JP3785580B2 - 多孔性の球状シリカ粒の製法 - Google Patents

多孔性の球状シリカ粒の製法 Download PDF

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Description

【0001】
本発明は、実質的に、分散媒体中で酸性シリカゾルを乳化し、乳化状態のゾルの微小滴をゲル化し、得られたゲルを乳化液及びゾルのゲル化塩基の存在下で熱処理することからなる多孔性の球状シリカ粒の製法に係る。本発明は、このようにして得られた球形状のシリカキセロゲル(たとえばオレフィン重合用触媒の如き触媒の担体として使用される)にも係る。特に、流動床において気相で触媒反応を実施するには、狭い直径分布をもつ球状粒が好適である。
【0002】
本発明の他の目的は、比表面積200〜600m2/g、孔の比容>1cm3/g及び平均孔直径80〜250Åを有するシリカキセロゲルを提供することにあり、かかるキセロゲルはオレフィン重合用触媒系のための担体として使用される。
【0003】
本発明のこれらの特徴及びさらに他の特徴は以下の記載から明らかになるであろう。
【0004】
本発明による多孔性の球状シリカ粒の製法は、本質的に下記の工程を包含してなる。
(A)水性媒体中、鉱酸又は有機酸の存在下でケイ素アルコキシドを加水分解することによってコロイドシリカ溶液を調製する工程。
(B)工程(A)の如くして調製したコロイドシリカ溶液中にヒュームドシリカを可及的に分散させる工程。
(C)炭素数8以上の高級アルコールでなる有機媒体中で前記工程(A)の純粋な又は工程(B)の複合(hybrid)シリカゾルを混合する工程。
(D)得られた混合物を乳化する工程。
(E)得られたエマルジョンを、溶解した無機塩基(たとえばアンモニア)又は好ましくは有機塩基(たとえばアミン)を含有する乳化液でなる塩基溶液と接触させることによって、純粋なシリカゾル又は複合シリカゾルをゲル化させる工程。
(F)球形粒の形状のゲルを、乳化液及びゾルのゲル化塩基の存在下で熱処理(T>50℃)し、このようにして得られた生成物を最後に仕上げ処理(たとえば、濾過、洗浄、乾燥及び酸化雰囲気下における温度>400℃でのか焼)に供する工程。
【0005】
球形状を有する粒のグラニュロメトリック(granulometric)特性(特に、平均直径及び直径分布)は多くのファクター(その内のいくつかは物理−化学特性(たとえば界面張力及び相粘度)である)に左右され、一方、他の特性は乳化技術により厳密に左右されることが知られている。
【0006】
事実、かかる操作は多数のシステムによって行われる(P.Becker,Encyclopedia of Emulsion Technology,Vol.1,p.64〜7(1983))。たとえば、機械的乳化システム(高速分散機又は撹拌機)を使用できる(たとえば、米国特許第4,089,932号、EP 0280673、米国特許第4,106,163号に開示されたもの)。これらの場合、限定された分散相/連続相系に関しては、粒のグラニュロメトリーは基本的に撹拌手段の回転速度によって制御される。
【0007】
このような方法では、スケールアップに問題がある。他の方法では、2つの相からのエマルジョンの生成は、たとえば EP 0255321、米国特許第4,469,648号、EP 0162716に開示された如く好適な幾何特性(直径、長さ)を有するノズル又は管を通して混合物を流動させることによって行われる。
【0008】
かかる方法に従って操作する場合、粒のサイズは運動の条件(レイノルズ数が<2000又は>3000であるかに応じて層流又は乱流)によって制御される。たとえば、米国特許第4,469,648号には、少なくとも1種の他の非混和性液体とブレンドした溶融状態の同じ生成物を原料とする室温において固体の球状生成物の製造が開示されている。
【0009】
各成分の混合物を好適なサイズを有する管を通過させ、つづいて、管から流出する際に、生成したエマルジョンを急激に冷却させて(急冷)、分散相をほぼ瞬時に固化させる。
【0010】
このような方法は、融点20〜40℃の有機又は無機化合物(たとえば、尿素、ワックス)、有機及び無機塩付加物(たとえばハロゲン化 Mg−アルコール付加物(たとえば MgCl2・xC2H5OH))に適用される。
【0011】
さらに他の方法(たとえばイタリー国特許出願第2743 A/91号による)では、非混和性液中におけるシリカゾルの乳化及び生成物のグラニュロメトリック制御は特殊な装置(すなわち、たとえば米国特許第4,833,060号及び同第4,835,084号に開示されたミクロフリューダイザー)において行われる。
【0012】
このような装置を使用して操作することによって、ゾル滴の超微細な分散が達成され、コアレッシングによってかかる滴は所望の直径に達するまで均一に生長する。このようにして得られた滴を、つづいてゲル化剤を含有する二次溶媒を添加することによって固化(すなわちゲル化)させる。
【0013】
