを切断、研磨して作製されるＧａＰ単結晶基板を使用して製造される。また、ｎ型ＧａＰ単結晶基板のドーパントとしてはＳ、Ｓｉ、及びＴｅが一般的に用いられている。これらのドーパントのうち特にＳは、特開平１１−９７７４０号公報に示されているように、前述の黄緑色ＬＥＤの輝度を低下させる原因となるので、エピタキシャル層が基板起因のＳで汚染されることを回避するために、ＧａＰ緑色系発光ダイオード用エピタキシャル基板の作製には使用されていない。
【００１０】
また上記のエピタキシャル層は、主に液相エピタキシャル成長法により製造されている。液相エピタキシャル法は、結晶性の良い高品質なエピタキシャル層を大量に安価に製造することができる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
上記のようにして作製されるＧａＰ緑色系ＬＥＤ用エピタキシャル基板及び発光ダイオードは、市場の高輝度化への要求に対応するために、前述のようなエピタキシャル層構造の最適化や液相エピタキシャル成長方法の改良により特性向上を図ってきた。
【００１２】
これに加えて、エピタキシャル基板に用いるＧａＰ単結晶基板についても特性改善が図られてきた。ＧａＰ単結晶基板の特性改善の指標としては、結晶欠陥に対応するＥＰＤ（エッチピット密度）の低減とキャリヤ濃度の最適化の２つがある。このうち、ＥＰＤ低減のためにはＧａＰ単結晶インゴットの育成技術の改良が検討されているが本発明の目的とは離れるので詳細は省略する。
【００１３】
一方ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度については、ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度は低い方が基板による発光の吸収が小さくなるので、ＬＥＤの高輝度化のためには有効であるが、同時に基板のキャリヤ濃度が低いと基板自身の電気抵抗が上昇する。そのためＬＥＤを作製した場合、基板のキャリヤ濃度が低いと電極と結晶間の接触抵抗と基板のバルク抵抗が上昇し、ＬＥＤに定格電流を流すために必要な順方向電圧（ＶＦ）の値が大きくなるためＬＥＤの寿命特性が低下するという性質がある。反対に、ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度が高いとＬＥＤのＶＦは低減できるが、基板による発光の吸収によりＬＥＤの輝度が低下する。
【００１４】
このようにＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度に関してＬＥＤの輝度とＶＦにはトレードオフの関係がある。従って、基板のキャリヤ濃度には最適範囲があり、従来一般にはキャリア濃度が１〜２０×１０¹⁷ｃｍ^-3程度のＧａＰ単結晶基板が、ＧａＰ緑色系ＬＥＤ用エピタキシャル基板の作製に利用されていた。
【００１５】
ところが、近年、ＬＥＤの小サイズ化、消費電力低減の要求が高まっており、高輝度であり、かつ低ＶＦのＬＥＤが求められている。前記のように、ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度に対する輝度とＶＦの関係はトレードオフにあるため、この市場要求に応じるためにはＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度の最適範囲をＬＥＤの輝度、ＶＦの目標値に合わせて変更する必要がある。
【００１６】
即ち、輝度向上のためにキャリヤ濃度の上限値を下げ、低ＶＦ化のためにキャリヤ濃度の下限値を上げる必要があり、その結果として新たに求められる最適キャリヤ濃度範囲は従来と比較して狭くなる。
