JP3768215B2 - 磁気ヘッドトラッキング制御方法 - Google Patents
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Description
本発明は、磁気ヘッドトラッキング制御方法に係り、特に光学的に磁気ヘッド
のトラッキング制御ができる磁気ヘッドトラッキング用光学凹部を設けた磁気ヘ
ッドトラッキング制御方法に関するものである。
のトラッキング制御ができる磁気ヘッドトラッキング用光学凹部を設けた磁気ヘ
ッドトラッキング制御方法に関するものである。
近年、パーソナルコンピユータやワードプロセツサなどの著しい普及に伴い、
それらに使用する外部記憶装置の小型、大容量化がさらに要求される。これらの
要求に対応するため、フレキシブル磁気デイスクにおいて、それのドーナツ状記
録帯域の最内周にリフアレンストラックを形成し、そのリフアレンストラックか
ら半径方向外側に向けて所定の間隔離れ、かつ前記リフアレンストラックと同心
円状の磁気ヘッドトラッキング用光学凹部をリング状に多数形成し、各リング状
磁気ヘッドトラッキング用光学凹部の間をデータトラックとしたものが提案され
ている（例えば特許文献１参照）。
それらに使用する外部記憶装置の小型、大容量化がさらに要求される。これらの
要求に対応するため、フレキシブル磁気デイスクにおいて、それのドーナツ状記
録帯域の最内周にリフアレンストラックを形成し、そのリフアレンストラックか
ら半径方向外側に向けて所定の間隔離れ、かつ前記リフアレンストラックと同心
円状の磁気ヘッドトラッキング用光学凹部をリング状に多数形成し、各リング状
磁気ヘッドトラッキング用光学凹部の間をデータトラックとしたものが提案され
ている（例えば特許文献１参照）。
図２７ならびに図２８は、この種磁気デイスクを説明するための拡大断面図な
らびに平面図である。
らびに平面図である。
これらの図に示すように、ベースフイルム１００の表面には磁性層１０１が設
けられており、この磁性層１０１にはトラッキングサーボ用の溝１０２が磁気デ
イスクの回転方向に延びるように、例えばレーザ加工などの手段によって形成さ
れている。この溝１０２と溝１０２との間がデータトラック１０３となる（図２
８参照）。
けられており、この磁性層１０１にはトラッキングサーボ用の溝１０２が磁気デ
イスクの回転方向に延びるように、例えばレーザ加工などの手段によって形成さ
れている。この溝１０２と溝１０２との間がデータトラック１０３となる（図２
８参照）。
一方、磁気記録再生装置の方には、前記磁気デイスクの表面にトラッキングサ
ーボ用の光線１０４を出射する発光素子（図示せず）と、磁気デイスク表面から
の反射光１０５を受光する受光素子１０６ａ，１０６ｂ，１０６ｃ，１０６ｄ（
図２８参照）とを備えている。
ーボ用の光線１０４を出射する発光素子（図示せず）と、磁気デイスク表面から
の反射光１０５を受光する受光素子１０６ａ，１０６ｂ，１０６ｃ，１０６ｄ（
図２８参照）とを備えている。
そして前記発光素子から出射された光線１０４を磁気デイスク表面に当てて、
それからの反射光１０５を受光素子１０６ａ，１０６ｂ，１０６ｃ，１０６ｄで
受光する。
それからの反射光１０５を受光素子１０６ａ，１０６ｂ，１０６ｃ，１０６ｄで
受光する。
前述のように磁性層１０１にはトラッキングサーボ用の溝１０２が形成されて
いるため、データトラック１０３上で反射する光強度と溝１０２上で反射する光
強度は異なる。図２８に示す例では受光素子１０６ａと１０６ｂの合計出力値と
、受光素子１０６ｃと１０６ｄの合計出力値とを常に比較して、両者の出力値が
等しくなるように磁気ヘッド（図示せず）のトラッキングサーボが行なわれる。
特開平２−１８７９６９号公報
いるため、データトラック１０３上で反射する光強度と溝１０２上で反射する光
強度は異なる。図２８に示す例では受光素子１０６ａと１０６ｂの合計出力値と
、受光素子１０６ｃと１０６ｄの合計出力値とを常に比較して、両者の出力値が
等しくなるように磁気ヘッド（図示せず）のトラッキングサーボが行なわれる。
このように情報を記録、再生する磁性層１０１側にトラッキングサーボ用溝１
０２が多数形成されて表面が凹凸になっていると、その磁性層１０１上に塵埃や
水分、油分が付着し易くなり、情報を記録、再生する際に磁気ヘッドとの間にス
ペーシングロスが形成され、良好な情報の記録、再生が行なわれないという欠点
があった。
０２が多数形成されて表面が凹凸になっていると、その磁性層１０１上に塵埃や
水分、油分が付着し易くなり、情報を記録、再生する際に磁気ヘッドとの間にス
ペーシングロスが形成され、良好な情報の記録、再生が行なわれないという欠点
があった。
本発明の目的は、前述したような従来技術の問題点を解消し、トラッキング用
光学凹部を多数設けても、良好な情報の記録、再生が行なえる磁気ヘッドトラッ
キング制御方法を提供することにある。
光学凹部を多数設けても、良好な情報の記録、再生が行なえる磁気ヘッドトラッ
キング制御方法を提供することにある。
前記目的を達成するために、第１の本発明は、非磁性体からなる基体と、その基体の一方の面に磁性層を形成し、他方の面にトラッキング用光学凹部を設ける層を形成して、そのトラッキング用光学凹部を設ける層に、磁気ヘッドの走行方向に延びる磁気ヘッドトラッキング用光学凹部と、その磁気ヘッドトラッキング用光学凹部と隣の磁気ヘッドトラッキング用光学凹部との間に設けられた凹部のない平面部とを設け、前記トラッキング用光学凹部を設けた層が、中心波長が８８０ｎｍの光を表面に対して入射角２０度で照射した際の、周波数が１００Ｈｚを越えて２ＫＨｚ未満の領域における光反射率の変動が４ｄ以下に規制された磁気記録媒体の前記磁性層と対向するように磁気ヘッドを配置し、前記トラッキング用光学凹部を設けた層と対向するように発光素子と受光素子群を有する光デイテクタを配置して、その光デイテクタの受光素子群は複数の受光素子を有し、前記磁気ヘッドトラッキング用光学凹部ならびに平面部に対して前記発光素子からの光を照射し、その反射光を前記各受光素子で受光して得られた第１の出力波形と第２の出力波形に基づいてサーボ信号波形を生成し、そのサーボ信号波形に基づいて前記磁性層と対向している磁気ヘッドのトラッキング制御をするものである。
第２の本発明は、前記第１の本発明記載の磁気ヘッドトラッキング制御方法において、
前記光デイテクタは、前記トラッキング用光学凹部を設けた層と対向した開口を有し、当該開口内に、当該層に対して照射するように配置された発光素子と、この照射された光の反射光を受光する受光素子を有することを特徴とするものである。
第２の本発明は、前記第１の本発明記載の磁気ヘッドトラッキング制御方法において、
前記光デイテクタは、前記トラッキング用光学凹部を設けた層と対向した開口を有し、当該開口内に、当該層に対して照射するように配置された発光素子と、この照射された光の反射光を受光する受光素子を有することを特徴とするものである。
前記目的を達成するために、第３の本発明は、非磁性体からなる基体と、その基体の一方の面に磁性層を形成し、他方の面にトラッキング用光学凹部を設ける層を形成して、そのトラッキング用光学凹部を設ける層に、磁気ヘッドの走行方向に延びる磁気ヘッドトラッキング用光学凹部と、その磁気ヘッドトラッキング用光学凹部と隣の磁気ヘッドトラッキング用光学凹部との間に設けられた凹部のない平面部とを設け、前記トラッキング用光学凹部を設けた層が、中心波長が８８０ｎｍの光を表面に対して入射角２０度で照射した際の、周波数が１００Ｈｚを越えて２ＫＨｚ未満の領域における光反射率の変動が４ｄ以下に規制された磁気記録媒体の前記磁性層と対向するように磁気ヘッドを配置し、前記トラッキング用光学凹部を設けた層と対向するように発光素子と受光素子を有する光デイテクタを配置して、
