JP3794079B2 - 炭酸ジエステルの製造法 - Google Patents
炭酸ジエステルの製造法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3794079B2 JP3794079B2 JP33148396A JP33148396A JP3794079B2 JP 3794079 B2 JP3794079 B2 JP 3794079B2 JP 33148396 A JP33148396 A JP 33148396A JP 33148396 A JP33148396 A JP 33148396A JP 3794079 B2 JP3794079 B2 JP 3794079B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- divalent metal
- carbonic acid
- catalyst
- metal
- acid diester
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 35
- 150000004650 carbonic acid diesters Chemical class 0.000 title claims description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 96
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 95
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 82
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 claims description 38
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000011029 spinel Substances 0.000 claims description 23
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 18
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 15
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 12
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 11
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims 1
- -1 copper halide Chemical class 0.000 description 39
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 29
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 28
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 19
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 14
- FZFAMSAMCHXGEF-UHFFFAOYSA-N chloro formate Chemical compound ClOC=O FZFAMSAMCHXGEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 11
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 11
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 8
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 8
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 5
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 5
- BLLFVUPNHCTMSV-UHFFFAOYSA-N methyl nitrite Chemical compound CON=O BLLFVUPNHCTMSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 4
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 4
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Chemical compound [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 3
- 150000002826 nitrites Chemical class 0.000 description 3
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N nitrogen dioxide Inorganic materials O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Natural products OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 150000003842 bromide salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 150000004673 fluoride salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 229910002094 inorganic tetrachloropalladate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 2