【００１７】
ところが、ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度の最適範囲を狭めると、Ｔｅドープのｎ型ＧａＰ単結晶インゴットからＧａＰ単結晶基板を作製する場合、一本のインゴットの中でキャリヤ濃度が新たな最適範囲からはずれてＬＥＤ用の基板として使用できない領域が増加する。そのため、一本のインゴットからの製造できる基板の枚数が少なくなる結果、基板のコストアップにつながる。
【００１８】
一方、Ｓｉドープのｎ型ＧａＰ単結晶インゴットの場合は、インゴット内のキャリヤ濃度変化はＴｅドープの場合と比較すると小さい。しかし、このインゴットを用いてキャリヤ濃度を限定したＳｉドープのＧａＰ単結晶基板を作製し、ＧａＰエピタキシャル層を積層してＬＥＤを作製してもＶＦがばらつくという不具合があった。
【００１９】
そこで本発明の目的は、高輝度で、かつ低い順方向電圧で駆動可能な緑色系発光ダイオードを作製するために好適に用いることができるｎ型ＧａＰ単結晶基板とその製造方法を提供することにある。
【００２０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、
（１）ｎ型のドーパントとしてＳｉとＴｅが同時にドープされたｎ型ＧａＰ単結晶基板において、該ｎ型ＧａＰ単結晶基板中のＳｉ濃度とＴｅ濃度の和が２×１０¹⁷ｃｍ^-3以上２×１０¹⁸ｃｍ^-3以下であり、かつＳｉ濃度が２×１０¹⁶ｃｍ^-3以上８×１０¹⁷ｃｍ^-3以下であり、かつＴｅ濃度が１×１０¹⁷ｃｍ^-3以上２×１０¹⁸ｃｍ^-3以下であることを特徴とするｎ型ＧａＰ単結晶基板である。
【００２１】
（２）（１）に記載のｎ型ＧａＰ単結晶基板は、ｎ型キャリヤ濃度が１．５×１０¹⁷ｃｍ^-3以上１０×１０¹⁷ｃｍ^-3以下であることが好ましい。
【００２２】
（３）特に（１）に記載のｎ型ＧａＰ単結晶基板は、ｎ型キャリヤ濃度が２×１０¹⁷ｃｍ^-3以上８×１０¹⁷ｃｍ^-3以下であることが好ましい。
【００２３】
（４）（１）乃至（３）に記載のｎ型ＧａＰ単結晶基板は、液体封止チョクラルスキー法により育成されたｎ型ＧａＰ単結晶インゴットから作製されたものであることが好ましい。
【００２４】
また本発明は、
（５）（１）乃至（４）に記載のｎ型ＧａＰ単結晶基板を用いて作製したＧａＰ緑色系発光ダイオード用エピタキシャル基板である。
【００２５】
また本発明は、
（６）（５）に記載のエピタキシャル基板から作製されたＧａＰ緑色系発光ダイオードである。
【００２６】
また本発明は、
（７）ｎ型のドーパントとしてＳｉとＴｅを同時にドープしてｎ型ＧａＰ単結晶インゴットを育成し該インゴットからｎ型ＧａＰ単結晶基板を作製するｎ型ＧａＰ単結晶基板の製造方法において、ｎ型ＧａＰ単結晶基板中のＳｉ濃度とＴｅ濃度の和を２×１０¹⁷ｃｍ^-3以上２×１０¹⁸ｃｍ^-3以下とし、かつＳｉ濃度を２×１０¹⁶ｃｍ^-3以上８×１０¹⁷ｃｍ^-3以下とし、かつＴｅ濃度を１×１０¹⁷ｃｍ^-3以上２×１０¹⁸ｃｍ^-3以下とするように、ＧａＰ単結晶インゴットの原料にＳｉとＴｅを添加することを特徴とするｎ型ＧａＰ単結晶基板の製造方法である。
【００２７】
（８）（７）に記載のｎ型ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度は１．５×１０¹⁷ｃｍ^-3以上１０×１０¹⁷ｃｍ^-3以下とすることが好ましい。
【００２８】
（９）特に（７）に記載のｎ型ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度は２×１０¹⁷ｃｍ^-3以上８×１０¹⁷ｃｍ^-3以下とすることが好ましい。