ミクロフリューダイザーの特殊なアトマイゼーションチャンバーの使用に基づく方法は、特にシリカゾル中に分散されたヒュームドシリカを含む複合シリカゾルを使用する場合には、規則正しい操作の点で問題がある(アトマイザーノズルの閉塞)。
【0014】
形状以外にも、球状シリカ粒の表面積、孔容積、平均孔直径及び機械的強さの如き物理性質は、かかる生成物が触媒の分野で使用される際には基本的な役割を果たす。たとえば、シリカ担体上に支持されたエチレン重合用触媒の活性は、担体の多孔度に厳密に関連することが知られている(M.P.McDaniel,J.Polym.Sc.,Polymer Chemistry編,Vol.19,1967〜1976(1981))。
【0015】
多孔性のシリカキセロゲルの製造の分野では、従来の乾燥技術による多孔性ゲル構造体からの孔内に存在する液体(一般にH2O)の除去は孔容積の低下を生ずることが知られている。このような現象を克服又は低減させるため異なった方法も行われている。超臨界条件下において乾燥を行う古典的な方法(米国特許第4,402,769号、EP 149816、米国特許第4,419,968号)(これらは経済的理由のため大規模での粉末の製造には利用されない)以外にも、たとえば共沸混合物を形成しうる非混和性液体の存在下におけるヒドロゲルの孔からの水除去の如き技術も知られている(米国特許第3,652,216号)。
【0016】
シリカゲルの多孔性構造体の保存を目的とするさらに他の技術は、一般に、シリカゲル(特にシリカヒドロゲル)を熟成処理に供して、その構造の強化を図ることからなるものである。たとえば米国特許第4,169,926号には、オレフィン重合用触媒の担体としての使用に適するシリカキセロゲルを生成するため、水溶性多官能性アルコール(たとえば、グリコール、ポリエチレングリコール)に属する含酸素有機化合物の存在下においてシリカヒドロゲルを熱処理することが開示されている。さらに、米国特許第4,104,363号には、高多孔度シリカを生成するため、グリコール、有機エステル(たとえば酢酸アミル)又はアルカノールアミン(イタリー国特許出願第2741 A/91号)の存在下でシリカヒドロゲルを処理することが開示されている。
【0017】
本発明の目的は、ケイ素アルコキシドを原料として合成した酸性シリカゲルを高級アルコール中で処理して乳化し、つづいてアルカリ溶液と接触させることによってゾルをゲル化させることからなる、平均直径10〜100μm及び狭い直径分布を有する球状シリカ粒の製法を提供することにある。
【0018】
かかる方法は、複合シリカゾルを使用しても実施可能であり、生成されるキセロゲルの範囲、詳しくは、表面積、総多孔度、孔の平均直径及び孔直径の分布に関するミクロ構造特性が拡大されるとの利点がある。
【0019】
本発明の他の目的は、ケイ素アルコキシドから合成されたシリカゾル中に分散したシリカを含む複合シリカゾルの使用にある。
【0020】
さらに、本発明を構成する重要な点は、それぞれゾルの乳化及びゲル化で使用したアルコール及び塩基の存在下でゲルを熟成することである。このような操作により、比表面積、総多孔度、孔の平均直径の各特性の制御が可能である。
【0021】
本発明による方法では、好ましくは、ケイ素アルコキシド(たとえばテトラメトキシ−又はテトラエトキシシリケート(Si(OR)4))の従来公知の技術(たとえばイタリー国特許出願第20126 A/90号)による酸加水分解によって調製されたシリカゾルが使用される。好ましくは、H2O/TEOSのモル比の値8〜32及びpH値が1.5〜3となる量の鉱酸又は有機酸の存在下で操作して、水中でテトラエトキシシリケート(TEOS)を加水分解することによって得られたシリカゾルが使用される。さらに好ましくは、操作をH2O/TEOSのモル比の値16〜25において行い、加水分解を2.2〜2.8の範囲内の変動可能なpH値、温度≦40℃で行う。
【0022】
例として挙げると、鉱酸及び有機酸として、それぞれ塩酸、硫酸及び硝酸、及びマロン酸及びパラトルエンスルホン酸を使用できる。H2O/TEOSのモル比の値に応じて、ゾル中のシリカ濃度は75〜160g/l、好ましくは80〜120g/lの範囲内である。
【0023】
特にオレフィン重合用触媒系のための担体として使用することを目的とする多孔性生成物を得るためには、工程(A)からのコロイド溶液中に好ましくはヒュームドシリカを分散させて、複合シリカゾルを得る(工程(B))。
【0024】
「ヒュームドシリカ」とは、商品名「Aerosol」又は「Cab−O−Sil」として市販されているシリカを意味し、これらは酸素−水素火炎内での四塩化ケイ素の加水分解によって得られたものである(Temple,Patton,Pigment Handbook,Vol.1,p.167〜87,1973)。複合ゾルの調製には、比表面積50〜300m2/gを有するヒュームドシリカを使用できる。
【0025】
ゾル−ゲル技術によってもモノリシックシリカ粒を得るために当該ゾルを使用することは技術文献から公知である(たとえば米国特許第4,801,318号)。
【0026】