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000002459 porosimetry Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKULSTMKCYRQCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethyl carbonochloridate Chemical compound ClC(=O)OCCC1=CC=CC=C1 DKULSTMKCYRQCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,5-dimethylphenyl)-1,3-thiazol-2-amine Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C=2N=C(N)SC=2)=C1 MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018404 Al2 O3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZWEECEMNQSTG-UHFFFAOYSA-N Ethyl nitrite Chemical compound CCON=O QQZWEECEMNQSTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015370 FeAl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOMVENUNSWAXEN-UHFFFAOYSA-N Methyl oxalate Chemical compound COC(=O)C(=O)OC LOMVENUNSWAXEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002089 NOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical group O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052773 Promethium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021603 Ruthenium iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- APUPEJJSWDHEBO-UHFFFAOYSA-P ammonium molybdate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O APUPEJJSWDHEBO-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- 229940010552 ammonium molybdate Drugs 0.000 description 1
- 235000018660 ammonium molybdate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011609 ammonium molybdate Substances 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O azanium;oxido(dioxo)vanadium Chemical compound [NH4+].[O-][V](=O)=O UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- IYYGLLJDALWAMD-UHFFFAOYSA-N benzyl nitrite Chemical compound O=NOCC1=CC=CC=C1 IYYGLLJDALWAMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRDQFWXVTPZZAZ-UHFFFAOYSA-N butyl carbonochloridate Chemical compound CCCCOC(Cl)=O NRDQFWXVTPZZAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQHZPQUHCAKSOL-UHFFFAOYSA-N butyl nitrate Chemical compound CCCCO[N+]([O-])=O QQHZPQUHCAKSOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOGYCOYQMAVAFD-UHFFFAOYSA-N chlorocarbonic acid Chemical compound OC(Cl)=O AOGYCOYQMAVAFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N cobalt dinitrate Chemical compound [Co+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001981 cobalt nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011437 continuous method Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- IWVJLGPDBXCTDA-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl carbonochloridate Chemical compound ClC(=O)OC1CCCCC1 IWVJLGPDBXCTDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCNZCLHYWKEDX-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl nitrite Chemical compound O=NOC1CCCCC1 NRCNZCLHYWKEDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMWXXXSCZVGQAR-UHFFFAOYSA-N dialuminum;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] WMWXXXSCZVGQAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N ethyl chloroformate Chemical compound CCOC(Cl)=O RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001960 metal nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- XMJHPCRAQCTCFT-UHFFFAOYSA-N methyl chloroformate Chemical compound COC(Cl)=O XMJHPCRAQCTCFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- BHZSLLSDZFAPFH-UHFFFAOYSA-L palladium(2+);difluoride Chemical compound F[Pd]F BHZSLLSDZFAPFH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- INIOZDBICVTGEO-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) bromide Chemical compound Br[Pd]Br INIOZDBICVTGEO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001692 