【００２９】
（１０）（７）乃至（９）に記載のｎ型ＧａＰ単結晶基板の製造方法は、液体封止チョクラルスキー法によりｎ型ＧａＰ単結晶インゴットを育成することが好ましい。
【００３０】
【発明の実施の形態】
ＧａＰ緑色系発光ダイオードに対する高輝度化かつ低ＶＦ化の市場要求に応えるためのＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度の最適範囲を、ｎ型ＧａＰ単結晶基板を用いて実験的に求めたところ、最適キャリヤ濃度範囲は１．５×１０¹⁷ｃｍ^-3以上１０×１０¹⁷ｃｍ^-3以下、さらに好ましくは２×１０¹⁷ｃｍ^-3以上８×１０¹⁷ｃｍ^-3以下であることがわかった。ＴｅドープのＧａＰインゴットの場合、従来の最適キャリヤ濃度範囲である１．０〜２０×１０¹⁷ｃｍ^-3に対しては単結晶領域の９５％以上がその範囲に入っていたが、新たな最適キャリヤ濃度範囲である１．５〜１０×１０¹⁷ｃｍ^-3を採用すると、その範囲に入るインゴットの単結晶領域の割合（合格率）は７０％に低下した。
【００３１】
インゴット育成時のＴｅの添加条件を種々検討しても、新たな最適キャリア濃度範囲である１．５〜１０×１０¹⁷ｃｍ^-3に対してＴｅドープのＧａＰ単結晶インゴットの合格率は改善できなかった。これはＴｅのＧａＰに対する偏析係数が１より小さいので、インゴット内のキャリヤ濃度が単結晶育成開始部分（以下、トップ部）では低く、単結晶育成終了部分（以下ボトム部）に向かって高くなるためである。従って、ＴｅドープＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度を前記の最適範囲に限定すると、一本のインゴット内でキャリヤ濃度の規格をはずれる領域が大きくなり、基板収率が低下してＧａＰ単結晶基板のコストアップになる。
【００３２】
一方ＳｉをドーパントとするＧａＰ単結晶インゴットの場合、インゴット内のキャリヤ濃度はトップ部からボトム部に向かって減少するが、その変化率はＴｅドープのインゴットの場合よりも小さいので、新たに定めた最適キャリヤ濃度範囲に適合した基板を単結晶インゴットからの基板収率低下を招かずに育成することができる。
【００３３】
しかし、実際にＳｉドープのＧａＰ単結晶基板を用いてその上にエピタキシャル層を成長し、ＧａＰ緑色系ＬＥＤを作製したところ、同じキャリヤ濃度の基板を使用してもＬＥＤのＶＦがばらつき、ＶＦの規格値を超えるものが発生した。この現象はインゴットにドープするＳｉの添加量を増量してキャリヤ濃度を前記の実験で求めた最適値の上限付近に設定しても発生した。さらにＳｉ添加量を上げると作製したＬＥＤの輝度も低下した。
【００３４】
この原因について調査した結果、ＳｉドープのＧａＰ単結晶基板におけるキャリアの移動度がインゴットのトップ部からボトム部に向かって減少していることがわかった。結晶の抵抗率は結晶のキャリヤ濃度とキャリアの移動度の積に反比例する。前述のようにＳｉドープＧａＰ単結晶ではインゴット全域のキャリヤ濃度の変化は小さいが、ボトム部側でキャリアの移動度が減少しているために抵抗率が上昇し、この単結晶基板を使用したエピタキシャル基板から作製したＬＥＤのＶＦが上昇したものと考えられる。
【００３５】
ＳｉドープのＧａＰ単結晶インゴットにおいて、キャリアの移動度がトップ部からボトム部に向かって減少する原因は、インゴットの育成方向（トップ部からボトム部）に向かってＳｉの活性化率が低下すること、即ちキャリヤとして寄与しないＳｉがインゴットのボトム部側で増加することで、ＧａＰ単結晶の結晶性がボトム部側で悪化するためと推測される。Ｓｉ添加量を増量するとこの傾向が更に高まるため、輝度も低下するものと考えられる。