本発明による複合シリカゾルの使用は、低級アルコール(たとえばTEOSから合成されたシリカゾル中に含有されるエタノール)の存在下において操作が行われる際に見られる巨視的空胴をもたない均一な内部構造を有する粒を得ることを可能にする。シリカゾル(SiO2)s 中に存在するヒュームドシリカ(SiO2)p/シリカの重量又はモル比の値は0.1〜3、好ましくは0.1〜2の範囲内である。
【0027】
ヒュームドシリカは、モノリシック粒を得るための従来公知の技術(米国特許第4,801,318号)に従って、シリカゾルに直接にプレ分散される。
【0028】
好適な方法は、別個にヒュームドシリカを水中に分散させ、ついで、得られた分散液をシリカゾルと混合させることからなる。水中へのヒュームドシリカのプレ分散の操作は、好ましくは高速分散装置を使用して行われる。ローター−ステータータイプのもの(たとえばIka−Werkにより市販されているUltraturrax)は、所望の目的に特に有効である。水中におけるヒュームドシリカの濃度は80〜150g/lの範囲内である。得られた分散液の安定性を改善するため、操作は通常酸性pH条件下(pH2〜3)で行われる。シリカゾルとヒュームドシリカ分散液との混合工程は、機械的撹拌システム(たとえばパドル撹拌機)又はさらに好適には高速分散装置及び超音波プローブを使用して行われる。
【0029】
本発明に従ってグラニュロメトリック特性を発揮するシリカの球状粒を得るため、「総エチルアルコール」/「総シリカ」((EtOH)t/(SiO2)t)(ここで、「総エチルアルコール」とは、テトラエトキシオルトシリケート前駆体に由来のアルコール量及びゾルに添加されるアルコール量の両方を意味する)を制御する。
【0030】
TEOSから調製したシリカゾルを使用して操作する場合、この比の値は4である。複合ゾルを使用する場合には、(EtOH)t/(SiO2)t が3より大であることが必要である。
【0031】
既に述べたように、TEOSから合成されたシリカゾルのpH値は2〜3の範囲内である。かかるpH範囲内で複合シリカゾルの調製が行われる。
【0032】
上述の条件下で調製した純粋な又は複合ゾルを、つづいて、モノ官能性脂肪族アルコール又はその混合物(かかるアルコールは、炭素数≧8、粘度≧8cps、表面張力約30ダイン/cm及び対応する脂肪族炭化水素のものよりも大きい比誘電率(E>4)によって特徴づけられる;高比誘電率は塩基の解離を促進することにより、ゾルのゲル化の制御には有利であることが証明されている)でなる有機媒体(連続相)中にプレ混合する。本発明による方法では、たとえば、n−オクタノール、n−ノナノール、n−デカノール、n−ウンデカノール、n−ドデカノール又はその異性体(たとえばエチルヘキシルアルコール)が使用できる。これらアルコールの混合物又は異性体混合物でなる工業製品も使用できる。当該方法は、好ましくはn−デカノール又はその類似体(たとえばエチルヘキサノール)を使用して行われる。
【0033】
たとえば機械的に撹拌した反応器において操作することによってシリカゾルを有機媒体と混合させる。この場合、撹拌機は分散相(ゾル)及び連続相(乳化液)から均質な混合物が得られることを可能にするものでなければならない。
【0034】
「連続相」/「分散相」の容積比の値は2〜5、好ましくは2.5〜3.5の範囲内であり、大きい比の値であっても生成物の特性をあまり変化させない。
【0035】
本発明による乳化剤系を使用する混合工程は温度5〜50℃(この場合、下限温度しきい値は乳化液の物理特性(融点)に左右される)で行われる。かかる工程は、好ましくは温度20〜40℃で行われる。混合の際の温度(系の粘度及びエマルジョンの成分の相互溶解に影響を有する)は、生成物のグラニュロメトリック特性を調節するパラメーターであり、粒子サイズは混合温度の上昇に伴って増大する。
【0036】
エマルジョンの各成分の混合物を好適な幾何特性(直径、長さ)を有する管を通過させる。かかる操作は、従来公知の技術(米国特許第4,469,648号)に従って、好ましくは混合反応器を加圧することによって実施される。
【0037】
生成物のグラニュロメトリック特性は管を通して流動させる間におけるエマルジョンの運動のタイプによって調節される。本発明による乳化に混合物を使用し、層流条件(すなわちレイノルズ数<2000)下で操作することにより、粒のサイズは主に管内のエマルジョンの線流速によって調節される。層流運動条件下では、線流速は通常0.3〜3m/秒の範囲内である。かかる運動条件下において生成物の粒のグラニュロメトリーは10〜100μmとなる。より好適には、該工程を線流速1.2〜1.9m/秒で行い、この場合、平均直径20〜70μm及び良好なサイズ分布を有する粒が得られる。
【0038】
管の内径はシリカの生産能力を調節する。例として述べれば、生産能力2Kg/時間以下の実験室的規模で操作する場合、内径1.8〜5mm、長さ/直径の比>200をもつ管が好適である。
【0039】