polycarbonate urethane Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQMWBBYLQSCNPO-UHFFFAOYSA-N promethium atom Chemical compound [Pm] VQMWBBYLQSCNPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQKDTTWZXHEGAQ-UHFFFAOYSA-N propyl carbonochloridate Chemical compound CCCOC(Cl)=O QQKDTTWZXHEGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAOQVXHBVNKNHA-UHFFFAOYSA-N propyl nitrite Chemical compound CCCON=O KAOQVXHBVNKNHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVOOVMQUISJERI-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);triacetate Chemical compound [Rh+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O SVOOVMQUISJERI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- MMRXYMKDBFSWJR-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);tribromide Chemical compound [Br-].[Br-].[Br-].[Rh+3] MMRXYMKDBFSWJR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KXAHUXSHRWNTOD-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);triiodide Chemical compound [Rh+3].[I-].[I-].[I-] KXAHUXSHRWNTOD-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N rhodium(3+);trinitrate Chemical compound [Rh+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWFDDXXMOPZFFM-UHFFFAOYSA-H rhodium(3+);trisulfate Chemical compound [Rh+3].[Rh+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O YWFDDXXMOPZFFM-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- LJZVDOUZSMHXJH-UHFFFAOYSA-K ruthenium(3+);triiodide Chemical compound [Ru+3].[I-].[I-].[I-] LJZVDOUZSMHXJH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- ABKQFSYGIHQQLS-UHFFFAOYSA-J sodium tetrachloropalladate Chemical compound [Na+].[Na+].Cl[Pd+2](Cl)(Cl)Cl ABKQFSYGIHQQLS-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K trichloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)Cl DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体と白金族金属系触媒とを組合わせた触媒組成物を利用する炭酸ジエステルの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
炭酸ジエステル(特に、置換基を含むことのある鎖状もしくは環状の炭酸ジアルキルエステル、例、脂肪族炭酸ジアルキルエステル、炭酸ジシクロアルキルエステル、炭酸ジアラルキルエステルなど)は、医薬、農薬等の製造原料として、またポリカーボネートやポリウレタンの製造中間体として用いられている。
炭酸ジエステルの製造法としては、ホスゲンとアルコールとを反応させる方法が古くから知られ実際に利用されているが、ホスゲンは毒性が極めて強いため、また腐食性の塩酸が反応中に発生するため、このホスゲンを用いる方法は工業的に炭酸ジエステルを製造する方法としては好ましい方法とはいえない。そこで、ホスゲンを使用しない炭酸ジエステルの製造方法として、ハロゲン化銅触媒あるいはハロゲン化パラジウム触媒の存在下、液相にて一酸化炭素とアルコールとから炭酸ジエステルを製造する方法が開発された。しかし、この方法も二酸化炭素が副生するため、一酸化炭素基準の炭酸ジエステルの選択率が低くなり、また水の副生があるため、生成する炭酸ジエステルの分離精製が容易ではないという問題もある。さらに液相反応では、生成物と触媒との分離工程が必要となり、従って、この方法も工業的な炭酸ジエステルの製造方法としては問題がある。
【0003】
そこで、炭酸ジエステルの新たな製法として、一酸化炭素と亜硝酸エステルとから、白金族触媒もしくはその化合物を担体に担持した固体触媒の存在下、一酸化炭素に対してO2 として10モル%以上の量の酸化剤を用いて気相反応で炭酸ジエステルを製造する方法が開発されている(特開昭60−181051号公報に記載)。しかし、この方法ではシュウ酸ジエステルの副生が多いという問題がある。
【0004】
一方、特開平3−141243号公報や特開平4−139152号公報には、一酸化炭素と亜硝酸メチルとを気相で接触反応させて炭酸ジメチルを製造する方法において、塩化パラジウムや硫酸パラジウム等の白金族金属化合物と鉄、銅、ビスマス、コバルト、ニッケルまたはスズなどの金属の化合物とを一緒に活性炭やアルミナなどの担体に担持させた触媒を用いる方法が開示されている。
【0005】
また、特開平4−89458号公報には、上記の塩化パラジウムや硫酸パラジウム等の白金族金属化合物と鉄、銅、ビスマス、コバルト、ニッケルまたはスズなどの金属の化合物とを一緒に活性炭やアルミナなどの担体に担持させた触媒を用いて炭酸ジメチルを製造する方法において、微量の塩化水素を反応系に導入することにより触媒活性を長期間にわたって高い状態に維持する方法が開示されている。
【0006】
そしてまた、特開平5−201932号公報には、ハロゲン化水素を供給しながら、一酸化炭素と亜硝酸アルキルとを気相にて接触反応させて炭酸ジアルキルエステルを製造する方法において、白金族金属ハロゲン化物または白金族金属ハロゲン化物含有錯体化合物を、大きい比表面積を有する酸化アルミニウム、酸化アルミニウム水和物、水酸化アルミニウムなどの担体に担持させて触媒として用いる方法が開示されている。
