JP3742228B2 - パターン修正装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板に形成されたパターンのパターン修正装置に関し、なかでも液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)基板、プラズマディスプレイ(PDP:Plasma Display Panel)基板、プリント基板等に形成されたパターンのパターン修正装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＣＤやＰＤＰなどのフラットディスプレイは、精力的に高精細化が推進されつつある。これに伴い、基板に形成されるパターンである電極線等のパターン幅もますます細くなり、断線等のオープン欠陥が発生する確率が高くなってきている。これら断線等のオープン欠陥を補修する方法として、ペーストを針の先端部に付着させ、この先端部を欠陥部に触れさせることによってペーストを欠陥部に移行させる方法が特開平８−２９２４４２号公報等に開示されている。
【０００３】
図６は、上記の方法で用いられる装置の正面図である。同図において、パターン欠陥部を観察する光学装置３１の光学軸２１と、ペーストを移行させる針１との間にはオフセット距離４１が存在する。欠陥を修正するときには、光学装置で観察した欠陥部の位置に、針をオフセット距離４１だけ移動しなければならない。ここで、針１は光学軸２１の右後方に位置するので、位置合わせのためのオフセット移動は２軸方向の移動となる。
【０００４】
図７は、従来の装置のペースト容器等を搭載した部分を示す図である。同図において、針１は、位置決めアクチュエータ２によって駆動され上下方向に運動する。針とペーストとを備える塗布手段は、パターン欠陥部の上方にオフセット距離だけ移動する。次に、ペーストを搭載した回転円板７が回転され、ペースト容器３の中に針が浸漬され、ペーストを針に付着させる。その後、回転円板７の切欠き部８から針１が降下して、基板（図示せず）上に形成されたパターンの欠陥部にペーストを移行させる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
高精細化が推進されつつあるフラットディスプレイに対応するためには、上記のパターン修正装置における修正箇所とペースト塗布手段の位置合わせの精度を高める必要がある。したがって、上記の従来のパターン修正装置では、基板上のパターンの全範囲にわたって高精度に移動するテーブルが必要となり、コストのみならず技術的事項においても問題を生じていた。
【０００６】
本発明の主たる目的は、従来よりもコンパクトな構造の実現により、オフセット距離を極力小さくし、高精度の位置合わせを簡便に行なうことができるパターン修正装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の補修装置の最も基本的な構成は次のものである。すなわち、基板上に形成されたパターンの修正箇所を検出する手段によって検出して、インクまたはペーストを塗布手段によって修正箇所に塗布する機構を備えるパターン修正装置であって、上記の塗布手段は、針を上下に移動させる針上下動機構と、インクまたはペーストを塗布手段の下に直線的に移動させ、かつ直線的に復帰させるインクまたはペースト移動機構とを備えるパターン修正装置の構成とする。
【０００８】
上記の構成により、ペースト等の搭載機構を小さなスペースに収納することができ、その結果、オフセット距離を小さくすることができ、簡便に高精度の修正が可能となる。
【０００９】
上記の位置合わせは次の機構による場合が多い。すなわち、上記のパターン修正装置は、針が修正箇所の位置に合うように、塗布手段を移動させる塗布手段移動機構をさらに備える場合が多い。
【００１０】
上記の構成をとることにより、簡便に高精度な修正作業が可能となる。なお、この塗布手段移動機構には、門柱構造、１軸テーブル、とくに精密小ストローク１軸テーブル等が含まれる。オフセット距離を小さくすることができる効果として、上記のように、小ストロークの精密１軸テーブルの移動で足りる移動距離となり、その結果、低コストで、さらに高精度の修正作業が簡便にできるようになる。
【００１１】
上記の塗布手段は、インクまたはペースト移動機構の移動方向に沿って配列された複数のインクまたはペーストを載置する載置板をさらに備え、上記の塗布手段移動機構の移動方向は、インクまたはペースト移動機構の移動方向と、ほぼ直角をなすように配置する場合が多い。
【００１２】
