JP3793950B2 - 安定剤としてのベンゾフラン−２−オン - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、有機材料、好ましくは合成ポリマーと安定剤としてベンゾフラン−２−オンとからなる組成物、酸化、熱または光誘導分解に対して有機材料、好ましくは合成ポリマーを安定化するためのそれらの使用方法、および新規ベンゾフラン−２−オンに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
個々のベンゾフラン−２−オンは文献において公知であり、そして特にBeilstein 18, 17およびBeilstein E III/IV, 18, 154-166 において言及され、またTh. Kappe 等, Monatshefte fur Chemie 99, 990 (1968); J. Morvan 等, Bull. Soc. Chim. Fr.1979, 583; L. F. Clarke 等, J. Org. Chem. 57, 362 (1992); M. Julia等, Bull. Soc. Chim. Fr.1965, 2175またはH. Sterk等, Monatshefte fur Chemie 99, 2223 (1968) に記載されている。上記化合物が有機材料の安定剤として使用されることを記載している刊行物はない。
有機ポリマーの安定剤としてのいくつかのベンゾフラン−２−オンの使用は、特にＵＳ−Ａ−４３２５８６３；ＵＳ−Ａ−４３３８２４４およびＵＳ−Ａ−５１７５３１２に開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、酸化等による分解を受けやすい有機材料、特に合成ポリマーの安定剤としての使用に特に適当である新規なベンゾフラン−２−オンの提供を課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
ベンゾフラン−２−オンの選択された群が酸化、熱または光誘導分解を受けやすい有機材料、特に合成ポリマーの安定剤としての使用に特に適当であることが今見出された。
従って、本発明は、
（ａ）酸化、熱または光誘導分解を受けやすい有機材料、特に合成ポリマー、および（ｂ）少なくとも１種の次式Ｉ：
【化１１】
（式中、
Ｒ1 はハロゲン原子または次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 は水素原子、炭素原子数１ないし２５のアルカノイル基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイル基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化１２】
で表される基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイル基；炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニル基、テノイル基、フロイル基、ベンゾイル基または炭素原子数１ないし１２のアルキル基で置換されたベンゾイル基；ナフトイル基または炭素原子数１ないし１２のアルキル基で置換されたナフトイル基；炭素原子数１ないし２５のアルカンスルホニル基、フルオロ置換された炭素原子数１ないし２５のアルカンスルホニル基；フェニルスルホニル基または炭素原子数１ないし１２のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル基；次式：
【化１３】
で表される基を表し、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基；炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイルオキシ基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化１４】
で表される基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイルオキシ基；炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基または炭素原子数１ないし１２のアルキル基で置換されたベンゾイルオキシ基を表すか；または置換基対Ｒ2 およびＲ3 またはＲ3 およびＲ4 またはＲ4 およびＲ5 の各々は結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し；Ｒ4 はさらに次式：−（ＣＨ2 ）p −ＣＯＲ9 または−（ＣＨ2 ）q ＯＨで表される基を表すか、またはＲ3 およびＲ5 が水素原子を表すならば、Ｒ4 はさらに次式ＩＩ：
【化１５】
で表される基を表し、
Ｒ6 は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
Ｒ7 は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
Ｒ8 は直接結合、炭素原子数１ないし１８のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化１６】
で表される基により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキレン基；炭素原子数２ないし１８のアルケニレン基、炭素原子数２ないし２０のアルキリデン基、炭素原子数７ないし２０のフェニルアルキリデン基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキレン基、炭素原子数７もしくは８のビシクロアルキレン基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニレン基、次式：
【化１７】
で表される基を表し、
Ｒ9 はヒドロキシ基、次式：
【化１８】
で表される基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基または次式：
【化１９】
で表される基を表し、
Ｒ10は酸素原子、−ＮＨ−または次式：
【化２０】
で表される基を表し、
Ｒ11は炭素原子数１ないし１８のアルキル基またはフェニル基を表し、
Ｒ12およびＲ13は互いに独立して水素原子、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし１２のアルキル基またはフェニル基を表すか、または
Ｒ12およびＲ13は結合している炭素原子と一緒になって、非置換または１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成し、
Ｒ14およびＲ15は互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表し、
Ｍは原子価ｒの金属カチオンを表し、
ｎは０、１または２を表し、
ｐは０、１または２を表し、
ｑは１、２、３、４、５または６を表し、そして
ｒは１、２または３を表す）で表される化合物
からなる組成物に関する。
【０００５】
ハロゲン置換基は通常、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。塩素原子が好ましい。
【０００６】
含まれる炭素原子数が２５までのアルカノイル基は分岐基または非分岐基であり、典型的にはホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、ヘプタデカノイル基、オクタデカノイル基、エイコサノイル基またはドコサノイル基等である。アルカノイル基として定義されるＲ’1 は好ましくは２ないし１８個、最も好ましくは２ないし１２個、例えば２ないし６個の炭素原子を含有する。アセチル基が特に好ましい。
【０００７】
含まれる炭素原子数が２５までのアルカノイルオキシ基は分岐基または非分岐基であり、典型的にはホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、オクタノイルオキシ基、ノナノイルオキシ基、デカノイルオキシ基、ウンデカノイルオキシ基、ドデカノイルオキシ基、トリデカノイルオキシ基、テトラデカノイルオキシ基、ペンタデカノイルオキシ基、ヘキサデカノイルオキシ基、ヘプタデカノイルオキシ基、オクタデカノイルオキシ基、エイコサノイルオキシ基またはドコサノイルオキシ基等である。炭素原子数２ないし１８、好ましくは２ないし１２、例えば２ないし６のアルカノイルオキシ基が好ましい。アセトキシ基が特に好ましい。
【０００８】
炭素原子数３ないし２５のアルケノイル基は分岐基または非分岐基であり、典型的にはプロペノイル基、２−ブテノイル基、３−ブテノイル基、イソブテノイル基、ｎ−２，４−ペンタジエノイル基、３−メチル−２−ブテノイル基、ｎ−２−オクテノイル基、ｎ−２−ドデセノイル基、イソドデセノイル基、オレオイル基、ｎ−２−オクタデセノイル基またはｎ−４−オクタデセノイル基等である。炭素原子数３ないし１８、好ましくは３ないし１２、例えば３ないし６、最も好ましくは３または４のアルケノイル基が好ましい。
【０００９】
炭素原子数３ないし２５のアルケノイルオキシ基は分岐基または非分岐基であり、典型的にはプロペノイルオキシ基、２−ブテノイルオキシ基、３−ブテノイルオキシ基、イソブテノイルオキシ基、ｎ−２，４−ペンタジエノイルオキシ基、３−メチル−２−ブテノイルオキシ基、ｎ−２−オクテノイルオキシ基、ｎ−２−ドデセノイルオキシ基、イソドデセノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、ｎ−２−オクタデセノイルオキシ基またはｎ−４−オクタデセノイルオキシ基等である。炭素原子数３ないし１８、好ましくは３ないし１２、例えば３ないし６、最も好ましくは３または４のアルケノイルオキシ基が好ましい。
【００１０】
酸素原子、硫黄原子または次式：
【化５１】
で表される基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイル基は典型的には以下の基である：ＣＨ3 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＯ−，ＣＨ3 −Ｓ−ＣＨ2 ＣＯ−，ＣＨ3 −ＮＨ−ＣＨ2 ＣＯ−，ＣＨ3 −Ｎ（ＣＨ3 ）−ＣＨ2 ＣＯ−，ＣＨ3 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＯ−，ＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −）2 Ｏ−ＣＨ2 ＣＯ−，ＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −）3 Ｏ−ＣＨ2 ＣＯ−またはＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −）4 Ｏ−ＣＨ2 ＣＯ−。
【００１１】
酸素原子、硫黄原子または次式：
【化５２】
で表される基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイルオキシ基は典型的には以下の基である：ＣＨ3 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＯＯ−，ＣＨ3 −Ｓ−ＣＨ2 ＣＯＯ−，ＣＨ3 −ＮＨ−ＣＨ2 ＣＯＯ−，ＣＨ3 −Ｎ（ＣＨ3 ）−ＣＨ2 ＣＯＯ−，ＣＨ3 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＯＯ−，ＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −）2 Ｏ−ＣＨ2 ＣＯＯ−，ＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −）3 Ｏ−ＣＨ2 ＣＯＯ−またはＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −）4 Ｏ−ＣＨ2 ＣＯＯ−。
【００１２】
炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニル基は典型的にはシクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、シクロヘプチルカルボニル基またはシクロオクチルカルボニル基である。シクロヘキシルカルボニル基が好ましい。
【００１３】
炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニルオキシ基は典型的にはシクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘプチルカルボニルオキシ基またはシクロオクチルカルボニルオキシ基である。シクロヘキシルカルボニルオキシ基が好ましい。
【００１４】
好ましくは１ないし３、最も好ましくは１または２のアルキル基を含む炭素原子数１ないし１２のアルキル置換ベンゾイル基は典型的にはｏ−、ｍ−またはｐ−メチルベンゾイル基、２，３−ジメチルベンゾイル基、２，４−ジメチルベンゾイル基、２，５−ジメチルベンゾイル基、２，６−ジメチルベンゾイル基、３，４−ジメチルベンゾイル基、３，５−ジメチルベンゾイル基、２−メチル−６−エチルベンゾイル基、４−第三ブチルベンゾイル基、２−エチルベンゾイル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル基、２，６−ジメチル−４−第三ブチルベンゾイル基または３，５−ジ第三ブチルベンゾイル基である。好ましい置換基は炭素原子数１ないし８のアルキル基、最も好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基である。
【００１５】
好ましくは１ないし３、最も好ましくは１または２のアルキル基を含む炭素原子数１ないし１２のアルキル置換ベンゾイルオキシ基は典型的にはｏ−、ｍ−またはｐ−メチルベンゾイルオキシ基、２，３−ジメチルベンゾイルオキシ基、２，４−ジメチルベンゾイルオキシ基、２，５−ジメチルベンゾイルオキシ基、２，６−ジメチルベンゾイルオキシ基、３，４−ジメチルベンゾイルオキシ基、３，５−ジメチルベンゾイルオキシ基、２−メチル−６−エチルベンゾイルオキシ基、４−第三ブチルベンゾイルオキシ基、２−エチルベンゾイルオキシ基、２，４，６−トリメチルベンゾイルオキシ基、２，６−ジメチル−４−第三ブチルベンゾイルオキシ基または３，５−ジ第三ブチルベンゾイルオキシ基である。好ましい置換基は炭素原子数１ないし８のアルキル基、最も好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基である。
【００１６】
１−ナフトイル基または２−ナフトイル基であり、そして好ましくは１ないし３個、最も好ましくは１または２個のアルキル基を含む炭素原子数１ないし１２のアルキル置換ナフトイル基は典型的には１−、２−、３−、４−、５−、６−、７−または８−メチルナフトイル基、１−、２−、３−、４−、５−、６−、７−または８−エチルナフトイル基、４−第三ブチルナフトイル基または６−第三ブチルナフトイル基である。特に好ましい置換基は炭素原子数１ないし８のアルキル基、最も好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基である。
【００１７】
炭素原子数１ないし２５のアルカンスルホニル基は分岐基または非分岐基であり、典型的にはメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、ブタンスルホニル基、ペンタンスルホニル基、ヘキサンスルホニル基、ヘプタンスルホニル基、オクタンスルホニル基、ノナンスルホニル基またはドコサンスルホニル基等である。炭素原子数１ないし１８、好ましくは１ないし１２、例えば２ないし６のアルカンスルホニル基が好ましい。メタンスルホニル基が特に好ましい。
【００１８】
フルオロ置換された炭素原子数１ないし２５のアルカンスルホニル基は典型的にはトリフルオロメタンスルホニル基である。
【００１９】
好ましくは１ないし３、最も好ましくは１または２のアルキル基を有する炭素原子数１ないし１２のアルキル置換フェニルスルホニル基は典型的にはｏ−、ｍ−またはｐ−メチルフェニルスルホニル基、ｐ−エチルフェニルスルホニル基、ｐ−プロピルフェニルスルホニル基またはｐ−ブチルフェニルスルホニル基である。好ましい置換基は炭素原子数１ないし８のアルキル基、最も好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基である。ｐ−メチルフェニルスルホニル基が特に好ましい。
【００２０】
炭素原子数２５までのアルキル基は分岐基または非分岐基であり、そして典型的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基またはドコシル基等である。Ｒ2 およびＲ4 の好ましい意味は典型的には炭素原子数１ないし１８のアルキル基である。Ｒ4 の特に好ましい意味は炭素原子数１ないし４のアルキル基である。
【００２１】
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は典型的にはベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基または２−フェニルエチル基であってよい。ベンジル基およびα，α−ジメチルベンジル基が好ましい。
【００２２】
好ましくは１ないし３、好ましくは１または２のアルキル基を有する炭素原子数１ないし４のアルキル置換フェニル基は典型的にはｏ−、ｍ−またはｐ−メチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２−メチル−６−エチルフェニル基、４−第三ブチルフェニル基、２−エチルフェニル基または２，６−ジエチルフェニル基であってよい。
【００２３】
非置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基は典型的にはシクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基またはシクロオクチル基である。シクロヘキシル基および第三ブチルシクロヘキシル基が好ましい。
【００２４】
炭素原子数１８までのアルコキシ基は分岐基または非分岐基であり、そして典型的にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、デシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基またはオクタデシルオキシ基である。炭素原子数１ないし１２、好ましくは１ないし８、例えば１ないし６のアルコキシ基が好ましい。
【００２５】
炭素原子数１８までのアルキルチオ基は分岐基または非分岐基であり、そして典型的にはメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、テトラデシルチオ基、ヘキサデシルチオ基またはオクタデシルチオ基である。炭素原子数１ないし１２、好ましくは１ないし８、例えば１ないし６のアルキルチオ基が好ましい。
【００２６】
炭素原子数４までのアルキルアミノ基は分岐基または非分岐基であり、そして典型的にはメチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基または第三ブチルアミノ基である。
【００２７】
ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基はまた、２つの部分が互いに独立して分岐基または非分岐基であり、そして典型的にはジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチル−ｎ−プロピルアミノ基、メチルイソプロピルアミノ基、メチル−ｎ−ブチルアミノ基、メチルイソブチルアミノ基、エチル−ｎ−ブチルアミノ基、エチルイソブチルアミノ基、エチル第三ブチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、イソプロピル−ｎ−ブチルアミノ基、イソプロピルイソブチルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基またはジイソブチルアミノ基である。
【００２８】
炭素原子数２５までのアルカノイルアミノ基は非分岐基または分岐基であり、そして典型的にはホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ブタノイルアミノ基、ペンタノイルアミノ基、ヘキサノイルアミノ基、ヘプタノイルアミノ基、オクタノイルアミノ基、ノナノイルアミノ基、デカノイルアミノ基、ウンデカノイルアミノ基、ドデカノイルアミノ基、トリデカノイルアミノ基、テトラデカノイルアミノ基、ペンタデカノイルアミノ基、ヘキサデカノイルアミノ基、ヘプタデカノイルアミノ基、オクタデカノイルアミノ基、エイコサノイルアミノ基、またはドコサノイルアミノ基である。炭素原子数２ないし１８、好ましくは２ないし１２、例えば２ないし６のアルカノイルアミノ基が好ましい。
【００２９】
炭素原子数１ないし１８のアルキレン基は分岐基または非分岐基であり、そして典型的にはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、ドデカメチレン基またはオクタデカメチレン基である。炭素原子数１ないし１２のアルキレン基が好ましく、そして炭素原子数１ないし８のアルキレン基が特に好ましい。
【００３０】
酸素原子、硫黄原子または次式：
【化５３】
で表される基により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキレン基は典型的には以下の基である：−ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 −，−ＣＨ2 −Ｓ−ＣＨ2 −，−ＣＨ2 −ＮＨ−ＣＨ2 −，−ＣＨ2 −Ｎ（ＣＨ3 ）−ＣＨ2 −，−ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 −，−ＣＨ2 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −）2 Ｏ−ＣＨ2 −，−ＣＨ2 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −）3 Ｏ−ＣＨ2 −，−ＣＨ2 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −）4 Ｏ−ＣＨ2 −または−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｓ−ＣＨ2 ＣＨ2 −。
【００３１】
炭素原子数２ないし１８のアルケニレン基は典型的にはビニレン基、メチルビニレン基、オクテニルエチレン基またはドデセニルエチレン基である。炭素原子数２ないし８のアルケニレン基が好ましい。
【００３２】
炭素原子数２ないし２０のアルキリデン基は典型的にはエチリデン基、プロピリデン基、ブチリデン基、ペンチリデン基、４−メチルペンチリデン基、ヘプチリデン基、ノニリデン基、トリデシリデン基、ノナデシリデン基、１−メチルエチリデン基、１−エチルプロピリデン基または１−エチルペンチリデン基であり得る。炭素原子数２ないし８のアルキリデン基が好ましい。
【００３３】
炭素原子数７ないし２０のフェニルアルキリデン基は典型的にはベンジリデン基、２−フェニルエチリデン基または１−フェニル−２−ヘキシリデン基であり得る。炭素原子数７ないし９のフェニルアルキリデン基が好ましい。
【００３４】
炭素原子数５ないし８のシクロアルキレン基は２つの遊離原子価と少なくとも１つの環単位を有する飽和炭化水素基であり、そして典型的にはシクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基またはシクロオクチレン基である。シクロヘキシレン基が好ましい。
【００３５】
炭素原子数７または８のビシクロアルキレン基はビシクロヘプチレン基またはビシクロオクチレン基であってよい。
【００３６】
