JP3757371B2 - エネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡 - Google Patents

エネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡 Download PDF

Info

Publication number
JP3757371B2
JP3757371B2 JP19080399A JP19080399A JP3757371B2 JP 3757371 B2 JP3757371 B2 JP 3757371B2 JP 19080399 A JP19080399 A JP 19080399A JP 19080399 A JP19080399 A JP 19080399A JP 3757371 B2 JP3757371 B2 JP 3757371B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
energy
filter
energy filter
filters
electron microscope
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP19080399A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2001023558A (ja
Inventor
通義 田中
正己 寺内
勝重 津野
敏和 本田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Japan Science and Technology Agency
National Institute of Japan Science and Technology Agency
Original Assignee
Jeol Ltd
Japan Science and Technology Agency
National Institute of Japan Science and Technology Agency
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd, Japan Science and Technology Agency, National Institute of Japan Science and Technology Agency filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP19080399A priority Critical patent/JP3757371B2/ja
Priority to EP00305561A priority patent/EP1067576B1/en
Priority to DE60032972T priority patent/DE60032972T2/de
Priority to US09/610,126 priority patent/US6407384B1/en
Publication of JP2001023558A publication Critical patent/JP2001023558A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3757371B2 publication Critical patent/JP3757371B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/05Electron or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy or mass

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)
  • Control Of Motors That Do Not Use Commutators (AREA)

Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、特定のエネルギーを持った荷電粒子を選択的に通過させるエネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】
透過型電子顕微鏡においては、試料に電子ビームを照射し、試料を透過した電子ビームを蛍光板に拡大投影することにより、蛍光板上に試料の拡大像を得ている。近時、試料を透過した電子ビームを蛍光板に拡大投影する電子光学系内にエネルギーフィルタ例えばオメガフィルタを配置した透過型電子顕微鏡が開発されている。このような電子顕微鏡によれば、試料によって影響を受けた透過電子の内、オメガフィルタを通過し得た特定エネルギーの透過電子のみに基づく透過電子顕微鏡像が形成される。
【0003】
このオメガフィルタを備えた電子顕微鏡において、得られる電子顕微鏡像のエネルギー選択性(エネルギー分解能)を高めるには、試料に照射する電子ビームのエネルギー幅が狭くなければならない。このため、この種の電子顕微鏡では、現状で最も狭いエネルギー幅が得られるコールドタイプの電界放射型電子銃(FEG)が採用されている。
【0004】
しかしながら、このタイプのFEGを用いても、得られるエネルギー幅は例えば加速電圧200kVにおいて0.4eV程度であり、さらにエネルギー幅を狭めるのは現状では困難である。一方、より高エネルギー分解能を目指す上では、試料に照射される電子ビームのエネルギー幅を0.1〜0.2eV程度あるいはそれ以下に抑えることが望まれている。そこで、最近、電子銃と試料との間にエネルギーフィルタを設け、電子源の作るエネルギーの拡がりの中から狭いエネルギー範囲をスリットにより選択的に取り出し、エネルギー幅の小さな電子ビームを得て試料に照射することが試みられている。
【0005】
ところが、高分解能電子顕微鏡で必要とされる加速電圧200kV(電子のエネルギーは200keV)以上の高エネルギーにおいて0.1〜0.2eV程度のエネルギーを選択できるだけの分解能を持つ実用的なエネルギーフィルタは、現在のところ存在しない。そこで、電子ビームが低エネルギーの状態にある位置にエネルギーフィルタを配置してエネルギー選択を行い、その後加速して高エネルギーを与える方式が検討されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
このように低エネルギーの電子ビームがエネルギーフィルタを通過する場合、Boersch効果による影響を配慮しなければならない。このBoersch効果とは、近接して飛行する電子(一般には荷電粒子)同士のクーロン相互作用によって、各電子の速度従ってエネルギーが相互に影響を受ける現象をいう。このBoersch効果は電流密度が高い程、また電子の速度が遅い程大きくなる。従って、低エネルギーの電子ビームがエネルギーフィルタを通過する場合、特にフィルタ内の収束点で電子が近接して飛行する時に相互に影響を与え合い、エネルギーが変化して拡がりを持ってしまい、エネルギー幅の狭い電子ビームを得ることが困難になるという問題がある。
【0007】
本発明は、上述した点に鑑みてなされたものであり、Boersch効果による影響を低減出来るエネルギーフィルタを提供すること及びそれを用いた電子顕微鏡を提供することを目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明のエネルギーフィルタは、特定のエネルギーを持つ荷電粒子のみを通過させるために電場と磁場を組み合わせたエネルギーフィルタであって、該エネルギーフイルタ内を進行する荷電粒子が、進行方向に対して直交するX方向について複数回収束されると共に、該方向と直交するY方向について前記X方向の収束位置と異なる位置で収束するようにされており、エネルギー選択スリットが前記X方向における2回目以降の収束位置に配置されることを特徴としている。
また、本発明の電子顕微鏡は、電子銃から発生した電子ビームを、特定のエネルギーを持つ電子のみを通過させるエネルギーフィルタを介して試料に入射させるようにした電子顕微鏡において、該エネルギーフィルタは、特定のエネルギーを持つ電子のみを通過させるために電場と磁場を組み合わせたエネルギーフィルタであって、該エネルギーフイルタ内を進行する電子が、進行方向に対して直交するX方向について複数回収束されると共に、該方向と直交するY方向について前記X方向の収束位置と異なる位置で収束するようにされており、エネルギー選択スリットが前記X方向における2回目以降の収束位置に配置されることを特徴としている。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ実施の形態について説明する。図1は、本発明を実施したエネルギーフィルタの一例を示している。図1において、本発明のエネルギーフィルタWは、電子ビームの中心軌道0に沿って順次配列される初段フィルタ1と2段目フィルタ2から構成される。初段フィルタ1のフィルタ長L1は、2段目フィルタ2のフィルタ長L2よりも大きく選定されている。2つのフィルタ1,2の間には、自由空間(幅d)が存在し、この自由空間内の電子ビーム通路上には、エネルギー選択スリット4が配置される。また、エネルギーフィルタWの入口部分及び出口部分には、初段フィルタ1及び2段目フィルタ2から発生する電磁界と周囲の電子光学要素の発生する電磁界との干渉を防止するためのシャント部材5,6が設けられている。
【0010】
前記初段フィルタ1及び2段目フィルタ2は、直交した電界と磁界を有するウィーンフィルタであり、例えば図2に示す構造を有している。図2において、zは電子ビームの光軸を示し、この光軸を挟むように磁極N及びSが対向配置される。さらに、この磁極の間隙には、対となる電極+,−が光軸を挟むように対向配置される。
【0011】
その結果、光軸及びその周囲には、y方向に磁界、x方向に電界が重畳した場が形成される。そのため、光軸に沿って入射した電子は、直交した電界と磁界により受ける力と個々の電子の持つエネルギーとにより決まる軌道を進むこととなる。
【0012】
図3は、図1のエネルギーフィルタ内における電子のZX面内及びZY面内の軌道を示す図である。図3では、円形断面の電子ビームが収束性を持って初段フィルタ1に入射するものとし、エネルギーフィルタの通過帯域の中心エネルギー値を持つ電子の軌道が黒い線で、中心エネルギー値からΔαずれたエネルギー値を持つ電子の軌道が灰色の線でそれぞれ描かれている。
【0013】