【0007】
また、ヨーロッパ特許明細書(EP)0464460B1には、一酸化炭素と亜硝酸アルキルとを気相にて接触反応させて炭酸ジアルキルエステルを製造する方法において、鉄、コバルト、ニッケル、銅などの元素で改変された白金族金属ハロゲン化物または白金族金属ハロゲン化物含有錯体化合物を担体に担持させた状態で用いる方法が開示されている。そして、実施例で実際に用いられている触媒担体はアルミナ(酸化アルミニウム)のみであるが、そのアルミナの他にも、スピネル、ケイ酸塩、モンモリロナイト、ゼオライト、活性炭、モレキュラーシーブ、けいそう土、炭化ケイ素、二酸化ケイ素などのような白金金属触媒に一般的な担体が適当である旨の記載がある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、特に炭酸ジエステルの製造に際して用いる白金族金属化合物を主成分とする触媒組成物の担体として有用な触媒担体を提供することを主な目的とし、そして該触媒組成物を利用する炭酸ジエステルの製造方法を提供することをその目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明は、平均細孔径が40〜1000オングストロームの範囲内にあり、かつ細孔容積が0.2〜1.5mL/gの範囲内にあり、二価金属とアルミニウムとの原子比(二価金属/アルミニウム)が0.1/2〜0.8/2の範囲にあるスピネル型構造を有する多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体に白金族金属系触媒成分が担持されてなる触媒組成物の存在下に亜硝酸エステルと一酸化炭素とを反応させることを特徴とする炭酸ジエステルの製造方法にある。
【0010】
次に本発明で用いる触媒組成物の多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体の好ましい態様を列記する。
(1)二価金属が、Zn、Mg、Co、NiおよびCuからなる群より選ばれる金属である上記の多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体。
(2)比表面積が30〜300m2/g(好ましくは50〜250m2/g、さらに好ましくは100〜250m2/g)の範囲内にある上記の多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体。
(3)二価金属とアルミニウムとの原子比(二価金属/アルミニウム)が0.1/2〜0.8/2の範囲にある上記多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体。
(4)多孔質二価金属・アルミネートが一般式:
MexAl2O3+x
(ただし、Meは、Zn、Mg、Co、NiおよびCuからなる群より選ばれる金属であり、xは0.1〜0.8の範囲内の数)で表される上記の多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体。
【0011】
上記の多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体は、比表面積が30〜300m2/gのアルミナ粒子を二価金属塩を含有する水溶液に浸漬したのち、乾燥し、次いで500〜1000℃の範囲内の温度で焼成することにより製造することができる。
【0012】
本発明の炭酸ジエステルの製造法で用いる触媒組成物は、上記のような多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体に白金族金属系触媒成分が担持されてなる触媒組成物である。
【0013】
本発明の炭酸ジエステルの製造法において用いるスピネル型構造を有する多孔質の二価金属・アルミネート系触媒担体(以後、単に本発明の多孔質の二価金属・アルミネート系触媒担体のように云うことがある)は、たとえば、下記の方法を利用して製造することができる。
(イ)比表面積が30m2/g以上、特に30〜300m2/gのアルミナ粒子を二価金属の水溶性塩を含有する水溶液に浸漬したのち、乾燥し、次いで500℃以上の温度、特に500〜1000℃の範囲内の温度で焼成する製造法。
(ロ)アルミナゾルと二価金属の水溶性塩を含有する水溶液とを混合したのち乾燥し、次いで500℃以上の温度、特に500〜1000℃の範囲内温度で焼成する方法。
【0014】
以下、本発明について詳しく説明する。
本発明が提供する特定の細孔条件を持つスピネル型構造を有する多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体は、従来知られていない新規な触媒担体である。
スピネルとは、化学式MgAl2 O4 (あるいはMgO・Al2 O3 )で表わされるマグネシウムとアルミニウムの複合酸化物であり、センショウ石とも呼ばれていて、従来より耐火物の材料として多く用いられている。一方、スピネル型構造とは、AB2 O4 型の化合物(AとBとは2価または3価の金属元素)に見られる代表的な結晶構造型であって、正八面体もしくは略正八面体の外形を呈する結晶であって、立方格子に属し、酸素原子がほぼ立方最密パッキングに詰まった形をもつ構造を意味する。このスピネル型構造を有する化合物の例としては、MnAl2 O4 、FeAl2 O4 、ZnAl2 O4 、MgCr2 O4 およびZnFe2 O4 などの化合物を挙げることができる。
【0015】
本発明のスピネル型構造を有する多孔質二価金属・アルミネート系の触媒担体は、細孔径(平均値)が40〜1000オングストロームの範囲にあり、かつ細孔容積が0.2〜1.5mL/gの範囲にある。
【0016】
本発明の触媒担体の多孔質二価金属・アルミネートの代表的な組成としては、その二価金属が、Zn、Mg、Co、NiおよびCuからなる群より選ばれる金属であるものを挙げることができる。ここで、二価金属とアルミニウムとの原子比(二価金属/アルミニウム)が0.1/2〜0.8/2の範囲にあることが望ましい。従って、多孔質二価金属・アルミネートとしては、一般式:
Mex Al2 O3+x
(ただし、Meは、Zn、Mg、Co、NiおよびCuからなる群より選ばれる金属であり、xは0.1〜0.8の範囲内の数)で表されるものが望ましい。
【0017】
なお、本発明の多孔質二価金属・アルミネート触媒担体のスピネル構造は、欠陥スピネル構造であってもよい。また、本発明の多孔質二価金属・アルミネート触媒担体は、その表面部分のみにスピネル構造を持つものであってもよい。すなわち、たとえば、表面部分がスピネル構造を持ち、内部が非晶質構造あるいは他の結晶構造のものであってもよい。また、本発明のスピネル型構造を有する多孔質二価金属・アルミネート系の触媒担体の内部の化学組成は、表面部分と同一である必要はなく、たとえば、内部はアルミナなどの他の物質から構成されていてもよい。
【0018】
本発明のスピネル型構造を有する多孔質二価金属・アルミネート系の触媒担体は、その表面に強い酸点(アンモニアの吸着によって発生する吸着熱が90kJ/モル以上である部位)を持たないか、あるいは強い酸点を持つ場合でも、その値が0.1ミリモル/g以下であることが望ましい。このアンモニアの吸着により発生する吸着熱は、「表面」第20巻、第12号、697頁以降に記載の方法により測定することができる。