前記磁気ヘッドトラッキング用光学凹部ならびに平面部に対して前記発光素子からの光を照射し、その反射光を前記受光素子で受光して、その受光素子の出力信号がヘッド駆動制御部に入力され、それからの制御信号に基づいて前記磁性層と対向している磁気ヘッドのトラッキング制御をすることを特徴とするものである。
第４の本発明は、前記第３の本発明記載の磁気ヘッドトラッキング制御方法において、
前記光デイテクタは、前記トラッキング用光学凹部を設けた層と対向した開口を有し、当該開口内に、当該層に対して照射するように配置された発光素子と、この照射された光の反射光を受光する受光素子を有することを特徴とするものである。
前記磁気ヘッドトラッキング用光学凹部ならびに平面部に対して前記発光素子からの光を照射し、その反射光を前記受光素子で受光して、その受光素子の出力信号がヘッド駆動制御部に入力され、それからの制御信号に基づいて前記磁性層と対向している磁気ヘッドのトラッキング制御をすることを特徴とするものである。
第４の本発明は、前記第３の本発明記載の磁気ヘッドトラッキング制御方法において、
前記光デイテクタは、前記トラッキング用光学凹部を設けた層と対向した開口を有し、当該開口内に、当該層に対して照射するように配置された発光素子と、この照射された光の反射光を受光する受光素子を有することを特徴とするものである。
本発明は前述のような構成になっており、トラッキング用光学凹部を設ける層
と、磁気ヘッドをトラッキング制御して情報の記録、再生を行なう磁性層とを別
に設けることにより、トラッキング用光学凹部を形成しても、良好な情報の記録、
再生が行なえる磁気ヘッドトラッキング制御方法を提供することができる。
と、磁気ヘッドをトラッキング制御して情報の記録、再生を行なう磁性層とを別
に設けることにより、トラッキング用光学凹部を形成しても、良好な情報の記録、
再生が行なえる磁気ヘッドトラッキング制御方法を提供することができる。
次に本発明の実施形態を図とともに説明する。図１は実施形態に係る磁気デイ
スクカートリツジの一部を分解した斜視図、図２は磁気シートの拡大断面図、図
３は磁気デイスクの平面図である。
スクカートリツジの一部を分解した斜視図、図２は磁気シートの拡大断面図、図
３は磁気デイスクの平面図である。
図１に示すように磁気デイスクカートリツジは、カートリツジケース１と、そ
の中に回転自在に収納されたフレキシブルな磁気デイスク２と、カートリツジケ
ース１にスライド可能に取り付けられたシヤツタ３と、カートリツジケース１の
内面に溶着されたクリーニングシート（図示せず）とから主に構成されている。
の中に回転自在に収納されたフレキシブルな磁気デイスク２と、カートリツジケ
ース１にスライド可能に取り付けられたシヤツタ３と、カートリツジケース１の
内面に溶着されたクリーニングシート（図示せず）とから主に構成されている。
前記カートリツジケース１は、上ケース１ａと下ケース１ｂとから構成され、
これらは例えばＡＢＳ樹脂などの硬質合成樹脂で射出成形されている。
これらは例えばＡＢＳ樹脂などの硬質合成樹脂で射出成形されている。
下ケース１ｂの略中央部には回転駆動軸挿入用の開口４が形成され、その近く
に長方形のヘッド挿入口５が形成されている。図示していないが、上ケース１ａ
にも同様にヘッド挿入口５が形成されている。
に長方形のヘッド挿入口５が形成されている。図示していないが、上ケース１ａ
にも同様にヘッド挿入口５が形成されている。
上ケース１ａと下ケース１ｂの前面付近には、前記シヤツタ３のスライド範囲
を規制するために少し低くなつた凹部６が形成され、この凹部６の中間位置に前
記ヘッド挿入口５が開口している。
を規制するために少し低くなつた凹部６が形成され、この凹部６の中間位置に前
記ヘッド挿入口５が開口している。
前記磁気デイスク２は図３に示すように、ドーナツ状のフレキシブルな磁気シ
ート７と、その磁気シート７の中央孔に挿入されて接着された金属製あるいは合
成樹脂製のセンターハブ８とから構成されている。
ート７と、その磁気シート７の中央孔に挿入されて接着された金属製あるいは合
成樹脂製のセンターハブ８とから構成されている。
前記磁気シート７は、ベースフイルム９と、そのベースフイルム９の両面に塗
着、形成された磁性層１０ａ、１０ｂとから構成されている。
着、形成された磁性層１０ａ、１０ｂとから構成されている。
前記ベースフイルム９は、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポ
リエチレンナフタレート（ＰＥＮ）あるいはポリイミドなどの合成樹脂フイルム
から構成されている。
リエチレンナフタレート（ＰＥＮ）あるいはポリイミドなどの合成樹脂フイルム
から構成されている。
前記磁性層１０ａ、１０ｂは、強磁性粉、バインダ、研磨粉ならびに潤滑剤な
どの混合物から構成されている。
どの混合物から構成されている。
前記強磁性粉としては、例えばバリウムフエライト、ストロンチウムフエライ
ト、α−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｐ、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｆｅ3 Ｏ4 、Ｃｏ含有
γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ3 Ｏ4 、ＣｒＯ2 、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉなどの
微粉末が使用される。
ト、α−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｐ、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｆｅ3 Ｏ4 、Ｃｏ含有
γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ3 Ｏ4 、ＣｒＯ2 、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉなどの
微粉末が使用される。
前記バインダとしては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタン樹脂、ポリイソシアネート
化合物、放射線硬化性樹脂などが使用される。
−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタン樹脂、ポリイソシアネート
化合物、放射線硬化性樹脂などが使用される。
前記研磨粉としては、例えば酸化アルミニウム、酸化クロム、炭化ケイ素、窒
化ケイ素などが用いられる。この研磨粉の添加率は、磁性粉に対して約０．１〜
２５重量％が適当である。
化ケイ素などが用いられる。この研磨粉の添加率は、磁性粉に対して約０．１〜
２５重量％が適当である。
前記潤滑剤としては、例えばステアリン酸、オレイン酸などの高級脂肪酸、オ
レイルオレート、グリセリンオレートなどの高級脂肪酸エステル、流動パラフイ
ン、スクアラン、フツ素樹脂、フツ素オイル、シリコンオイルなどが使用可能で
ある。
レイルオレート、グリセリンオレートなどの高級脂肪酸エステル、流動パラフイ
ン、スクアラン、フツ素樹脂、フツ素オイル、シリコンオイルなどが使用可能で
ある。
磁性塗料の具体的な組成例を示せば次の通りである。
磁性塗料組成例１
バリウムフエライト １００重量部
（Ｈｃ：５３０〔Ｏｅ〕，飽和磁化量：５７〔ｅｍｕ／ｇ〕，
板径：０．０５〔μｍ〕）
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １１．０重量部
ウレタン樹脂 ６．６重量部
三官能性イソシアネート化合物 ４．４重量部
酸化アルミニウム粉末（平均粒径０．４３〔μｍ〕） １５重量部
カーボンブラツク（平均粒径０．３〔μｍ〕） ２重量部
カーボンブラツク（平均粒径０．０２〔μｍ〕） ２重量部
オレイルオレイル ６重量部
シクロヘキサノン １５０重量部
トルエン １５０重量部
磁性塗料組成例２
α−Ｆｅ １００重量部
（Ｈｃ：１６５０〔Ｏｅ〕，飽和磁化量：１３５〔ｅｍｕ／ｇ〕，