図3より、初段フィルタ1入射時に円形断面であった電子ビームは、ZX面軌道において、初段フィルタ1の中央部(L1/2)付近とスリット位置の2つの位置で収束し、一方、ZY面軌道においては、初段フィルタの出口付近で一度だけ収束し、2段目フィルタから再び円形断面の状態で出射することが分かる。このように、X方向とY方向で異なった位置に収束するようにすることは、ウィーンフィルタを構成する電界と磁界の強度を適切に選定することにより実現することができる。
【0014】
図4は、スリット面上での電子ビーム形状を示している。初段フィルタ1入射時に円形断面であった電子ビームは、スリット位置においては、X方向の幅が小さくY方向の幅が大きい楕円形あるいは線状の断面となっており、エネルギー値に応じてX方向の異なる位置を通る。従って、Y方向に長くX方向に適当な幅を持つスリットにより、所望のエネルギーを持つ電子のみを選択的に通過させることが出来る。
【0015】
ところで、このような形でエネルギーフィルタとして機能する実施例装置について、Boersch効果による影響を考察する。前述のごとく、低エネルギーの電子ビームがエネルギーフィルタを通過する場合、特にフィルタ内の収束点で電子が近接して飛行する時に相互に影響を与え合い、エネルギーが変化して拡がりを持ってしまい、エネルギー幅の狭い電子ビームを得ることが困難となるが、本実施例では、ZX面内で2回、ZY面内で1回電子ビームが収束するものの、ZX面内の収束位置とZY面内の収束位置は異なっているので、フィルタ内でビームが点状に収束することがない。すなわち、各収束位置におけるビームの断面形状は線状であり、点状に収束するような場合に比べ、電子の密度は格段に小さい。従って、Boersch効果による影響を、最小限に抑えることが出来る。
【0016】
上述した実施例では2つのフィルタを組み合わせたが、更に多数のフィルタを組み合わせて本発明のエネルギーフィルタを構成することが出来る。その場合、スリットは、ZX平面で2回目以降の収束位置に配置される。スリットをフィルタ内に設置することは困難なので、フィルタとフィルタの間の自由空間にスリットを配置することが必要となる。
【0017】
また、上記実施例では、磁界と電界が重畳されるウィーンフィルタを2段構成で用いたが、磁界と電界は完全に重畳される必要はなく、一部磁界または電界が単独で存在するような場を備えたエネルギーフィルタを複数段用いても、本発明のエネルギーフィルタを構成することが可能である。
【0018】
図5は、本発明のエネルギーフィルタを組み込んだ電子顕微鏡の構成を示す。図5(a)は、FEGと加速器の間に本発明のエネルギーフィルタを配置した例を示している。FEG11から発生した1keV〜数keV程度の比較的低いエネルギーの電子ビームは、入射アパーチャ12、減速部13、エネルギーフィルタ部14、加速部15、出射アパーチャ16から成る減速型エネルギーフィルタ17に入射する。この減速型エネルギーフィルタ17において、入射電子は減速部で数100eV程度のエネルギーに減速された後、フィルタ部14において所定のエネルギーを持つ電子のみが選択され、加速部15によって再び元のエネルギーを持つように加速されて出射アパーチャ17から出射する。エネルギーフィルタ部14は、図1に示された構造を有している。
【0019】
出射アパーチャ15から出射した電子ビームは、加速器18によって所望の高エネルギー(例えば200keV程度)まで加速された後、コンデンサレンズ群19及び対物レンズ20を介して試料21に照射される。
【0020】
図5(b)は、加速器の後段に本発明のエネルギーフィルタを配置した例を示している。この例では、FEG11から発生した1keV〜数keV程度の比較的低いエネルギーの電子ビームは、加速器18によって所望の高エネルギー(例えば200keV程度)まで加速された後、コンデンサレンズ22を介して入射アパーチャ12、減速部13、エネルギーフィルタ部14、加速部15、出射アパーチャ16から成る減速型エネルギーフィルタ17に入射する。この減速型エネルギーフィルタ17において、入射電子は減速部で数100eV程度のエネルギーに減速された後、フィルタ部14において所定のエネルギーを持つ電子のみが選択され、加速部15によって再び元のエネルギーを持つように加速されて出射アパーチャ17から出射する。エネルギーフィルタ部14は、図1に示された構造を有している。
【0021】
出射アパーチャ15から出射した電子ビームは、コンデンサレンズ群19及び対物レンズ20を介して試料21に照射される。
【0022】
この実施例では、減速型エネルギーフィルタ17の減速部13及び加速部14は、高エネルギーの電子を数100eV程度のエネルギーに減速し、更に元の高エネルギーに加速することが必要なため、本来の加速器18と同様多段電極による多段減速、多段加速とするのが好ましい。
【0023】
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。特に、エネルギーフィルタを設ける位置については上記実施形態に限らず試料の上流側であれば適宜な位置を選択することができる。
【0024】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のエネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡は、特定のエネルギーを持つ荷電粒子のみを通過させるために電場と磁場を組み合わせたエネルギーフィルタであって、該エネルギーフイルタ内を進行する荷電粒子が、進行方向に対して直交するX方向について複数回収束されると共に、該方向と直交するY方向について前記X方向の収束位置と異なる位置で収束するようにされており、エネルギー選択スリットが前記X方向における2回目以降の収束位置に配置されることを特徴としているため、Boersch効果による影響を低減出来るという大きな効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施したエネルギーフィルタの一例を示す図である。
【図2】ウィーンフィルタの構造を例示する図である。
【図3】図1のエネルギーフィルタ内における電子のZX面内及びZY面内の軌道を示す図である。
【図4】スリット面上での電子ビーム形状を示す図である。
【図5】本発明のエネルギーフィルタを組み込んだ電子顕微鏡の構成を示す図であり、(a)は、FEGと加速器の間に本発明のエネルギーフィルタを配置した例を示し、(b)は、加速器の後段に本発明のエネルギーフィルタを配置した例を示している。
【符号の説明】
0:電子ビームの中心軌道、1:初段フィルタ1、2:2段目フィルタ、3:自由空間、4:エネルギー選択スリット、5,6:シャント部材、11:FEG、12:入射アパーチャ、13:減速部、14:エネルギーフィルタ部、15:加速部、16:出射アパーチャ、17:減速型エネルギーフィルタ17、18:加速器、19:コンデンサレンズ群、20:対物レンズ、21:試料

Claims (7)

  1. 特定のエネルギーを持つ荷電粒子のみを通過させるために電場と磁場を組み合わせたエネルギーフィルタであって、該エネルギーフイルタ内を進行する荷電粒子が、進行方向に対して直交するX方向について複数回収束されると共に、該方向と直交するY方向について前記X方向の収束位置と異なる位置で収束するようにされており、エネルギー選択スリットが前記X方向における2回目以降の収束位置に配置されることを特徴とするエネルギーフィルタ。
  2. 前記エネルギーフィルタは間隔を置いて配置される2つのエネルギーフィルタから成り、前記エネルギースリットは該2つのエネルギーフィルタの間に配置されることを特徴とする請求項1記載のエネルギーフィルタ。
  3. 前記2つのエネルギーフィルタはウィーンフィルタである請求項記載のエネルギーフィルタ。
  4. 電子銃から発生した電子ビームを、特定のエネルギーを持つ電子のみを通過させるエネルギーフィルタを介して試料に入射させるようにした電子顕微鏡において、該エネルギーフィルタは、特定のエネルギーを持つ電子のみを通過させるために電場と磁場を組み合わせたエネルギーフィルタであって、該エネルギーフイルタ内を進行する電子が、進行方向に対して直交するX方向について複数回収束されると共に、該方向と直交するY方向について前記X方向の収束位置と異なる位置で収束するようにされており、エネルギー選択スリットが前記X方向における2回目以降の収束位置に配置されることを特徴とする電子顕微鏡。
  5. 前記エネルギーフィルタへの入射電子を減速する減速部及び該エネルギーフィルタから出射する電子を加速する加速部が設けられていることを特徴とする請求項4記載の電子顕微鏡。
  6. 前記エネルギーフィルタは間隔を置いて配置される2つのエネルギーフィルタから成り、前記エネルギースリットは該2つのエネルギーフィルタの間に配置されることを特徴とする請求項4または5記載の電子顕微鏡。
  7. 前記2つのエネルギーフィルタはウィーンフィルタである請求項6記載の電子顕微鏡。
JP19080399A 1999-07-05 1999-07-05 エネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡 Expired - Fee Related JP3757371B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19080399A JP3757371B2 (ja) 1999-07-05 1999-07-05 エネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡
EP00305561A EP1067576B1 (en) 1999-07-05 2000-07-03 Energy filter and electron microscope using the same
DE60032972T DE60032972T2 (de) 1999-07-05 2000-07-03 Energiefilter und seine Verwendung in einem Elektronenmikroskop
US09/610,126 US6407384B1 (en) 1999-07-05 2000-07-05 Energy filter and electron microscope using same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19080399A JP3757371B2 (ja) 1999-07-05 1999-07-05 エネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001023558A JP2001023558A (ja) 2001-01-26
JP3757371B2 true JP3757371B2 (ja) 2006-03-22

Family

ID=16264014

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19080399A Expired - Fee Related JP3757371B2 (ja) 1999-07-05 1999-07-05 エネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6407384B1 (ja)
EP (1) EP1067576B1 (ja)
JP (1) JP3757371B2 (ja)
DE (1) DE60032972T2 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4074185B2 (ja) 2002-12-17 2008-04-09 日本電子株式会社 エネルギーフィルタ及び電子顕微鏡
US7205542B1 (en) 2005-11-14 2007-04-17 Kla-Tencor Technologies Corporation Scanning electron microscope with curved axes
RU2362234C1 (ru) 2007-10-03 2009-07-20 Вячеслав Данилович Саченко Корпускулярно-оптическая система формирования изображения (варианты)
JP5492306B2 (ja) 2010-10-15 2014-05-14 株式会社日立ハイテクノロジーズ 電子ビーム装置
US9111715B2 (en) * 2011-11-08 2015-08-18 Fei Company Charged particle energy filter
US9053900B2 (en) 2012-04-03 2015-06-09 Kla-Tencor Corporation Apparatus and methods for high-resolution electron beam imaging
US8859982B2 (en) 2012-09-14 2014-10-14 Kla-Tencor Corporation Dual-lens-gun electron beam apparatus and methods for high-resolution imaging with both high and low beam currents
US9443696B2 (en) * 2014-05-25 2016-09-13 Kla-Tencor Corporation Electron beam imaging with dual Wien-filter monochromator

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7012388A (ja) * 1970-08-21 1972-02-23
US3805057A (en) * 1971-03-22 1974-04-16 Hitachi Ltd Energy analyzer of coaxial cylindrical type
NL7404363A (nl) * 1974-04-01 1975-10-03 Philips Nv Elektronenmikroskoop met energieanalysator.
NL7415318A (nl) * 1974-11-25 1976-05-28 Philips Nv Wienfilter.
JPS5830697B2 (ja) * 1977-08-29 1983-06-30 株式会社日立製作所 荷電粒子エネルギ−分析装置
JPS59837A (ja) * 1982-06-23 1984-01-06 Fujitsu Ltd ウイ−ン・フイルタ
DE3841715A1 (de) * 1988-12-10 1990-06-13 Zeiss Carl Fa Abbildender korrektor vom wien-typ fuer elektronenmikroskope
US5097126A (en) * 1990-09-25 1992-03-17 Gatan, Inc. High resolution electron energy loss spectrometer
JPH05290800A (ja) * 1992-04-08 1993-11-05 Jeol Ltd 収差補正機能を備えたエネルギアナライザ
WO1997044811A1 (en) * 1996-05-21 1997-11-27 Philips Electronics N.V. Correction device for the correction of lens aberrations in particle-optical apparatus
US6111253A (en) * 1997-09-01 2000-08-29 Jeol Ltd. Transmission electron microscope
AU6358799A (en) * 1999-06-16 2001-01-02 Shimadzu Research Laboratory (Europe) Ltd Electrically-charged particle energy analysers

Also Published As

Publication number Publication date
EP1067576B1 (en) 2007-01-17
DE60032972D1 (de) 2007-03-08
JP2001023558A (ja) 2001-01-26
US6407384B1 (en) 2002-06-18
EP1067576A2 (en) 2001-01-10
DE60032972T2 (de) 2007-11-08
EP1067576A3 (en) 2001-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4315153A (en) Focusing ExB mass separator for space-charge dominated ion beams
JP2627062B2 (ja) 粒子線装置
US6326631B1 (en) Ion implantation device arranged to select neutral ions from the ion beam
US8274046B1 (en) Monochromator for charged particle beam apparatus
US6495826B2 (en) Monochrometer for electron beam
JPH02142045A (ja) 荷電粒子線応用装置
JP3757371B2 (ja) エネルギーフィルタ及びそれを用いた電子顕微鏡
US7135677B2 (en) Beam guiding arrangement, imaging method, electron microscopy system and electron lithography system
US6111253A (en) Transmission electron microscope
JP2004199929A (ja) エネルギーフィルタ及び電子顕微鏡
US6844548B2 (en) Wien filter and electron microscope using same
CN114256043A (zh) 一种电子束系统
US5317161A (en) Ion source
JP2000505589A (ja) 質量選別器
JP3696827B2 (ja) エネルギーフィルタ
JP2003331764A (ja) エネルギーフィルタ
JP2001357809A (ja) 電子ビーム用モノクロメータ
JP3967694B2 (ja) 飛行時間型質量分析装置
JP3790646B2 (ja) 低エネルギー反射電子顕微鏡
JP3006581B2 (ja) 荷電粒子線応用装置
JP3844253B2 (ja) 粒子ビーム色収差補償コラム
US5406178A (en) Pulse beam forming method and apparatus
JPH11135047A (ja) 透過型電子顕微鏡
JP3031378B2 (ja) 荷電粒子線応用装置
JP3139484B2 (ja) 荷電粒子線顕微方法

Legal Events

Date Code Title Description
RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20040210

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040615

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050926

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051005

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051102

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20051214

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20051215

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100113

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110113

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110113

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120113

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130113

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130113

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140113

Year of fee payment: 8

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees
S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350