【0019】
本発明の多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体は通常、粉末、粒子状、もしくはペレットなどの成形体として用いられる。それらのサイズについては特に限定はないが、粉末の場合には、粒径20〜100μmのもの、粒子状のものは4〜200メッシュのもの、そして成形体の場合には直径0.5〜10mmのものが一般的に利用される。
【0020】
本発明の多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体は、比表面積(BET比表面積が30〜300m2 /g(特に50〜200m2 /g、さらに50〜150m2 /g)の範囲内にあるものであることが望ましい。
【0021】
本発明の多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体は、比表面積(BET比表面積)が30m2 /g以上(好ましくは30〜300m2 /g)のアルミナ粒子を原料として製造することができる。このような比表面積のアルミナ粒子は、触媒担体として市販されている。
【0022】
即ち、まず、二価金属の硝酸塩などの二価金属の水溶性塩を水に溶解させて、二価金属塩を含む水溶液(二価金属塩濃度:1〜5モル/L、特に1.5〜3モル/L)を調製する。そして、この二価金属塩含有水溶液に上記のアルミナ粒子を、そのアルミナ粒子のアルミニウム成分に対して、二価金属金属成分が約1/5(原子比)あるいはその付近となるような量で浸漬し、次いでロータリーエバポレータなどの蒸発用器具を用いて水を蒸発させて、アルミナ粒子に二価金属塩含有水溶液を吸着(あるいは付着)させ、その後、たとえば110℃で10時間乾燥する。そして、得られた二価金属塩吸着アルミナ粒子を、500℃以上(好ましくは700〜1000℃)の温度で焼成することにより、二価金属塩の分解を経てスピネル型構造を有する多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体を製造することができる。
なお、本発明の多孔質二価金属・アルミニウム担体は、その製造途中にて、あるいは製造後に、必要に応じてふるいなどを用いて適宜整粒を行なうこともできる。
【0023】
また、本発明の多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体は、アルミナゾルと二価金属塩水溶液とから製造することもできる。すなわち、アルミナゾルと二価金属塩を含む水溶液を、アルミナゾル中のアルミニウム成分に対して、二価金属成分が例えば約0.5/2(原子比)となるような量で混合したのち、ロータリーエバポレータなどを用いて水を蒸発させ、次に、たとえば110℃で10時間乾燥する。そして、得られた二価金属塩(あるいは更に二価金属塩)とアルミナゾルの混合物を500℃以上(好ましくは500〜1000℃、特に好ましくは700〜1000℃)の温度で焼成することにより、二価金属塩の分解を経て、本発明のスピネル型構造を有する多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体を製造することができる。
なお、上記の乾燥の前にアルミナゾルと二価金属塩との混合物を押し出し成形してペレット状としたのち、その後の乾燥と焼成を行なうことができる。また、多孔質二価金属・アルミニウム担体は、その製造途中にて、あるいは製造後に必要に応じてふるいなどを用いて適宜整粒を行なうこともできる。
【0024】
本発明の多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体は、その上に塩化パラジウムや硫酸パラジウムなどの白金族金属化合物、そして必要により、鉄、銅、ビスマス、コバルト、ニッケル、スズなどの金属の化合物も一緒に、担持させることにより、亜硝酸エステルと一酸化炭素とを原料とする炭酸ジエステルの製造において優れた特性を有する触媒として用いることができる。
次に、本発明の多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体の応用例として、その多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体に白金族化合物などを担持させた固体触媒を用いて亜硝酸エステルと一酸化炭素から炭酸ジエステルを製造する方法について説明する。
【0025】
上記の触媒担体に担持される白金族金属化合物の金属成分の例としては、パラジウム、白金、イリジウム、ルテニウム、ロジウムなどを挙げることができる。金属化合物の例としては、これらの金属成分の塩化物、臭化物、沃化物、弗化物などのハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、燐酸塩などの無機酸塩、酢酸塩、安息香酸塩などの有機酸塩を挙げることができる。それらの具体例としては、塩化パラジウム、臭化パラジウム、沃化パラジウム、弗化パラジウム、テトラクロロパラジウム酸二価金属、テトラクロロパラジウム酸ナトリウム、テトラクロロパラジウム酸カリウム、塩化白金、塩化イリジウム、塩化ルテニウム、沃化ルテニウム、塩化ロジウム、臭化ロジウム、沃化ロジウムなどのハロゲン化物、硝酸パラジウム、硫酸パラジウム、燐酸パラジウム、硝酸ロジウム、硫酸ロジウムなどの無機酸塩、酢酸パラジウム、安息香酸パラジウム、酢酸ロジウムなどの有機酸塩が挙げられる。これらの内で、パラジウム、ルテニウムまたはロジウムのハロゲン化物および硫酸塩が好ましい。最も好ましいのは塩化パラジウムである。
上記の白金族金属の塩化物としては、上記のものに限られるものではなく、例えば塩化水素の存在下で上記の塩化物あるいは塩素が反応に関与するような複合体を形成し得る白金族金属もしくはその化合物を用いることもできる。
これらの白金族金属化合物の上記触媒担体への担持量としては、白金族金属換算量として、担体に対して通常0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜2重量%の範囲の量が利用される。
【0026】
上記の白金族金属化合物には各種の副成分を併用することができる。例えば、鉄、銅、ビスマス、コバルト、ニッケル、そしてスズなどの金属成分の塩化物、臭化物、沃化物、弗化物などのハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、燐酸塩などの無機酸塩、酢酸塩などの有機酸塩を併用することができる。また、バナジウム、モリブデン、タングステンなどの金属成分の酸化物、金属酸、金属酸塩(具体例、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化タングステンなどの酸化物、バナジン酸アンモニウム、モリブデン酸アンモニウム、タングステン酸アンモニウムなどの金属酸のアンモニウム塩)なども併用することができる。また、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジウム、プロメチウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテチウムなどのランタナイド系金属の、金属化合物や金属塩(具体的には、酸化物、塩化物、硝酸塩など)も併用することができる。