【００３６】
尚、ＴｅドープのＧａＰ単結晶インゴットについても同様にボトム部側で移動度が減少しているが、減少の割合はＳｉドープのインゴットの場合よりも小さく、またＴｅドープのＧａＰ単結晶インゴットでは、前述のようにボトム部側でキャリヤ濃度も同時に上昇しているため抵抗率はあまり上昇しない。
【００３７】
以上の知見から、ＧａＰ単結晶インゴットのキャリヤ濃度をインゴットの広い領域で最適範囲に制御し、高輝度で順方向電圧の低い発光ダイオードを作製するためのＧａＰ単結晶基板を収率良く製造することは、単独のドーパントを用いてｎ型ＧａＰ単結晶インゴットを育成する方法では困難であると考えられる。そこで本発明者は、ＳｉとＴｅを同時にＧａＰ単結晶インゴットの原料に添加してインゴットを育成することにより、前述のＴｅやＳｉを単独でドープしたＧａＰ単結晶基板の欠点を補償する方法について検討した。
【００３８】
即ち本発明者は、インゴットに同時にドープするＴｅとＳｉの添加量を調整して、ＧａＰ単結晶インゴットの全単結晶領域でキャリヤ濃度を最適範囲内に納める条件を検討した。また、前述のようにＴｅやＳｉは共に、結晶へのドープ量が増加すると結晶内での活性化率が減少すると考えられるので、ＧａＰ単結晶のキャリヤ濃度のみを規定するのではＶＦを制御できない。そのためＧａＰ単結晶基板内に実際に取り込まれたＳｉとＴｅの濃度についても最適範囲を検討した。
【００３９】
本発明者は以上の方針で、ｎ型ＧａＰ単結晶のインゴット育成の際にドープするＳｉおよびＴｅの添加量を検討し、ｎ型ＧａＰ単結晶基板中のＳｉ濃度とＴｅ濃度を最適化することにより本発明に至った。本発明では、ｎ型のドーパントとしてＳｉとＴｅが同時にドープされたｎ型ＧａＰ単結晶基板において、ｎ型ＧａＰ単結晶基板中のＳｉ濃度とＴｅ濃度の和が２×１０¹⁷ｃｍ^-3以上２×１０¹⁸ｃｍ^-3以下とする。
【００４０】
ｎ型ＧａＰ単結晶基板中のＳｉ濃度とＴｅ濃度の和が２×１０¹⁷ｃｍ^-3より小さいと、この基板を用いて作製した前記ＧａＰ緑色系発光ダイオードのＶＦが上昇するため好ましくない。また、ｎ型ＧａＰ単結晶基板中のＳｉ濃度とＴｅ濃度の和が２×１０¹⁸ｃｍ^-3より大きいとこの基板を用いて作製した前記ＧａＰ緑色系発光ダイオードの輝度が低下するため好ましくない。
【００４１】
さらに本発明では、Ｓｉ濃度とＴｅ濃度の和が２×１０¹⁷ｃｍ^-3以上２×１０¹⁸ｃｍ^-3以下とすると同時に、ｎ型ＧａＰ単結晶基板中のＳｉ濃度を２×１０¹⁶ｃｍ^-3以上８×１０¹⁷ｃｍ^-3以下とする。Ｓｉ濃度が２×１０¹⁶ｃｍ^-3より小さいと、この基板を用いて作製した前記ＧａＰ緑色系発光ダイオードのＶＦが上昇するため好ましくない。また、Ｓｉ濃度が８×１０¹⁷ｃｍ^-3より大きいと、この基板を用いて作製した前記ＧａＰ緑色系発光ダイオードの輝度が低下するため好ましくない。
【００４２】
さらに本発明では、上記のようにＳｉ濃度を制御すると同時に、ｎ型ＧａＰ単結晶基板中のＴｅ濃度を１×１０¹⁷ｃｍ^-3以上２×１０¹⁸ｃｍ^-3以下とする。Ｔｅ濃度が１×１０¹⁷ｃｍ^-3より小さいと、この基板を用いて作製した前記ＧａＰ緑色系発光ダイオードのＶＦが上昇するため好ましくない。また、Ｔｅ濃度が２×１０¹⁸ｃｍ^-3以上であるより大きいと、この基板を用いて作製した前記ＧａＰ緑色系発光ダイオードの輝度が低下するため好ましくない。
【００４３】
本発明では、ＳｉとＴｅが同時にドープされたｎ型ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度範囲を、１．５×１０¹⁷ｃｍ^-3以上１０×１０¹⁷ｃｍ^-3以下、さらに好ましくは２×１０¹⁷ｃｍ^-3以上８×１０¹⁷ｃｍ^-3以下に制御し、そのＧａＰ単結晶基板を用いてＧａＰ緑色系発光ダイオード用エピタキシャル基板を作製することにより、高輝度で、かつ低い順方向電圧で駆動可能なＧａＰ緑色系発光ダイオードを作製することが出来る。
なお、本発明においてＳｉ濃度やＴｅ濃度あるいはキャリア濃度の測定値の有効数字は大きくて２桁程度であるため、３桁目は四捨五入するものとする。例えば、ｎ型ＧａＰ単結晶基板中のＳｉ濃度が２×１０¹⁶ｃｍ^-3、Ｔｅ濃度が２×１０¹⁸ｃｍ^-3の場合、Ｓｉ濃度とＴｅ濃度の和は計算上２．０２×１０¹⁸ｃｍ^-3となるが、この場合３桁目は四捨五入してＳｉ濃度とＴｅ濃度の和は２．０×１０¹⁸ｃｍ^-3とみなす。
【００４４】
ＧａＰ単結晶インゴットの育成方法には、水平式ブリッジマン法や垂直式ブリッジマン法などがあるが、本発明では液体封止チョクラルスキー法によりｎ型ＧａＰ単結晶インゴットを育成するのが好ましい。液体封止チョクラルスキー法を用いると、結晶性の良いＧａＰ単結晶インゴットを再現良く製造することができるという利点がある。
【００４５】
【実施例】
以下、実施例を示しながら本発明をさらに詳細に説明する。
【００４６】
（実験例１）
所定量のＧａＰ多結晶と、ＧａＰ多結晶１０００ｇに対してＳｉを１００ｍｇ及びＴｅを５００ｍｇの割合で添加したものを原料として、通常の液体封止チョクラルスキー法によりｎ型ＧａＰ単結晶インゴットを育成した。育成温度は約１５００℃、育成圧力は約５０気圧とした。その他の引き上げ条件は、例えば特公昭５９−１２６４０号に記載されているような公知の方法を用いた。ＧａＰ単結晶インゴットの引き上げ方位は＜１１１＞方向とした。
【００４７】
上記のようにして育成したＧａＰ単結晶インゴットの単結晶領域を通常の外周研削工程、切断工程、研磨工程及びエッチング工程により加工し、ｎ型ＧａＰ単結晶基板を作製した。
【００４８】
次に、このｎ型ＧａＰ単結晶基板を用いて、液相エピタキシャル成長法により、図１に示した黄緑色ＬＥＤ用エピタキシャル基板を以下のように作製した。なお、この黄緑色ＬＥＤ用エピタキシャル基板の作製には、上記ＧａＰ単結晶インゴットのトップ部からボトム部までの間でおよそ等間隔の位置から取り出したｎ型ＧａＰ単結晶基板を計８枚使用した。
【００４９】
まず、このｎ型ＧａＰ単結晶基板１上に通常の液相エピタキシャル成長法により、ｎ型ＧａＰバッファ層２を成長させた。このｎ型ＧａＰバッファ層２はＳｉドープとし、キャリヤ濃度は４×１０¹⁷ｃｍ^-3、層厚は１００μｍとした。
【００５０】
次いで、公知の横型スライドボートを用いた方法により、ｎ型ＧａＰバッファ層の上にＧａＰエピタキシャル層を成長させた。横型スライドボートの基板ホルダーに、前記ｎ型ＧａＰバッファ層を成長させた前記ｎ型ＧａＰ単結晶基板をセットし、溶液溜には成長用溶液となるＧａメタルを所定量セットした。基板とメタルを分離した状態のまま、このスライドボートをエピタキシャル成長炉にセットし、水素気流下で１０００℃まで昇温し、基板ホルダーをスライドさせてｎ型ＧａＰバッファ層とＧａメタルを接触させ、１時間保持してＧａメタルにｎ型ＧａＰバッファ層の一部を飽和するまで溶解させた。この時、溶解したｎ型ＧａＰバッファ層にドーパントとして含まれるＳｉと、エピタキシャル成長炉の反応管の石英が水素により還元されることにより発生したＳｉがＧａメタル中に溶け込む。
【００５１】
その後、９６０℃まで冷却してｎ型ＧａＰバッファ層上にＳｉドープｎ型ＧａＰエピタキシャル層を成長させた。次に温度を９６０℃に保持したまま、雰囲気ガスを水素から所定量のアンモニアガスを添加したアルゴンガスと水素ガスの混合ガスに切り換える。このようにすると、アンモニアガスがＧａメタルと反応してＧａメタル中に窒素（Ｎ）が取り込まれる。その後、９００℃まで徐冷して、Ｓｉドープｎ型ＧａＰエピタキシャル層上にＮドープのｎ型ＧａＰエピタキシャル層を成長させた。