管の幾何特性及び界面(分散相/連続相)張力が同一である場合、線流速の増大は粒子サイズを低下させる。同じ線流速条件下では、生成物のグラニュロメトリーはゾルの化学組成に左右される。たとえばH2O/TEOSのモル比=25で合成されたシリカゾルを使用して操作することにより、H2O/TEOSのモル比=16で特徴づけられるシリカゾルから得られるよりも大きい直径を有するSiO2 粒が得られる。
【0040】
シリカゾルに適用されるように、管を通しての流動による乳化に関しては、高級アルコールの使用が特に有利である。
【0041】
管から流出後、エマルジョンを塩基溶液と接触させてシリカゾルの滴を固化させる(すなわちゲル化)。かかる溶液は、通常、ゾルの乳化で使用した液及びこの液中に溶解する有機塩基でなる。環状アミン(たとえばシクロヘキシルアミン)又は炭素数>10の脂肪族アミン(たとえばオクタデシルアミン)又は同様の工業製品(たとえばPrimene(Rohm and Haas))は、ゾルのゲル化を良好に制御し、球状ゲル粒の高い安定化を示すため、炭素数の小さい脂肪族アミン、又はより親水性のもの(たとえばアルカノールアミン)よりも好適である。
【0042】
エマルジョンに対するゲル化溶液の容積比の値は0.1〜1、好ましくは0.25〜0.5の範囲内である。ゲル化溶液中に含有される有機塩基の量は、上述の如くゾルの滴を高速でゲル化させるため及び同時に粒の凝集を防止するため二重の目的により、シリカゾル中に含有される酸を化学量論的に中和するに必要な量の少なくとも10倍である。
【0043】
ゲル化工程は、乳化管の出口の近くでアルカリ化用溶液の有効な循環が達成されるように機械的に撹拌状態に維持しながら、エマルジョンをゲル化溶液に供給することによって実施される。エマルジョンの供給は、好ましくは、管の閉塞の問題が生じないために管がゲル化液中に浸漬しないように維持することにより行われる。
【0044】
ゲル化温度は5〜50℃の範囲内である。操作は、通常、乳化の温度条件下で実施される。終了後、シリカゲルミクロ球状体の分散液を15〜30分間撹拌下に維持して完全にゲル化させる。
【0045】
つづいて、このようにして得られたシリカゲルを、乳化液及び有機塩基の存在下、温度50〜140℃での熟成に供する。かかる操作を行う前に、たとえば沈降によって、シリカ濃度が50〜100g/lの範囲内となるまで生成物を濃縮する。熟成時間は2〜16時間の範囲内である。一般に、温度の増大及びある限度までの熟成時間の増大は、比表面積の低下及び平均孔直径の増大に影響を及ぼす。この工程は、好ましくは温度70〜95℃、4時間までのより長い熟成時間で行われる。
【0046】
熟成が行われる媒体のアルカリ度に加えて熱の作用はゲル構造を強化し、これにより、つづく乾燥工程でのゲルの多孔性構造体の破壊が防止される。上述の如き条件下で操作することによって、通常、多孔度>1cm3/g、比表面積200〜600m2/g及び平均孔直径80〜250Åによって特徴づけられるキセロゲルが得られる。
【0047】
熱処理の終了後、たとえば濾過によって生成物を分離し、繰返しエタノールで洗浄して大部分のデカノールを除去し、塩基をゲル化する。ついで、生成物を乾燥させる。かかる工程は必ずしも重要ではない。たとえば減圧下、温度30〜40℃、又は大気圧下で行われる。
【0048】
ついで、生成物を酸化雰囲気下(たとえば空気中)、温度>400℃でのか焼に供する。かかるか焼は、好ましくは温度500〜550℃で行われる。か焼工程は制御された条件下で行われる。ゲルに吸着された有機残渣(デカノール、アミン)を徐々に分解させるために、加熱速度を<200℃/時間に維持し、好ましくは50〜100℃/時間の範囲内に維持する。かかる温度における滞留時間は数時間ないし20時間の範囲内である。
【0049】
本発明の方法に従って得られたキセロゲルの特性を評価するために、生成物を加熱速度50℃/時間で500℃又は550℃において10時間か焼する。
【0050】
本発明によるキセロゲルを、孔の比容(V)、比表面積(S)及び平均孔直径(Dp)の点で評価する。比表面積については B.E.T.(Branauer,Emmet and Teller)法に従って測定し、孔の比容について Dollimoreheal法によって測定した。これらの方法はいずれも公知である。平均孔直径(Åで表示される)については公知の下記の式に従って算定した。
Dp(Å)=[4V(cm3/g)/S(m2/g)]・104
【0051】
粒の平均サイズは、Malvern アナライザー シリーズ 2600C(Instrument Malvern)によって測定し、中間の直径D(50)(積算サイズ分布ラインにおける縦座標の半分の値における直径の値)で表示する。縦座標90%における直径D(90)/縦座標10%における直径D(10)の比(D(90)/D(10))を粒の単分散度の指標とした。
【0052】
上述の方法によって得られたキセロゲルは球形状を有し、粒の平均直径D(50)10〜100μm、単分散度D(90)/D(10)≦2.5を有するシリカ粉末でなる。当該キセロゲルは、比表面積(S)200〜600m2/g、孔の比容(V)>1cm3/g及び平均孔直径(Dp)80〜250Åによって特徴づけられる。