これらの併用金属化合物の上記触媒への担持量としては、白金族金属化合物中の白金族金属1グラム原子当量に対する金属原子当量で、0.1〜50グラム原子当量、特に0.5〜20グラム原子当量の範囲の量が利用される。なお、上述のように白金族金属化合物などの触媒成分が担持された触媒組成物の細孔特性および比表面積は、その触媒成分が担持された担体の細孔特性および比表面積と実質的に同一である。
【0027】
亜硝酸エステルと一酸化炭素との反応に用いる亜硝酸エステルとしては公知のものを用いることができ、その例としては、亜硝酸メチル、亜硝酸エチル、亜硝酸n−(またはイソ)プロピル、亜硝酸n−(またはイソ、あるいはセカンダリー)ブチルなどの亜硝酸と炭素数1〜4の低級脂肪族一価アルコールとのエステル、亜硝酸シクロヘキシルなどの亜硝酸と炭素数5〜8の脂環式アルコールとのエステル、亜硝酸ベンジルなどの亜硝酸とアラルキルアルコールとのエステルなどを挙げることができる。これらの亜硝酸エステルは、たとえば、亜硝酸ナトリウム水溶液の硝酸もしくは硫酸分解によって、一酸化窒素(NO)と二酸化窒素(NO2 )との混合ガスを発生させ、次いで、混合ガス中のNOの一部を分子状酸素で酸化してNO2 として、NO/NO2 =1/1(容量比)のNOx ガスを得たのち、これにアルコールを接触させる方法、あるいは亜硝酸エステルと一酸化炭素とから炭酸ジエステルを製造する反応で回収されるNOを分離し、これに酸素とアルコールとを反応させて亜硝酸エステルに変換する方法などにより得ることができる。
なお、炭酸ジエステルの工業的製造に際しては、上記の亜硝酸エステルの製造プロセスと、亜硝酸エステルと一酸化炭素との接触反応とを連続的に行なうことが望ましい。
【0028】
亜硝酸エステルと一酸化炭素との接触反応の方式としては、気相、または液相でバッチ式、連続式などのいずれの方法での方式を選ぶことができるが、工業的には気相かつ連続式の製造プロセスが有利に利用される。また、触媒の反応系での存在形態としては固定床あるいは流動床などの任意の形態が利用される。接触反応の反応温度などの反応条件は公知の反応条件から任意に選択することができる。たとえば、反応温度としては0〜200℃、好ましくは50〜140℃の範囲の温度が、そして反応圧は、常圧もしくは加圧系(1〜20kg/cm2 )が利用できる。
【0029】
炭酸ジエステルの製造のための亜硝酸エステルと一酸化炭素とを含む原料ガス中においては、亜硝酸エステル1モルに対して一酸化炭素は、その量が0.1〜10モル、好ましくは0.25〜1モルとなる量で存在させるのが好ましい。そして、反応器に供給(フィード)される原料ガスの空間速度は、500〜20000hr-1の範囲から選ばれ、好ましくは、2000〜15000hr-1の範囲から選ばれる。原料ガスは窒素ガスなどの不活性ガスで希釈されて反応器に供給されることが望ましい。希釈ガスの量に特に限定はないが、安全上そして反応効率の観点からは、原料ガス中の亜硝酸エステルの濃度が5〜20容量%の範囲にあるように調整されるのが好ましい。
原料ガス中の一酸化炭素の濃度は、上記の不活性ガスの代りに一酸化炭素で亜硝酸エステルを希釈すれば、80容量%までの高濃度が可能である。しかしながら、工業的な製造プロセスでは反応に供する原料ガスは循環使用し、その循環ガスの一部を系外へパージすることが好ましく、また一酸化炭素のワンパスの転化率が20〜30%程度であることから、一酸化炭素の濃度を20容量%よりも高くしてもロスが増えるのみとなる。一方では、一酸化炭素の濃度を5容量%よりも小さくすると、生産性が低下するなどの問題が生じる。従って、原料ガス中の一酸化炭素の濃度は5〜20容量%の範囲内の濃度とすることが好ましい。
【0030】
炭酸ジエステルの製造のための亜硝酸エステルと一酸化炭素とを含む反応系には塩化水素あるいはクロロギ酸エステルなどの塩素含有気体を共存させることが望ましい。これらの塩化含有気体の共存により、触媒活性の低下を効果的に防止することが可能となる。塩化水素を用いる場合には、無水の塩化水素であることが好ましい。クロロギ酸エステルとしては、クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸n−(またはイソ)プロピル、クロロギ酸n−(またはイソあるいはセカンダリー)ブチルなどのクロロギ酸と炭素数1〜4の低級脂肪族一価アルコールとのエステル、クロロギ酸シクロヘキシルなどのクロロギ酸と炭素数5〜8の脂環式アルコールのエステル、クロロギ酸フェニルエチルなどのクロロギ酸とアラルキルアルコールとのエステルが用いられる。通常は、反応に用いる亜硝酸エステルと同一のアルコキシ基を持つクロロギ酸エステルを用いることが望ましい。
【0031】
反応系に塩化水素またはクロロギ酸エステルを共存させる方法としては、特に制限はないが、例えば、以下に述べるように反応系に微量の塩化水素またはクロロギ酸エステルを連続添加する方法を利用することが望ましい。
塩化水素を連続添加する場合、反応領域に1000容量ppm以下、好ましくは、5〜500容量ppm(特に10〜300容量ppm)の範囲内の量で連続的に供給することが望ましい。
クロロギ酸エステルの連続添加についても、その添加量に特に限定はないが、過剰量の添加は工業的な製造プロセスとしては経済性を損なう結果となるため、通常は原料ガス中に1容量%以下、好ましくは1000容量ppm以下の範囲の量でクロロギ酸エステルを添加し、連続的に反応器に供給することが好ましい。その方法としては、窒素ガスを加温したクロロギ酸エステルに接触させながら通過させ、これにより窒素ガスにクロロギ酸エステルの蒸発分を同伴させて原料ガスに添加する方法を利用することができる。また、反応器に原料ガスを供給する配管とは別に設けたクロロギ酸エステル気化器中でクロロギ酸エステルを気化させ、窒素ガスに同伴させる方法などが利用される。
【0032】
上記の本発明の触媒担体に白金族金属化合物を主成分とする触媒を用いる亜硝酸エステルと一酸化炭素との反応により、目的の炭酸ジエステルが生成し、回収ガスとして取り出されるが、同時にシュウ酸ジエステルなどの副生物、そして未反応の一酸化炭素や亜硝酸エステル、そして原料ガスに混入している一酸化窒素や二酸化炭素なども回収ガスとして取り出される。目的化合物である炭酸ジエステルは、この回収ガスを冷却して凝縮物から、蒸留などの方法を利用して分離精製することができる。なお、凝縮しにくい一酸化炭素、亜硝酸エステル、一酸化窒素、二酸化炭素などの混合ガスは、再度反応器に循環させ、原料ガスの一部として使用する。
【0033】
上記の記載で、本発明の多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体に白金族金属化合物を担持させた固体触媒を用い、亜硝酸エステルと一酸化炭素とから炭酸ジエステルを製造する方法について説明したが、本発明の多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体は、他の触媒成分の担体としても有利に用いることができ、またそのようにして調製した固体触媒は種々の反応の触媒として有利に利用できる。
【0034】