非置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニレン基は１，２−、１，３−または１，４−フェニレン基であってよい。
【００３７】
好ましくは１ないし３、最も好ましくは１または２の分岐または非分岐アルキル基を含む炭素原子数１ないし４のアルキル置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環は典型的にはシクロペンチリデン、メチルシクロペンチリデン、ジメチルシクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、メチルシクロヘキシリデン、ジメチルシクロヘキシリデン、トリメチルシクロヘキシリデン、第三ブチルシクロヘキシリデン、シクロヘプチリデンまたはシクロオクチリデンである。シクロヘキシリデンおよび第三ブチルシクロヘキシリデンが好ましい。
【００３８】
１、２または３価の金属カチオンは好ましくはアルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオンまたはアルミニウムカチオン、典型的にはＮａ+ 、Ｋ+ 、Ｍｇ++、Ｃａ++またはＡｌ+++ である。
【００３９】
興味深い組成物は上記式Ｉ中、
Ｒ’1 が水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし１８のアルケノイル基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化５４】
で表される基により中断された炭素原子数３ないし１８のアルカノイル基；炭素原子数６ないし８のシクロアルキルカルボニル基、テノイル基、フロイル基、ベンゾイル基または炭素原子数１ないし８のアルキル基で置換されたベンゾイル基；ナフトイル基または炭素原子数１ないし８のアルキル基で置換されたナフトイル基；炭素原子数１ないし１８のアルカンスルホニル基、フルオロ置換された炭素原子数１ないし１８のアルカンスルホニル基；フェニルスルホニル基または炭素原子数１ないし８のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル基；次式：
【化５５】
で表される基を表し、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 が互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基；炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数１ないし１２のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、炭素原子数１ないし１８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし１８のアルケノイルオキシ基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化５６】
で表される基により中断された炭素原子数３ないし１８のアルカノイルオキシ基；炭素原子数６ないし８のシクロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基または炭素原子数１ないし８のアルキル基で置換されたベンゾイルオキシ基を表すか、または置換基対Ｒ2 およびＲ3 またはＲ3 およびＲ4 またはＲ4 およびＲ5 の各々が結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し；Ｒ4 がさらに次式：−（ＣＨ2 ）p −ＣＯＲ9 または−（ＣＨ2 ）q ＯＨで表される基を表すか；またはＲ3 およびＲ5 が水素原子を表すならば、Ｒ4 がさらに次式ＩＩ：
【化５７】
で表される基を表し、
Ｒ6 が水素原子または炭素原子数１ないし６のアルキル基を表し、
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし６のアルキル基を表し、
Ｒ8 が直接結合、炭素原子数１ないし１２のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化５８】
で表される基により中断された炭素原子数２ないし１２のアルキレン基；炭素原子数２ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数２ないし１２のアルキリデン基、炭素原子数７ないし１２のフェニルアルキリデン基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキレン基、炭素原子数７もしくは８のビシクロアルキレン基またはフェニレン基を表し、
Ｒ9 がヒドロキシ基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基または次式：
【化５９】
で表される基を表し、
Ｒ10が酸素原子または−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし１２のアルキル基またはフェニル基を表し、
Ｒ12およびＲ13がメチル基を表すか、または結合している炭素原子と一緒になって、非置換または１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成し、
Ｒ14およびＲ15が互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、そして
ｑが２、３、４、５または６を表す化合物を含む組成物である。
【００４０】
上記式Ｉ中、置換基Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 の少なくとも２つが水素原子を表す化合物を含む組成物が好ましい。
【００４１】
上記式Ｉ中、Ｒ3 およびＲ5 が水素原子を表す化合物を含む組成物もまた好ましい。
【００４２】
その他の好ましい組成物は、上記式Ｉ中、
Ｒ1 が塩素原子、臭素原子また次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 が水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルカノイル基、酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１２のアルカノイル基；シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、炭素原子数１ないし１２のアルカンスルホニル基、フルオロ置換された炭素原子数１ないし１２のアルカンスルホニル基；フェニルスルホニル基または炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル基；次式：
【化６０】
で表される基を表し、
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし６のアルキル基を表し、
Ｒ8 が直接結合、炭素原子数１ないし１２のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化６１】
で表される基により中断された炭素原子数２ないし１２のアルキレン基；炭素原子数２ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数２ないし１２のアルキリデン基、炭素原子数７ないし１２のフェニルアルキリデン基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキレン基、炭素原子数７もしくは８のビシクロアルキレン基またはフェニレン基を表し、
Ｒ9 がヒドロキシ基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基または次式：
【化６２】
で表される基を表し、
Ｒ10が酸素原子または−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし１２のアルキル基またはフェニル基を表し、そしてＲ14およびＲ15が互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表す化合物を含む組成物である。
【００４３】
特に興味深い組成物は、上記式Ｉ中、
Ｒ’1 が水素原子、炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、ベンゾイル基、メタンスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基、次式：
【化６３】
で表される基を表し、
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ10が−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし８のアルキル基またはフェニル基を表し、そして
ｎが２を表す化合物を含むものである。
【００４４】
特に好ましい組成物は、上記式Ｉ中、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 が互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし６のアルコキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基もしくはベンゾイルオキシ基を表すか、または置換基対Ｒ2 およびＲ3 またはＲ3 およびＲ4 またはＲ4 およびＲ5 の各々が結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し；Ｒ4 がさらに次式：−（ＣＨ2 ）p −ＣＯＲ9 を表すか；またはＲ3 およびＲ5 が水素原子を表すならば、Ｒ4 がさらに式ＩＩで表される基を表し、
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ8 が炭素原子数１ないし１２のアルキレン基またはフェニレン基を表し、
Ｒ9 がヒドロキシ基または炭素原子数１ないし８のアルコキシ基を表し、
Ｒ10が−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし８のアルキル基またはフェニル基を表し、そして
Ｒ12およびＲ13がメチル基を表すか、または結合している炭素原子と一緒になって炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成する化合物を含有する組成物である。
【００４５】
とりわけ好ましい組成物は、上記式Ｉ中、
Ｒ1 が塩素原子または次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 が水素原子、炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、ベンゾイル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、フェニルスルホニル基または炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル基を表すか、または次式：
【化６４】
で表される基を表し、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 が互いに独立して水素原子、塩素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし６のアルコキシ基を表し、Ｒ4 がさらに次式：−（ＣＨ2 ）p −ＣＯＲ9 で表される基を表すか；またはＲ3 およびＲ5 が水素原子を表すならば、Ｒ4 がさらに次式ＩＩ：
【化６５】
で表される基を表し、
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ9 がヒドロキシ基または炭素原子数１ないし８のアルコキシ基を表し、
Ｒ10が−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし４のアルキル基またはフェニル基を表し、
Ｒ12およびＲ13が結合している炭素原子と一緒になってシクロヘキシリデン環を形成し、
ｎが２を表し、そして
ｐが２を表す化合物を含む組成物である。
【００４６】
中でも好ましい組成物は、上記式Ｉ中、
Ｒ1 が塩素原子または次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 が水素原子、アセチル基、次式：
【化６６】
で表される基を表し、
Ｒ2 が炭素原子数１ないし１６のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基またはシクロヘキシル基を表し、
Ｒ3 が水素原子を表し、
Ｒ4 が炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯＨまたは次式ＩＩ：
【化６７】
で表される基を表し、
Ｒ5 が水素原子を表し、
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ10が−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ12およびＲ13が結合している炭素原子と一緒になってシクロヘキシリデン環を形成し、そして
ｎが２を表す化合物を含む組成物である。
【００４７】
式Ｉで表される化合物は、熱、酸化または光誘導分解に対して有機材料、特に合成ポリマーを安定化するのに適当である。
【００４８】
そのような材料を以下に例示する：
１．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（非架橋でも架橋されていてもよい）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、分岐低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
【００４９】
ポリオレフィン、すなわち前項に例示したモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレンおよびポリプロピレンは異なる方法、特に以下の方法により製造され得る：
ａ）ラジカル重合（通常、高温高圧下）。
ｂ）周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂまたはＶＩＩＩ族の金属１種以上を通常含有する触媒を用いる接触重合。これらの金属は通常１以上の配位子、典型的にはπ（パイ）−またはσ（シグマ）−配位されていてよい酸化物、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／またはアリールを有する。これらの金属錯体は遊離体であっても、または基体(substrate) 、典型的には活性化塩化マグネシウム、塩化チタン（ＩＩＩ）、アルミナまたは酸化ケイ素に固定されていてもよい。これらの触媒は重合化媒体に可溶性であっても、不溶性であってもよい。触媒は重合においてそれ自体で使用され得、またその他の活性化剤、典型的には金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハロゲン化物、金属アルキル酸化物または金属アルキルオキサンが使用され得る（上記金属は周期表のＩａ、ＩＩａおよび／またはＩＩＩａ族の元素である）。活性化剤はその他のエステル、エーテル、アミンまたはシリルエーテル基で慣用方法により変性されてもよい。上記触媒系は通常フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チーグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセンまたは単一部位触媒（single site catalyst, SSC)と命名されている。
【００５０】
２．前項１．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ，ＰＰ／ＬＤＰＥ）および異なる種類のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００５１】
３．モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）およびこれと低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテン−１コポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテン−１コポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマーおよびそれらの一酸化炭素とのコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）、並びにエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノルボルネンとのターポリマー；および上記コポリマー相互の、および項１．に記載のポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレンプロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー、およびそれらとその他のポリマー例えばポリアミドとの混合物。
【００５２】
４．炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９のもの）およびそれらの水素化変性体（例えば粘着付与剤）およびポリアルキレンとデンプンとの混合物。
【００５３】
５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
【００５４】
６．スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーからの高耐衝撃性混合物；およびスチレンのブロックコポリマー例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンまたはスチレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
【００５５】
７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーにスチレン、ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタクリロニトリル）、ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタアクリレート、ポリブタジエンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにスチレンおよびマレイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレート；エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、並びにこれらと項６．に列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ−、ＭＢＳ−、ＡＳＡ−またはＡＥＳ−ポリマーとして知られているコポリマー混合物。
【００５６】
８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、塩素化またはスルホ塩素化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
【００５７】
９．α，β−不飽和酸およびその誘導体から誘導されるポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアクリレート；ブチルアクリレートで耐衝撃性に変性されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル。
【００５８】
１０．前項９．に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートもしくはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマーまたはアクリロニトリル／アルキルメタアクリレート／ブタジエンターポリマー。
【００５９】
１１．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシル誘導体もしくはアセタールから誘導されるポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチレート、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；並びにこれらと項１．に記載したオレフィンとのコポリマー。
【００６０】
１２．環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【００６１】
１３．ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性されたポリアセタール。
【００６２】
１４．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、およびポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポリアミドとの混合物。
【００６３】
１５．一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘導されたポリウレタン並びにその前駆体。
【００６４】
１６．ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレン、ジアミンおよびアジピン酸から出発する芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンとイソフタル酸および／またはテレフタル酸とから、変性剤としてエラストマーを添加して、または添加せずに製造されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；上記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは化学結合化もしくはグラフト化エラストマーとの、またはポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマー；並びにＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミドまたはコポリアミド；および加工の間に縮合したポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【００６５】
１７．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミドイミドおよびポリベンズイミダゾール。
【００６６】
１８. ジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒドロキシカルボン酸から誘導されたポリエステルまたは相当するラクトン、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレートおよびポリヒドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ末端ポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；およびポリカーボネートまたはＭＢＳで変性されたポリエステル。
【００６７】
１９．ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネート。
【００６８】
２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。
【００６９】
２１．一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素/ ホルムアルデシド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
【００７０】
２２．乾性および不乾性アルキド樹脂。
【００７１】
２３．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとのコポリエステルおよび架橋剤としてのビニル化合物から誘導された不飽和ポリエステル樹脂、および燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変性物。
【００７２】
２４．置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
【００７３】
２５．メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂と架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
【００７４】
２６．ポリエポキシド、例えばビスグリシジルエーテルまたは脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポキシ樹脂。
【００７５】
２７．天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチンおよびこれらの化学的に変性させた重合同族体誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸セルロースまたはセルロースエーテル例えばメチルセルロース；並びにロジンおよびそれらの誘導体。
【００７６】
２８. 前記したポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＳ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ。
【００７７】
２９．純単量体化合物またはその化合物の混合物である天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート）をベースとした上記オイル、脂肪およびワックス、並びにあらゆる重量比で混合された合成エステルと鉱油との混合物で、その材料は典型的には繊維紡績油として、並びにこのような材料の水性エマルジョンとして使用される。
【００７８】
３０．天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えばカルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーの天然ラテックス。
【００７９】
好ましい有機材料はポリマー、典型的には天然、半合成または好ましくは合成有機ポリマー、特に好ましくは熱可塑性ポリマー、増粘剤または接着剤である。特に好ましい有機材料はポリオレフィン、例えばポリプロピレンまたはポリエチレンである。
【００８０】
特別な言及のために選択されるべきは、熱および酸化分解、特に熱可塑性樹脂の加工の間に生じる熱の作用下での分解に対する新規化合物の効果である。それ故に、本発明の化合物は加工安定剤としての使用に極めて適している。
【００８１】
式Ｉで表される化合物は好ましくは有機材料の重量を規準として０．０００５ないし５％、好ましくは０．００１ないし２％、典型的には０．０１ないし２％の濃度で安定化されるべき有機材料に添加される。
【００８２】
本発明の組成物は式Ｉで表される化合物に加え、その他の補助安定剤、典型的には以下の安定剤を含有し得る：
１．酸化防止剤
１．１．アルキル化モノフェノールの例
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノールおよびその混合物。
【００８３】
１．２．アルキルチオメチルフェノールの例
２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００８４】
１．３．ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノンの例
２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００８５】
１．４．トコフェロールの例
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）
【００８６】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテルの例
２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００８７】
１．６．アルキリデンビスフェノールの例
２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、２，２’−メチレンビス〔６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール−ビス〔３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’ーヒドロキシフェニル）ブチレート〕、ビス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−（３’−第三ブチル−２’ーヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００８８】
１．７．Ｏ−，Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物の例
３，５，３’，５’−テトラ第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００８９】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネートの例
ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル〕−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００９０】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物の例
１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００９１】
１．１０．トリアジン化合物の例
２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００９２】
１．１１．ベンジルホスホネートの例
ジメチル−２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル５−第三ブチル−４−ヒドロキシ３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００９３】
１．１２．アシルアミノフェノールの例
４−ヒドロキシラウリン酸−アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸−アニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。
【００９４】
１．１３．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００９５】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００９６】
１．１５．β−（３，５−ジシクロシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００９７】
１．１６．３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００９８】
１．１７．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミドの例
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【００９９】
２．ＵＶ吸収剤および光安定剤
２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾールの例
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール〕；２−〔３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換体；次式：〔Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 −〕2 −（式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル基を表す）で表される化合物。
【０１００】
２．２．２−ヒドロキシ−ベンゾフェノンの例
４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクチルオキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２’，４’−トリヒドロキシ−および２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【０１０１】
２．３．置換されたおよび非置換安息香酸のエステルの例
４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０１０２】
２．４．アクリレートの例
エチルα−シアノ−β, β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−p −メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −２−メチルインドリン。
【０１０３】
２．５ ニッケル化合物の例
２，２’−チオビス−〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) フェノール〕のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステル、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うもの。
【０１０４】
２．６ 立体障害性アミンの例
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピヘリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン。
【０１０５】
２．７．オキサミドの例
４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシアニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリドおよび該化合物と２エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ第三ブトキサニリドとの混合物、オルト−およびパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【０１０６】
２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンの例
２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン。
【０１０７】
３．金属不活性化剤の例
Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【０１０８】
４．ホスフィットおよびホスホナイトの例
トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット。
【０１０９】
５．過酸化物スカベンジャーの例
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１１０】
６．ポリアミド安定剤の例
ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩および二価マンガンの塩。
【０１１１】
７．塩基性補助安定剤の例
メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレートまたはスズピロカテコレート。
【０１１２】
８．核剤の例
４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
【０１１３】
９．充填剤および強化剤の例
炭酸カルシウム、ケイ酸塩（シリケート）、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、雲母（マイカ）、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラックおよびグラファイト。
【０１１４】
１０．その他の添加剤の例
可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および発泡剤。
【０１１５】
補助安定剤は典型的には安定化されるべき材料の全重量を規準として０．０１ないし１０％の濃度で使用される。
【０１１６】
その他の好ましい組成物は、成分（ａ）および式Ｉで表される化合物の他に、その他の添加剤、好ましくはフェノール系酸化防止剤、光安定剤および／または加工安定剤を含有する。
【０１１７】
特に好ましい添加剤はフェノール系酸化防止剤（上記リストの項１）、立体障害性アミン（上記リストの項２．６）、ホスフィットおよびホスホナイト（上記リストの項４）および過酸化物スカベンジャー（上記リストの項５）である。
【０１１８】
式Ｉで表される化合物およびその他の任意の添加剤は、好都合には成形品への成形前または成形の間に公知方法により有機ポリマーに混入されるか、または化合物の溶液または分散液を有機ポリマーに塗布し、次にその溶媒を蒸発させることにより添加される。式Ｉで表される化合物はまた、該化合物を典型的には２．５ないし２５重量％の濃度で含有するマスターバッチの形態で、安定化されるべき材料に添加され得る。
【０１１９】
式Ｉで表される化合物はまた、重合前もしくは重合中、または架橋前に添加されてもよい。
【０１２０】
式Ｉで表される化合物は有機ポリマー中に純粋な形態で、またはワックス、オイルもしくはポリマーにカプセル化されて混入され得る。
【０１２１】
式Ｉで表される化合物は安定化されるべき有機ポリマーに噴霧されてもよい。それらはその他の添加剤（典型的には慣用の上記添加剤）またはその溶融物を希釈し得、その結果、安定化されるべきポリマーに上記添加剤と一緒に噴霧され得る。重合触媒の不活性化の間の噴霧による適用は特に有利であり、その場合における噴霧は不活性化のために使用される蒸気と共に好都合に作用する。
【０１２２】
式Ｉで表される化合物を添加剤と共に、または添加剤なしに球形の重合化ポリオレフィンに噴霧することは好都合であり得る。
【０１２３】
安定化された材料はあらゆる形状、典型的にはシート、フィラメント、リボン、成形用材料、型材または塗料組成物用結合材、接着剤またはパテであってよい。
【０１２４】
本発明はまた、少なくとも１種の式Ｉで表される化合物を有機材料、特に合成ポリマーに混合するか、または適用することからなる、酸化、熱または光誘導分解に対して有機材料、特に合成ポリマーを安定化する方法に関する。
【０１２５】
既に強調したように、新規化合物はポリオレフィン中の安定剤、特に熱安定剤として特別な利点でもって使用される。優れた安定化は、上記化合物が有機ホスフィットまたはホスホナイトと組み合わせて使用された場合に達成される。この場合、新規化合物は、相当に低濃度で、典型的にはポリオレフィンに基づいて０．０００１ないし０．０５０重量％、好ましくは０．０００１ないし０．０１５重量％で有効であるという利点を有する。有機ホスフィットまたはホスホナイトはポリオレフィンを規準として０．０１ないし２重量％、好ましくは０．０１ないし１重量％の濃度で通常使用される。ＤＥ−Ａ−４２０２２７６に開示された有機ホスフィットまたはホスホナイトを使用することが好ましい。該特許明細書の特許請求の範囲、実施例、第４頁最後のパラグラフから第８頁が特に参照される。特に適当なホスフィットおよびホスホナイトはまた上記の補助安定剤のリストの項４に見出されるであろう。
【０１２６】
ポリオレフィンの特に優れた安定化は新規化合物（式Ｉ）を有機ホスフィットまたはホスホナイトおよびフェノール系酸化防止剤と三重に組み合わせることにより得られる。
【０１２７】
本発明はさらに、次式Ｉａ：
【化６８】
（式中、
Ｒ1 はハロゲン原子または次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 は水素原子、炭素原子数１ないし２５のアルカノイル基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイル基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化６９】
で表される基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイル基；炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニル基、テノイル基、フロイル基、ベンゾイル基または炭素原子数１ないし１２のアルキル基で置換されたベンゾイル基；ナフトイル基または炭素原子数１ないし１２のアルキル基で置換されたナフトイル基；炭素原子数１ないし２５のアルカンスルホニル基、フルオロ置換された炭素原子数１ないし２５のアルカンスルホニル基；フェニルスルホニル基または炭素原子数１ないし１２のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル基；次式：
【化７０】
で表される基を表し、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基；炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイルオキシ基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化７１】
で表される基により中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイルオキシ基；炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基または炭素原子数１ないし１２のアルキル基で置換されたベンゾイルオキシ基を表すか；または置換基対Ｒ2 およびＲ3 またはＲ3 およびＲ4 またはＲ4 およびＲ5 の各々は結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成するが；ただしＲ2 、Ｒ3 、Ｒ4 またはＲ5 の少なくとも１つは水素原子ではなく；Ｒ1 がハロゲン原子またはヒドロキシ基を表すならば、Ｒ2 は水素原子ではなく；そしてＲ2 がメチル基またはメチルアミン基を表すならば、Ｒ4 は水素原子およびヒドロキシ基ではなく；Ｒ4 はさらに次式：−（ＣＨ2 ）p −ＣＯＲ9 または−（ＣＨ2 ）q ＯＨで表される基を表すか、またはＲ3 およびＲ5 が水素原子を表すならば、Ｒ4 はさらに次式ＩＩａ：
【化７２】
で表される基を表し、
Ｒ6 は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
Ｒ7 は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
Ｒ8 は直接結合、炭素原子数１ないし１８のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化７３】
で表される基により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキレン基；炭素原子数２ないし１８のアルケニレン基、炭素原子数２ないし２０のアルキリデン基、炭素原子数７ないし２０のフェニルアルキリデン基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキレン基、炭素原子数７もしくは８のビシクロアルキレン基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニレン基、次式：
【化７４】
で表される基を表し、
Ｒ9 はヒドロキシ基、次式：
【化７５】
で表される基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基または次式：
【化７６】
で表される基を表し、
Ｒ10は酸素原子、−ＮＨ−または次式：
【化７７】
で表される基を表し、
Ｒ11は炭素原子数１ないし１８のアルキル基またはフェニル基を表し、
Ｒ12およびＲ13は互いに独立して水素原子、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし１２のアルキル基またはフェニル基を表すか、または
Ｒ12およびＲ13は結合している炭素原子と一緒になって、非置換または１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成し、
Ｒ14およびＲ15は互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表し、
Ｍは原子価ｒの金属カチオンを表し、
ｎは０、１または２を表し、
ｐは０、１または２を表し、
ｑは１、２、３、４、５または６を表し、そして
ｒは１、２または３を表す）で表される新規化合物に関する。
【０１２８】
式Ｉａで表される新規化合物の好ましい群は新規組成物に関して上記した好ましい意味に一致する。
【０１２９】
式Ｉａ中、Ｒ3 およびＲ5 が水素原子を表す化合物もまた好ましい。
【０１３０】
式Ｉａで表される特に好ましい化合物は式中、
Ｒ1 が塩素原子、臭素原子または次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 が水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルカノイル基、酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１２のアルカノイル基；シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、炭素原子数１ないし１２のアルカンスルホニル基、フルオロ置換された炭素原子数１ないし１２のアルカンスルホニル基；フェニルスルホニル基または炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル基；次式：
【化７８】
で表される基を表し、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 が互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし６のアルコキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基またはベンゾイルオキシ基を表すか、または置換基対Ｒ2 およびＲ3 またはＲ3 およびＲ4 またはＲ4 およびＲ5 の各々が結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成するが；ただしＲ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 の少なくとも１つは水素原子ではなく；Ｒ1 がヒドロキシ基、塩素原子または臭素原子を表すならば、Ｒ2 が水素原子ではなく；そしてＲ2 がメチル基またはヒドロキシ基を表すならば、Ｒ4 が水素原子およびヒドロキシ基ではなく；そしてＲ4 がさらに次式：−（ＣＨ2 ）p −ＣＯＲ9 で表される基を表すか；またはＲ3 およびＲ5 が水素原子を表すならば、Ｒ4 がさらに次式ＩＩａ：
【化７９】
で表される基を表し、
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし６のアルキル基を表し、
Ｒ8 が炭素原子数１ないし１２のアルキレン基またはフェニレン基を表し、
Ｒ9 がヒドロキシ基または炭素原子数１ないし８のアルコキシ基を表し、
Ｒ10が−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし８のアルキル基またはフェニル基を表し、そして
Ｒ12およびＲ13が結合している炭素原子と一緒になって炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成する化合物である。
【０１３１】
特に好ましい式Ｉａで表される化合物は、式中
Ｒ1 が塩素原子または次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 が水素原子、炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、ベンゾイル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基；フェニルスルホニル基または炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル基；次式：
【化８０】
で表される基を表し、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 が互いに独立して水素原子、塩素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし６のアルコキシ基を表すが；ただしＲ2 、Ｒ3 、Ｒ4 またはＲ5 の少なくとも１つは水素原子ではなく；Ｒ1 がヒドロキシ基または塩素原子を表すならば、Ｒ2 が水素原子ではなく；そしてＲ2 がメチル基を表すならば、Ｒ4 が水素原子ではなく；Ｒ4 がさらに次式：−（ＣＨ2 ）p −ＣＯＲ9 で表される基を表すか、またはＲ3 およびＲ5 が水素原子を表すならば、Ｒ4 がさらに次式ＩＩａ：
【化８１】
で表される基を表し、
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ9 がヒドロキシ基または炭素原子数１ないし８のアルコキシ基を表し、
Ｒ10が−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし４のアルキル基またはフェニル基を表し、
Ｒ12およびＲ13が結合している炭素原子と一緒になってシクロヘキシリデン環を形成し、
ｎが２を表し、そして
ｐが２を表す化合物である。
【０１３２】
式ＩおよびＩａ中、Ｒ’1 が水素原子を表す化合物は、H. Sterk等, Monatshefte fur Chemie 99, 2223 (1968) に記載されているように、次式ＩｂまたはＩｃ：
【化８２】
で表される互変異性体で製造され得る。本発明の範囲内で、式ＩおよびＩａは式ＩｂおよびＩｃの２種類の互変異性体を含むものと常に理解されるべきである。
【０１３３】
式Ｉで表される新規化合物は上記の文献に記載の方法に類似の方法によりそれ自体公知の方法で製造され得る。
【０１３４】
これらの公知方法はいくぶん問題があり、そしてあるものは高価で、環境保護の観点から、全く安全なわけではない試薬、例えば二酸化セレンを必要とする。
【０１３５】
従って、本発明は、
ａ）次式ＩＩＩ：
【化８３】
（式中の全ての記号は式Ｉに対して定義されたものと同じ意味を表す）で表されるフェノール１当量をグリオキシル酸０．８ないし２．０当量と反応させて次式ＩＶ：
【化８４】
（式中の全ての記号は式Ｉに対して定義されたものと同じ意味を表す）で表される化合物を得、そして
ｂ）上記式Ｉ中、Ｒ’1 が水素原子ではない化合物を製造するために、式ＩＶで表される生成化合物をハロゲン化水素酸、オキシ硫酸のハロゲン化物、リン酸のハロゲン化物、亜リン酸のハロゲン化物、次式Ｖ：
Ｒ’1 −ＯＨ （Ｖ）
で表される酸、次式ＶＩ
Ｒ’1 −Ｙ （ＶＩ）
で表される酸ハライド、次式ＶＩＩ：
Ｒ’1 −Ｏ−Ｒ16 （ＶＩＩ）
で表されるエステル、次式ＶＩＩＩ：
Ｒ’1 −Ｏ−Ｒ’1 （ＶＩＩＩ）
で表される対称もしくは非対称無水物、または次式ＩＸ：
Ｒ11−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ （ＩＸ）
で表されるイソシアネート（上記式Ｖ、ＶＩ、ＶＩＩ、ＶＩＩＩおよびＩＸで表される化合物中のＲ’1 およびＲ11は上で定義されたものと同じ意味を表すが、ただしＲ’1 は水素原子ではなく；Ｒ16は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、そしてＹはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す）と反応させることからなる式Ｉで表される化合物の製造方法に関する。
【０１３６】
グリオキシル酸は結晶の形態で、または慣用的には、通常４０ないし６０％水性溶液の市販の形態で使用され得る。
【０１３７】
それ故に、式ＩＶで表される化合物の特に興味深い製造方法は、グリオキシル酸を４０ないし６０％、好ましくは５０％の水性グリオキシル酸の形態で使用することからなる。
【０１３８】
グリオキシル酸中に存在する水および反応の水は反応の間に蒸留により、通常は水との共沸混合物を形成する溶媒を用いて、除去される。
【０１３９】
水と共沸混合物を形成する適当な溶媒は反応に関与せず、そして典型的には炭化水素、例えばシクロヘキサンまたはメチルシクロヘキサン；芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエンまたはキシレン；ハロゲン化炭化水素、例えば１，２−ジクロロエタン；またはエーテル、例えばメチル第三ブチルエーテルを包含する。
【０１４０】
式ＩＩＩで表されるフェノールをグリオキシル酸と溶媒なしに反応させると、溶融体で式ＩＶで表される化合物が得られ、反応の水は通常の圧力下、好ましくはわずかに真空下で好都合に蒸留される。
【０１４１】
反応を高められた温度、好ましくは６０ないし１２０℃の範囲で行うことが好ましい。特に好ましい温度範囲は６０ないし９０℃である。
【０１４２】
式ＩＩＩで表されるフェノールとグリオキシル酸との反応は好ましくは触媒の存在下で行われる。
【０１４３】
適当な触媒はプロトン酸、ルイス酸、ケイ酸アルミニウム、イオン交換樹脂、ゼオライト、天然シートシリケートまたは変性シートシリケートである。
【０１４４】
適当なプロトン酸の例は無機塩または有機塩の酸、典型的には塩化水素酸、硫酸、リン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸またはカルボン酸例えば酢酸である。ｐ−トルエンスルホン酸が特に好ましい。
【０１４５】
適当なルイス酸の例は四塩化スズ、塩化アルミニウム、塩化亜鉛またはブロモトリフルオリドエーテレートである。四塩化スズおよび塩化アルミニウムが特に好ましい。
【０１４６】
適当なケイ酸アルミニウムの例は石油工業で広く使用されており、そして不定形ケイ酸アルミニウムとして知られてもいるものである。これらの化合物は約１０−３０％の一酸化ケイ素と７０−９０％の酸化アルミニウムとを含有する。特に好ましいケイ酸アルミニウムはケジェン（アクゾ）[Ketjen (Akzo)] から利用可能な登録商標ＨＡ−ＨＰＶである。
【０１４７】
適当なイオン交換樹脂の例は硫酸基をさらに有するスチレン−ジビニルベンゼン樹脂、例えばローム・アンド・ハースから入手可能な登録商標アンバーライト２００(Amberlite 200) および登録商標アンバーリスト(Amberlyst) 、またはダウ・ケミカルズから入手可能な登録商標ダウエックス５０(Dowex 50)；過フッ素化イオン交換樹脂、例えばデュポンにより販売されている登録商標ナフィオンＨ(Nafion H)；またはその他の過酸イオン交換樹脂、例えばT. Yamaguchi, Applied Catalysis,61, 1-25 (1990) またはM. Hino 等，J. Chem. Soc. Chem. Commun. 1980, 851-852 に記載されているものである。
【０１４８】
適当なゼオライトは典型的には石油化学においてクラッキング触媒として広く使用されており、そして異なる結晶構造の結晶性シリコン−アルミニウムオキシドとして知られているものである。特に好ましいゼオライトはユニオン・カーバイドから入手可能なファウジャサイツ(Faujasites)、例えばゼオライトＸ(Zeolith X) 、ゼオライトＹ(Zeolith Y) およびウルトラスタビル・ゼオライトＹ(ultrastabile Zeolith Y)；モービル石油社から入手可能なゼオライト・ベータ(Zeolith Beta)およびゼオライトＺＳＭ−１２(Zeolith ZSM-12)；ノートンから入手可能なゼオライト・モルデニット(Zeolith Mordenit)である（上記名称はいずれも登録商標）。
【０１４９】
適当な天然シートシリケートは「酸性白土」と呼ばれ、そして典型的には分解、粉砕、鉱酸での処理および工業的にカ焼されたベントナイトまたはモンモリロナイトを包含する。特に適当な天然シートシリケートはラポート・アドソーベンツ社から入手可能である登録商標ファルキャット(Fulcat)タイプのもの、例えばファルキャット２２Ａ、ファルキャット２２Ｂ、ファルキャット２０またはファルキャット４０；ラポート・アドソーベンツ社から入手可能である登録商標ファルモント(Fulmont) タイプ、例えばファルモントＸＭＰ−３またはファルモントＸＭＰ−４である。特に好ましい触媒はファルキャット２２Ｂである。その他のファルキャットタイプおよびファルモントタイプのものもまた、例えば酸中心の構成において個々のタイプの間にわずかな違いがあるだけであるので、上記好ましいクラスに属する。
【０１５０】
変性シートシリケートはまた「ピラードクレー」と呼ばれ、そして上記の天然シートシリケートから、該シリケート層の間に例えばジルコニウム、鉄、亜鉛、ニッケル、クロム、コバルトまたはマグネシウムの酸化物をさらに含むことにより誘導される。触媒のこのタイプは文献、特にJ. Clark等，J. Chem. Soc. Chem. Commun. 1989, 1353-1354 に記載されているように広く使用されるが、ごく少数の会社からしか供給されていない。特に好ましい変性シートシリケートは典型的にはコントラクト・ケミカルズから入手可能な登録商標エンビロキャット(Envirocat) ＥＰＺ−１０、エンビロキャットＥＰＺＧまたはエンビロキャットＥＰＩＣを包含する。
【０１５１】
好ましい触媒は天然シートシリケートまたは変性シートシリケートである。
式ＩＩＩで表されるフェノールとグリオキシル酸との反応をファルキャットタイプ触媒の存在下で行うのが好ましい。
触媒の量は式ＩＩＩで表されるフェノールを規準として０．０１ないし５モル％、好ましくは０．１ないし１．０モル％である。
【０１５２】
式ＩＶで表される化合物から出発して、式Ｉ中、Ｒ’1 が水素原子を表さない化合物を製造するための反応工程ｂ）の反応条件は一般に公知であり、そしてOrganikum 1986, 186-191 頁，388 頁および402-408 頁に記載されたエステル化法に従って一般に選択され得る。
【０１５３】
適当なハロゲン化水素酸は典型的には塩化水素酸、臭化水素酸またはヨウ化水素酸である。塩化水素酸が好ましい。
オキシ硫酸のハロゲン化物は典型的には塩化チオニル、塩化スルフリルまたは臭化チオニルである。塩化チオニルが好ましい。
適当なリン酸または亜リン酸のハロゲン化物は三塩化リン、三臭化リン、三ヨウ化リン、五塩化リン、ホスホロキシクロリドまたは五フッ化リンを包含する。ホスホロキシクロリドが特に好ましい。
【０１５４】
反応工程ｂ）において、オキシ硫酸のハロゲン化物、例えば塩化チオニル；式ＶＩで表される酸ハロゲン化物；式ＶＩＩで表されるエステル；式ＶＩＩＩで表される対称無水物を使用することが好ましい。
【０１５５】
反応工程ｂ）においてオキシ硫酸のハロゲン化物、例えば塩化チオニルを使用する場合、式ＩＶで表される化合物の反応を溶媒なしで、０ないし４０℃の温度範囲、好ましくは室温で行うのが好ましい。塩化チオニルは式ＩＶで表される化合物に対して通常２ないし１０倍過剰、好ましくは２ないし６倍過剰に使用される。反応は触媒、例えばジメチルホルムアミドの存在下に行われ得る。
【０１５６】
式ＶＩ（Ｒ’1 −Ｙ）中、Ｙが好ましくは塩素原子または臭素原子、最も好ましくは塩素原子を表す酸ハロゲン化物が工程ｂ）において使用されるならば、式ＩＶで表される化合物の反応を溶媒および塩基の存在下で行うのが好ましい。塩基は式ＩＶで表される化合物に対して触媒量ないし化学量論量から複数倍のモル過剰の量までの変化する量で用いることができる。反応の間に形成される塩化水素は塩基により塩化物に変換され、該塩化物は次いで濾過および／または適当な水相または固相での洗浄により除去され得、その場合には第２の水不混和性溶媒が使用され得る。生成物は濃縮または蒸発により乾燥させた有機相の残渣を再結晶することにより通常精製される。
【０１５７】
反応を行うための適当な溶媒は、炭化水素（典型的にはトルエン、キシレン、ヘキサン、ペンタンまたはその他の石油エーテル留分）、ハロゲン化炭化水素（典型的にはジ−またはトリクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン）、エーテル（例えばジエチルエーテル、ジブチルエーテルまたはテトラヒドロフラン）およびアセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドまたはＮ−メチルピロリドンを包含する。
【０１５８】
適当な塩基は第三アミン、例えばトリメチルアミン、トリエチルエミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン；ピリジン；ヒドリド（例えば水素化リチウム、ナトリウムまたはカリウム）またはエルコレート（例えばナトリウムメチレート）を包含する。
【０１５９】
式ＶＩＩ（Ｒ’1 −Ｏ−Ｒ16）中、Ｒ16が好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基、最も好ましくはメチル基またはエチル基を表すエステルが工程ｂ）で使用されるならば、式ＩＶで表される化合物の反応はアルコールと共沸混合物を形成する溶媒の存在下で行うことが好ましい。反応の間に形成するアルコール（Ｒ16−ＯＨ）は蒸留により連続的に除去され得る。
【０１６０】
アルコールと共沸混合物を形成する適当な溶媒は反応に関与せず、そして典型的には炭化水素、例えばシクロヘキサン；芳香族炭化水素、例えばベンゼンまたはトルエン；ハロゲン化炭化水素、例えば１，２−ジクロロエタン；またはエーテル、例えばメチル第三ブチルエーテルを包含する。
【０１６１】
反応は少量のプロトン酸、例えばｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸または塩化水素酸；ならびにルイス酸、例えば三フッ化ホウ素エーテレートまたは塩化アルミニウムで触媒され得る。
【０１６２】
式ＶＩＩＩ（Ｒ’1 −Ｏ−Ｒ’1 ）中、Ｒ’1 が好ましくは炭素原子数２ないし６のアルカノイル基、好ましくはアセチル基を表す対称無水物が工程ｂ）で使用されるならば、式ＩＶで表される化合物との反応はその他の溶媒を添加せずに、そして２０ないし２００℃の温度範囲、例えば式ＶＩＩＩで表される無水物の沸点、好ましくは６０ないし１８０℃で行うのが好ましい。
【０１６３】
式ＩＸ（Ｒ11−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）で表されるイソシアネートが使用されるならば、式ＩＶで表される化合物との反応はその他の溶媒を添加せずに、そして２０ないし２００℃の温度範囲、例えば式ＩＸで表されるイソシアネートの沸点、好ましくは６０ないし１８０℃で行うのが好ましい。
【０１６４】
イソシアネートとの反応は同様に触媒の存在下で行われるのが好ましい。好ましい触媒は式ＩＩＩで表されるフェノールとグリオキシル酸との反応に関して上記したものである。
【０１６５】
式ＩＩＩで表されるフェノールは公知であるか、またはそれ自体公知の方法で製造され得る。
【０１６６】
次式Ｘ：
【化８５】
で表されるビスフェノールはHouben-Weyl, Mothoden der organischen Chemie, Vol. 6/1c, 1030 に従って製造され得る。
【０１６７】
【実施例】
以下の実施例は本発明をより詳しく説明する。なお、以下の実施例において、部および％はそれぞれ重量部および重量％である。
実施例１：５，７−ジ第三ブチル−３−ヒドロキシ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０１），第１表〕の製造
２，４−ジ第三ブチルフェノール（９７％）２１．２ｇ（０．１０モル）、５０％水性グリオキシル酸１６．３ｇ（０．１１モル）およびｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．０５ｇ（０．２６ミリモル）の１，２−ジクロロエタン３０ｍｌ中の混合物を窒素下３．５時間、水分離器上で還流する。その後、反応混合物を真空ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣をヘキサン８０ｍｌ中に採取し、そして水で３回洗浄する。水相を分液ロートで分離し、そしてさらにヘキサン３０ｍｌで抽出する。有機相を一緒にし、硫酸マグネシウムで乾燥させ、そして真空ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣は濃い黄色樹脂の形態で分析により純粋な５，７−ジ第三ブチル−３−ヒドロキシ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０１），第１表〕２６．２３ｇ（〜１００％）である。
【０１６８】
実施例１と同様にして、化合物（１０３）、（１０４）、（１０５）、（１０９）、（１１０）および（１１１）が相当するフェノール、例えば４−第三ブチル−２−メチルフェノール、２，４−ジクロロヘキシルフェノール、２−（ヘキサデシ−２−イル）−４−メチルフェノール、３−〔３−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル〕プロピオン酸、２，４−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェノールおよび４−メチル−２−（１，１，３，３−テトラメチルブチ−１−イル）フェノールとグリオキシル酸とから製造される。化合物（１０７）を製造するために、２当量のグリオキシル酸が１，１−ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンから出発して使用される。
【０１６９】
実施例２：７−第三ブチル−３−ヒドロキシ−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０２），第１表〕の製造
２−第三ブチル−４−メチルフェノール４９．８ｇ（０．３０モル）、５０％水性グリオキシル酸４８．９ｇ（０．３３モル）およびｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．１５ｇ（０．７９ミリモル）の１，２−ジクロロエタン９０ｍｌ中の混合物を窒素下３．５時間、水分離器上で還流する。その後、反応混合物を＋５℃まで冷却し、そして濾過により沈澱物を単離し、そして冷却１，２−ジクロロエタンで洗浄する。濾過残渣を高真空下室温で乾燥させると、融点１５２−１６０℃の７−第三ブチル−３−ヒドロキシ−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０２），第１表〕５４．０ｇ（８２％）が得られる。
【０１７０】
実施例３：３−アセトキシ−５，７−ジ第三ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０６），第１表〕の製造
２，４−ジ第三ブチルフェノール（９７％）２１．２ｇ（０．１０モル）、５０％水性グリオキシル酸１６．３ｇ（０．１１モル）およびｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．０５ｇ（０．２６ミリモル）の１，２−ジクロロエタン３０ｍｌ中の混合物を窒素下３．５時間、水分離器上で還流する。その後、反応混合物を真空ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣を無水酢酸９．９ｍｌ（０．１０５モル）中に採取し、そして溶液を９０分間還流する。反応混合物を次いで室温まで冷却し、第三ブチルメチルエーテル１００ｍｌで希釈し、水で連続的に洗浄し、そして炭酸水素ナトリウム溶液で希釈する。水相を分離し、そして第三ブチルメチルエーテル５０ｍｌで抽出する。有機相を一緒にし、硫酸マグネシウムで乾燥させ、そして真空ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣に対し溶媒系ジクロロメタン／ヘキサン＝２：１を用いるシリカゲル上でのクロマトグラフィーを行うと３−アセトキシ−５，７−ジ第三ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０６），第１表〕２８．０ｇ（９２％）が濃い赤色樹脂として得られる。
【０１７１】
実施例４：７−第三ブチル−３−クロロ−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０８），第１表〕の製造
塩化チオニル２．４ｍｌ（５５．０ミリモル）中の７−第三ブチル−３−ヒドロキシ−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０２），実施例２，第１表〕２．２ｇ（１０．０ミリモル）の懸濁液に、ジメチルホルムアミドを１滴添加し、そして混合物を室温で２時間攪拌する。その後、過剰な塩化チオニルを真空ロータリーエバポレーターで留去する。残渣に対し溶媒系ジクロロメタン／ヘキサン＝１：１を用いるシリカゲル上でのクロマトグラフィーおよびメタノールからの純粋な画分の結晶化を行うと融点８１−８６℃の７−第三ブチル−３−クロロ−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０８），第１表〕０．３０ｇ（１３％）が得られる。
【０１７２】
実施例５：３−（Ｎ−メチルカルバモイルオキシ）−５−メチル−７−第三ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１１２），第１表〕の製造
７−第三ブチル−３−ヒドロキシ−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０２），実施例２〕５．５ｇ（２５．０ミリモル）、メチルイソシアネート３ｍｌ（５０．０ミリモル）およびメタンスルホン酸２滴の混合物を３時間１５分還流する。次にメチルイソシアネート３ｍｌ（５０．０ミリモル）およびメタンスルホン酸２滴を再び添加する。反応混合物をさらに１６時間還流し、ジクロロメタンで希釈し、そして水および５％水性炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄する。有機相を一緒にし、硫酸マグネシウムで乾燥させ、そして真空ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣をトルエンから再結晶させると融点１３８−１４３℃の３−（Ｎ−メチルカルバモイルオキシ）−５−メチル−７−第三ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１１２），第１表〕４．４５ｇ（６５％）が得られる。
【０１７３】
実施例６：３−〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−７−第三ブチル−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１１３），第１表〕の製造