長軸長さ：０．２５〔μｍ〕，平均軸比：８）
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １４．１重量部
ウレタン樹脂 ８．５重量部
三官能性イソシアネート化合物 ５．６重量部
酸化アルミニウム粉末（平均粒径０．４３〔μｍ〕） ２０重量部
カーボンブラツク（平均粒径０．３〔μｍ〕） ２重量部
カーボンブラツク（平均粒径０．０２〔μｍ〕） ２重量部
オレイルオレイル ６重量部
シクロヘキサノン １５０重量部
トルエン １５０重量部
前述の磁性塗料組成例１または磁性塗料組成例２の組成物をボールミル中でよ
く混合分散して磁性塗料を調整し、これを６２μｍのポリエチレンテレフタレー
ト（ＰＥＴ）のベースフイルムの両面に、乾燥平均厚みが０．７９μｍとなるよ
うに塗布し、乾燥したのち、カレンダ処理を施して磁性層１０ａ、１０ｂをそれ
ぞれ形成する。
バリウムフエライト １００重量部
（Ｈｃ：５３０〔Ｏｅ〕，飽和磁化量：５７〔ｅｍｕ／ｇ〕，
板径：０．０５〔μｍ〕）
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １１．０重量部
ウレタン樹脂 ６．６重量部
三官能性イソシアネート化合物 ４．４重量部
酸化アルミニウム粉末（平均粒径０．４３〔μｍ〕） １５重量部
カーボンブラツク（平均粒径０．３〔μｍ〕） ２重量部
カーボンブラツク（平均粒径０．０２〔μｍ〕） ２重量部
オレイルオレイル ６重量部
シクロヘキサノン １５０重量部
トルエン １５０重量部
磁性塗料組成例２
α−Ｆｅ １００重量部
（Ｈｃ：１６５０〔Ｏｅ〕，飽和磁化量：１３５〔ｅｍｕ／ｇ〕，
長軸長さ：０．２５〔μｍ〕，平均軸比：８）
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １４．１重量部
ウレタン樹脂 ８．５重量部
三官能性イソシアネート化合物 ５．６重量部
酸化アルミニウム粉末（平均粒径０．４３〔μｍ〕） ２０重量部
カーボンブラツク（平均粒径０．３〔μｍ〕） ２重量部
カーボンブラツク（平均粒径０．０２〔μｍ〕） ２重量部
オレイルオレイル ６重量部
シクロヘキサノン １５０重量部
トルエン １５０重量部
前述の磁性塗料組成例１または磁性塗料組成例２の組成物をボールミル中でよ
く混合分散して磁性塗料を調整し、これを６２μｍのポリエチレンテレフタレー
ト（ＰＥＴ）のベースフイルムの両面に、乾燥平均厚みが０．７９μｍとなるよ
うに塗布し、乾燥したのち、カレンダ処理を施して磁性層１０ａ、１０ｂをそれ
ぞれ形成する。
このようにして構成された磁気デイスク２の一方の磁性層１０ａ（この磁性層
１０ａはトラッキング用光学凹部を形成する層であるから、以降、凹部形成層１
０ａという）の表面に、図３に示すようにリフアレンストラック１１と、多数の
磁気ヘッドトラッキング用光学トラック１２がエンボス加工などによつて形成さ
れる。これらリフアレンストラック１１ならびに磁気ヘッドトラッキング用光学
トラック１２は、磁気デイスク２の回転中心１３を中心にして同心円状に設けら
れている。図２に示すように磁気デイスク２の他方の磁性層１０ｂには、磁気ヘ
ッドトラッキング用光学トラック１２などは形成されない。
１０ａはトラッキング用光学凹部を形成する層であるから、以降、凹部形成層１
０ａという）の表面に、図３に示すようにリフアレンストラック１１と、多数の
磁気ヘッドトラッキング用光学トラック１２がエンボス加工などによつて形成さ
れる。これらリフアレンストラック１１ならびに磁気ヘッドトラッキング用光学
トラック１２は、磁気デイスク２の回転中心１３を中心にして同心円状に設けら
れている。図２に示すように磁気デイスク２の他方の磁性層１０ｂには、磁気ヘ
ッドトラッキング用光学トラック１２などは形成されない。
１つの磁気ヘッドトラッキング用光学トラック１２と隣の磁気ヘッドトラッキ
ング用光学トラック１２との間に、平面部１４が形成される。
ング用光学トラック１２との間に、平面部１４が形成される。
図３に示すように磁気デイスク２上に設けられる帯域１５の最内周部に前記リ
フアレンストラック１１が形成され、それより径方向外側、すなわち磁気ヘッド
の走行方向と直交する方向の外側に磁気ヘッドトラッキング用光学トラック１２
と平面部１４が交互に多数形成される。
フアレンストラック１１が形成され、それより径方向外側、すなわち磁気ヘッド
の走行方向と直交する方向の外側に磁気ヘッドトラッキング用光学トラック１２
と平面部１４が交互に多数形成される。
前記リフアレンストラック１１は図４に示すように、磁気ヘッドの走行方向Ｘ
に沿つて延びており、リフアレンストラック１１の中心線１６上の任意の点１７
を中心として点対称に長方形のリフアレンス凹部領域１８Ａとリフアレンス凹部
領域１８Ｂが一対になつて形成されている。このリフアレンス凹部領域１８Ａの
隣（リフアレンス凹部領域１８Ｂの前方）ならびにリフアレンス凹部領域１８Ｂ
の隣（リフアレンス凹部領域１８Ａの後方）には凹部のない平面部１９Ａと平面
部１９Ｂとがある。
に沿つて延びており、リフアレンストラック１１の中心線１６上の任意の点１７
を中心として点対称に長方形のリフアレンス凹部領域１８Ａとリフアレンス凹部
領域１８Ｂが一対になつて形成されている。このリフアレンス凹部領域１８Ａの
隣（リフアレンス凹部領域１８Ｂの前方）ならびにリフアレンス凹部領域１８Ｂ
の隣（リフアレンス凹部領域１８Ａの後方）には凹部のない平面部１９Ａと平面
部１９Ｂとがある。
これら一組のリフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂ、平面部１９Ａ、１９Ｂが
、磁気ヘッドの走行方向Ｘに沿つて間欠的または連続的に多数形成されることに
より、リフアレンストラック１１を構成している。
、磁気ヘッドの走行方向Ｘに沿つて間欠的または連続的に多数形成されることに
より、リフアレンストラック１１を構成している。
この実施形態において前記リフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂの磁気ヘッド
走行方向の長さＬ１は２．４ｍｍ、幅方向の長さＬ２は１８μｍである。
走行方向の長さＬ１は２．４ｍｍ、幅方向の長さＬ２は１８μｍである。
図５ないし図９は、磁気デイスク２のトラッキングサーボを説明するための図
である。図５に示すように、磁気ヘッドトラッキング用光学トラック１２にもト
ラッキング用凹部２３が、磁気ヘッドの走行方向Ｘに沿つて間欠的または連続的
に形成されている。
である。図５に示すように、磁気ヘッドトラッキング用光学トラック１２にもト
ラッキング用凹部２３が、磁気ヘッドの走行方向Ｘに沿つて間欠的または連続的
に形成されている。
この実施形態の場合、トラッキング用凹部２３は間欠的に形成され、トラッキ
ング用凹部２３の幅Ｌ３は５μｍ、平面部１４の幅Ｌ４は１５μｍである。
ング用凹部２３の幅Ｌ３は５μｍ、平面部１４の幅Ｌ４は１５μｍである。
前記リフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂならびにトラッキング用凹部２３は
、図６に示すように同時にプレス加工によつて形成される。
、図６に示すように同時にプレス加工によつて形成される。
同図に示すようにセンターハブ８を取り付けた磁気デイスク２が、基台２５上
にセツトされる。この磁気デイスク２は、前工程において磁性層１０ａ，１０ｂ
の表面が所定の表面粗さになるように研摩加工されている。
にセツトされる。この磁気デイスク２は、前工程において磁性層１０ａ，１０ｂ
の表面が所定の表面粗さになるように研摩加工されている。
前記基台２５にはセンターハブ８の中央孔２６（図３参照）に挿入されるセン
ターピン２７が突設されており、センターハブ８の中央孔２６にこのセンターピ
ン２７を通して磁気デイスク２を基台２５上に位置決めする。
ターピン２７が突設されており、センターハブ８の中央孔２６にこのセンターピ
ン２７を通して磁気デイスク２を基台２５上に位置決めする。
基台２５の上方には、それと平行にスタンパ２８が上下動可能に配置され、ス
タンパ２８は前記センターピン２７によつて上下動がガイドされるようになつて
いる。スタンパ２８の下面には前記リフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂならび
にトラッキング用凹部２３を形成するための微細な突部２９が多数形成されてい
る。
タンパ２８は前記センターピン２７によつて上下動がガイドされるようになつて
いる。スタンパ２８の下面には前記リフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂならび
にトラッキング用凹部２３を形成するための微細な突部２９が多数形成されてい
る。
図６の状態からスタンパ２８を下げて、磁気デイスク２を基台２５とスタンパ
２８との間において所定の圧力で挟持する。これによつてスタンパ２８に形成さ
れている突部２９が凹部形成層１０ａの表面に食い込み、圧縮により断面形状が
ほぼ台形のリフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂならびにトラッキング用凹部２
３が一方の凹部形成層１０ａ側に形成される。
２８との間において所定の圧力で挟持する。これによつてスタンパ２８に形成さ
れている突部２９が凹部形成層１０ａの表面に食い込み、圧縮により断面形状が
ほぼ台形のリフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂならびにトラッキング用凹部２
３が一方の凹部形成層１０ａ側に形成される。
記録再生時には、図７に示すように磁気デイスク２は磁気ヘッド３０ａ、３０
ｂの間で挟持された状態で回転する。前記磁気ヘッド３０ａの方には、トラッキ
ングサーボ用の光を出力する例えばＬＥＤなどからなる発光素子３１と、凹部形
成層１０ａからの反射光を受光する受光素子群３２とを有する光デテクタが一体
に取り付けられている。そしてこの磁気ヘッド３０ａの発光素子３１ならびに受
光素子群３２が取り付けられている部分は、磁気デイスク２側に向けて開口して
いる。
ｂの間で挟持された状態で回転する。前記磁気ヘッド３０ａの方には、トラッキ
ングサーボ用の光を出力する例えばＬＥＤなどからなる発光素子３１と、凹部形
成層１０ａからの反射光を受光する受光素子群３２とを有する光デテクタが一体
に取り付けられている。そしてこの磁気ヘッド３０ａの発光素子３１ならびに受
光素子群３２が取り付けられている部分は、磁気デイスク２側に向けて開口して
いる。
受光素子群３２は図８に示すように４つの受光素子３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、
３２ｄから構成されており、平面部１４ならびにトラッキング用凹部２３上で反
射する光をこの受光素子３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄで受光して、各受光素
子３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄの出力は図９に示すようにサーボ信号演算部
３３に入力される。そしてこのサーボ信号演算部３３で求められた位置修正信号
がヘッド駆動制御部３４に入力され、それからの制御信号に基づいて磁性層１０
ｂと対向している磁気ヘッド３０ｂのトラッキング制御が行なわれ、磁性層１０
ｂでの情報の記録、再生がなされる。
３２ｄから構成されており、平面部１４ならびにトラッキング用凹部２３上で反
射する光をこの受光素子３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄで受光して、各受光素
子３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄの出力は図９に示すようにサーボ信号演算部
３３に入力される。そしてこのサーボ信号演算部３３で求められた位置修正信号
がヘッド駆動制御部３４に入力され、それからの制御信号に基づいて磁性層１０
ｂと対向している磁気ヘッド３０ｂのトラッキング制御が行なわれ、磁性層１０
ｂでの情報の記録、再生がなされる。
次にこの磁気デイスクの光学特性について説明する。図１０は凹部形成層１０
ａの厚さを種々変えた試料を作り、その凹部形成層１０ａの厚さと光反射率との
関係を実験で求めた特性図である。この実施形態での光源としては図１１に示す
ような波長分布を有するＬＥＤ（中心波長８８０ｎｍ）を使用し、凹部形成層１
０ａの表面に対する入射角θを２０度とした。
ａの厚さを種々変えた試料を作り、その凹部形成層１０ａの厚さと光反射率との
関係を実験で求めた特性図である。この実施形態での光源としては図１１に示す
ような波長分布を有するＬＥＤ（中心波長８８０ｎｍ）を使用し、凹部形成層１
０ａの表面に対する入射角θを２０度とした。
この図１０から明らかなように凹部形成層１０ａの厚さによつて光反射率の高
い領域と低い領域とがあり、これは凹部形成層１０ａの表面の反射光と、その凹
部形成層１０ａを透過し凹部形成層１０ａとベースフイルム９との界面で反射し
て、再び凹部形成層１０ａを透過して表面に現れる戻り光との干渉によるもので
あると考えられる。
い領域と低い領域とがあり、これは凹部形成層１０ａの表面の反射光と、その凹
部形成層１０ａを透過し凹部形成層１０ａとベースフイルム９との界面で反射し
て、再び凹部形成層１０ａを透過して表面に現れる戻り光との干渉によるもので
あると考えられる。
この図に示すように、光反射率１０％以上確保できる凹部形成層の厚さはそれ
ぞれ特定の範囲に限定される訳であるが、磁性塗料を塗布するときの膜厚のばら
つきなどにより、光反射率が大きく変動する心配がある。
ぞれ特定の範囲に限定される訳であるが、磁性塗料を塗布するときの膜厚のばら
つきなどにより、光反射率が大きく変動する心配がある。
図１２は、この光反射率とサーボ信号出力との関係を求めた特性図である。こ
の図から明らかなように、凹部形成層の光反射率とサーボ信号出力とはほぼ比例
関係にあり、凹部形成層の光反射率がばらつくとサーボ信号出力が変動するから
、どの磁気デイスクでも安定したサーボ信号出力を得るためには、光反射率の格
差を可及的に小さくすることが要求される。
の図から明らかなように、凹部形成層の光反射率とサーボ信号出力とはほぼ比例
関係にあり、凹部形成層の光反射率がばらつくとサーボ信号出力が変動するから
、どの磁気デイスクでも安定したサーボ信号出力を得るためには、光反射率の格
差を可及的に小さくすることが要求される。
光反射率の変動を小さくして安定したサーボ信号出力を得るためには、前述し
た干渉の影響を小さくすることが最も効果的であることが諸種の実験結果から明
らかになつた。そして干渉による影響を小さくする有効な手段として、
（ａ）凹部形成層自体の光透過率を下げること、
（ｂ）ベースフイルムの反射率を下げること、
などが挙げられる。
た干渉の影響を小さくすることが最も効果的であることが諸種の実験結果から明
らかになつた。そして干渉による影響を小さくする有効な手段として、
（ａ）凹部形成層自体の光透過率を下げること、
（ｂ）ベースフイルムの反射率を下げること、
などが挙げられる。
前記（ａ）項の凹部形成層自体の光透過率を下げる手段として、カーボンブラツク
の添加について検討した。図１３はカーボンブラツクの添加量と凹部形成層の光
透過率との関係を調べた特性図で、この図から明らかなようにカーボンブラツク
を１．５重量％添加することにより、凹部形成層の光透過率を２５％まで下げる
ことが、カーボンブラツクを２重量％添加することにより、凹部形成層の光透過
率を２０％近くまで下げることができる。このようにカーボンブラツクの添加量
を増すことにより凹部形成層の光透過率を下げることができるが、カーボンブラ
ツクの添加量が増すと必然的に他の例えば磁性材料やバインダなどの凹部形成層
構成材料の量が制限されるため、カーボンブラツクの添加量は１〜１０重量％が
適当で、好ましくは１〜７重量％の範囲、さらに好ましくは１．５〜５重量％の
範囲である。
の添加について検討した。図１３はカーボンブラツクの添加量と凹部形成層の光
透過率との関係を調べた特性図で、この図から明らかなようにカーボンブラツク
を１．５重量％添加することにより、凹部形成層の光透過率を２５％まで下げる
ことが、カーボンブラツクを２重量％添加することにより、凹部形成層の光透過
率を２０％近くまで下げることができる。このようにカーボンブラツクの添加量
を増すことにより凹部形成層の光透過率を下げることができるが、カーボンブラ
ツクの添加量が増すと必然的に他の例えば磁性材料やバインダなどの凹部形成層
構成材料の量が制限されるため、カーボンブラツクの添加量は１〜１０重量％が
適当で、好ましくは１〜７重量％の範囲、さらに好ましくは１．５〜５重量％の
範囲である。
なお、凹部形成層の光透過率を下げると干渉による影響は小さくなるが、凹部
形成層の光反射率も下がる。そこで、凹部形成層の表面性を向上することにより
凹部形成層の光反射率を上げることができる。
形成層の光反射率も下がる。そこで、凹部形成層の表面性を向上することにより
凹部形成層の光反射率を上げることができる。
この凹部形成層の表面性を向上する手段として、凹部形成層の表面粗さを小さ
くすることと、磁性塗料の分散性、流動性を向上する手段がある。後者の手段は
後の光学ノイズの低減対策で具体的に説明するので、ここでは省略する。
くすることと、磁性塗料の分散性、流動性を向上する手段がある。後者の手段は
後の光学ノイズの低減対策で具体的に説明するので、ここでは省略する。
図１４は、カーボンブラツクを４重量％添加した凹部形成層の表面粗さと光反
射率との関係を示す図である。この図から明らかなように、凹部形成層の表面粗
さ（中心線平均粗さＲａ）を０．０１μｍ以下にすると凹部形成層の光反射率を
１０％以上確保することができる。
射率との関係を示す図である。この図から明らかなように、凹部形成層の表面粗
さ（中心線平均粗さＲａ）を０．０１μｍ以下にすると凹部形成層の光反射率を
１０％以上確保することができる。
前記ベースフイルムの反射率を下げる手段として、表面に例えばパラジウムや
アルミニウム酸化物などの無機化合物の不連続な乱反射膜、あるいは色素や染料
の如き有機化合物の光吸収性膜を付与したベースフイルムを使用する手段、表面
を例えばマツト加工などを施して乱反射を起こさせるようにしたベースフイルム
を使用する手段、カーボンブラツクなどの光吸収剤を混入したベースフイルムを
使用する手段などがある。
アルミニウム酸化物などの無機化合物の不連続な乱反射膜、あるいは色素や染料
の如き有機化合物の光吸収性膜を付与したベースフイルムを使用する手段、表面
を例えばマツト加工などを施して乱反射を起こさせるようにしたベースフイルム
を使用する手段、カーボンブラツクなどの光吸収剤を混入したベースフイルムを
使用する手段などがある。
図１５はサーボ信号生成の様子を説明するための図で、同図（ａ）は図８に示
す受光素子３２ａと３２ｂの検出値の差に基づく出力波形（波形Ｎ）と、受光素
子３２ｃと３２ｄの検出値の差に基づく出力波形（波形Ｑ）とを示す図で、両波
形Ｎ，Ｑは位相が９０度ずれている。この両波形Ｎ，Ｑにより、同図（ｂ）に示
すようなサーボ信号波形Ｓが生成される。
す受光素子３２ａと３２ｂの検出値の差に基づく出力波形（波形Ｎ）と、受光素
子３２ｃと３２ｄの検出値の差に基づく出力波形（波形Ｑ）とを示す図で、両波
形Ｎ，Ｑは位相が９０度ずれている。この両波形Ｎ，Ｑにより、同図（ｂ）に示
すようなサーボ信号波形Ｓが生成される。
図１６はサーボ信号におよぼす光学ノイズの影響を説明するための図で、同図
（ａ）は光学ノイズがないときの波形、同図（ｂ）は光学ノイズがあるときの波
形を示している。同図（ａ）のように光学ノイズが乗つていない場合は、サーボ
オンになると磁気ヘッドをスムースに所定の位置（目標値）に誘導することがで
きるが、同図（ｂ）のように光学ノイズが乗つている場合は、サーボオンになつ
ても磁気ヘッドを短時間に所定の位置（目標値）に誘導することができず、オフ
トラック（Ｏ．Ｔ）を生じる。
（ａ）は光学ノイズがないときの波形、同図（ｂ）は光学ノイズがあるときの波
形を示している。同図（ａ）のように光学ノイズが乗つていない場合は、サーボ
オンになると磁気ヘッドをスムースに所定の位置（目標値）に誘導することがで
きるが、同図（ｂ）のように光学ノイズが乗つている場合は、サーボオンになつ
ても磁気ヘッドを短時間に所定の位置（目標値）に誘導することができず、オフ
トラック（Ｏ．Ｔ）を生じる。
本発明者らはこの光学ノイズを分析してその特性について種々検討した結果、
その光学ノイズが凹部形成層の表面粗さによるノイズ（ノイズＸ）と、電気回路
により補正可能なノイズ（ノイズＹ）と、補正できずしかも磁気ヘッドのトラッ
キングサーボに大きな影響を与えるノイズ（ノイズＺ）とに分けられることを解
明した。
その光学ノイズが凹部形成層の表面粗さによるノイズ（ノイズＸ）と、電気回路
により補正可能なノイズ（ノイズＹ）と、補正できずしかも磁気ヘッドのトラッ
キングサーボに大きな影響を与えるノイズ（ノイズＺ）とに分けられることを解
明した。
図１７は、この種磁気デイスクで観測される光学ノイズの原波形図である。こ
の光学ノイズを周波数分析してみると、周波数が２ＫＨｚ以上の領域のノイズと
、周波数が１００Ｈｚ未満の領域のノイズと、周波数が１００Ｈｚを超えて２Ｋ
Ｈｚ未満の領域のノイズとに分けられ、それぞれのノイズの波形を図１８、図
１９ならびに図２０に示す。
の光学ノイズを周波数分析してみると、周波数が２ＫＨｚ以上の領域のノイズと
、周波数が１００Ｈｚ未満の領域のノイズと、周波数が１００Ｈｚを超えて２Ｋ
Ｈｚ未満の領域のノイズとに分けられ、それぞれのノイズの波形を図１８、図
１９ならびに図２０に示す。
図１８に示すノイズは凹部形成層の表面粗さによるもの（ノイズＸ）と思われ
、このノイズはサーボ制御系のゲインが十分に小さくなる領域であるため、磁気
ヘッドのトラッキングサーボには影響を与えないノイズであることが確認された
。
、このノイズはサーボ制御系のゲインが十分に小さくなる領域であるため、磁気
ヘッドのトラッキングサーボには影響を与えないノイズであることが確認された
。
また図１９に示すノイズは凹部形成層の厚み変動による干渉強度の振れによつ
て生じたもの（ノイズＹ）であるが、ＬＥＤなどの光源の発光強度にサーボをか
けることにより平滑化（補正）できるから、このノイズもトラッキングサーボに
はほとんど悪影響を与えないことが確認された。
て生じたもの（ノイズＹ）であるが、ＬＥＤなどの光源の発光強度にサーボをか
けることにより平滑化（補正）できるから、このノイズもトラッキングサーボに
はほとんど悪影響を与えないことが確認された。
これらに対して図２０に示すノイズ、すなわち周波数が１００Ｈｚを超えて２
ＫＨｚ未満の領域のノイズ（ノイズＺ）は、光源回路にサーボをかけることによ
り平滑化（補正）できる性質のノイズではなく、しかも磁気ヘッドのトラッキン
グサーボに大きな影響を与えるノイズであることが確認された。したがつて適正
なトラッキングサーボを行なうためには、この周波数領域のノイズを低減するこ
とが重要である。
ＫＨｚ未満の領域のノイズ（ノイズＺ）は、光源回路にサーボをかけることによ
り平滑化（補正）できる性質のノイズではなく、しかも磁気ヘッドのトラッキン
グサーボに大きな影響を与えるノイズであることが確認された。したがつて適正
なトラッキングサーボを行なうためには、この周波数領域のノイズを低減するこ
とが重要である。
この周波数が１００Ｈｚを超えて２ＫＨｚ未満の領域のノイズにおいて、凹部
形成層の厚さのばらつきの影響について検討した。この検討に際して、ベースフ
イルムとして６２μｍ厚のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を使用し、導
電性を付与するためにポリアニリンの極薄膜（膜厚が５００Å）をベースフイル
ムの表面に塗布した。
形成層の厚さのばらつきの影響について検討した。この検討に際して、ベースフ
イルムとして６２μｍ厚のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を使用し、導
電性を付与するためにポリアニリンの極薄膜（膜厚が５００Å）をベースフイル
ムの表面に塗布した。
また磁性塗料として次の組成のものを使用して、目標膜厚が０．７９μｍの凹
部形成層を形成した。
部形成層を形成した。
磁性塗料組成例３
バリウムフエライト １００重量部
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １１．０重量部
ウレタン樹脂 ６．６重量部
三官能性イソシアネート化合物 ４．４重量部
酸化アルミニウム粉末（平均粒径０．４３〔μｍ〕） １５重量部
カーボンブラツク（平均粒径０．３〔μｍ〕） ４重量部
オレイルオレイル ６重量部
シクロヘキサノン １５０重量部
トルエン １５０重量部
まず、凹部形成層の膜厚の変動とその偏差率を磁性塗料の塗布幅方向の１６０
ｍｍ（６インチ）の範囲で測定し、その結果を図２１ならびに図２２に示した。
バリウムフエライト １００重量部
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １１．０重量部
ウレタン樹脂 ６．６重量部
三官能性イソシアネート化合物 ４．４重量部
酸化アルミニウム粉末（平均粒径０．４３〔μｍ〕） １５重量部
カーボンブラツク（平均粒径０．３〔μｍ〕） ４重量部
オレイルオレイル ６重量部
シクロヘキサノン １５０重量部
トルエン １５０重量部
まず、凹部形成層の膜厚の変動とその偏差率を磁性塗料の塗布幅方向の１６０
ｍｍ（６インチ）の範囲で測定し、その結果を図２１ならびに図２２に示した。
図２１は横軸に塗布幅方向に対する測定位置を、縦軸に蛍光Ｘ線微小膜厚計によ
るＸ線カウント値を、それぞれ示している。また図２２は横軸に塗布幅方向に対
する測定位置を、縦軸に前記Ｘ線カウント値によつて換算された膜厚の偏差値を
、それぞれ示している。
るＸ線カウント値を、それぞれ示している。また図２２は横軸に塗布幅方向に対
する測定位置を、縦軸に前記Ｘ線カウント値によつて換算された膜厚の偏差値を
、それぞれ示している。
前記蛍光Ｘ線微小膜厚計としてセイコー電子工業社製のＳＦＴ−１５６Ａ型を
使用し、塗布幅方向に５ｍｍ間隔毎に測定位置を移動させながら１ｍｍのスポツ
ト径になるようにＸ線を照射し、その都度、凹部形成層から発生する１秒間当た
りの鉄の蛍光Ｘ線量（カウント／秒 ｃｐｓ）を計測した。なお、Ｘ線照射時間
は２０秒間とし、同じ位置での測定を３回行い、その平均値をＸ線カウント値と
した。
使用し、塗布幅方向に５ｍｍ間隔毎に測定位置を移動させながら１ｍｍのスポツ
ト径になるようにＸ線を照射し、その都度、凹部形成層から発生する１秒間当た
りの鉄の蛍光Ｘ線量（カウント／秒 ｃｐｓ）を計測した。なお、Ｘ線照射時間
は２０秒間とし、同じ位置での測定を３回行い、その平均値をＸ線カウント値と
した。
この図２１ならびに図２２から明らかなように、塗布幅方向において凹部形成
層の膜厚が変動していることが分かる。
層の膜厚が変動していることが分かる。
図２３は、前記Ｘ線カウント値の標準偏差と、周波数が１００Ｈｚを超えて２
ＫＨｚ未満の領域の光学ノイズとの関係を検討した結果を示す図である。なお、
凹部形成層からの光反射率の変動を図８に示すような４分割のフオトデテクタの
和信号の変動として測定し、ノイズ信号レベル（Ｎ）はＲ．Ｍ．Ｓボルトメータ
で測定される回路ノイズ（Ｎｃ）と、磁気デイスクと回路の総和ノイズ（Ｎｔ）
を用いて次式で定義した。
ＫＨｚ未満の領域の光学ノイズとの関係を検討した結果を示す図である。なお、
凹部形成層からの光反射率の変動を図８に示すような４分割のフオトデテクタの
和信号の変動として測定し、ノイズ信号レベル（Ｎ）はＲ．Ｍ．Ｓボルトメータ
で測定される回路ノイズ（Ｎｃ）と、磁気デイスクと回路の総和ノイズ（Ｎｔ）
を用いて次式で定義した。
Ｎ＝−２０ｌｏｇ（Ｎｃ／Ｎｔ） 〔ｄＢ〕
なお、９０Ｈｚ以下の反射率変動は、発光素子における駆動電流のサーボが追
従できるものとして、９０Ｈｚハイパスフイルタを通過させた後の光学ノイズを
測定した。
なお、９０Ｈｚ以下の反射率変動は、発光素子における駆動電流のサーボが追
従できるものとして、９０Ｈｚハイパスフイルタを通過させた後の光学ノイズを
測定した。
この図から明らかなように、Ｘ線カウント値の標準偏差が１．８ｃｐｓを超え
ると光学ノイズが急激に大きくなり、信頼性に問題が出てくるが、Ｘ線カウント
値の標準偏差が１．５ｃｐｓ以下であれば光学ノイズを４ｄＢ以下に抑えること
ができ、さらにＸ線カウント値の標準偏差を１．３ｃｐｓ以下にすると光学ノイ
ズは２ｄＢ以下にすることができ、信頼性の向上が図れる。
ると光学ノイズが急激に大きくなり、信頼性に問題が出てくるが、Ｘ線カウント
値の標準偏差が１．５ｃｐｓ以下であれば光学ノイズを４ｄＢ以下に抑えること
ができ、さらにＸ線カウント値の標準偏差を１．３ｃｐｓ以下にすると光学ノイ
ズは２ｄＢ以下にすることができ、信頼性の向上が図れる。
前述のように光学ノイズを小さくするためにＸ線カウント値の標準偏差を
１．５ｃｐｓ以下にする具体的な手段として、まず最初、ベースフイルムの濡れ
性について検討した。
１．５ｃｐｓ以下にする具体的な手段として、まず最初、ベースフイルムの濡れ
性について検討した。
（１）ベースフイルムの検討
ベースフイルムの濡れ性の評価は、所定の液体とベースフイルムとの接触角の
測定によつて行なつた。ベースフイルムの接触角は、試料を所定の液体（シクロ
ヘキサノンとトルエンの等重量混合液）中に浸し、その時に生じる表面張力と浮
力との合力を測定することにより、接触角θを下記の式より求めた。
ベースフイルムの濡れ性の評価は、所定の液体とベースフイルムとの接触角の
測定によつて行なつた。ベースフイルムの接触角は、試料を所定の液体（シクロ
ヘキサノンとトルエンの等重量混合液）中に浸し、その時に生じる表面張力と浮
力との合力を測定することにより、接触角θを下記の式より求めた。
Ｆ＝γ・ｃｏｓθ・ｌ−Ａ・ρ・Ｄ
Ｆ：濡れ応力
γ：液体の表面張力
θ：接触角
ｌ：所定の液体とベースフイルムとの接触長さ
Ａ：ベースフイルムの断面積
ρ：所定の液体の密度
Ｄ：ベースフイルムの浸漬深さ
Ａ・ρ・Ｄ：浮力項
次の表１は、各種ベースフイルムの接触角θを示す表であり、表中のＰＥＴは
ポリエチレンテレフタレートを、ＰＥＴ＋ＳｉＯ2 ＋ＰＡはポリエチレンテレフ
タレートフイルムの表面にＳｉＯ2 微粒子を塗布し、さらにその上にポリアニリ
ン導電膜（５００Å）を形成したもの、ＰＥＴ＋ＰＡはポリエチレンテレフタレ
ートフイルムの表面にＳｉＯ2 微粒子を塗布しないで直接にポリアニリン導電膜
（５００Å）を形成したものをそれぞれ示す。
Ｆ：濡れ応力
γ：液体の表面張力
θ：接触角
ｌ：所定の液体とベースフイルムとの接触長さ
Ａ：ベースフイルムの断面積
ρ：所定の液体の密度
Ｄ：ベースフイルムの浸漬深さ
Ａ・ρ・Ｄ：浮力項
次の表１は、各種ベースフイルムの接触角θを示す表であり、表中のＰＥＴは
ポリエチレンテレフタレートを、ＰＥＴ＋ＳｉＯ2 ＋ＰＡはポリエチレンテレフ
タレートフイルムの表面にＳｉＯ2 微粒子を塗布し、さらにその上にポリアニリ
ン導電膜（５００Å）を形成したもの、ＰＥＴ＋ＰＡはポリエチレンテレフタレ
ートフイルムの表面にＳｉＯ2 微粒子を塗布しないで直接にポリアニリン導電膜
（５００Å）を形成したものをそれぞれ示す。
表 １
ベースフイルム 接触角θ（度）
ＰＥＴ単独 １７
ＰＥＴ＋ＰＡ ２９
ＰＥＴ＋ＳｉＯ2 ＋ＰＡ ３８
この結果からも明らかなように、ＰＥＴ単独のものは接触角θが非常に小さく
、ＰＥＴ＋ＰＡ、ＰＥＴ＋ＳｉＯ2 ＋ＰＡの順に接触角θが大きくなつている。
ベースフイルム 接触角θ（度）
ＰＥＴ単独 １７
ＰＥＴ＋ＰＡ ２９
ＰＥＴ＋ＳｉＯ2 ＋ＰＡ ３８
この結果からも明らかなように、ＰＥＴ単独のものは接触角θが非常に小さく
、ＰＥＴ＋ＰＡ、ＰＥＴ＋ＳｉＯ2 ＋ＰＡの順に接触角θが大きくなつている。
次に磁性塗料の流動性について検討した。
（２）超微粒子カーボンブラツクの検討
カーボンブラツクとして微小のカーボンブラツク単独と、その微小のカーボン
ブラツクに超微小のカーボンブラツクを添加した場合の、光ノイズにおよぼす影
響について検討し、その結果を次の表２に示した。
カーボンブラツクとして微小のカーボンブラツク単独と、その微小のカーボン
ブラツクに超微小のカーボンブラツクを添加した場合の、光ノイズにおよぼす影
響について検討し、その結果を次の表２に示した。
表 ２
微小Ｃ．Ｂ／超微小Ｃ．Ｂ ベースフイルム 光学ノイズ（ｄＢ）
３．０／０．０ ＰＥＴ＋ＳｉＯ2 ＋ＰＡ ７．８７
２．０／１．０ ＰＥＴ １．５２
〃 ＰＥＴ＋ＰＡ ３．６２
〃 ＰＥＴ＋ＳｉＯ2 ＋ＰＡ ６．２０
２．０／２．５ ＰＥＴ １．４７
〃 ＰＥＴ＋ＰＡ １．８３
〃 ＰＥＴ＋ＳｉＯ2 ＋ＰＡ ２．００
なお、表中の微小Ｃ．Ｂは平均粒径が０．３μｍのカーボンブラツク、超微小
Ｃ．Ｂは平均粒径が０．０２μｍの超微小カーボンブラツクをそれぞれ示してい
る。また各試料とも潤滑剤としてオレイルオレートを６重量部添加した。
微小Ｃ．Ｂ／超微小Ｃ．Ｂ ベースフイルム 光学ノイズ（ｄＢ）
３．０／０．０ ＰＥＴ＋ＳｉＯ2 ＋ＰＡ ７．８７
２．０／１．０ ＰＥＴ １．５２
〃 ＰＥＴ＋ＰＡ ３．６２
〃 ＰＥＴ＋ＳｉＯ2 ＋ＰＡ ６．２０
２．０／２．５ ＰＥＴ １．４７
〃 ＰＥＴ＋ＰＡ １．８３
〃 ＰＥＴ＋ＳｉＯ2 ＋ＰＡ ２．００
なお、表中の微小Ｃ．Ｂは平均粒径が０．３μｍのカーボンブラツク、超微小
Ｃ．Ｂは平均粒径が０．０２μｍの超微小カーボンブラツクをそれぞれ示してい
る。また各試料とも潤滑剤としてオレイルオレートを６重量部添加した。
この表から明らかなように、超微小カーボンブラツクを添加することにより磁
性塗料の分散性、流動性が良好となり、Ｘ線カウント値の標準偏差を１．５ｃｐ
ｓ以下にして、光学ノイズを低減することができた。特にＰＥＴ単独のベースフ
イルムは光学ノイズが低く、またポリアニリンを被着したベースフイルムを使用
する場合でも、ベースフイルムの表面にＳｉＯ2 を塗布しないで直接にポリアニ
リンを被着したベースフイルム（ＰＥＴ＋ＰＡ）の方が、ベースフイルムの表面
が平滑になり、磁性塗料の流動性が良好となるため好適である。
性塗料の分散性、流動性が良好となり、Ｘ線カウント値の標準偏差を１．５ｃｐ
ｓ以下にして、光学ノイズを低減することができた。特にＰＥＴ単独のベースフ
イルムは光学ノイズが低く、またポリアニリンを被着したベースフイルムを使用
する場合でも、ベースフイルムの表面にＳｉＯ2 を塗布しないで直接にポリアニ
リンを被着したベースフイルム（ＰＥＴ＋ＰＡ）の方が、ベースフイルムの表面
が平滑になり、磁性塗料の流動性が良好となるため好適である。
微小カーボンブラツク（平均粒径０．０７〜０．４μｍ）に対する超微小カー
ボンブラツク（平均粒径０．０１５〜０．０７μｍ）の混合割合は １／１０〜
１０／１が適当である。
ボンブラツク（平均粒径０．０１５〜０．０７μｍ）の混合割合は １／１０〜
１０／１が適当である。
（３）潤滑剤の検討
凹部形成層と磁気ヘッドとの摺接抵抗を小さくするために凹部形成層中にオレ
イルオレートなどの潤滑剤が添加されるが、その添加量と光学ノイズとの関係に
ついて検討した。なお、この検討では潤滑剤としてオレイルオレートを使用し、
凹部形成層１ｍ2 当たりの潤滑剤の量として次の表３に示した。なおこの潤滑剤
の量は、磁気記録媒体をノルマルヘキサンで洗浄する前と後の重量差によつて算
出した値である。
凹部形成層と磁気ヘッドとの摺接抵抗を小さくするために凹部形成層中にオレ
イルオレートなどの潤滑剤が添加されるが、その添加量と光学ノイズとの関係に
ついて検討した。なお、この検討では潤滑剤としてオレイルオレートを使用し、
凹部形成層１ｍ2 当たりの潤滑剤の量として次の表３に示した。なおこの潤滑剤
の量は、磁気記録媒体をノルマルヘキサンで洗浄する前と後の重量差によつて算
出した値である。
表 ３
潤滑剤の量（ｍｇ／ｍ2 ） 光学ノイズ（ｄＢ）
１０ ７．５
２０ ５．１
２５ ４．０
３０ ３．２
５０ ２．０
１００ １．５
この表から明らかなように、潤滑剤を凹部形成層１ｍ2 当たりの潤滑剤の量を
２５ｍｇ以上、好ましくは３０〜１００ｍｇにすることによつて、光学ノイズが
低減される。なお、このように潤滑剤の添加量を増すことによつて何故光学ノイ
ズが低減されるのか理論的な根拠は明らかでないが、磁性塗料の塗布状態から観
察して、潤滑剤の増量により磁性塗料の流動性が改善されていると推測できる。
潤滑剤の量（ｍｇ／ｍ2 ） 光学ノイズ（ｄＢ）
１０ ７．５
２０ ５．１
２５ ４．０
３０ ３．２
５０ ２．０
１００ １．５
この表から明らかなように、潤滑剤を凹部形成層１ｍ2 当たりの潤滑剤の量を
２５ｍｇ以上、好ましくは３０〜１００ｍｇにすることによつて、光学ノイズが
低減される。なお、このように潤滑剤の添加量を増すことによつて何故光学ノイ
ズが低減されるのか理論的な根拠は明らかでないが、磁性塗料の塗布状態から観
察して、潤滑剤の増量により磁性塗料の流動性が改善されていると推測できる。
この検討では潤滑剤としてオレイルオレートを使用したが、その他潤滑剤とし
て例えばステアリン酸、オレイン酸などの高級脂肪酸、グリセリンオレート、２
ヘキシルデシルステアレート、２エチルヘキシルオレート、トリデシルステアレ
ート、ブトキシエチルステアレートなどの高級脂肪酸エステル、流動パラフイン
、スクアラン、フツ素オイル、シリコンオイルなどの各種の潤滑剤が使用可能で
ある。
て例えばステアリン酸、オレイン酸などの高級脂肪酸、グリセリンオレート、２
ヘキシルデシルステアレート、２エチルヘキシルオレート、トリデシルステアレ
ート、ブトキシエチルステアレートなどの高級脂肪酸エステル、流動パラフイン
、スクアラン、フツ素オイル、シリコンオイルなどの各種の潤滑剤が使用可能で
ある。
次の表４は、前述のベースフイルム、超微小カーボンブラツクの添加、潤滑剤
の増量ならびに超微小カーボンブラツクの添加と潤滑剤（オレイルオレート）の
増量との組み合わせをまとめて現した表である。表中の○印は光学ノイズが２ｄ
Ｂ以下のもの、×印は光学ノイズが２ｄＢを超えたものを示し、（ ）中の数値
は光学ノイズの実測値を示している。
の増量ならびに超微小カーボンブラツクの添加と潤滑剤（オレイルオレート）の
増量との組み合わせをまとめて現した表である。表中の○印は光学ノイズが２ｄ
Ｂ以下のもの、×印は光学ノイズが２ｄＢを超えたものを示し、（ ）中の数値
は光学ノイズの実測値を示している。
この表から明らかなように、ＳｉＯ2 やポリアニリン（ＰＡ）を塗布しないＰ
ＥＴ単独の場合は接触角θが小さいため、何れの場合も光学ノイズが低い。
またＰＥＴ表面にポリアニリン（ＰＡ）を塗布したベースフイルムの場合、超
微小カーボンブラツクを添加したり、潤滑剤を増量したり、あるいは超微小カー
ボンブラツクの添加と潤滑剤の増量を組み合わせることにより、光学ノイズの低
減を図ることができた。
微小カーボンブラツクを添加したり、潤滑剤を増量したり、あるいは超微小カー
ボンブラツクの添加と潤滑剤の増量を組み合わせることにより、光学ノイズの低
減を図ることができた。
さらにまた、ＰＥＴ表面にＳｉＯ2 を塗布し、その上にポリアニリン（ＰＡ）
を被着したベースフイルムの場合、超微小カーボンブラツクの添加や、超微小カ
ーボンブラツクの添加と潤滑剤の増量を組み合わせることにより、光学ノイズの
低減を図ることができた。
を被着したベースフイルムの場合、超微小カーボンブラツクの添加や、超微小カ
ーボンブラツクの添加と潤滑剤の増量を組み合わせることにより、光学ノイズの
低減を図ることができた。
図２５は、ＳｉＯ2 やポリアニリン（ＰＡ）を塗布しないＰＥＴ単独のベース
フイルムを使用し、超微小カーボンブラツクの添加と潤滑剤の増量を組み合わせ
たものの凹部形成層の膜厚の変動を示す。この図と前述した図２１を比較すると
明らかなように、図２５のものの方が凹部形成層の膜厚の変動が極めて少ないこ
とが分かる。
フイルムを使用し、超微小カーボンブラツクの添加と潤滑剤の増量を組み合わせ
たものの凹部形成層の膜厚の変動を示す。この図と前述した図２１を比較すると
明らかなように、図２５のものの方が凹部形成層の膜厚の変動が極めて少ないこ
とが分かる。
図２６は、このＳｉＯ2 やポリアニリン（ＰＡ）を塗布しないＰＥＴ単独のベ
ースフイルムを使用し、超微小カーボンブラツクの添加と潤滑剤の増量を組み合
わせたものの、周波数が１００Ｈｚを超えて２ＫＨｚ未満の領域のノイズ特性図
である。この図と前述した図２０を比較すると明らかなように、図２６のものの
方が光学ノイズが非常に少ないことが分かる。
ースフイルムを使用し、超微小カーボンブラツクの添加と潤滑剤の増量を組み合
わせたものの、周波数が１００Ｈｚを超えて２ＫＨｚ未満の領域のノイズ特性図
である。この図と前述した図２０を比較すると明らかなように、図２６のものの
方が光学ノイズが非常に少ないことが分かる。
前記実施形態では磁気ヘッドトラッキング用の光源としてＬＥＤを使用したが
、例えばレーザ光など他の光源を用いることもできる。
、例えばレーザ光など他の光源を用いることもできる。
２ 磁気デイスク
７ 磁気シート
９ ベースフイルム
１０ａ 凹部形成層
１０ｂ 磁性層
１１ リフアレンストラック
１２ 磁気ヘッドトラッキング用光学トラック
１４ データトラック
１５ 記録帯域
２３ トラッキング用凹部
３０ 磁気ヘッド
３１ 発光素子
３２ 受光素子群
３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ 受光素子
３３ サーボ信号演算部
３４ ヘッド駆動制御部
７ 磁気シート
９ ベースフイルム
１０ａ 凹部形成層
１０ｂ 磁性層
１１ リフアレンストラック
１２ 磁気ヘッドトラッキング用光学トラック
１４ データトラック
１５ 記録帯域
２３ トラッキング用凹部
３０ 磁気ヘッド
３１ 発光素子
３２ 受光素子群
３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ 受光素子
３３ サーボ信号演算部
３４ ヘッド駆動制御部
Claims (4)
- 非磁性体からなる基体と、その基体の一方の面に磁性層を形成し、他方の面にトラッキング用光学凹部を設ける層を形成して、そのトラッキング用光学凹部を設ける層に、磁気ヘッドの走行方向に延びる磁気ヘッドトラッキング用光学凹部と、その磁気ヘッドトラッキング用光学凹部と隣の磁気ヘッドトラッキング用光学凹部との間に設けられた凹部のない平面部とを設け、前記トラッキング用光学凹部を設けた層が、中心波長が８８０ｎｍの光を表面に対して入射角２０度で照射した際の、周波数が１００Ｈｚを越えて２ＫＨｚ未満の領域における光反射率の変動が４ｄＢ以下に規制された磁気記録媒体の前記磁性層と対向するように磁気ヘッドを配置し、前記トラッキング用光学凹部を設けた層と対向するように発光素子と受光素子群を有する光デイテクタを配置して、
その光デイテクタの受光素子群は複数の受光素子を有し、
前記磁気ヘッドトラッキング用光学凹部ならびに平面部に対して前記発光素子からの光を照射し、その反射光を前記各受光素子で受光して得られた第１の出力波形と第２の出力波形に基づいてサーボ信号波形を生成し、そのサーボ信号波形に基づいて前記磁性層と対向している磁気ヘッドのトラッキング制御をすることを特徴とする磁気ヘッドトラッキング制御方法。 - 請求項１記載の磁気ヘッドトラッキング制御方法において、
前記光デイテクタは、前記トラッキング用光学凹部を設けた層と対向した開口を有し、当該開口内に、当該層に対して照射するように配置された発光素子と、この照射された光の反射光を受光する受光素子を有することを特徴とする磁気ヘッドトラッキング制御方法。 - 非磁性体からなる基体と、その基体の一方の面に磁性層を形成し、他方の面にトラッキング用光学凹部を設ける層を形成して、そのトラッキング用光学凹部を設ける層に、磁気ヘッドの走行方向に延びる磁気ヘッドトラッキング用光学凹部と、その磁気ヘッドトラッキング用光学凹部と隣の磁気ヘッドトラッキング用光学凹部との間に設けられた凹部のない平面部とを設け、前記トラッキング用光学凹部を設けた層が、中心波長が８８０ｎｍの光を表面に対して入射角２０度で照射した際の、周波数が１００Ｈｚを越えて２ＫＨｚ未満の領域における光反射率の変動が４ｄＢ以下に規制された磁気記録媒体の前記磁性層と対向するように磁気ヘッドを配置し、前記トラッキング用光学凹部を設けた層と対向するように発光素子と受光素子を有する光デイテクタを配置して、
前記磁気ヘッドトラッキング用光学凹部ならびに平面部に対して前記発光素子からの光を照射し、その反射光を前記受光素子で受光して、その受光素子の出力信号がヘッド駆動制御部に入力され、それからの制御信号に基づいて前記磁性層と対向している磁気ヘッドのトラッキング制御をすることを特徴とする磁気ヘッドトラッキング制御方法。 - 請求項３記載の磁気ヘッドトラッキング制御方法において、
前記光デイテクタは、前記トラッキング用光学凹部を設けた層と対向した開口を有し、当該開口内に、当該層に対して照射するように配置された発光素子と、この照射された光の反射光を受光する受光素子を有することを特徴とする磁気ヘッドトラッキング制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003322720A JP3768215B2 (ja) | 2003-09-16 | 2003-09-16 | 磁気ヘッドトラッキング制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003322720A JP3768215B2 (ja) | 2003-09-16 | 2003-09-16 | 磁気ヘッドトラッキング制御方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001141877A Division JP3860976B2 (ja) | 2001-05-11 | 2001-05-11 | 磁気ヘッドトラッキング制御方法ならびにそれに用いる磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004047102A JP2004047102A (ja) | 2004-02-12 |
| JP3768215B2 true JP3768215B2 (ja) | 2006-04-19 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2003322720A Expired - Fee Related JP3768215B2 (ja) | 2003-09-16 | 2003-09-16 | 磁気ヘッドトラッキング制御方法 |
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-
2003
- 2003-09-16 JP JP2003322720A patent/JP3768215B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2004047102A (ja) | 2004-02-12 |
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