装置を構成する各機構部分に、上記の方向の移動をさせることにより、各構造をコンパクトに配置することができる。その結果、オフセット距離を大幅に減少させ、上記したように、小ストローク１軸精密テーブル等を用いることができ、高精度の修正が簡便にできるようになった。
【００１３】
【発明の実施の形態】
図１は、ペースト類を載置した載置板１１と針９の部分の、本発明例を示す図である。針９は、保持部２０を介して位置決めアクチュエータ１０の駆動軸先端に取付けられている。ここで、ペースト類とは、インクおよびペーストをいう。針９の先端部に付着されたペーストの移行は、針を垂直方向に駆動させる位置決めアクチュエータ１０によって、針先端部をパターン修正箇所に触れさせることによってなされる。
【００１４】
また、載置板１１は、ガイド連結板１９を介して、ペースト移動機構の主要装置である位置決めアクチュエータ１２によって水平方向に駆動される。載置板１１には、複数のペースト容器１３〜１６のほかに、針洗浄部１７およびエアパージ部１８とが備えられている。
【００１５】
上記の載置板１１を採用することにより、ペーストを針９の先端部に付着させる動き、すなわち、ペースト移動機構の動きを、載置板の針の方向への直線運動とすることが可能となった。その結果、ペーストの収納とペースト移動機構との配置を、オフセット距離を短くしやすい配置とすることができた。その結果、最終的に、高精度で簡便な修正が可能となった。
【００１６】
次に、パターン修正の動作について説明する。
まず、塗布手段移動機構によって、針９を、パターン修正箇所の上方の所定位置に合うように、１軸方向の移動によりオフセット移動する。次いで、載置板１１を、ペースト移動機構の主要装置である位置決めアクチュエータ１２により直進させ、使用するペーストが収納されたペースト容器１３を針９の下方に位置させる。
【００１７】
次に、針上下機構の主要装置である位置決めアクチュエータ１０によって針を上下させ、針の先端部にペーストを付着させた後、搭載板１１を位置決めアクチュエータ１２により元の位置に復帰させる。その後、針を降下させてパターン欠陥部にペーストを移行させる。
【００１８】
ペースト類容器１３〜１６（ペースト容器１３、赤インク容器１４、緑インク容器１５、青インク容器１６）、針洗浄部１７およびエアパージ部１８を載置した載置板１１を位置決めアクチュエータ１２により直動させることにより、上記したように、取付面積の小さいコンパクトな機構が可能となった。
【００１９】
次に、光学装置によって認識したパターン修正箇所と、塗布手段に含まれる針９との位置を合わせるオフセット移動の機構、すなわち塗布手段移動機構について説明する。
【００２０】
図２は、本発明例であるパターン修正装置における、光学装置３１の光学軸２１と針９と載置板１１の位置関係を示す図である。針９は光学軸２１のＹ軸方向の後方に配置されている。この位置関係において、位置合わせの塗布手段移動、すなわち、オフセット移動を行う３つの方法がある。
【００２１】
まず、１番目は、基板が取り付けられたＹテーブルにより位置合わせのオフセット移動を行なう方法（ＸＹ分離型）である。
【００２２】
図３は、基板が取付けられたＹテーブル２２により、オフセット移動を行なう装置の機構を示す図である。基板が搭載されたＹテーブル２２は、光学装置により光学軸２１の真下で観察されたパターン修正箇所を、固定された針９の下方に移動させる。
【００２３】
２番目の方法として、門柱構造２３に取り付けられた塗布手段をオフセット移動させ、固定された基板中のパターン修正箇所に位置合わせする方法（ガントリー型）がある。
【００２４】
図４は、門柱構造の移動によりオフセット移動を行なう装置の機構を示す図である。基板が搭載されているテーブルの移動はなく、門柱構造をＹ軸方向に移動させ、光学装置で観察したパターン修正箇所の上方に針９を移動させ、位置合わせを行なう。
【００２５】
３番目に、精密小ストローク１軸テーブルによりオフセット移動を行ない、位置合わせをする方法について説明する。
【００２６】
図５は、塗布手段が取り付けられた精密小ストローク１軸テーブルによりオフセット移動を行なう装置の機構を示す図である。このパターン修正装置は、光学装置の光学軸２１と針９との間のオフセット距離４１を移動するための精密小ストローク１軸テーブル２４を備える。すなわち、塗布手段移動機構の主要装置として、精密小ストローク１軸テーブルを用いている。光学装置により観察し、認識したパターン修正箇所に、精密小ストローク１軸テーブル２４により、針９を移動させ、位置合わせを行う。
【００２７】
本発明においては、上記の３つの装置のうちのいかなる装置によっても、位置合わせを行なうことが可能である。
【００２８】
上記のように、本発明の装置によれば、ペースト等載置部に直線運動を行なわせることによりペースト載置部分をコンパクトにすることができ、その結果、オフセット距離を小さくでき、高精度の修正が簡便にできるようになった。
【００２９】
上記において、本発明の実施の形態について説明を行ったが、上記に開示された実施の形態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの実施の形態に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むことが意図されている。その意味で、部品「針」は、針だけに限定されるものではなく、針またはディスペンサでも良い。
【００３０】
【発明の効果】
本発明により、ペースト載置部と移動機構をコンパクトにすることが可能となり、それによってオフセット距離を小さくでき、安価な手段により修正位置の精度の向上が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】針と載置板の駆動部分を示す本発明例の見取図である。
【図２】光学装置の光学軸と針と載置板の位置関係を示す本発明例の見取図である。
【図３】Ｙテーブルにより基板をオフセット移動させる本発明例の側面図である。
【図４】門柱移動により針をオフセット移動させる本発明例の側面図である。
【図５】精密小ストローク１軸テーブルにより針をオフセット移動させる本発明例の側面図である。
【図６】光学装置の光学軸と針との配置を示す従来装置の正面図である。
【図７】回転機構によりペーストを針に付着させる従来装置を示す見取図である。
【符号の説明】
１ 針
２ 位置決めアクチュエータ
３，４，５，６ ペースト容器
７ 回転円板
８ 切欠き部
９ 針
１０ 位置決めアクチュエータ
１１ 搭載板
１２ 位置決めアクチュエータ
１３，１４，１５，１６ ペースト類容器（１３ ペースト容器、１４ 赤インク容器、１５ 緑インク容器、１６ 青インク容器）
１７ 針洗浄部
１８ エアパージ部
１９ ガイド連結板
２０ 針保持部
２１ 光学装置の光学軸
２２ Ｙテーブル
２３ 門柱構造
２４ 精密小ストローク１軸テーブル
３１ 光学装置
４１ オフセット距離
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板に形成されたパターンのパターン修正装置に関し、なかでも液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)基板、プラズマディスプレイ(PDP:Plasma Display Panel)基板、プリント基板等に形成されたパターンのパターン修正装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＣＤやＰＤＰなどのフラットディスプレイは、精力的に高精細化が推進されつつある。これに伴い、基板に形成されるパターンである電極線等のパターン幅もますます細くなり、断線等のオープン欠陥が発生する確率が高くなってきている。これら断線等のオープン欠陥を補修する方法として、ペーストを針の先端部に付着させ、この先端部を欠陥部に触れさせることによってペーストを欠陥部に移行させる方法が特開平８−２９２４４２号公報等に開示されている。
【０００３】
図６は、上記の方法で用いられる装置の正面図である。同図において、パターン欠陥部を観察する光学装置３１の光学軸２１と、ペーストを移行させる針１との間にはオフセット距離４１が存在する。欠陥を修正するときには、光学装置で観察した欠陥部の位置に、針をオフセット距離４１だけ移動しなければならない。ここで、針１は光学軸２１の右後方に位置するので、位置合わせのためのオフセット移動は２軸方向の移動となる。
【０００４】
図７は、従来の装置のペースト容器等を搭載した部分を示す図である。同図において、針１は、位置決めアクチュエータ２によって駆動され上下方向に運動する。針とペーストとを備える塗布手段は、パターン欠陥部の上方にオフセット距離だけ移動する。次に、ペーストを搭載した回転円板７が回転され、ペースト容器３の中に針が浸漬され、ペーストを針に付着させる。その後、回転円板７の切欠き部８から針１が降下して、基板（図示せず）上に形成されたパターンの欠陥部にペーストを移行させる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
高精細化が推進されつつあるフラットディスプレイに対応するためには、上記のパターン修正装置における修正箇所とペースト塗布手段の位置合わせの精度を高める必要がある。したがって、上記の従来のパターン修正装置では、基板上のパターンの全範囲にわたって高精度に移動するテーブルが必要となり、コストのみならず技術的事項においても問題を生じていた。
【０００６】
本発明の主たる目的は、従来よりもコンパクトな構造の実現により、オフセット距離を極力小さくし、高精度の位置合わせを簡便に行なうことができるパターン修正装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の補修装置の最も基本的な構成は次のものである。すなわち、基板上に形成されたパターンの修正箇所を検出する手段によって検出して、インクまたはペーストを塗布手段によって修正箇所に塗布する機構を備えるパターン修正装置であって、上記の塗布手段は、針を上下に移動させる針上下動機構と、インクまたはペーストを塗布手段の下に直線的に移動させ、かつ直線的に復帰させるインクまたはペースト移動機構とを備えるパターン修正装置の構成とする。
【０００８】
上記の構成により、ペースト等の搭載機構を小さなスペースに収納することができ、その結果、オフセット距離を小さくすることができ、簡便に高精度の修正が可能となる。
【０００９】
上記の位置合わせは次の機構による場合が多い。すなわち、上記のパターン修正装置は、針が修正箇所の位置に合うように、塗布手段を移動させる塗布手段移動機構をさらに備える場合が多い。
【００１０】
上記の構成をとることにより、簡便に高精度な修正作業が可能となる。なお、この塗布手段移動機構には、門柱構造、１軸テーブル、とくに精密小ストローク１軸テーブル等が含まれる。オフセット距離を小さくすることができる効果として、上記のように、小ストロークの精密１軸テーブルの移動で足りる移動距離となり、その結果、低コストで、さらに高精度の修正作業が簡便にできるようになる。
【００１１】
上記の塗布手段は、インクまたはペースト移動機構の移動方向に沿って配列された複数のインクまたはペーストを載置する載置板をさらに備え、上記の塗布手段移動機構の移動方向は、インクまたはペースト移動機構の移動方向と、ほぼ直角をなすように配置する場合が多い。
【００１２】
装置を構成する各機構部分に、上記の方向の移動をさせることにより、各構造をコンパクトに配置することができる。その結果、オフセット距離を大幅に減少させ、上記したように、小ストローク１軸精密テーブル等を用いることができ、高精度の修正が簡便にできるようになった。
【００１３】
【発明の実施の形態】
図１は、ペースト類を載置した載置板１１と針９の部分の、本発明例を示す図である。針９は、保持部２０を介して位置決めアクチュエータ１０の駆動軸先端に取付けられている。ここで、ペースト類とは、インクおよびペーストをいう。針９の先端部に付着されたペーストの移行は、針を垂直方向に駆動させる位置決めアクチュエータ１０によって、針先端部をパターン修正箇所に触れさせることによってなされる。
【００１４】
また、載置板１１は、ガイド連結板１９を介して、ペースト移動機構の主要装置である位置決めアクチュエータ１２によって水平方向に駆動される。載置板１１には、複数のペースト容器１３〜１６のほかに、針洗浄部１７およびエアパージ部１８とが備えられている。
【００１５】
上記の載置板１１を採用することにより、ペーストを針９の先端部に付着させる動き、すなわち、ペースト移動機構の動きを、載置板の針の方向への直線運動とすることが可能となった。その結果、ペーストの収納とペースト移動機構との配置を、オフセット距離を短くしやすい配置とすることができた。その結果、最終的に、高精度で簡便な修正が可能となった。
【００１６】
次に、パターン修正の動作について説明する。
まず、塗布手段移動機構によって、針９を、パターン修正箇所の上方の所定位置に合うように、１軸方向の移動によりオフセット移動する。次いで、載置板１１を、ペースト移動機構の主要装置である位置決めアクチュエータ１２により直進させ、使用するペーストが収納されたペースト容器１３を針９の下方に位置させる。
【００１７】
次に、針上下機構の主要装置である位置決めアクチュエータ１０によって針を上下させ、針の先端部にペーストを付着させた後、搭載板１１を位置決めアクチュエータ１２により元の位置に復帰させる。その後、針を降下させてパターン欠陥部にペーストを移行させる。
【００１８】
ペースト類容器１３〜１６（ペースト容器１３、赤インク容器１４、緑インク容器１５、青インク容器１６）、針洗浄部１７およびエアパージ部１８を載置した載置板１１を位置決めアクチュエータ１２により直動させることにより、上記したように、取付面積の小さいコンパクトな機構が可能となった。
【００１９】
次に、光学装置によって認識したパターン修正箇所と、塗布手段に含まれる針９との位置を合わせるオフセット移動の機構、すなわち塗布手段移動機構について説明する。
【００２０】
図２は、本発明例であるパターン修正装置における、光学装置３１の光学軸２１と針９と載置板１１の位置関係を示す図である。針９は光学軸２１のＹ軸方向の後方に配置されている。この位置関係において、位置合わせの塗布手段移動、すなわち、オフセット移動を行う３つの方法がある。
【００２１】
まず、１番目は、基板が取り付けられたＹテーブルにより位置合わせのオフセット移動を行なう方法（ＸＹ分離型）である。
【００２２】
図３は、基板が取付けられたＹテーブル２２により、オフセット移動を行なう装置の機構を示す図である。基板が搭載されたＹテーブル２２は、光学装置により光学軸２１の真下で観察されたパターン修正箇所を、固定された針９の下方に移動させる。
【００２３】
２番目の方法として、門柱構造２３に取り付けられた塗布手段をオフセット移動させ、固定された基板中のパターン修正箇所に位置合わせする方法（ガントリー型）がある。
【００２４】
図４は、門柱構造の移動によりオフセット移動を行なう装置の機構を示す図である。基板が搭載されているテーブルの移動はなく、門柱構造をＹ軸方向に移動させ、光学装置で観察したパターン修正箇所の上方に針９を移動させ、位置合わせを行なう。
【００２５】
３番目に、精密小ストローク１軸テーブルによりオフセット移動を行ない、位置合わせをする方法について説明する。
【００２６】
図５は、塗布手段が取り付けられた精密小ストローク１軸テーブルによりオフセット移動を行なう装置の機構を示す図である。このパターン修正装置は、光学装置の光学軸２１と針９との間のオフセット距離４１を移動するための精密小ストローク１軸テーブル２４を備える。すなわち、塗布手段移動機構の主要装置として、精密小ストローク１軸テーブルを用いている。光学装置により観察し、認識したパターン修正箇所に、精密小ストローク１軸テーブル２４により、針９を移動させ、位置合わせを行う。
【００２７】
本発明においては、上記の３つの装置のうちのいかなる装置によっても、位置合わせを行なうことが可能である。
【００２８】
上記のように、本発明の装置によれば、ペースト等載置部に直線運動を行なわせることによりペースト載置部分をコンパクトにすることができ、その結果、オフセット距離を小さくでき、高精度の修正が簡便にできるようになった。
【００２９】
上記において、本発明の実施の形態について説明を行ったが、上記に開示された実施の形態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの実施の形態に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むことが意図されている。その意味で、部品「針」は、針だけに限定されるものではなく、針またはディスペンサでも良い。
【００３０】
【発明の効果】
本発明により、ペースト載置部と移動機構をコンパクトにすることが可能となり、それによってオフセット距離を小さくでき、安価な手段により修正位置の精度の向上が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】針と載置板の駆動部分を示す本発明例の見取図である。
【図２】光学装置の光学軸と針と載置板の位置関係を示す本発明例の見取図である。
【図３】Ｙテーブルにより基板をオフセット移動させる本発明例の側面図である。
【図４】門柱移動により針をオフセット移動させる本発明例の側面図である。
【図５】精密小ストローク１軸テーブルにより針をオフセット移動させる本発明例の側面図である。
【図６】光学装置の光学軸と針との配置を示す従来装置の正面図である。
【図７】回転機構によりペーストを針に付着させる従来装置を示す見取図である。
【符号の説明】
１ 針
２ 位置決めアクチュエータ
３，４，５，６ ペースト容器
７ 回転円板
８ 切欠き部
９ 針
１０ 位置決めアクチュエータ
１１ 搭載板
１２ 位置決めアクチュエータ
１３，１４，１５，１６ ペースト類容器（１３ ペースト容器、１４ 赤インク容器、１５ 緑インク容器、１６ 青インク容器）
１７ 針洗浄部
１８ エアパージ部
１９ ガイド連結板
２０ 針保持部
２１ 光学装置の光学軸
２２ Ｙテーブル
２３ 門柱構造
２４ 精密小ストローク１軸テーブル
３１ 光学装置
４１ オフセット距離
Claims (3)
- 基板上に形成されたパターンの修正箇所を検出する手段によって検出して、インクまたはペーストを塗布手段によって前記修正箇所に塗布する機構を備えるパターン修正装置であって、
前記塗布手段は、
針を上下に移動させる針上下動機構と、
前記インクまたはペーストを前記塗布手段の下に直線的に移動させ、かつ直線的に復帰させるインクまたはペースト移動機構とを備えるものであるパターン修正装置。 - 前記パターン修正装置は、前記針が前記修正箇所の位置に合うように、前記塗布手段を移動させる塗布手段移動機構をさらに備える請求項１に記載のパターン修正装置。
- 前記塗布手段は、前記インクまたはペースト移動機構の移動方向に沿って配列された複数のインクまたはペーストを載置する載置板をさらに備え、
前記塗布手段移動機構の移動方向は、前記インクまたはペースト移動機構の移動方向と、ほぼ直角をなす請求項２に記載のパターン修正装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22692298A JP3742228B2 (ja) | 1998-08-11 | 1998-08-11 | パターン修正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22692298A JP3742228B2 (ja) | 1998-08-11 | 1998-08-11 | パターン修正装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000055615A JP2000055615A (ja) | 2000-02-25 |
| JP3742228B2 true JP3742228B2 (ja) | 2006-02-01 |
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ID=16852714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22692298A Expired - Fee Related JP3742228B2 (ja) | 1998-08-11 | 1998-08-11 | パターン修正装置 |
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|---|---|
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101288821B1 (ko) | 2006-09-20 | 2013-07-23 | 에텔 쏘시에떼 아노님 | 갠트리 디자인의 위치 조정 장치 |
Families Citing this family (3)
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|---|---|---|---|---|
| KR100905794B1 (ko) | 2003-01-20 | 2009-07-02 | 엘지전자 주식회사 | 평면 디스플레이용 리페어 시스템의 페이스트 도포 장치 |
| KR101547829B1 (ko) * | 2013-12-16 | 2015-09-04 | 주식회사 두성테크 | 전자부품 검사장비 및 그 운전 방법 |
| CN104132598B (zh) * | 2014-07-31 | 2016-08-24 | 豪利机械(苏州)有限公司 | 量具校正仪 |
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1998
- 1998-08-11 JP JP22692298A patent/JP3742228B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101288821B1 (ko) | 2006-09-20 | 2013-07-23 | 에텔 쏘시에떼 아노님 | 갠트리 디자인의 위치 조정 장치 |
Also Published As
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|---|---|
| JP2000055615A (ja) | 2000-02-25 |
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