７−第三ブチル−３−ヒドロキシ−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０２），実施例２〕５．５ｇ（２５．０ミリモル）およびトリエチルアミン３．９ｍｌ（２８．０ミリモル）のジクロロメタン３０ｍｌ中の溶液をジクロロメタン１０ｍｌ中の３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルクロリド〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸７．８ｇ（２８．０ミリモル）と塩化チオニルとから製造された〕８．３２ｇ（２８．０ミリモル）の溶液に滴下して添加する。反応混合物を次に１時間還流し、次いで冷却し、そして水および５％水性炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄する。有機相を一緒にし、硫酸マグネシウムで乾燥させ、そして真空ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣をアセトニトリルから３回結晶化させと融点１５１−１５４℃の３−〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−７−第三ブチル−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１１３），第１表〕４．６ｇ（３８％）が得られる。
【０１７４】
第１表
【表１】
【表２】
【表３】
【表４】
【０１７５】
実施例７：多数回押出後のポリプロピレンの安定化
イルガノックス（登録商標，Irganox ）１０７６（ｎ−オクタデシル３−〔３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル〕プロピオネート０．０２５％で予め安定化されたポリプロピレン粉末（プロファックス６５０１）１．３ｋｇ（メルトインデックス３．２ｇ／１０分，２３０℃／２．１６ｋｇで測定）にイルガノックス１０１０（ペンタエリトリトールテトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕０．０５％、ステアリン酸カルシウム０．０５％、ＤＨＴ ４Ａ（登録商標，協和化学工業株式会社，Ｍｇ4.5 Ａｌ2 （ＯＨ）13ＣＯ3 ・３．５Ｈ2 Ｏ）０．０３％および第１表の化合物０．０５％を配合する。この配合物を次にシリンダー直径２０ｍｍ、長さ４００ｍｍを有する押出機において１００ｒｐｍで、３つの加熱領域を以下の温度：２６０，２７０，２８０℃に調節して押出した。押出物を水浴を介してそれを引くことにより冷却し、次いで粒化する。この粒状物を繰り返し押し出す。３回の押出後、メルトインデックスを測定する（２３０℃／２．１６ｋｇで）。メルトインデックスにおける実質的な増加は顕著な鎖長分解、すなわち低い安定化を意味する。結果を第２表に示す。
【０１７６】
第２表
【産業上の利用分野】
本発明は、有機材料、好ましくは合成ポリマーと安定剤としてベンゾフラン−２−オンとからなる組成物、酸化、熱または光誘導分解に対して有機材料、好ましくは合成ポリマーを安定化するためのそれらの使用方法、および新規ベンゾフラン−２−オンに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
個々のベンゾフラン−２−オンは文献において公知であり、そして特にBeilstein 18, 17およびBeilstein E III/IV, 18, 154-166 において言及され、またTh. Kappe 等, Monatshefte fur Chemie 99, 990 (1968); J. Morvan 等, Bull. Soc. Chim. Fr.1979, 583; L. F. Clarke 等, J. Org. Chem. 57, 362 (1992); M. Julia等, Bull. Soc. Chim. Fr.1965, 2175またはH. Sterk等, Monatshefte fur Chemie 99, 2223 (1968) に記載されている。上記化合物が有機材料の安定剤として使用されることを記載している刊行物はない。
有機ポリマーの安定剤としてのいくつかのベンゾフラン−２−オンの使用は、特にＵＳ−Ａ−４３２５８６３；ＵＳ−Ａ−４３３８２４４およびＵＳ−Ａ−５１７５３１２に開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、酸化等による分解を受けやすい有機材料、特に合成ポリマーの安定剤としての使用に特に適当である新規なベンゾフラン−２−オンの提供を課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
ベンゾフラン−２−オンの選択された群が酸化、熱または光誘導分解を受けやすい有機材料、特に合成ポリマーの安定剤としての使用に特に適当であることが今見出された。
従って、本発明は、
（ａ）酸化、熱または光誘導分解を受けやすい有機材料、特に合成ポリマー、および（ｂ）少なくとも１種の次式Ｉ：
【化１１】
Ｒ1 はハロゲン原子または次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 は水素原子、炭素原子数１ないし２５のアルカノイル基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイル基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化１２】
【化１３】
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基；炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイルオキシ基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化１４】
【化１５】
Ｒ6 は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
Ｒ7 は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
Ｒ8 は直接結合、炭素原子数１ないし１８のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化１６】
【化１７】
Ｒ9 はヒドロキシ基、次式：
【化１８】
【化１９】
Ｒ10は酸素原子、−ＮＨ−または次式：
【化２０】
Ｒ11は炭素原子数１ないし１８のアルキル基またはフェニル基を表し、
Ｒ12およびＲ13は互いに独立して水素原子、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし１２のアルキル基またはフェニル基を表すか、または
Ｒ12およびＲ13は結合している炭素原子と一緒になって、非置換または１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成し、
Ｒ14およびＲ15は互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表し、
Ｍは原子価ｒの金属カチオンを表し、
ｎは０、１または２を表し、
ｐは０、１または２を表し、
ｑは１、２、３、４、５または６を表し、そして
ｒは１、２または３を表す）で表される化合物
からなる組成物に関する。
【０００５】
ハロゲン置換基は通常、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。塩素原子が好ましい。
【０００６】
含まれる炭素原子数が２５までのアルカノイル基は分岐基または非分岐基であり、典型的にはホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、ヘプタデカノイル基、オクタデカノイル基、エイコサノイル基またはドコサノイル基等である。アルカノイル基として定義されるＲ’1 は好ましくは２ないし１８個、最も好ましくは２ないし１２個、例えば２ないし６個の炭素原子を含有する。アセチル基が特に好ましい。
【０００７】
含まれる炭素原子数が２５までのアルカノイルオキシ基は分岐基または非分岐基であり、典型的にはホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、オクタノイルオキシ基、ノナノイルオキシ基、デカノイルオキシ基、ウンデカノイルオキシ基、ドデカノイルオキシ基、トリデカノイルオキシ基、テトラデカノイルオキシ基、ペンタデカノイルオキシ基、ヘキサデカノイルオキシ基、ヘプタデカノイルオキシ基、オクタデカノイルオキシ基、エイコサノイルオキシ基またはドコサノイルオキシ基等である。炭素原子数２ないし１８、好ましくは２ないし１２、例えば２ないし６のアルカノイルオキシ基が好ましい。アセトキシ基が特に好ましい。
【０００８】
炭素原子数３ないし２５のアルケノイル基は分岐基または非分岐基であり、典型的にはプロペノイル基、２−ブテノイル基、３−ブテノイル基、イソブテノイル基、ｎ−２，４−ペンタジエノイル基、３−メチル−２−ブテノイル基、ｎ−２−オクテノイル基、ｎ−２−ドデセノイル基、イソドデセノイル基、オレオイル基、ｎ−２−オクタデセノイル基またはｎ−４−オクタデセノイル基等である。炭素原子数３ないし１８、好ましくは３ないし１２、例えば３ないし６、最も好ましくは３または４のアルケノイル基が好ましい。
【０００９】
炭素原子数３ないし２５のアルケノイルオキシ基は分岐基または非分岐基であり、典型的にはプロペノイルオキシ基、２−ブテノイルオキシ基、３−ブテノイルオキシ基、イソブテノイルオキシ基、ｎ−２，４−ペンタジエノイルオキシ基、３−メチル−２−ブテノイルオキシ基、ｎ−２−オクテノイルオキシ基、ｎ−２−ドデセノイルオキシ基、イソドデセノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、ｎ−２−オクタデセノイルオキシ基またはｎ−４−オクタデセノイルオキシ基等である。炭素原子数３ないし１８、好ましくは３ないし１２、例えば３ないし６、最も好ましくは３または４のアルケノイルオキシ基が好ましい。
【００１０】
酸素原子、硫黄原子または次式：
【化５１】
【００１１】
酸素原子、硫黄原子または次式：
【化５２】
【００１２】
炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニル基は典型的にはシクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、シクロヘプチルカルボニル基またはシクロオクチルカルボニル基である。シクロヘキシルカルボニル基が好ましい。
【００１３】
炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニルオキシ基は典型的にはシクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘプチルカルボニルオキシ基またはシクロオクチルカルボニルオキシ基である。シクロヘキシルカルボニルオキシ基が好ましい。
【００１４】
好ましくは１ないし３、最も好ましくは１または２のアルキル基を含む炭素原子数１ないし１２のアルキル置換ベンゾイル基は典型的にはｏ−、ｍ−またはｐ−メチルベンゾイル基、２，３−ジメチルベンゾイル基、２，４−ジメチルベンゾイル基、２，５−ジメチルベンゾイル基、２，６−ジメチルベンゾイル基、３，４−ジメチルベンゾイル基、３，５−ジメチルベンゾイル基、２−メチル−６−エチルベンゾイル基、４−第三ブチルベンゾイル基、２−エチルベンゾイル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル基、２，６−ジメチル−４−第三ブチルベンゾイル基または３，５−ジ第三ブチルベンゾイル基である。好ましい置換基は炭素原子数１ないし８のアルキル基、最も好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基である。
【００１５】
好ましくは１ないし３、最も好ましくは１または２のアルキル基を含む炭素原子数１ないし１２のアルキル置換ベンゾイルオキシ基は典型的にはｏ−、ｍ−またはｐ−メチルベンゾイルオキシ基、２，３−ジメチルベンゾイルオキシ基、２，４−ジメチルベンゾイルオキシ基、２，５−ジメチルベンゾイルオキシ基、２，６−ジメチルベンゾイルオキシ基、３，４−ジメチルベンゾイルオキシ基、３，５−ジメチルベンゾイルオキシ基、２−メチル−６−エチルベンゾイルオキシ基、４−第三ブチルベンゾイルオキシ基、２−エチルベンゾイルオキシ基、２，４，６−トリメチルベンゾイルオキシ基、２，６−ジメチル−４−第三ブチルベンゾイルオキシ基または３，５−ジ第三ブチルベンゾイルオキシ基である。好ましい置換基は炭素原子数１ないし８のアルキル基、最も好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基である。
【００１６】
１−ナフトイル基または２−ナフトイル基であり、そして好ましくは１ないし３個、最も好ましくは１または２個のアルキル基を含む炭素原子数１ないし１２のアルキル置換ナフトイル基は典型的には１−、２−、３−、４−、５−、６−、７−または８−メチルナフトイル基、１−、２−、３−、４−、５−、６−、７−または８−エチルナフトイル基、４−第三ブチルナフトイル基または６−第三ブチルナフトイル基である。特に好ましい置換基は炭素原子数１ないし８のアルキル基、最も好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基である。
【００１７】
炭素原子数１ないし２５のアルカンスルホニル基は分岐基または非分岐基であり、典型的にはメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、ブタンスルホニル基、ペンタンスルホニル基、ヘキサンスルホニル基、ヘプタンスルホニル基、オクタンスルホニル基、ノナンスルホニル基またはドコサンスルホニル基等である。炭素原子数１ないし１８、好ましくは１ないし１２、例えば２ないし６のアルカンスルホニル基が好ましい。メタンスルホニル基が特に好ましい。
【００１８】
フルオロ置換された炭素原子数１ないし２５のアルカンスルホニル基は典型的にはトリフルオロメタンスルホニル基である。
【００１９】
好ましくは１ないし３、最も好ましくは１または２のアルキル基を有する炭素原子数１ないし１２のアルキル置換フェニルスルホニル基は典型的にはｏ−、ｍ−またはｐ−メチルフェニルスルホニル基、ｐ−エチルフェニルスルホニル基、ｐ−プロピルフェニルスルホニル基またはｐ−ブチルフェニルスルホニル基である。好ましい置換基は炭素原子数１ないし８のアルキル基、最も好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基である。ｐ−メチルフェニルスルホニル基が特に好ましい。
【００２０】
炭素原子数２５までのアルキル基は分岐基または非分岐基であり、そして典型的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基またはドコシル基等である。Ｒ2 およびＲ4 の好ましい意味は典型的には炭素原子数１ないし１８のアルキル基である。Ｒ4 の特に好ましい意味は炭素原子数１ないし４のアルキル基である。
【００２１】
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は典型的にはベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基または２−フェニルエチル基であってよい。ベンジル基およびα，α−ジメチルベンジル基が好ましい。
【００２２】
好ましくは１ないし３、好ましくは１または２のアルキル基を有する炭素原子数１ないし４のアルキル置換フェニル基は典型的にはｏ−、ｍ−またはｐ−メチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２−メチル−６−エチルフェニル基、４−第三ブチルフェニル基、２−エチルフェニル基または２，６−ジエチルフェニル基であってよい。
【００２３】
非置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基は典型的にはシクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基またはシクロオクチル基である。シクロヘキシル基および第三ブチルシクロヘキシル基が好ましい。
【００２４】
炭素原子数１８までのアルコキシ基は分岐基または非分岐基であり、そして典型的にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、デシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基またはオクタデシルオキシ基である。炭素原子数１ないし１２、好ましくは１ないし８、例えば１ないし６のアルコキシ基が好ましい。
【００２５】
炭素原子数１８までのアルキルチオ基は分岐基または非分岐基であり、そして典型的にはメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、テトラデシルチオ基、ヘキサデシルチオ基またはオクタデシルチオ基である。炭素原子数１ないし１２、好ましくは１ないし８、例えば１ないし６のアルキルチオ基が好ましい。
【００２６】
炭素原子数４までのアルキルアミノ基は分岐基または非分岐基であり、そして典型的にはメチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基または第三ブチルアミノ基である。
【００２７】
ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基はまた、２つの部分が互いに独立して分岐基または非分岐基であり、そして典型的にはジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチル−ｎ−プロピルアミノ基、メチルイソプロピルアミノ基、メチル−ｎ−ブチルアミノ基、メチルイソブチルアミノ基、エチル−ｎ−ブチルアミノ基、エチルイソブチルアミノ基、エチル第三ブチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、イソプロピル−ｎ−ブチルアミノ基、イソプロピルイソブチルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基またはジイソブチルアミノ基である。
【００２８】
炭素原子数２５までのアルカノイルアミノ基は非分岐基または分岐基であり、そして典型的にはホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ブタノイルアミノ基、ペンタノイルアミノ基、ヘキサノイルアミノ基、ヘプタノイルアミノ基、オクタノイルアミノ基、ノナノイルアミノ基、デカノイルアミノ基、ウンデカノイルアミノ基、ドデカノイルアミノ基、トリデカノイルアミノ基、テトラデカノイルアミノ基、ペンタデカノイルアミノ基、ヘキサデカノイルアミノ基、ヘプタデカノイルアミノ基、オクタデカノイルアミノ基、エイコサノイルアミノ基、またはドコサノイルアミノ基である。炭素原子数２ないし１８、好ましくは２ないし１２、例えば２ないし６のアルカノイルアミノ基が好ましい。
【００２９】
炭素原子数１ないし１８のアルキレン基は分岐基または非分岐基であり、そして典型的にはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、ドデカメチレン基またはオクタデカメチレン基である。炭素原子数１ないし１２のアルキレン基が好ましく、そして炭素原子数１ないし８のアルキレン基が特に好ましい。
【００３０】
酸素原子、硫黄原子または次式：
【化５３】
【００３１】
炭素原子数２ないし１８のアルケニレン基は典型的にはビニレン基、メチルビニレン基、オクテニルエチレン基またはドデセニルエチレン基である。炭素原子数２ないし８のアルケニレン基が好ましい。
【００３２】
炭素原子数２ないし２０のアルキリデン基は典型的にはエチリデン基、プロピリデン基、ブチリデン基、ペンチリデン基、４−メチルペンチリデン基、ヘプチリデン基、ノニリデン基、トリデシリデン基、ノナデシリデン基、１−メチルエチリデン基、１−エチルプロピリデン基または１−エチルペンチリデン基であり得る。炭素原子数２ないし８のアルキリデン基が好ましい。
【００３３】
炭素原子数７ないし２０のフェニルアルキリデン基は典型的にはベンジリデン基、２−フェニルエチリデン基または１−フェニル−２−ヘキシリデン基であり得る。炭素原子数７ないし９のフェニルアルキリデン基が好ましい。
【００３４】
炭素原子数５ないし８のシクロアルキレン基は２つの遊離原子価と少なくとも１つの環単位を有する飽和炭化水素基であり、そして典型的にはシクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基またはシクロオクチレン基である。シクロヘキシレン基が好ましい。
【００３５】
炭素原子数７または８のビシクロアルキレン基はビシクロヘプチレン基またはビシクロオクチレン基であってよい。
【００３６】
非置換または炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニレン基は１，２−、１，３−または１，４−フェニレン基であってよい。
【００３７】
好ましくは１ないし３、最も好ましくは１または２の分岐または非分岐アルキル基を含む炭素原子数１ないし４のアルキル置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環は典型的にはシクロペンチリデン、メチルシクロペンチリデン、ジメチルシクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、メチルシクロヘキシリデン、ジメチルシクロヘキシリデン、トリメチルシクロヘキシリデン、第三ブチルシクロヘキシリデン、シクロヘプチリデンまたはシクロオクチリデンである。シクロヘキシリデンおよび第三ブチルシクロヘキシリデンが好ましい。
【００３８】
１、２または３価の金属カチオンは好ましくはアルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオンまたはアルミニウムカチオン、典型的にはＮａ+ 、Ｋ+ 、Ｍｇ++、Ｃａ++またはＡｌ+++ である。
【００３９】
興味深い組成物は上記式Ｉ中、
Ｒ’1 が水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし１８のアルケノイル基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化５４】
【化５５】
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 が互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基；炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数１ないし１２のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、炭素原子数１ないし１８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし１８のアルケノイルオキシ基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化５６】
【化５７】
Ｒ6 が水素原子または炭素原子数１ないし６のアルキル基を表し、
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし６のアルキル基を表し、
Ｒ8 が直接結合、炭素原子数１ないし１２のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化５８】
Ｒ9 がヒドロキシ基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基または次式：
【化５９】
Ｒ10が酸素原子または−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし１２のアルキル基またはフェニル基を表し、
Ｒ12およびＲ13がメチル基を表すか、または結合している炭素原子と一緒になって、非置換または１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成し、
Ｒ14およびＲ15が互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、そして
ｑが２、３、４、５または６を表す化合物を含む組成物である。
【００４０】
上記式Ｉ中、置換基Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 の少なくとも２つが水素原子を表す化合物を含む組成物が好ましい。
【００４１】
上記式Ｉ中、Ｒ3 およびＲ5 が水素原子を表す化合物を含む組成物もまた好ましい。
【００４２】
その他の好ましい組成物は、上記式Ｉ中、
Ｒ1 が塩素原子、臭素原子また次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 が水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルカノイル基、酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１２のアルカノイル基；シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、炭素原子数１ないし１２のアルカンスルホニル基、フルオロ置換された炭素原子数１ないし１２のアルカンスルホニル基；フェニルスルホニル基または炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル基；次式：
【化６０】
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし６のアルキル基を表し、
Ｒ8 が直接結合、炭素原子数１ないし１２のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化６１】
Ｒ9 がヒドロキシ基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基または次式：
【化６２】
Ｒ10が酸素原子または−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし１２のアルキル基またはフェニル基を表し、そしてＲ14およびＲ15が互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表す化合物を含む組成物である。
【００４３】
特に興味深い組成物は、上記式Ｉ中、
Ｒ’1 が水素原子、炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、ベンゾイル基、メタンスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基、次式：
【化６３】
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ10が−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし８のアルキル基またはフェニル基を表し、そして
ｎが２を表す化合物を含むものである。
【００４４】
特に好ましい組成物は、上記式Ｉ中、
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 が互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし６のアルコキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基もしくはベンゾイルオキシ基を表すか、または置換基対Ｒ2 およびＲ3 またはＲ3 およびＲ4 またはＲ4 およびＲ5 の各々が結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し；Ｒ4 がさらに次式：−（ＣＨ2 ）p −ＣＯＲ9 を表すか；またはＲ3 およびＲ5 が水素原子を表すならば、Ｒ4 がさらに式ＩＩで表される基を表し、
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ8 が炭素原子数１ないし１２のアルキレン基またはフェニレン基を表し、
Ｒ9 がヒドロキシ基または炭素原子数１ないし８のアルコキシ基を表し、
Ｒ10が−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし８のアルキル基またはフェニル基を表し、そして
Ｒ12およびＲ13がメチル基を表すか、または結合している炭素原子と一緒になって炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成する化合物を含有する組成物である。
【００４５】
とりわけ好ましい組成物は、上記式Ｉ中、
Ｒ1 が塩素原子または次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 が水素原子、炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、ベンゾイル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、フェニルスルホニル基または炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル基を表すか、または次式：
【化６４】
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 が互いに独立して水素原子、塩素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし６のアルコキシ基を表し、Ｒ4 がさらに次式：−（ＣＨ2 ）p −ＣＯＲ9 で表される基を表すか；またはＲ3 およびＲ5 が水素原子を表すならば、Ｒ4 がさらに次式ＩＩ：
【化６５】
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ9 がヒドロキシ基または炭素原子数１ないし８のアルコキシ基を表し、
Ｒ10が−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし４のアルキル基またはフェニル基を表し、
Ｒ12およびＲ13が結合している炭素原子と一緒になってシクロヘキシリデン環を形成し、
ｎが２を表し、そして
ｐが２を表す化合物を含む組成物である。
【００４６】
中でも好ましい組成物は、上記式Ｉ中、
Ｒ1 が塩素原子または次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 が水素原子、アセチル基、次式：
【化６６】
Ｒ2 が炭素原子数１ないし１６のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基またはシクロヘキシル基を表し、
Ｒ3 が水素原子を表し、
Ｒ4 が炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、シクロヘキシル基、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯＨまたは次式ＩＩ：
【化６７】
Ｒ5 が水素原子を表し、
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ10が−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ12およびＲ13が結合している炭素原子と一緒になってシクロヘキシリデン環を形成し、そして
ｎが２を表す化合物を含む組成物である。
【００４７】
式Ｉで表される化合物は、熱、酸化または光誘導分解に対して有機材料、特に合成ポリマーを安定化するのに適当である。
【００４８】
そのような材料を以下に例示する：
１．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（非架橋でも架橋されていてもよい）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、分岐低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
【００４９】
ポリオレフィン、すなわち前項に例示したモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレンおよびポリプロピレンは異なる方法、特に以下の方法により製造され得る：
ａ）ラジカル重合（通常、高温高圧下）。
ｂ）周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂまたはＶＩＩＩ族の金属１種以上を通常含有する触媒を用いる接触重合。これらの金属は通常１以上の配位子、典型的にはπ（パイ）−またはσ（シグマ）−配位されていてよい酸化物、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／またはアリールを有する。これらの金属錯体は遊離体であっても、または基体(substrate) 、典型的には活性化塩化マグネシウム、塩化チタン（ＩＩＩ）、アルミナまたは酸化ケイ素に固定されていてもよい。これらの触媒は重合化媒体に可溶性であっても、不溶性であってもよい。触媒は重合においてそれ自体で使用され得、またその他の活性化剤、典型的には金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハロゲン化物、金属アルキル酸化物または金属アルキルオキサンが使用され得る（上記金属は周期表のＩａ、ＩＩａおよび／またはＩＩＩａ族の元素である）。活性化剤はその他のエステル、エーテル、アミンまたはシリルエーテル基で慣用方法により変性されてもよい。上記触媒系は通常フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チーグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセンまたは単一部位触媒（single site catalyst, SSC)と命名されている。
【００５０】
２．前項１．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ，ＰＰ／ＬＤＰＥ）および異なる種類のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００５１】
３．モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）およびこれと低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテン−１コポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテン−１コポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマーおよびそれらの一酸化炭素とのコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）、並びにエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノルボルネンとのターポリマー；および上記コポリマー相互の、および項１．に記載のポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレンプロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー、およびそれらとその他のポリマー例えばポリアミドとの混合物。
【００５２】
４．炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９のもの）およびそれらの水素化変性体（例えば粘着付与剤）およびポリアルキレンとデンプンとの混合物。
【００５３】
５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
【００５４】
６．スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーからの高耐衝撃性混合物；およびスチレンのブロックコポリマー例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンまたはスチレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
【００５５】
７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーにスチレン、ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタクリロニトリル）、ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタアクリレート、ポリブタジエンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにスチレンおよびマレイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレート；エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、並びにこれらと項６．に列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ−、ＭＢＳ−、ＡＳＡ−またはＡＥＳ−ポリマーとして知られているコポリマー混合物。
【００５６】
８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、塩素化またはスルホ塩素化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
【００５７】
９．α，β−不飽和酸およびその誘導体から誘導されるポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアクリレート；ブチルアクリレートで耐衝撃性に変性されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル。
【００５８】
１０．前項９．に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートもしくはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマーまたはアクリロニトリル／アルキルメタアクリレート／ブタジエンターポリマー。
【００５９】
１１．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシル誘導体もしくはアセタールから誘導されるポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチレート、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；並びにこれらと項１．に記載したオレフィンとのコポリマー。
【００６０】
１２．環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【００６１】
１３．ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性されたポリアセタール。
【００６２】
１４．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、およびポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポリアミドとの混合物。
【００６３】
１５．一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘導されたポリウレタン並びにその前駆体。
【００６４】
１６．ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレン、ジアミンおよびアジピン酸から出発する芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンとイソフタル酸および／またはテレフタル酸とから、変性剤としてエラストマーを添加して、または添加せずに製造されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；上記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは化学結合化もしくはグラフト化エラストマーとの、またはポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマー；並びにＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミドまたはコポリアミド；および加工の間に縮合したポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【００６５】
１７．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミドイミドおよびポリベンズイミダゾール。
【００６６】
１８. ジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒドロキシカルボン酸から誘導されたポリエステルまたは相当するラクトン、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレートおよびポリヒドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ末端ポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；およびポリカーボネートまたはＭＢＳで変性されたポリエステル。
【００６７】
１９．ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネート。
【００６８】
２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。
【００６９】
２１．一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素/ ホルムアルデシド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
【００７０】
２２．乾性および不乾性アルキド樹脂。
【００７１】
２３．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとのコポリエステルおよび架橋剤としてのビニル化合物から誘導された不飽和ポリエステル樹脂、および燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変性物。
【００７２】
２４．置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
【００７３】
２５．メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂と架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
【００７４】
２６．ポリエポキシド、例えばビスグリシジルエーテルまたは脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポキシ樹脂。
【００７５】
２７．天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチンおよびこれらの化学的に変性させた重合同族体誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸セルロースまたはセルロースエーテル例えばメチルセルロース；並びにロジンおよびそれらの誘導体。
【００７６】
２８. 前記したポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＳ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ。
【００７７】
２９．純単量体化合物またはその化合物の混合物である天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート）をベースとした上記オイル、脂肪およびワックス、並びにあらゆる重量比で混合された合成エステルと鉱油との混合物で、その材料は典型的には繊維紡績油として、並びにこのような材料の水性エマルジョンとして使用される。
【００７８】
３０．天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えばカルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーの天然ラテックス。
【００７９】
好ましい有機材料はポリマー、典型的には天然、半合成または好ましくは合成有機ポリマー、特に好ましくは熱可塑性ポリマー、増粘剤または接着剤である。特に好ましい有機材料はポリオレフィン、例えばポリプロピレンまたはポリエチレンである。
【００８０】
特別な言及のために選択されるべきは、熱および酸化分解、特に熱可塑性樹脂の加工の間に生じる熱の作用下での分解に対する新規化合物の効果である。それ故に、本発明の化合物は加工安定剤としての使用に極めて適している。
【００８１】
式Ｉで表される化合物は好ましくは有機材料の重量を規準として０．０００５ないし５％、好ましくは０．００１ないし２％、典型的には０．０１ないし２％の濃度で安定化されるべき有機材料に添加される。
【００８２】
本発明の組成物は式Ｉで表される化合物に加え、その他の補助安定剤、典型的には以下の安定剤を含有し得る：
１．酸化防止剤
１．１．アルキル化モノフェノールの例
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノールおよびその混合物。
【００８３】
１．２．アルキルチオメチルフェノールの例
２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００８４】
１．３．ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノンの例
２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００８５】
１．４．トコフェロールの例
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）
【００８６】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテルの例
２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００８７】
１．６．アルキリデンビスフェノールの例
２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、２，２’−メチレンビス〔６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール−ビス〔３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’ーヒドロキシフェニル）ブチレート〕、ビス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−（３’−第三ブチル−２’ーヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００８８】
１．７．Ｏ−，Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物の例
３，５，３’，５’−テトラ第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００８９】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネートの例
ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル〕−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００９０】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物の例
１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００９１】
１．１０．トリアジン化合物の例
２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００９２】
１．１１．ベンジルホスホネートの例
ジメチル−２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル５−第三ブチル−４−ヒドロキシ３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００９３】
１．１２．アシルアミノフェノールの例
４−ヒドロキシラウリン酸−アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸−アニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。
【００９４】
１．１３．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００９５】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００９６】
１．１５．β−（３，５−ジシクロシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００９７】
１．１６．３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００９８】
１．１７．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミドの例
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【００９９】
２．ＵＶ吸収剤および光安定剤
２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾールの例
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール〕；２−〔３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換体；次式：〔Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 −〕2 −（式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル基を表す）で表される化合物。
【０１００】
２．２．２−ヒドロキシ−ベンゾフェノンの例
４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクチルオキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２’，４’−トリヒドロキシ−および２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【０１０１】
２．３．置換されたおよび非置換安息香酸のエステルの例
４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０１０２】
２．４．アクリレートの例
エチルα−シアノ−β, β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−p −メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −２−メチルインドリン。
【０１０３】
２．５ ニッケル化合物の例
２，２’−チオビス−〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) フェノール〕のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステル、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うもの。
【０１０４】
２．６ 立体障害性アミンの例
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピヘリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン。
【０１０５】
２．７．オキサミドの例
４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシアニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリドおよび該化合物と２エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ第三ブトキサニリドとの混合物、オルト−およびパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【０１０６】
２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンの例
２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン。
【０１０７】
３．金属不活性化剤の例
Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【０１０８】
４．ホスフィットおよびホスホナイトの例
トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット。
【０１０９】
５．過酸化物スカベンジャーの例
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１１０】
６．ポリアミド安定剤の例
ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩および二価マンガンの塩。
【０１１１】
７．塩基性補助安定剤の例
メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレートまたはスズピロカテコレート。
【０１１２】
８．核剤の例
４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
【０１１３】
９．充填剤および強化剤の例
炭酸カルシウム、ケイ酸塩（シリケート）、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、雲母（マイカ）、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラックおよびグラファイト。
【０１１４】
１０．その他の添加剤の例
可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および発泡剤。
【０１１５】
補助安定剤は典型的には安定化されるべき材料の全重量を規準として０．０１ないし１０％の濃度で使用される。
【０１１６】
その他の好ましい組成物は、成分（ａ）および式Ｉで表される化合物の他に、その他の添加剤、好ましくはフェノール系酸化防止剤、光安定剤および／または加工安定剤を含有する。
【０１１７】
特に好ましい添加剤はフェノール系酸化防止剤（上記リストの項１）、立体障害性アミン（上記リストの項２．６）、ホスフィットおよびホスホナイト（上記リストの項４）および過酸化物スカベンジャー（上記リストの項５）である。
【０１１８】
式Ｉで表される化合物およびその他の任意の添加剤は、好都合には成形品への成形前または成形の間に公知方法により有機ポリマーに混入されるか、または化合物の溶液または分散液を有機ポリマーに塗布し、次にその溶媒を蒸発させることにより添加される。式Ｉで表される化合物はまた、該化合物を典型的には２．５ないし２５重量％の濃度で含有するマスターバッチの形態で、安定化されるべき材料に添加され得る。
【０１１９】
式Ｉで表される化合物はまた、重合前もしくは重合中、または架橋前に添加されてもよい。
【０１２０】
式Ｉで表される化合物は有機ポリマー中に純粋な形態で、またはワックス、オイルもしくはポリマーにカプセル化されて混入され得る。
【０１２１】
式Ｉで表される化合物は安定化されるべき有機ポリマーに噴霧されてもよい。それらはその他の添加剤（典型的には慣用の上記添加剤）またはその溶融物を希釈し得、その結果、安定化されるべきポリマーに上記添加剤と一緒に噴霧され得る。重合触媒の不活性化の間の噴霧による適用は特に有利であり、その場合における噴霧は不活性化のために使用される蒸気と共に好都合に作用する。
【０１２２】
式Ｉで表される化合物を添加剤と共に、または添加剤なしに球形の重合化ポリオレフィンに噴霧することは好都合であり得る。
【０１２３】
安定化された材料はあらゆる形状、典型的にはシート、フィラメント、リボン、成形用材料、型材または塗料組成物用結合材、接着剤またはパテであってよい。
【０１２４】
本発明はまた、少なくとも１種の式Ｉで表される化合物を有機材料、特に合成ポリマーに混合するか、または適用することからなる、酸化、熱または光誘導分解に対して有機材料、特に合成ポリマーを安定化する方法に関する。
【０１２５】
既に強調したように、新規化合物はポリオレフィン中の安定剤、特に熱安定剤として特別な利点でもって使用される。優れた安定化は、上記化合物が有機ホスフィットまたはホスホナイトと組み合わせて使用された場合に達成される。この場合、新規化合物は、相当に低濃度で、典型的にはポリオレフィンに基づいて０．０００１ないし０．０５０重量％、好ましくは０．０００１ないし０．０１５重量％で有効であるという利点を有する。有機ホスフィットまたはホスホナイトはポリオレフィンを規準として０．０１ないし２重量％、好ましくは０．０１ないし１重量％の濃度で通常使用される。ＤＥ−Ａ−４２０２２７６に開示された有機ホスフィットまたはホスホナイトを使用することが好ましい。該特許明細書の特許請求の範囲、実施例、第４頁最後のパラグラフから第８頁が特に参照される。特に適当なホスフィットおよびホスホナイトはまた上記の補助安定剤のリストの項４に見出されるであろう。
【０１２６】
ポリオレフィンの特に優れた安定化は新規化合物（式Ｉ）を有機ホスフィットまたはホスホナイトおよびフェノール系酸化防止剤と三重に組み合わせることにより得られる。
【０１２７】
本発明はさらに、次式Ｉａ：
【化６８】
Ｒ1 はハロゲン原子または次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 は水素原子、炭素原子数１ないし２５のアルカノイル基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイル基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化６９】
【化７０】
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基；炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイルオキシ基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化７１】
【化７２】
Ｒ6 は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
Ｒ7 は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
Ｒ8 は直接結合、炭素原子数１ないし１８のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
【化７３】
【化７４】
Ｒ9 はヒドロキシ基、次式：
【化７５】
【化７６】
Ｒ10は酸素原子、−ＮＨ−または次式：
【化７７】
Ｒ11は炭素原子数１ないし１８のアルキル基またはフェニル基を表し、
Ｒ12およびＲ13は互いに独立して水素原子、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし１２のアルキル基またはフェニル基を表すか、または
Ｒ12およびＲ13は結合している炭素原子と一緒になって、非置換または１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成し、
Ｒ14およびＲ15は互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表し、
Ｍは原子価ｒの金属カチオンを表し、
ｎは０、１または２を表し、
ｐは０、１または２を表し、
ｑは１、２、３、４、５または６を表し、そして
ｒは１、２または３を表す）で表される新規化合物に関する。
【０１２８】
式Ｉａで表される新規化合物の好ましい群は新規組成物に関して上記した好ましい意味に一致する。
【０１２９】
式Ｉａ中、Ｒ3 およびＲ5 が水素原子を表す化合物もまた好ましい。
【０１３０】
式Ｉａで表される特に好ましい化合物は式中、
Ｒ1 が塩素原子、臭素原子または次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 が水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルカノイル基、酸素原子により中断された炭素原子数３ないし１２のアルカノイル基；シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、炭素原子数１ないし１２のアルカンスルホニル基、フルオロ置換された炭素原子数１ないし１２のアルカンスルホニル基；フェニルスルホニル基または炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル基；次式：
【化７８】
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 が互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし６のアルコキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基またはベンゾイルオキシ基を表すか、または置換基対Ｒ2 およびＲ3 またはＲ3 およびＲ4 またはＲ4 およびＲ5 の各々が結合している炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成するが；ただしＲ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 の少なくとも１つは水素原子ではなく；Ｒ1 がヒドロキシ基、塩素原子または臭素原子を表すならば、Ｒ2 が水素原子ではなく；そしてＲ2 がメチル基またはヒドロキシ基を表すならば、Ｒ4 が水素原子およびヒドロキシ基ではなく；そしてＲ4 がさらに次式：−（ＣＨ2 ）p −ＣＯＲ9 で表される基を表すか；またはＲ3 およびＲ5 が水素原子を表すならば、Ｒ4 がさらに次式ＩＩａ：
【化７９】
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし６のアルキル基を表し、
Ｒ8 が炭素原子数１ないし１２のアルキレン基またはフェニレン基を表し、
Ｒ9 がヒドロキシ基または炭素原子数１ないし８のアルコキシ基を表し、
Ｒ10が−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし８のアルキル基またはフェニル基を表し、そして
Ｒ12およびＲ13が結合している炭素原子と一緒になって炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成する化合物である。
【０１３１】
特に好ましい式Ｉａで表される化合物は、式中
Ｒ1 が塩素原子または次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 が水素原子、炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、ベンゾイル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基；フェニルスルホニル基または炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニルスルホニル基；次式：
【化８０】
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 が互いに独立して水素原子、塩素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし６のアルコキシ基を表すが；ただしＲ2 、Ｒ3 、Ｒ4 またはＲ5 の少なくとも１つは水素原子ではなく；Ｒ1 がヒドロキシ基または塩素原子を表すならば、Ｒ2 が水素原子ではなく；そしてＲ2 がメチル基を表すならば、Ｒ4 が水素原子ではなく；Ｒ4 がさらに次式：−（ＣＨ2 ）p −ＣＯＲ9 で表される基を表すか、またはＲ3 およびＲ5 が水素原子を表すならば、Ｒ4 がさらに次式ＩＩａ：
【化８１】
Ｒ7 が水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｒ9 がヒドロキシ基または炭素原子数１ないし８のアルコキシ基を表し、
Ｒ10が−ＮＨ−を表し、
Ｒ11が炭素原子数１ないし４のアルキル基またはフェニル基を表し、
Ｒ12およびＲ13が結合している炭素原子と一緒になってシクロヘキシリデン環を形成し、
ｎが２を表し、そして
ｐが２を表す化合物である。
【０１３２】
式ＩおよびＩａ中、Ｒ’1 が水素原子を表す化合物は、H. Sterk等, Monatshefte fur Chemie 99, 2223 (1968) に記載されているように、次式ＩｂまたはＩｃ：
【化８２】
【０１３３】
式Ｉで表される新規化合物は上記の文献に記載の方法に類似の方法によりそれ自体公知の方法で製造され得る。
【０１３４】
これらの公知方法はいくぶん問題があり、そしてあるものは高価で、環境保護の観点から、全く安全なわけではない試薬、例えば二酸化セレンを必要とする。
【０１３５】
従って、本発明は、
ａ）次式ＩＩＩ：
【化８３】
【化８４】
ｂ）上記式Ｉ中、Ｒ’1 が水素原子ではない化合物を製造するために、式ＩＶで表される生成化合物をハロゲン化水素酸、オキシ硫酸のハロゲン化物、リン酸のハロゲン化物、亜リン酸のハロゲン化物、次式Ｖ：
Ｒ’1 −ＯＨ （Ｖ）
で表される酸、次式ＶＩ
Ｒ’1 −Ｙ （ＶＩ）
で表される酸ハライド、次式ＶＩＩ：
Ｒ’1 −Ｏ−Ｒ16 （ＶＩＩ）
で表されるエステル、次式ＶＩＩＩ：
Ｒ’1 −Ｏ−Ｒ’1 （ＶＩＩＩ）
で表される対称もしくは非対称無水物、または次式ＩＸ：
Ｒ11−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ （ＩＸ）
で表されるイソシアネート（上記式Ｖ、ＶＩ、ＶＩＩ、ＶＩＩＩおよびＩＸで表される化合物中のＲ’1 およびＲ11は上で定義されたものと同じ意味を表すが、ただしＲ’1 は水素原子ではなく；Ｒ16は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、そしてＹはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す）と反応させることからなる式Ｉで表される化合物の製造方法に関する。
【０１３６】
グリオキシル酸は結晶の形態で、または慣用的には、通常４０ないし６０％水性溶液の市販の形態で使用され得る。
【０１３７】
それ故に、式ＩＶで表される化合物の特に興味深い製造方法は、グリオキシル酸を４０ないし６０％、好ましくは５０％の水性グリオキシル酸の形態で使用することからなる。
【０１３８】
グリオキシル酸中に存在する水および反応の水は反応の間に蒸留により、通常は水との共沸混合物を形成する溶媒を用いて、除去される。
【０１３９】
水と共沸混合物を形成する適当な溶媒は反応に関与せず、そして典型的には炭化水素、例えばシクロヘキサンまたはメチルシクロヘキサン；芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエンまたはキシレン；ハロゲン化炭化水素、例えば１，２−ジクロロエタン；またはエーテル、例えばメチル第三ブチルエーテルを包含する。
【０１４０】
式ＩＩＩで表されるフェノールをグリオキシル酸と溶媒なしに反応させると、溶融体で式ＩＶで表される化合物が得られ、反応の水は通常の圧力下、好ましくはわずかに真空下で好都合に蒸留される。
【０１４１】
反応を高められた温度、好ましくは６０ないし１２０℃の範囲で行うことが好ましい。特に好ましい温度範囲は６０ないし９０℃である。
【０１４２】
式ＩＩＩで表されるフェノールとグリオキシル酸との反応は好ましくは触媒の存在下で行われる。
【０１４３】
適当な触媒はプロトン酸、ルイス酸、ケイ酸アルミニウム、イオン交換樹脂、ゼオライト、天然シートシリケートまたは変性シートシリケートである。
【０１４４】
適当なプロトン酸の例は無機塩または有機塩の酸、典型的には塩化水素酸、硫酸、リン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸またはカルボン酸例えば酢酸である。ｐ−トルエンスルホン酸が特に好ましい。
【０１４５】
適当なルイス酸の例は四塩化スズ、塩化アルミニウム、塩化亜鉛またはブロモトリフルオリドエーテレートである。四塩化スズおよび塩化アルミニウムが特に好ましい。
【０１４６】
適当なケイ酸アルミニウムの例は石油工業で広く使用されており、そして不定形ケイ酸アルミニウムとして知られてもいるものである。これらの化合物は約１０−３０％の一酸化ケイ素と７０−９０％の酸化アルミニウムとを含有する。特に好ましいケイ酸アルミニウムはケジェン（アクゾ）[Ketjen (Akzo)] から利用可能な登録商標ＨＡ−ＨＰＶである。
【０１４７】
適当なイオン交換樹脂の例は硫酸基をさらに有するスチレン−ジビニルベンゼン樹脂、例えばローム・アンド・ハースから入手可能な登録商標アンバーライト２００(Amberlite 200) および登録商標アンバーリスト(Amberlyst) 、またはダウ・ケミカルズから入手可能な登録商標ダウエックス５０(Dowex 50)；過フッ素化イオン交換樹脂、例えばデュポンにより販売されている登録商標ナフィオンＨ(Nafion H)；またはその他の過酸イオン交換樹脂、例えばT. Yamaguchi, Applied Catalysis,61, 1-25 (1990) またはM. Hino 等，J. Chem. Soc. Chem. Commun. 1980, 851-852 に記載されているものである。
【０１４８】
適当なゼオライトは典型的には石油化学においてクラッキング触媒として広く使用されており、そして異なる結晶構造の結晶性シリコン−アルミニウムオキシドとして知られているものである。特に好ましいゼオライトはユニオン・カーバイドから入手可能なファウジャサイツ(Faujasites)、例えばゼオライトＸ(Zeolith X) 、ゼオライトＹ(Zeolith Y) およびウルトラスタビル・ゼオライトＹ(ultrastabile Zeolith Y)；モービル石油社から入手可能なゼオライト・ベータ(Zeolith Beta)およびゼオライトＺＳＭ−１２(Zeolith ZSM-12)；ノートンから入手可能なゼオライト・モルデニット(Zeolith Mordenit)である（上記名称はいずれも登録商標）。
【０１４９】
適当な天然シートシリケートは「酸性白土」と呼ばれ、そして典型的には分解、粉砕、鉱酸での処理および工業的にカ焼されたベントナイトまたはモンモリロナイトを包含する。特に適当な天然シートシリケートはラポート・アドソーベンツ社から入手可能である登録商標ファルキャット(Fulcat)タイプのもの、例えばファルキャット２２Ａ、ファルキャット２２Ｂ、ファルキャット２０またはファルキャット４０；ラポート・アドソーベンツ社から入手可能である登録商標ファルモント(Fulmont) タイプ、例えばファルモントＸＭＰ−３またはファルモントＸＭＰ−４である。特に好ましい触媒はファルキャット２２Ｂである。その他のファルキャットタイプおよびファルモントタイプのものもまた、例えば酸中心の構成において個々のタイプの間にわずかな違いがあるだけであるので、上記好ましいクラスに属する。
【０１５０】
変性シートシリケートはまた「ピラードクレー」と呼ばれ、そして上記の天然シートシリケートから、該シリケート層の間に例えばジルコニウム、鉄、亜鉛、ニッケル、クロム、コバルトまたはマグネシウムの酸化物をさらに含むことにより誘導される。触媒のこのタイプは文献、特にJ. Clark等，J. Chem. Soc. Chem. Commun. 1989, 1353-1354 に記載されているように広く使用されるが、ごく少数の会社からしか供給されていない。特に好ましい変性シートシリケートは典型的にはコントラクト・ケミカルズから入手可能な登録商標エンビロキャット(Envirocat) ＥＰＺ−１０、エンビロキャットＥＰＺＧまたはエンビロキャットＥＰＩＣを包含する。
【０１５１】
好ましい触媒は天然シートシリケートまたは変性シートシリケートである。
式ＩＩＩで表されるフェノールとグリオキシル酸との反応をファルキャットタイプ触媒の存在下で行うのが好ましい。
触媒の量は式ＩＩＩで表されるフェノールを規準として０．０１ないし５モル％、好ましくは０．１ないし１．０モル％である。
【０１５２】
式ＩＶで表される化合物から出発して、式Ｉ中、Ｒ’1 が水素原子を表さない化合物を製造するための反応工程ｂ）の反応条件は一般に公知であり、そしてOrganikum 1986, 186-191 頁，388 頁および402-408 頁に記載されたエステル化法に従って一般に選択され得る。
【０１５３】
適当なハロゲン化水素酸は典型的には塩化水素酸、臭化水素酸またはヨウ化水素酸である。塩化水素酸が好ましい。
オキシ硫酸のハロゲン化物は典型的には塩化チオニル、塩化スルフリルまたは臭化チオニルである。塩化チオニルが好ましい。
適当なリン酸または亜リン酸のハロゲン化物は三塩化リン、三臭化リン、三ヨウ化リン、五塩化リン、ホスホロキシクロリドまたは五フッ化リンを包含する。ホスホロキシクロリドが特に好ましい。
【０１５４】
反応工程ｂ）において、オキシ硫酸のハロゲン化物、例えば塩化チオニル；式ＶＩで表される酸ハロゲン化物；式ＶＩＩで表されるエステル；式ＶＩＩＩで表される対称無水物を使用することが好ましい。
【０１５５】
反応工程ｂ）においてオキシ硫酸のハロゲン化物、例えば塩化チオニルを使用する場合、式ＩＶで表される化合物の反応を溶媒なしで、０ないし４０℃の温度範囲、好ましくは室温で行うのが好ましい。塩化チオニルは式ＩＶで表される化合物に対して通常２ないし１０倍過剰、好ましくは２ないし６倍過剰に使用される。反応は触媒、例えばジメチルホルムアミドの存在下に行われ得る。
【０１５６】
式ＶＩ（Ｒ’1 −Ｙ）中、Ｙが好ましくは塩素原子または臭素原子、最も好ましくは塩素原子を表す酸ハロゲン化物が工程ｂ）において使用されるならば、式ＩＶで表される化合物の反応を溶媒および塩基の存在下で行うのが好ましい。塩基は式ＩＶで表される化合物に対して触媒量ないし化学量論量から複数倍のモル過剰の量までの変化する量で用いることができる。反応の間に形成される塩化水素は塩基により塩化物に変換され、該塩化物は次いで濾過および／または適当な水相または固相での洗浄により除去され得、その場合には第２の水不混和性溶媒が使用され得る。生成物は濃縮または蒸発により乾燥させた有機相の残渣を再結晶することにより通常精製される。
【０１５７】
反応を行うための適当な溶媒は、炭化水素（典型的にはトルエン、キシレン、ヘキサン、ペンタンまたはその他の石油エーテル留分）、ハロゲン化炭化水素（典型的にはジ−またはトリクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン）、エーテル（例えばジエチルエーテル、ジブチルエーテルまたはテトラヒドロフラン）およびアセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドまたはＮ−メチルピロリドンを包含する。
【０１５８】
適当な塩基は第三アミン、例えばトリメチルアミン、トリエチルエミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン；ピリジン；ヒドリド（例えば水素化リチウム、ナトリウムまたはカリウム）またはエルコレート（例えばナトリウムメチレート）を包含する。
【０１５９】
式ＶＩＩ（Ｒ’1 −Ｏ−Ｒ16）中、Ｒ16が好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基、最も好ましくはメチル基またはエチル基を表すエステルが工程ｂ）で使用されるならば、式ＩＶで表される化合物の反応はアルコールと共沸混合物を形成する溶媒の存在下で行うことが好ましい。反応の間に形成するアルコール（Ｒ16−ＯＨ）は蒸留により連続的に除去され得る。
【０１６０】
アルコールと共沸混合物を形成する適当な溶媒は反応に関与せず、そして典型的には炭化水素、例えばシクロヘキサン；芳香族炭化水素、例えばベンゼンまたはトルエン；ハロゲン化炭化水素、例えば１，２−ジクロロエタン；またはエーテル、例えばメチル第三ブチルエーテルを包含する。
【０１６１】
反応は少量のプロトン酸、例えばｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸または塩化水素酸；ならびにルイス酸、例えば三フッ化ホウ素エーテレートまたは塩化アルミニウムで触媒され得る。
【０１６２】
式ＶＩＩＩ（Ｒ’1 −Ｏ−Ｒ’1 ）中、Ｒ’1 が好ましくは炭素原子数２ないし６のアルカノイル基、好ましくはアセチル基を表す対称無水物が工程ｂ）で使用されるならば、式ＩＶで表される化合物との反応はその他の溶媒を添加せずに、そして２０ないし２００℃の温度範囲、例えば式ＶＩＩＩで表される無水物の沸点、好ましくは６０ないし１８０℃で行うのが好ましい。
【０１６３】
式ＩＸ（Ｒ11−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）で表されるイソシアネートが使用されるならば、式ＩＶで表される化合物との反応はその他の溶媒を添加せずに、そして２０ないし２００℃の温度範囲、例えば式ＩＸで表されるイソシアネートの沸点、好ましくは６０ないし１８０℃で行うのが好ましい。
【０１６４】
イソシアネートとの反応は同様に触媒の存在下で行われるのが好ましい。好ましい触媒は式ＩＩＩで表されるフェノールとグリオキシル酸との反応に関して上記したものである。
【０１６５】
式ＩＩＩで表されるフェノールは公知であるか、またはそれ自体公知の方法で製造され得る。
【０１６６】
次式Ｘ：
【化８５】
【０１６７】
【実施例】
以下の実施例は本発明をより詳しく説明する。なお、以下の実施例において、部および％はそれぞれ重量部および重量％である。
実施例１：５，７−ジ第三ブチル−３−ヒドロキシ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０１），第１表〕の製造
２，４−ジ第三ブチルフェノール（９７％）２１．２ｇ（０．１０モル）、５０％水性グリオキシル酸１６．３ｇ（０．１１モル）およびｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．０５ｇ（０．２６ミリモル）の１，２−ジクロロエタン３０ｍｌ中の混合物を窒素下３．５時間、水分離器上で還流する。その後、反応混合物を真空ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣をヘキサン８０ｍｌ中に採取し、そして水で３回洗浄する。水相を分液ロートで分離し、そしてさらにヘキサン３０ｍｌで抽出する。有機相を一緒にし、硫酸マグネシウムで乾燥させ、そして真空ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣は濃い黄色樹脂の形態で分析により純粋な５，７−ジ第三ブチル−３−ヒドロキシ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０１），第１表〕２６．２３ｇ（〜１００％）である。
【０１６８】
実施例１と同様にして、化合物（１０３）、（１０４）、（１０５）、（１０９）、（１１０）および（１１１）が相当するフェノール、例えば４−第三ブチル−２−メチルフェノール、２，４−ジクロロヘキシルフェノール、２−（ヘキサデシ−２−イル）−４−メチルフェノール、３−〔３−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル〕プロピオン酸、２，４−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェノールおよび４−メチル−２−（１，１，３，３−テトラメチルブチ−１−イル）フェノールとグリオキシル酸とから製造される。化合物（１０７）を製造するために、２当量のグリオキシル酸が１，１−ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンから出発して使用される。
【０１６９】
実施例２：７−第三ブチル−３−ヒドロキシ−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０２），第１表〕の製造
２−第三ブチル−４−メチルフェノール４９．８ｇ（０．３０モル）、５０％水性グリオキシル酸４８．９ｇ（０．３３モル）およびｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．１５ｇ（０．７９ミリモル）の１，２−ジクロロエタン９０ｍｌ中の混合物を窒素下３．５時間、水分離器上で還流する。その後、反応混合物を＋５℃まで冷却し、そして濾過により沈澱物を単離し、そして冷却１，２−ジクロロエタンで洗浄する。濾過残渣を高真空下室温で乾燥させると、融点１５２−１６０℃の７−第三ブチル−３−ヒドロキシ−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０２），第１表〕５４．０ｇ（８２％）が得られる。
【０１７０】
実施例３：３−アセトキシ−５，７−ジ第三ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０６），第１表〕の製造
２，４−ジ第三ブチルフェノール（９７％）２１．２ｇ（０．１０モル）、５０％水性グリオキシル酸１６．３ｇ（０．１１モル）およびｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．０５ｇ（０．２６ミリモル）の１，２−ジクロロエタン３０ｍｌ中の混合物を窒素下３．５時間、水分離器上で還流する。その後、反応混合物を真空ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣を無水酢酸９．９ｍｌ（０．１０５モル）中に採取し、そして溶液を９０分間還流する。反応混合物を次いで室温まで冷却し、第三ブチルメチルエーテル１００ｍｌで希釈し、水で連続的に洗浄し、そして炭酸水素ナトリウム溶液で希釈する。水相を分離し、そして第三ブチルメチルエーテル５０ｍｌで抽出する。有機相を一緒にし、硫酸マグネシウムで乾燥させ、そして真空ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣に対し溶媒系ジクロロメタン／ヘキサン＝２：１を用いるシリカゲル上でのクロマトグラフィーを行うと３−アセトキシ−５，７−ジ第三ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０６），第１表〕２８．０ｇ（９２％）が濃い赤色樹脂として得られる。
【０１７１】
実施例４：７−第三ブチル−３−クロロ−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０８），第１表〕の製造
塩化チオニル２．４ｍｌ（５５．０ミリモル）中の７−第三ブチル−３−ヒドロキシ−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０２），実施例２，第１表〕２．２ｇ（１０．０ミリモル）の懸濁液に、ジメチルホルムアミドを１滴添加し、そして混合物を室温で２時間攪拌する。その後、過剰な塩化チオニルを真空ロータリーエバポレーターで留去する。残渣に対し溶媒系ジクロロメタン／ヘキサン＝１：１を用いるシリカゲル上でのクロマトグラフィーおよびメタノールからの純粋な画分の結晶化を行うと融点８１−８６℃の７−第三ブチル−３−クロロ−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０８），第１表〕０．３０ｇ（１３％）が得られる。
【０１７２】
実施例５：３−（Ｎ−メチルカルバモイルオキシ）−５−メチル−７−第三ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１１２），第１表〕の製造
７−第三ブチル−３−ヒドロキシ−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０２），実施例２〕５．５ｇ（２５．０ミリモル）、メチルイソシアネート３ｍｌ（５０．０ミリモル）およびメタンスルホン酸２滴の混合物を３時間１５分還流する。次にメチルイソシアネート３ｍｌ（５０．０ミリモル）およびメタンスルホン酸２滴を再び添加する。反応混合物をさらに１６時間還流し、ジクロロメタンで希釈し、そして水および５％水性炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄する。有機相を一緒にし、硫酸マグネシウムで乾燥させ、そして真空ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣をトルエンから再結晶させると融点１３８−１４３℃の３−（Ｎ−メチルカルバモイルオキシ）−５−メチル−７−第三ブチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１１２），第１表〕４．４５ｇ（６５％）が得られる。
【０１７３】
実施例６：３−〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−７−第三ブチル−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１１３），第１表〕の製造
７−第三ブチル−３−ヒドロキシ−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１０２），実施例２〕５．５ｇ（２５．０ミリモル）およびトリエチルアミン３．９ｍｌ（２８．０ミリモル）のジクロロメタン３０ｍｌ中の溶液をジクロロメタン１０ｍｌ中の３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルクロリド〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸７．８ｇ（２８．０ミリモル）と塩化チオニルとから製造された〕８．３２ｇ（２８．０ミリモル）の溶液に滴下して添加する。反応混合物を次に１時間還流し、次いで冷却し、そして水および５％水性炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄する。有機相を一緒にし、硫酸マグネシウムで乾燥させ、そして真空ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣をアセトニトリルから３回結晶化させと融点１５１−１５４℃の３−〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−７−第三ブチル−５−メチル−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン〔化合物（１１３），第１表〕４．６ｇ（３８％）が得られる。
【０１７４】
第１表
【表１】
実施例７：多数回押出後のポリプロピレンの安定化
イルガノックス（登録商標，Irganox ）１０７６（ｎ−オクタデシル３−〔３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル〕プロピオネート０．０２５％で予め安定化されたポリプロピレン粉末（プロファックス６５０１）１．３ｋｇ（メルトインデックス３．２ｇ／１０分，２３０℃／２．１６ｋｇで測定）にイルガノックス１０１０（ペンタエリトリトールテトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕０．０５％、ステアリン酸カルシウム０．０５％、ＤＨＴ ４Ａ（登録商標，協和化学工業株式会社，Ｍｇ4.5 Ａｌ2 （ＯＨ）13ＣＯ3 ・３．５Ｈ2 Ｏ）０．０３％および第１表の化合物０．０５％を配合する。この配合物を次にシリンダー直径２０ｍｍ、長さ４００ｍｍを有する押出機において１００ｒｐｍで、３つの加熱領域を以下の温度：２６０，２７０，２８０℃に調節して押出した。押出物を水浴を介してそれを引くことにより冷却し、次いで粒化する。この粒状物を繰り返し押し出す。３回の押出後、メルトインデックスを測定する（２３０℃／２．１６ｋｇで）。メルトインデックスにおける実質的な増加は顕著な鎖長分解、すなわち低い安定化を意味する。結果を第２表に示す。
【０１７６】
第２表
Claims (4)
- （ａ）酸化、熱または光誘導分解を受けやすい合成ポリマー、および
（ｂ）少なくとも１種の次式Ｉ：
Ｒ1 はハロゲン原子または次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 は水素原子、炭素原子数１ないし２５のアルカノイル基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイル基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基；炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイルオキシ基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
Ｒ6 は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
Ｒ7 は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
Ｒ8 は直接結合、炭素原子数１ないし１８のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
Ｒ9 はヒドロキシ基、次式：
Ｒ10は酸素原子、−ＮＨ−または次式：
Ｒ11は炭素原子数１ないし１８のアルキル基またはフェニル基を表し、
Ｒ12およびＲ13は互いに独立して水素原子、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし１２のアルキル基またはフェニル基を表すか、または
Ｒ12およびＲ13は結合している炭素原子と一緒になって、非置換または１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成し、
Ｒ14およびＲ15は互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表し、
Ｍは原子価ｒの金属カチオンを表し、
ｎは０、１または２を表し、
ｐは０、１または２を表し、
ｑは１、２、３、４、５または６を表し、そして
ｒは１、２または３を表す）で表される化合物
からなる組成物。 - 成分（ａ）および（ｂ）の他にその他の添加剤を含有する請求項１記載の組成物。
- 次式Ｉａ：
Ｒ1 はハロゲン原子または次式：−ＯＲ’1 で表される基を表し、
Ｒ’1 は水素原子、炭素原子数１ないし２５のアルカノイル基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイル基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ5 は互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニル基、非置換もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基；炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイルオキシ基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
Ｒ6 は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
Ｒ7 は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、
Ｒ8 は直接結合、炭素原子数１ないし１８のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子もしくは次式：
Ｒ9 はヒドロキシ基、次式：
Ｒ10は酸素原子、−ＮＨ−または次式：
Ｒ11は炭素原子数１ないし１８のアルキル基またはフェニル基を表し、
Ｒ12およびＲ13は互いに独立して水素原子、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし１２のアルキル基またはフェニル基を表すか、または
Ｒ12およびＲ13は結合している炭素原子と一緒になって、非置換または１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成し、
Ｒ14およびＲ15は互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表し、
Ｍは原子価ｒの金属カチオンを表し、
ｎは０、１または２を表し、
ｐは０、１または２を表し、
ｑは１、２、３、４、５または６を表し、そして
ｒは１、２または３を表す）で表される化合物。 - ａ）次式ＩＩＩ：
ｂ）上記式Ｉ中、Ｒ’1 が水素原子ではない化合物を製造するために、式ＩＶで表される生成化合物をハロゲン化水素酸、オキシ硫酸のハロゲン化物、リン酸のハロゲン化物、亜リン酸のハロゲン化物、次式Ｖ：
Ｒ’1 −ＯＨ （Ｖ）
で表される酸、次式ＶＩ
Ｒ’1 −Ｙ （ＶＩ）
で表される酸ハライド、次式ＶＩＩ：
Ｒ’1 −Ｏ−Ｒ16 （ＶＩＩ）
で表されるエステル、次式ＶＩＩＩ：
Ｒ’1 −Ｏ−Ｒ’1 （ＶＩＩＩ）
で表される対称もしくは非対称無水物、または次式ＩＸ：
Ｒ11−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ （ＩＸ）
で表されるイソシアネート（上記式Ｖ、ＶＩ、ＶＩＩ、ＶＩＩＩおよびＩＸで表される化合物中のＲ’1 およびＲ11は請求項１で定義されたものと同じ意味を表すが、ただしＲ’1 は水素原子ではなく；Ｒ16は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し、そしてＹはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す）と反応させることからなる式Ｉで表される化合物の製造方法。
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