【0053】
本発明に従って生成された物質は、中でも、触媒系(たとえばオレフィン重合用のもの)の担体として使用される。
【0054】
以下の実施例は単に説明のためのもであって、本発明を限定するものではない。
【0055】
【実施例1】
(A)シリカゾルの調製
TEOS(テトラエトキシオルトシリケート)683ml及び0.01N HCl 864ml(TEOS/H2Oのモル比=1/16及びTEOS/HClのモル比=333/1)を混合し、混合物を、反応温度が30℃を越えないように外部冷却浴によって温度を制御しながら、単相溶液を得るに必要な時間(約30分間)機械的撹拌下に維持した。透明な溶液(pH2.2〜2.4)を温度約25℃でさらに1時間撹拌下に維持し、使用時まで温度5℃で保存した。シリカ濃度は約116g/lである。
【0056】
(B)ゾルの乳化
サーモスタットでなる温度制御装置、窒素加圧システム、速度制御レシオモーターによって駆動される機械式タービン撹拌機(6個のラジアルブレードを有する)、内部浸漬脚(内径5mm)、反応体充填用装置及び排出出口を具備する容積1リットルの加圧実験室用反応器(Buchi)で当該工程を実施した。浸漬脚をボール弁を介して乳化管(内径3mm、長さ500cm)(速度制御タービン撹拌機(6個の傾斜したラジアルブレードを有する)を具備する容積1リットルの円筒状ガラス反応器(内径100mm)にエマルジョンを充填する)に接続した。
【0057】
Buchi反応器に、上記(A)に開示する如くして調製したゾル 100ml及び1−デカノール 300mlを充填し、ついで、反応器を20℃で恒温とし、内容物を撹拌(300rpm)下に5分間維持した。反応器を窒素で加圧し(3バール以下)、プレエマルジョンを任意に設けたボール弁を介して排出し、乳化管を介して、温度20℃で撹拌(300rpm)下に維持したシクロヘキシルアミン(15ml)の1−デカノール(150ml)溶液でなるゾルのゲル化浴に供給した。ゲル化反応器に27秒間でエマルジョン300mlを供給した。管を通過するエマルジョン流の線速度は1.60m/秒である。このようにして得られたシリカゲルを30分間撹拌下に維持し、濾過し、EtOHで洗浄し、減圧下(0.1バール)30℃で乾燥させた。生成物のグラニュロメトリック分析では、該生成物が平均直径D(50)=30μm、D(90)/D(10)の比の値=2.3を有する球状粒でなることを示した。
【0058】
【実施例2】
実施例1に関連して、pH2.7で合成したシリカゾルを使用した。TEOS 114ml(0.5モル)を脱塩H2O 142ml及び0.01N HCl溶液5mlと混合した。これらの点を除いて、実施例1と同様に操作を行った。
【0059】
線速度1.6m/秒で操作することによって、平均直径D(50)=33μm、D(90)/D(10)の比の値=2.3を有するシリカの球状粒を得た。
【0060】
【実施例3】
実施例1に関連して、TEOS/H2O=1/24及びTEOS/HCl=214/1のモル組成及びpH2.2を有するシリカゾルを使用した。シリカ濃度は約90g/lである。
【0061】
実施例1と同じ条件下、線速度1.35m/秒で操作することによって、平均直径D(50)=37μm及びD(90)/D(10)の比の値=2.3を有する球状粒を得た。
【0062】
【実施例4〜8】
実施例1に対して、異なる反応器圧力条件下で操作することにより、管を通過するエマルジョン流の乳化温度(T)及び線速度(V)を変更した。ゲル化温度については20℃に維持した。得られた実験結果を表1に示す。
【0063】
【表1】
Figure 0003785580
【0064】
管内における線速度の上昇は粒の直径の低下を生ずる。線速度が同一である場合(実施例2及び6)、乳化温度の上昇は平均粒直径の増大を生ずる。
【0065】
【実施例9〜13】
上記実施例に関連して、乳化管の幾何特性(すなわち長さ(L)及び内径(φ1))を変更した。なお、実施例1に開示のものと同じシリカゾルを使用した。
【0066】
操作法(乳化温度、エマルジョン成分間の比及びゾルのゲル化)は実施例1と同様である。得られた実験結果を表2に示す。
【0067】
【表2】
Figure 0003785580
【0068】
【実施例14〜15】
実施例1と同じ操作を、1−デカノールの代わりに2−エチルヘキサノールを使用して実施した。得られた実験結果を表3に示す。
【0069】
【表3】
Figure 0003785580
【0070】
1−デカノール(実施例1)に対して、2−エチル−1−ヘキサノールはより大きい平均直径を有する粒を生成する。
【0071】
【実施例16】
複合シリカゾルを使用して実施例1の操作を行った。
(1)ヒュームドシリカのプレ分散
温度制御装置及び高速分散装置タイプの撹拌機(Ultraturrax T50,Ika−Werk)を具備する容積1リットルのガラス反応器に、脱塩水500mlを充填し、つづいて撹拌(6000rpm)しながら、30分間で少量ずつヒュームドシリカ(Cab−O−Sil 200)60gを添加した。終了後、撹拌をさらに15分間続けた。分散操作の間、温度を20〜25℃に維持した。