【発明の効果】
本発明の炭酸ジエステルの製造方法において用いるスピネル型構造を有する多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体に触媒成分を担持させた固体触媒は、高い触媒活性を示し、かつその高い触媒活性の長期保持が可能になるなどの活性や耐久性などの特性に優れ、またその製造も容易であって、亜硝酸エステルと一酸化炭素との反応による炭酸ジエステルの製造に用いる触媒として有用である。
【0035】
【実施例】
[実施例1]
硝酸亜鉛[Zn(NO3 )2・6H2 O]14.88gを200mLの水に溶解させ、この水溶液に、市販アルミナ触媒担体(球形、平均粒径:2mm、比表面積190m2/g)10.92gを浸漬し、2時間後に、ロータリエバポレータを用いて水分を蒸発させた。残留物を空気中で110℃で16時間乾燥させた。この乾燥物を空気中にて350℃で1時間加熱処理し、さらに同じく空気中にて800℃で5時間焼成して、亜鉛・アルミネート(Zn0.5Al2O3.5)の多孔質体を得た。
【0036】
上記の多孔質亜鉛・アルミネートのX線回折チャートを測定したところ、このX線回折チャート(Cu−Kα線)には、2θ=36.8°、45.0°そして65.7°に強いピークが観察され、生成した多孔質体はスピネル型構造を有していることが確認された。次いで、生成したスピネル型構造の多孔質亜鉛・アルミネートの細孔孔径を水銀圧入法により測定したところ、平均細孔径は179オングストロームであり、また細孔容積は0.32mL/gであった。そして、BET比表面積を測定したところ71m2 /gであった。
【0037】
[実施例2〜5]
実施例1に記載の方法を利用し、硝酸亜鉛の代りに、硝酸マグネシウム(実施例2)、硝酸コバルト(実施例3)、硝酸ニッケル(実施例4)、そして硝酸銅(実施例5)をそれぞれ用いて多孔質の二価金属・アルミネートを製造し、それぞれの多孔質体について、X線回折測定を行なったところ、いずれの多孔質体も2θ=37°付近、45°付近、そして66付近°に強いピークが観察され、生成した多孔質体はスピネル型構造を有していることが確認された。
次いで、生成したスピネル型構造の多孔質二価金属・アルミネートの細孔孔径を水銀圧入法により測定して平均細孔径と細孔容積を測定した。そして更に各多孔質体のBET比表面積を測定した。これらの結果を、実施例1の結果と共に第1表に示す。
【0038】
【表1】
【0039】
[比較例1]
実施例1の多孔質亜鉛・アルミネート製造の原料として用いた市販アルミナ触媒担体を用意した。
【0040】
[実施例6]
実施例2で得られたスピネル型構造の多孔質マグネシウム・アルミネート成形体(触媒担体)、および比較例1で得られたアルミナ触媒担体のそれぞれに対して、パラジウムが1重量%そして銅が1.2重量%担持されるように、触媒担体の塩化パラジウムと塩化第二銅のアンモニア水溶液の含浸を行なって、110℃で乾燥後、空気雰囲気中200℃で焼成して、塩化パラジウムと塩化第二銅が担持された固体触媒を得た。
次に、上記の固体触媒を用い、亜硝酸メチルと一酸化炭素とからの炭酸ジメチルの製造を固定床気相流通装置によって行なった。反応条件を次に示す。
【0041】
原料ガス混合物組成:亜硝酸メチル20容量%、一酸化炭素5容量%、塩化水素100ppm、残余は希釈ガス(窒素ガス)
ガス供給条件:供給速度(空間速度:STP換算)10000hr-1、3kg/cm2 Gにて加圧
反応温度:120℃
反応時間:6時間
触媒量:1.4g(2.0mL)
上記の炭酸ジメチルの製造結果を第2表に示す。
【0042】
【表2】
注:表2において、各略号はそれぞれ下記の意味を示す。
CO:一酸化炭素、DMC:炭酸ジメチル、MN:亜硝酸メチル、
DMO:シュウ酸ジメチル。
【0043】
なお、上記の触媒担体として実施例2のスピネル型構造の多孔質マグネシウム・アルミネートを用いて調製した固体触媒の耐久性を確認するために、上記の反応試験を40日間継続したが、転化率、空時収量の目立った低下は観察されなかった。
【0044】
[実施例7]
実施例2の多孔質マグネシウム・アルミネートの表面酸点を「触媒」第20巻、第20号、697頁以降(1987)に記載のアンモニア微分吸着法を利用して測定した。即ち、約0.5gの試料を採り、これを脱気装置内に入れ、真空下にて200℃で脱気させた。脱気した試料を室温に戻し、これに、各々のパルス毎に約0.003ミリモルのアンモニアを吸着させるアンモニアパルスを連続的に与えて、発生するアンモニア吸着熱を微分吸着熱として測定した。
測定された微分吸着熱の値のグラフから、90kJ/モルよりも高い吸着点を持つ強酸点の量が0.04ミリモル/gであることが判明した。
Claims (6)
- 平均細孔径が40〜1000オングストロームの範囲内にあり、かつ細孔容積が0.2〜1.5mL/gの範囲内にあり、二価金属とアルミニウムとの原子比(二価金属/アルミニウム)が0.1/2〜0.8/2の範囲にあるスピネル型構造を有する多孔質二価金属・アルミネート系触媒担体に白金族金属系触媒成分が担持されてなる触媒組成物の存在下に亜硝酸エステルと一酸化炭素とを反応させることを特徴とする炭酸ジエステルの製造方法。
- 上記触媒担体の二価金属が、Zn、Mg、Co、NiおよびCuからなる群より選ばれる金属である請求項1に記載の炭酸ジエステルの製造方法。
- 上記触媒担体の比表面積が30〜300m 2 /gの範囲内にある請求項1もしくは2に記載の炭酸ジエステルの製造方法。
- 上記触媒担体の二価金属とアルミニウムとの原子比(二価金属/アルミニウム)が0.5/2〜0.8/2の範囲にある請求項1乃至3のうちのいずれかの項に記載の炭酸ジエステルの製造方法。
- 多孔質二価金属・アルミネートが一般式:
Me x Al 2 O 3+x
(ただし、Meは、Zn、Mg、Co、NiおよびCuからなる群より選ばれる金属であり、xは0.1〜0.8の範囲内の数)で表される請求項1乃至4のうちのいずれかの項に記載の炭酸ジエステルの製造方法。 - 上記触媒担体がその表面に、アンモニアの吸着によって発生する吸着熱が90kJ/モル以上である部位として定義される強い酸点が0.1ミリモル/g以下である請求項1乃至5のうちのいずれかの項に記載の炭酸ジエステルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33148396A JP3794079B2 (ja) | 1996-11-26 | 1996-11-26 | 炭酸ジエステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33148396A JP3794079B2 (ja) | 1996-11-26 | 1996-11-26 | 炭酸ジエステルの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10156180A JPH10156180A (ja) | 1998-06-16 |
JP3794079B2 true JP3794079B2 (ja) | 2006-07-05 |
Family
ID=18244158