【００５２】
引き続き、温度を９００℃に保持し、雰囲気ガスに亜鉛（Ｚｎ）蒸気を供給してＧａ溶液中にＺｎを所定量取り込ませた。再び温度を８００℃まで徐冷してＮドープのｎ型ＧａＰエピタキシャル層上にＺｎドープｐ型ＧａＰエピタキシャル層を成長させた。
【００５３】
以上の手順で、ｎ型ＧａＰバッファ層２を成長させたｎ型ＧａＰ単結晶基板１の上に、Ｓｉドープのｎ型ＧａＰエピタキシャル層３、Ｎドープのｎ型ＧａＰエピタキシャル層４、Ｚｎドープのｐ型ＧａＰエピタキシャル層５を順次積層した。
【００５４】
エピタキシャル層の成長がすべて終了した後、基板ホルダーをスライドさせて成長溶液を分離し、室温まで冷却してＧａＰ黄緑色ＬＥＤ用エピタキシャル基板を得た。このエピタキシャル基板の一部を劈開により切断し、測定用断片を作製した。この断片を使ってＣＶ法によりＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度を測定した。また、ＳＩＭＳ法により同じ断片についてＧａＰ単結晶基板中のＳｉとＴｅの濃度を測定した。
【００５５】
次に、測定用断片を採取した残りのＧａＰ黄緑色ＬＥＤ用エピタキシャル基板の両面をラップ加工およびポリッシュ加工した後、ｐ側表面にＡｕ−Ｂｅ合金を、またｎ側表面にＡｕ−Ｇｅ合金を蒸着し、通常のフォトリソグラフィーにより電極を形成した。また、ＧａＰ単結晶基板のＶＦへの影響を評価するため、この段階で基板側（ｎ側表面）の最近接電極間の電気抵抗（以下、電極間抵抗（Ｒｎｎ）という）を測定した。
【００５６】
前述のように基板のキャリヤ濃度と移動度が基板のバルク抵抗を支配するので、このＲｎｎの測定によりＬＥＤのＶＦに対する基板の寄与が評価できる。ＲｎｎとＶＦには正相関があることがわかっている。そのためＶＦを低減する際の目標値に対応するＲｎｎの値を定め、それと実際の基板のＲｎｎの値と比較することにより、基板がＶＦを低減するのに十分なキャリヤ濃度とキャリアの移動度を持っているか否かを判定できる。
【００５７】
その後、このＧａＰ黄緑色ＬＥＤ用エピタキシャル基板を切断、分離してＧａＰ黄緑色ＬＥＤを得た。このＬＥＤについて輝度を評価した。輝度は前述のＧａＰ黄緑色ＬＥＤ用エピタキシャル基板の一枚についてＬＥＤを１００点抽出して測定し、その平均値を代表値とした。
【００５８】
（実験例２、３）
上記の実験例１におけるＳｉとＴｅの添加量を変更し、実験例１とＳｉおよびＴｅ濃度の異なるＧａＰ単結晶インゴットを育成した。ＧａＰ多結晶１ｋｇ当たりに添加するＳｉとＴｅの量は、以下の表１のようにした。これらのＧａＰ単結晶インゴットを用いて、実験例１と同様の手順でエピタキシャル基板の製造に用いるｎ型ＧａＰ単結晶基板、ＧａＰ黄緑色ＬＥＤ用エピタキシャル基板、及びＧａＰ黄緑色ＬＥＤを順次作製し、輝度およびＲｎｎについて特性測定を実施した。
【００５９】
【表１】

【００６０】
上記の実施例１、２、３で作製したＧａＰ単結晶基板中のＳｉ濃度、Ｔｅ濃度と、黄緑色ＬＥＤの電極間抵抗および輝度特性の判定結果の関係を図３に示す。図３において、実験例１で作製したＬＥＤサンプルの測定値は○、実験例２で作製したＬＥＤサンプルの測定値は□と■、実験例３で作製したＬＥＤサンプルの測定値は△と▲でプロットしてある。○、□、△のマークは電極間抵抗、輝度ともに目標レベルを満足している点を示しており、実験例２の■のマークは輝度が目標レベルを下回るサンプル、実験例３の▲のマークは電極間抵抗が目標値を上回るサンプルを示している。また、図中にはＳｉとＴｅ濃度の和が一定の点を結んだ曲線を補助線として５本、挿入してある。図３でＡ、Ｂ、Ｃの添え字のある測定点については後述の図４、５で説明する。
【００６１】
図３より、実験例１で得られたＬＥＤサンプルは全ての点が電極間抵抗、輝度のいずれも目標レベルを満足していることがわかる。即ち、実験例１の条件で作製したＧａＰ単結晶インゴットのどの領域から作製したＧａＰ単結晶基板を使用しても、輝度および電極間抵抗が目標特性を満たすＧａＰ黄緑色ＬＥＤを作製することができることがわかる。
【００６２】
これに対して、実験例２及び実験例３で作製されたインゴットからサンプリングした基板を使用して黄緑色ＬＥＤを作製した場合、同じインゴットを使用しても目標とする輝度および電極間抵抗に到達できるＬＥＤサンプルと到達できないサンプルがあることがわかる。また図３より、Ｓｉ濃度とＴｅ濃度の和が２×１０¹⁷ｃｍ^-3以上２×１０¹⁸ｃｍ^-3以下であり、かつＳｉ濃度が２×１０¹⁶ｃｍ^-3以上８×１０¹⁷ｃｍ^-3以下であり、かつＴｅ濃度が１×１０¹⁷ｃｍ^-3以上２×１０¹⁸ｃｍ^-3以下のＧａＰ単結晶基板を使用すると電極間抵抗、輝度特性がいずれも目標レベルを満足することがわかる。
【００６３】
また、ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度と得られたＬＥＤの輝度の関係を図４に示す。この図のマークは図３と同じである。図４にＡ、Ｂの添え字のある点（■のマーク）は図３のＡ、Ｂと同じＬＥＤサンプルの測定値である。これら２点のキャリヤ濃度は８〜９×１０¹⁷ｃｍ^-3であるが、図３に示したようにＳｉ濃度が８×１０¹⁷ｃｍ^-3以上であるために輝度が低下している。従って図４より、輝度についてはキャリヤ濃度が１０×１０¹⁷ｃｍ^-3以下、より好ましくは８×１０¹⁷ｃｍ^-3以下であれば目標レベルを達成できることがわかる。
【００６４】
また、ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度と電極間抵抗の関係を図５に示す。この図のマークも図３と同じである。図５にＣの添え字のある点（▲のマーク）は図３のＣと同じＬＥＤサンプルの測定値である。このＬＥＤサンプルのキャリヤ濃度は１．８×１０¹⁷ｃｍ^-3であるが、図３に示したようにＳｉ濃度が２×１０¹⁶ｃｍ^-3以下であるために電極間抵抗が上昇している。従って図５より、電極間抵抗についてはキャリヤ濃度が１．５×１０¹⁷ｃｍ^-3以上、より好ましくは２×１０¹⁷ｃｍ^-3以上であれば目標レベルを達成できることがわかる。
【００６５】
以上の結果をまとめると、輝度と電極間抵抗（すなわち電極間抵抗に対応するＶＦ）の目標レベルを同時に満足するためには、エピタキシャル成長に使用するｎ型ＧａＰ単結晶基板はｎ型のドーパントとしてＳｉとＴｅが同時にドープされており、前記ｎ型ＧａＰ単結晶基板中のＳｉ濃度とＴｅ濃度の和が２×１０¹⁷ｃｍ^-3以上２×１０¹⁸ｃｍ^-3以下であり、かつ前記ｎ型ＧａＰ単結晶基板中のＳｉ濃度が２×１０¹⁶ｃｍ^-3以上８×１０¹⁷ｃｍ^-3以下であり、かつ前記ｎ型ＧａＰ単結晶基板中のＴｅ濃度が１×１０¹⁷ｃｍ^-3以上２×１０¹⁸ｃｍ^-3以下であるとよい。
【００６６】
さらに前記ｎ型ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度が１．５×１０¹⁷ｃｍ^-3以上１０×１０¹⁷ｃｍ^-3以下、より好ましくは２×１０¹⁷ｃｍ^-3以上８×１０¹⁷ｃｍ^-3以下であると、輝度と電極間抵抗の特性に優れたＧａＰ黄緑色発光ダイオードを作製することができる。
【００６７】
また、実験例１に示したＳｉとＴｅの添加条件でＧａＰ単結晶インゴットを育成すると、インゴットの全領域から上記のＳｉ濃度、Ｔｅ濃度およびキャリア濃度の最適条件が満たされたＧａＰ単結晶基板を作製することができ、キャリヤ濃度の最適範囲を狭めてもＧａＰ単結晶インゴットからの基板の合格率は低下しないことがわかる。なお、このようなＳｉとＴｅの最適添加条件は、液体封止チョクラルスキー法等によるＧａＰ単結晶インゴットの育成条件に合わせて、実験により決めることができる。
【００６８】
本発明者はＧａＰ純緑色ＬＥＤについても同様の実験を行い、ＧａＰ単結晶基板のＳｉ濃度、Ｔｅ濃度およびキャリア濃度の最適値についてＧａＰ黄緑色ＬＥＤと同様の結果が得られた。
【００６９】
【発明の効果】
以上のように本発明の結果、ＧａＰ緑色系発光ダイオードの高輝度化および低ＶＦ化の要求に対応するために、ｎ型ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度の最適範囲を狭めても、基板収率を低下させないＧａＰ単結晶インゴットを作製することができる。また、そのインゴットからＧａＰ緑色系ＬＥＤの製造に好適に用いることができるＧａＰ単結晶基板を製造することができる。
【００７０】
本発明のＧａＰ単結晶基板を用いてＧａＰ緑色系発光ダイオード用エピタキシャル基板を作製すると、ＧａＰ単結晶基板に起因するＶＦのばらつきや輝度低下が発生しない高輝度でかつＶＦの低減された発光ダイオードを作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】ＧａＰ黄緑色発光ダイオードの構造の概略図
【図２】ＧａＰ純緑色発光ダイオードの構造の概略図
【図３】本発明の実験例１、２、３で作製したＬＥＤサンプルについて、ＧａＰ単結晶基板中のＳｉ濃度及びＴｅ濃度と輝度、電極間抵抗の判定結果の関係を示す図
【図４】本発明の実験例１、２、３について、ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度と輝度の関係を示す図
【図５】本発明の実験例１、２、３について、ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度と電極間抵抗の関係を示す図
【符号の説明】
１ｎ型ＧａＰ単結晶基板
２ｎ型ＧａＰバッファ層
３ｎ型ＧａＰエピタキシャル層
４Ｎドープｎ型ＧａＰエピタキシャル層
５ｐ型ＧａＰエピタキシャル層
６ｎ型ＧａＰ単結晶基板
７ｎ型ＧａＰバッファ層
８ｎ型ＧａＰエピタキシャル層
９ｐ型ＧａＰエピタキシャル層

Claims

ｎ型のドーパントとしてＳｉとＴｅを同時にドープしてｎ型ＧａＰ単結晶インゴットを育成し、該インゴットからｎ型ＧａＰ単結晶基板を作製するｎ型ＧａＰ単結晶基板の製造方法において、ｎ型ＧａＰ単結晶基板中のＳｉ濃度とＴｅ濃度の和を２×１０¹⁷ｃｍ^-3以上２×１０¹⁸ｃｍ^-3以下とし、かつＳｉ濃度を２×１０¹⁶ｃｍ^-3以上８×１０¹⁷ｃｍ^-3以下とし、かつＴｅ濃度を１×１０¹⁷ｃｍ^-3以上２×１０¹⁸ｃｍ^-3以下とするように、ＧａＰ単結晶インゴットの原料にＳｉとＴｅを添加することを特徴とするｎ型ＧａＰ単結晶基板の製造方法。
ｎ型ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度を１．５×１０¹⁷ｃｍ^-3以上１０×１０¹⁷ｃｍ^-3以下とすることを特徴とする請求項１に記載のｎ型ＧａＰ単結晶基板の製造方法。
ｎ型ＧａＰ単結晶基板のキャリヤ濃度を２×１０¹⁷ｃｍ^-3以上８×１０¹⁷ｃｍ^-3以下とすることを特徴とする請求項１に記載のｎ型ＧａＰ単結晶基板の製造方法。