【0072】
(2)複合シリカゾルの調製
機械的に撹拌しながら、20℃において、実施例1のゾル 100mlを予め調製したヒュームドシリカ分散液20mlと混合した。得られた複合シリカゾルは、ヒュームドシリカ/ゾルシリカの重量比[(SiO2)p/SiO2)s]の値=0.2、エチルアルコール/総シリカのモル比の値[EtOH/(SiO2)t]=3.3の組成を有する。ゾルにおけるシリカ濃度は約116g/lである。
【0073】
(3)1−デカノール中における複合ゾルの乳化
この工程については実施例1に記載の如く実施した。反応器を3.5バールに加圧し、線速度1.48m/秒で操作することによって、直径D(50)=31μm及び比D(90)/D(10)=1.9を有する球状粒を得た。
【0074】
【実施例17】
実施例16に対して、重量比(SiO2)p/SiO2)s を0.2から0.3に変更した。実施例16の如く反応器を3.5バールに加圧することによって、系の高速度のため、管内におけるエマルジョンの線速度は1.02m/秒となり、500μmより大きい直径を有する非常に多分散した球状粒が得られた。
【0075】
【実施例18】
実施例17に対して、モル比EtOH/(SiO2)t を変更した。実施例16で使用したゾル 100mlをヒュームドシリカ分散液(実施例16の工程(1))30ml及びエタノール 30mlと混合した。このようにして得られた混合物の組成は次のとおりであった。
重量比(SiO2)p/SiO2)sの値=0.3
モル比EtOH/(SiO2)tの値=5.1
【0076】
反応器を3.5バールに加圧し、線速度1.57m/秒で操作することによって、平均直径D(50)=26μm及び比D(90)/D(10)=2.5を有する球状粒を得た。
【0077】
【実施例19】
実施例16に対して、比(SiO2)p/SiO2)s を0.2から0.5に変更すると共に、モル比EtOH/(SiO2)tの値=5.6を維持した。
【0078】
反応器を3.5バールに加圧し、線速度1.59m/秒で操作することによって、平均直径D(50)=26μm及び比D(90)/D(10)=2.5を有する球状粒を得た。
【0079】
【実施例20】
実施例1で得られたシリカゲルをデカノール及びシクロヘキシルアミンの存在下における熟成に供した。
【0080】
実施例1を参照して、ゾルのゲル化後、得られたゲルを沈降させた。ついで、沈降した物質(SiO2、約90g/l)を密閉した反応器において95℃に16時間維持した。冷却後、生成物を濾取し、無水エチルアルコールで洗浄し、減圧(0.1バール)下30℃で乾燥させ、最後に加熱速度を50℃/時間で制御しながら、空気中、温度550℃で10時間焼成した。
【0081】
得られたキセロゲルは次の特性を有していた。
比表面積=330m2/g
孔の比容=1.19cm3/g
孔の平均直径=144Å
【0082】
【実施例21】
実施例20に対して、ゲルの熟成を70℃で行ったところ、比表面積=578m2/g、孔の比容=1.56cm3/g、孔の平均直径=108Åを有するキセロゲルを得た。
【0083】
【実施例22】
実施例20に対して、実施例2のシリカゲルを使用したところ、比表面積=400m2/g、孔の比容=1.46cm3/g、孔の平均直径=146Åを有するキセロゲルを得た。
【0084】
【実施例23】
実施例15で得られたシリカゲルを、エチルヘキシルアルコール及びシクロヘキシルアミンの存在下、温度70℃、16時間での熟成に供した。500℃で10時間焼成したキセロゲルは、比表面積=545m2/g、孔の比容=1.36cm3/g、孔の平均直径=100Åを示した。
【0085】
【実施例24】
実施例16の複合シリカゲルを80℃、16時間の熟成に供した。ついで、実施例20に記載の如く操作を行った。得られたキセロゲルは、比表面積=459m2/g、孔の比容=1.33cm3/g、及び孔の平均直径=115Åを示した。
【0086】
【実施例25】
実施例17の複合シリカゲルを90℃、16時間の熟成に供した。ついで、実施例20に記載の如く操作を行った。得られたキセロゲルは、比表面積=425m2/g、孔の比容=1.33cm3/g、及び孔の平均直径=124Åを示した。
【0087】
【実施例26】
実施例19の複合シリカゲルを85℃、16時間の熟成に供した。ついで、実施例20に記載の如く操作を行った。得られたキセロゲルは、比表面積=415m2/g、孔の比容=1.52cm3/g、及び孔の平均直径=146Åを示した。
【0088】
【比較例】
(1)生成物の特性に対する熟成の影響
実施例3に記載の操作に従って調製したシリカゲルを使用した。ゲル化後、生成物を2分し、一方をEtOHで洗浄し、減圧(0.1バール)下、30℃で乾燥し、500℃で10時間焼成した(加熱速度50℃/時間)。得られた生成物は、比表面積=539m2/g、孔の比容=0.54cm3/g、孔の平均直径=40Åを示した。
【0089】
他方のゲルをゲル化母液中、95℃、8時間の熟成に供した。上述の如くして回収し、500℃で10時間焼成した生成物は、比表面積=421m2/g、孔の比容=1.30cm3/g、孔の平均直径=123Åを示した。
【0090】
(2)制御された幾何特性を有する管内を通過させることによる乳化
実施例1を参照して、一次エマルジョンを反応器の底からゲル化浴に直接排出した。実施例1の生成物よりも明らかに劣る平均直径=24μm、グラニュロメトリック分布、D(90)/D(10)=7.7の粒が得られた。
【0091】
(3)本発明のものとは異なる化学−物理特性を有する溶媒の使用
(a)実施例1のものと同じ装置及びゾルを使用することにより、n−ヘキサン中でシリカゾルを乳化させた。ゲル化浴としてシクロヘキシルアミンのn−ヘキサン溶液を使用した。実施例1と同様にして流速1.5m/秒で操作することにより、極めて不規則な形態を有し、かつ凝集した粒が得られた。
(b)乳化及びゾルのゲル化の両工程において、ヘキサン(20℃における粘度=0.4Ps)の代わりにワセリン油(20℃における粘度=20cPs)を使用した。流速1.38m/秒で操作したところ、得られた粒の形態は極めて不規則なものであった。
(c)異なる粘度を有するヘキサン/ワセリンブレンドを使用する場合にも同様の結果であった。
(d)パラフィン系炭化水素(上記(a)、(b)及び(c))の代わりに、乳化及びゾルのゲル化の両工程でジメチルカーボネートを使用した。流速1.38m/秒で操作することにより、極めて不規則な形態を有しかつ凝集した粒が得られた。
(e)実施例16に記載の如くして調製した複合ゾルを使用して前記(c)の操作を行った。不規則な形状の粒の凝集生成物が得られた。

Claims (7)

  1. 多孔性の球状シリカ粒を製造する方法において、(A)水性媒体中、鉱酸又は有機酸の存在下でケイ素アルコキシドを加水分解することによってコロイドシリカ溶液を調製し、( C)得られたコロイド溶液を、炭素数8以上の高級アルコールでなる有機媒体中で混合し、(D)得られた混合物を乳化し、(E)得られたエマルジョンを乳化液の塩基溶液と接触させることによって、シリカゾルをゲル化させ、(F)得られたゲルを乳化液及びゾルのゲル化塩基の存在下で熱処理する工程を包含してなる、多孔性の球状シリカ粒の製法。
  2. 多孔性の球状シリカ粒を製造する方法において、 ( A)水性媒体中、鉱酸又は有機酸の存在下でケイ素アルコキシドを加水分解することによって、コロイドシリカ溶液を調製し、 ( B)得られたコロイドシリカ溶液中にヒュームドシリカを分散させ、 ( C)得られた複合シリカゾルを、炭素数8以上の高級アルコールでなる有機媒体中で混合し、 ( D)得られた混合物を乳化し、 ( E)得られたエマルジョンを、乳化液の塩基溶液と接触させることによって、複合シリカゾルをゲル化させ、 ( F)得られたゲルを、乳化液及びゾルのゲル化塩基の存在下で熱処理する工程を包含してなる、多孔性の球状シリカ粒の製法。
  3. 工程(B)において、工程(A)で得られたコロイドシリカ溶液中に、比表面積50〜 300 2 /gを有するヒュームドシリカを分散させる、請求項2記載の多孔性の球状シリカ粒の製法。
  4. 工程(C)の混合物を、n−オクタノール、n−ノナノール、n−デカノール、n−ウンデカノール、n−ドデカノール及びこれらの異性体の中から選ばれるアルコール又はアルコール混合物を使用して調製する、請求項1又は2記載の多孔性の球状シリカ粒の製法。
  5. n−デカノール又はその類似体のエチルヘキサノールを使用する、請求項4記載の多孔性の球状シリカ粒の製法。
  6. 工程(E)によるシリカゾルのゲル化を、得られたエマルジョンと、溶解した無機塩基を含有する乳化液でなる塩基溶液とを接触させることによって行う、請求項1又は2記載の多孔性の球状シリカ粒の製法。
  7. 工程(E)によるシリカゾルのゲル化を、得られたエマルジョンと、溶解した有機塩基を含有する乳化液でなる塩基溶液とを接触させることによって行う、請求項1又は2記載の多孔性の球状シリカ粒の製法。
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Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19530031A1 (de) * 1995-08-16 1997-02-20 Merck Patent Gmbh Poröse monodisperse SiO¶2¶-Partikel
EP0963345A1 (en) * 1997-02-24 1999-12-15 Dow Corning Corporation Hydrophobic silica gels with reduced surface area
IT1303713B1 (it) * 1998-11-06 2001-02-23 Enichem Spa Processo per la preparazione di catalizzatori a base di zeolite tipomfi.
KR100392194B1 (ko) * 2000-07-19 2003-07-22 이종협 세라믹 중공미세구의 제조방법
US7101523B2 (en) 2001-09-25 2006-09-05 Mitsubishi Chemical Corporation Silica
US20030157011A1 (en) * 2001-11-27 2003-08-21 Yutaka Mori Silica and method for producing the same
US20040091411A1 (en) * 2002-11-08 2004-05-13 Bijan Modrek-Najafabadi High surface area, high porosity silica packing with narrow particle and pore diameter distribution and methods of making same
DE10317066A1 (de) * 2003-04-14 2004-11-11 Degussa Ag Verfahren zur Herstellung von Metalloxid- und Metalloidoxid-Dispersionen
KR100708882B1 (ko) * 2003-04-15 2007-04-17 (주) 보람케메탈 흄드 실리카를 이용한 나노 실리카 결정 분말의 제조방법
US20100003182A1 (en) * 2006-06-02 2010-01-07 Lorenzo Costa Pellitized silica
JP2010519117A (ja) * 2007-02-22 2010-06-03 セントラル クイーンズランド ユニヴァーシティ 鉄道用操舵台車
JP5498377B2 (ja) * 2007-06-04 2014-05-21 オールテック・アソシエイツ・インコーポレーテッド シリカ粒子及びその製造方法並びにその使用方法
CA2755648A1 (en) * 2009-03-16 2010-09-23 Basf Se Catalyst carrier based on silica gel
DE102009053784A1 (de) * 2009-11-19 2011-05-26 BSH Bosch und Siemens Hausgeräte GmbH Verfahren zur Herstellung eines porösen SiO2-Xerogels mit charakteristischer Porengröße durch ein Bottom-Up-Verfahren über eine Vorstufe mit organischen Festkörperskelettstützen
US8197782B2 (en) 2010-02-08 2012-06-12 Momentive Performance Materials Method for making high purity metal oxide particles and materials made thereof
US9249028B2 (en) 2010-02-08 2016-02-02 Momentive Performance Materials Inc. Method for making high purity metal oxide particles and materials made thereof
CN101913611B (zh) * 2010-03-17 2012-05-02 上海大学 一种简便的制备尺寸可控的单分散的纳米二氧化硅颗粒的方法
US9216909B2 (en) 2010-10-25 2015-12-22 Tokuyama Corporation Aerogel and method for manufacture thereof
US9199853B2 (en) 2011-04-28 2015-12-01 Tokuyama Corporation Metal oxide powder and method for manufacture thereof
WO2017164184A1 (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 日立化成株式会社 ゾル組成物、エアロゲル複合体、エアロゲル複合体付き支持部材及び断熱材
WO2017170498A1 (ja) * 2016-03-29 2017-10-05 日立化成株式会社 エアロゲル複合体、エアロゲル複合体付き支持部材及び断熱材
CN108883943A (zh) * 2016-03-29 2018-11-23 日立化成株式会社 气凝胶复合体粉末
JP6910252B2 (ja) * 2017-09-05 2021-07-28 昭和電工株式会社 シリカ担体の製造方法
JP2019064892A (ja) * 2017-10-04 2019-04-25 日立化成株式会社 エアロゲル複合体パウダー及び撥水材
JP7459799B2 (ja) 2018-11-02 2024-04-02 株式会社レゾナック アルコールの製造方法及びアルコール製造用触媒
EP3744684A1 (en) * 2019-05-29 2020-12-02 Nouryon Chemicals International B.V. Porous silica particles
EP3744683A1 (en) * 2019-05-29 2020-12-02 Nouryon Chemicals International B.V. Porous silica particles
US11447633B2 (en) * 2020-04-27 2022-09-20 Taiwan Aerogel Technology Material Co., Ltd. Method for producing a cold resisting and heat insulating composite glue composed of a hydrophobic aerogel and the related product thereof
EP4279455A1 (en) * 2021-01-14 2023-11-22 Tokuyama Corporation Porous spherical silica and method for producing same

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6385012A (ja) * 1986-09-29 1988-04-15 Chisso Corp 珪酸質球状粒子の製造方法
JP2528315B2 (ja) * 1987-05-22 1996-08-28 扶桑化学工業株式会社 高純度球状シリカの製造方法
SE459731B (sv) * 1987-06-29 1989-07-31 Eka Nobel Ab Silikapartiklar, foerfarande foer deras framstaellning samt anvaendning av partiklarna
JPH02196015A (ja) * 1989-01-25 1990-08-02 Chisso Corp シリカの製造方法
IT1251939B (it) * 1991-10-17 1995-05-27 Donegani Guido Ist Procedimento per la preparazione di materiali a base di ossidi inorganici con granulometria monodispersa e materiali cosi ottenuti.
US5250096A (en) * 1992-04-07 1993-10-05 At&T Bell Laboratories Sol-gel method of making multicomponent glass

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DE69412426T2 (de) 1999-02-18
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