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33148396A Expired - Lifetime JP3794079B2 (ja) | 1996-11-26 | 1996-11-26 | 炭酸ジエステルの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3794079B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5072136B2 (ja) * | 1998-07-24 | 2012-11-14 | 千代田化工建設株式会社 | 多孔性スピネル型複合酸化物の製造方法 |
EP1013603A1 (en) * | 1998-12-22 | 2000-06-28 | Haldor Topsoe A/S | Process for catalytical steam reforming of a hydrocarbon feedstock |
JP5446060B2 (ja) * | 2006-06-09 | 2014-03-19 | 戸田工業株式会社 | ハニカム用多孔質体材料、多孔質体材料混合物、ハニカム担持用懸濁液、触媒体、及び該触媒体を用いた混合反応ガスの製造方法 |
AU2006349551A1 (en) * | 2006-10-23 | 2008-05-02 | Bp P.L.C. | Process and catalyst for hydrocarbon conversion |
TWI443063B (zh) * | 2007-07-11 | 2014-07-01 | Mitsubishi Gas Chemical Co | 用於製造過氧化氫之作用溶液的再生觸媒之製造方法 |
FR2940279B1 (fr) * | 2008-12-23 | 2010-12-24 | Inst Francais Du Petrole | Procede de preparation d'esters alcooliques a partir de triglycerides et d'alcools au moyen de catalyseurs heterogenes associant au moins une solution de type znxai203+xetdu zno |
-
1996
- 1996-11-26 JP JP33148396A patent/JP3794079B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10156180A (ja) | 1998-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5688984A (en) | Porous lithium aluminate carrier of spinel structure for catalyst | |
SK279974B6 (sk) | Katalyzátor na nosiči obsahujúci striebro a spôsob | |
US8450518B2 (en) | Method for preparing a carbamate, a catalyst applied in the method, a method for preparing the catalyst and use thereof | |
JP3220525B2 (ja) | ジアルキルカーボネートの製造方法 | |
JP3794079B2 (ja) | 炭酸ジエステルの製造法 | |
US5214184A (en) | Method of producing carbonic acid diester | |
US5403949A (en) | Method of producing carbonic acid diester | |
JPH105592A (ja) | 塩化水素から塩素を製造するための触媒 | |
JP3039329B2 (ja) | 炭酸ジエステルの製造方法 | |
JP3387318B2 (ja) | 多孔質リチウム・アルミネート系触媒担体およびその製造法 | |
JPH06329599A (ja) | ジアルキルカーボネートの製造方法 | |
JPH0543517A (ja) | 炭酸ジエステルの製造法 | |
JP3760076B2 (ja) | 窒素酸化物等の吸着剤、その製造方法および窒素酸化物等の除去方法 | |
JP4193904B2 (ja) | ベンジルアセテートの製造方法 | |
JPH06192181A (ja) | 炭酸ジエステルの製造法 | |
KR101573964B1 (ko) | 비대칭 사슬형 카보네이트의 제조 방법 | |
JPH04297445A (ja) | 炭酸ジエステルの製造法 | |
JP3804813B2 (ja) | シュウ酸ジエステルの製造法 | |
JP3837487B2 (ja) | メタノール改質用触媒 | |
JPH0825961B2 (ja) | 炭酸ジエステルの製造法 | |
JPH07313880A (ja) | 炭酸ジエステル合成用触媒及びこれを用いた炭酸ジエステルの製造方法 | |
JPH1072407A (ja) | クロロギ酸エステルの製造方法 | |
JPH0852357A (ja) | 炭酸ジエステル合成用触媒およびそれを用いた炭酸ジエステルの製造方法 | |
JPH0155265B2 (ja) | ||
JPH04297443A (ja) | 炭酸ジエステルの製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041001 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051021 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051220 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060322 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060404 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100421 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110421 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120421 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120421 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120421 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130421 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130421 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140421 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |