JP3741565B2 - 太陽電池およびその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、太陽電池とその製造方法に関し、PN接合の形成を改良した太陽電池とその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
図8に従って、従来の太陽電池の製造方法の一例を説明する。ここでは、基板101が、不純物濃度が3×1015から4×1016cm-3で、結晶軸が(100)の主面をもつ、シリコン基板からなるp型半導体基板が用いられている。
【0003】
図8(a)において、まず、基板101の受光面に光の反射を低減する「テクスチャ表面」を形成するために、数%の水酸化ナトリウムを含む水溶液中にイソプロピルアルコールを添加して80〜90℃の温度でシリコン基板101を20〜30分間処理する。これにより、基板101の受光面に多くの微細な凹凸が形成される。
次に、図8(b)において、リン化合物などの拡散源および反射防止膜102を形成するための酸化チタン等を含む薬剤102aをP型半導体基板101の主面にスピン法で塗布する。
【0004】
次に、図8(c)において、900℃前後の温度で数十分間熱処理を行い、約0.4ミクロンのn+層103を形成すると同時に反射防止膜102を形成する。これにより、基板101の主面のみならず、基板101の側面及び裏面にも形成されたn+層103あるいはn+層104が、P型半導体基板101との間にPN接合を形成する。しかし、上記シリコン基板101の全表面にn+層が形成されていると、この太陽電池に負電極(n側)と正電極(p側)を形成する際に両電極の間が短絡されて、太陽電池セルの良好な電気特性が得られない。したがって、少なくともシリコン基板101の裏面の不要なn+層104を除去し、それによってPN接合を一方の電極から分離する必要がある。
【0005】
そこで、次に図8(d)において、反射防止膜102上に耐酸性のレジスト105を、例えばスクリーン印刷法によって形成し、その後、フッ酸と硝酸の混酸(HF:HNO3 =1:3)でエッチングすることによって、基板101の側面及び裏面のn+層104を除去する。次いで、図8(e)において、レジスト層105をトルエン、キシレン等の溶剤を用いて除去する。
【0006】
図8(f)において、銀を含むペースト106aとアルミニウムを含むペースト107aをそれぞれ所定のパターンで印刷して乾燥した後、700〜800℃で熱処理する。このとき、アルミニウムとシリコンが合金化してアルミ電極107が形成されるともに、このアルミ電極107の裏側にp+層108が形成される。このp+層108は約5μmの厚みを有し、バック・サーフェイス・フィールド(Back Surface Field、略称BSF)と呼ばれる背面電界構造を形成する。このBSF構造は、通常、p+層108、p型半導体基板101及びn+層103で形成されるp+pn+構造により、p+p接合付近で形成された電子を、そこでの内部電界によって表面方向に引き戻して裏面におけるキャリアの再結合を減少させるとともに、p+層が拡散ポテンシャルを増大させて開放電圧を高める効果(以下、BSF効果という)を生じる。
【0007】
図8(g)において、反射防止膜102上に、銀を含むペースト109aを所定のパターンで印刷して乾燥した後、基板101を700〜800℃で熱処理して表面銀電極109を形成する。このとき、表面銀電極109は反射防止膜102を貫通してn+層103とオーミック接続を形成する。次いで、図8(h)において、上記表面銀電極109および裏面銀電極106の表面に、はんだ110を被覆して太陽電池が完成する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
上記した太陽電池を製造するに際し、n+層104を除去するためにレジスト印刷工程、エッチング工程、レジスト除去工程を必要とし、太陽電池の製造コストが高くなるという問題がある。この問題の解決のために、特開平2−33980号公報には、PN接合を形成する基板の裏面に予めマスク材を形成しておくことにより、レジスト除去工程を不要とする方法が記載されている。しかし、マスク材と裏面のアルミ電極の「重なり部分」が大きいと、アルミ電極を用いることによって得られるBSF効果が阻害されるという問題がある。
【0009】
さらに、特開平7−135333号公報には、上記と同様にマスク材を形成するとともに、後でマスク材を除去する方法が記載されている。マスク材の除去により、BSF効果を有効に利用できるが、このマスク材の除去工程は太陽電池の製造コストの低減を妨げる要因となる。
【0010】
本発明は、上記のような問題点に鑑みてなされたものであり、高いBSF効果を有するとともに、製造工程の簡略化が図られた太陽電池及びその製造方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、PN接合が形成された半導体基板と、半導体基板の裏面に形成されたマスク材と、半導体基板の裏面に形成された裏面電極とを有し、マスク材は、PN接合の少なくとも一部を分離するとともに裏面電極のBSF構造を妨げない部位に形成されたことを特徴とする太陽電池が提供される。
【0012】
すなわち、従来から、PN接合を基板の表面に成膜する工程で、半導体基板の裏面を含めた全面にPN接合が形成されると、形成された太陽電池の負極と正極が短絡されて電気的特性が低下するため、基板の一部の表面にマスク材を形成してPN接合を分離する手法が用いられている。一方、PN接合と対向する基板の裏面に裏面電極の形成と同時に、BSF構造を形成する手法が従来から用いられている。この発明の太陽電池は、マスク材と裏面電極の互いの位置関係の最適化を図ることにより、マスク材によるPN接合の確実な分離と有効なBSF構造の形成を保証するものである。
【0013】
この発明における裏面電極のBSF構造とは、基板の表面のPN接合及び裏面電極の不純物拡散によるp+層で形成されるp+pn+構造であり、このp+pn+構造により、p+p接合付近で形成された電子を、そこでの内部電界によって表面方向に引き戻して裏面におけるキャリアの再結合を減少させるとともに、p+層が拡散ポテンシャルを増大させて開放電圧を高める効果を生じる。
【0014】
この発明において、マスク材と裏面電極の互いの位置関係には2つの条件があり、1つはマスク材と裏面電極とが半導体基板の裏面で重ならないことであり、もう1つは、マスク材と裏面電極とが重なり部分を有して形成されてもよいが、その場合には、両者の重なり部分において、マスク材の厚みが0.1〜0.2μmであること及び/またはマスク材の幅が2mmを超えないことである。
【0015】
また、本発明によれば、半導体基板の一面にチタンを含むドーパント液を塗布した後、熱処理を行いPN接合と反射防止膜を同時に形成する工程と、チタンを溶媒中に含むマスク材塗布液を半導体基板の裏面に塗布してマスク材を形成する工程と、裏面電極を半導体基板の裏面に形成する工程とを含む太陽電池の製造方法において、マスク材を裏面電極と重ならない部位に形成することを特徴とする太陽電池の製造方法が提供される。
【0016】
この発明の太陽電池の製造は、具体的には、半導体基板の一主面に二酸化チタンを含むドーパント液を塗布する一方、他主面にPN接合の形成を防止する少なくともチタン酸アルキルを溶媒中に含むマスク液を塗布する工程、熱処理によって一主面にPN接合を形成する工程、他主面に電気的に接続された裏面銀電極とアルミ電極を形成する工程、一主面におけるPN接合上に表面銀電極を形成する工程からなるものが挙げられる。
【0017】
この発明の太陽電池の製造において、半導体基板が丸形であれば、チタンを溶媒中に含むマスク液を、スピンコータを用いて基板上の電極形成部位に重ならないよう塗布してマスク材を形成することができる。また、半導体基板が角形であれば、マスク液を用いて、スクリーン印刷により基板上の電極形成部位に重ならないようマスク材を形成することができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、この発明を実施例により説明する。図1は、本発明の太陽電池の構成の一例を示す。太陽電池20は、p型半導体基板1と、基板1の一主面に形成された反射防止膜2及びn+層3と、n+層3に接続された表面銀電極9と、基板1の裏面に形成された裏面銀電極6、アルミ電極7及びマスク材11と、基板1中にアルミ電極7のアルミニウムが拡散して形成されたp+層8と、各電極6、9を被覆するはんだ10とから主に形成される。
【0019】
p型半導体基板1は、結晶軸が(100)のシリコン基板であり、具体的にはSi、SiC、SiN、SiGe、SiOが使用できる。基板1の表面には微細な凹凸、例えばピラミッド状の凸部群からなるテクスチャを有する。
裏面銀電極6及び表面銀電極9は、銀及びアルミニウムを材料に用いて成膜により形成され、スパッタリング法あるいは蒸着法等の成膜方法を用いる。これらの電極には、銀と、アルミニウム、チタン、クロム、モリブデン、タングステン及びニッケル等を単独であるいはこれらを組み合わせて用いることができる。
【0020】
アルミ電極7は、裏面銀電極6における銀の使用量を低減するとともに、BSF構造を形成する。この実施例におけるBSF構造は、p+層8、p型半導体基板1及びn+層3で形成されるp+pn+構造により、p+p接合付近で形成された電子を、そこでの内部電界によって表面方向に引き戻して裏面におけるキャリアの再結合を減少させるとともに、p+層が拡散ポテンシャルを増大させて開放電圧を高める効果(BSF効果)を生じる構造をいう。
マスク材11は、PN接合を確実に分離するために、TiO2等の電気絶縁性を有する層からなる膜を形成する材料で構成されるのが好ましい。
【0021】
以下、太陽電池20の製造方法の一例を図2を参照して説明する。
図2(a)において、p型半導体基板1を酸溶液あるいはアルカリ溶液で処理して、表面のダメージ層を除去する。そして、p型半導体基板1を80〜90℃の水酸化ナトリウム水溶液(数%の濃度)に浸漬して20〜30分間処理し、p型半導体基板1の表面(受光面)に図中の拡大図に示すような微細なテクスチャを形成する。
【0022】
次いで、図2(b)において、従来と同様に、ノズル(図示せず)を介して基板1の中心に滴下されたチタン酸アルキルを含むドーパント液2aをスピンコータ(図示せず)によって基板1の表面に塗布する。その際、裏面の周辺部にはチタン酸を含むマスク液11aを同時に塗布する。このマスク液11aは、塗布後の乾燥によりマスク材11を形成する塗液であって、その一例としては、エタノール及びチタン酸イソプロピルを体積比で20:3に混合した混合液である。上記のドーパント液2aの塗布は、ノズルを介してドーパント液2aを基板の中心に滴下することにより行われたのに対し、マスク液11aの塗布は、ノズルを介して上記混合液を基板1の周辺部に吹きつけることにより行われる。
【0023】
次いで、図2(c)において、上記ドーパント液2aおよびマスク液11aが塗布されたp型半導体基板1を拡散炉で熱処理(900℃、15分)することによって、p型半導体基板1の表面にn+層3を形成する。このとき、ドーパント液2aは、チタン酸アルキルを含む溶液であるため、同時に、表面に反射防止膜2が形成される。その際、p型半導体基板1の裏面におけるマスク液11aが塗布されていない領域にも薄いn+層4が形成される。一方、p型半導体基板1の裏面のマスク材11が形成されている領域ではTiO2膜が形成され、その膜の下にはn+層は形成されない。このように、p型半導体基板において裏面の中心部には薄いn+層4が形成されるが、表面のn+層3とは分離されているため、太陽電池20の性能には影響を及ぼさない。
【0024】
図2(d)において、p型半導体基板1の裏面に、銀を含むペースト6aを所定のパターンで印刷、乾燥し、次いでアルミニウムを含むペースト7aを所定のパターンで印刷・乾燥した後、700〜800℃の高温処理をして裏面銀電極6及びアルミ電極7を形成する。このとき、p型半導体基板1中にアルミ電極7のアルミニウムが拡散して合金化し、p+層8が形成され、前述したBSF構造を生じる。
図2(e)において、p型半導体基板1の表面の反射防止膜2上に、銀を含むペースト9aを所定のパターンで印刷、乾燥した後、700〜800℃で高温熱処理し、表面銀電極9を形成する。上記の太陽電池を、約190℃のはんだ槽に浸漬し、表面銀電極9および裏面銀電極6の表面を、はんだ10で被覆することにより、図1に示した太陽電池20が形成される。
【0025】
上述のように、本実施例における太陽電池20の製造方法においては、PN接合の形成時に、基板1におけるマスク材11の裏側の部分にはn+層4が形成されないため、PN接合の逆方向電流を低減でき、かつアルミ電極7のBSF効果を低下させないため、高出力の太陽電池20が得られる。また、マスク材11の除去が不要であるため、太陽電池の製造工程の簡略化が実現される。
【0026】
この発明の太陽電池の製造において、図3に示すように、半導体基板1が丸形である太陽電池40の場合には、基板1裏面の周縁部にスピンナーを用いて、上記と同様の組成からなるマスク液31aを塗布し、その内側に乾燥したマスク材31と重ならないようにアルミ電極7を形成することができる。
また、図4に示すように、半導体基板1が角形である太陽電池60の場合には、マスク液51aを用いて、スクリーン印刷により基板1上のアルミ電極7の形成部位に重ならないようマスク材51を形成することができる。なお、図中の10はともに、はんだである。
【0027】
さらに、他の実施例により、この発明の太陽電池を説明する。
図5に示した太陽電池80は、p型半導体基板1と、基板1の一主面に形成された反射防止膜2及びn+層3と、n+層3に接続された表面銀電極9と、基板1の裏面に形成された裏面銀電極6、アルミ電極7及びマスク材71と、基板1中にアルミ電極7のアルミニウムが拡散して形成されたp+層8と、各電極6、9を被覆するはんだ10とから主に形成される。
【0028】
前記した実施例がマスク材11とアルミ電極7が重ならないよう形成されたのに対し、この実施例では、マスク材71とアルミ電極7が一部重なる場合の実施形態を示す。すなわち、マスク材71は、図中の基板1の裏面においてその両端辺に沿って各端辺から所定の幅及び所定の厚みを有して前記と同様の手法で形成され、アルミ電極7がマスク材71と所定の幅の重なり部分5を有してマスク材71を覆うように形成されている。重なり部分5において、マスク材71は、その厚みが0.1〜0.2μmの範囲にあり、その重なり幅が2mmを超えないよう形成されている。このような最適化のための条件設定がなされることにより、アルミ電極7による有効なBSF構造が形成される。
【0029】
上記の最適化のための条件として設定された諸数値の根拠を以下に説明する。図6は、マスク材の厚みと逆方向電流の関係(図6a)及びマスク材の厚みと開放電圧の関係(図6b)を実験により求めたものであり、ともにマスク材とアルミ電極との重なり幅は4mmに設定されている。図6によれば、マスク材の厚みが厚くなるとマスク効果が増して、逆方向電流は減少する。一方、開放電圧は、マスク材がアルミニウムの拡散を阻害するため、BSF効果の減少によって、低下する。したがって、逆方向電流が低く、かつ高い開放電圧を得るためには、マスク材の厚みを0.1〜0.2μmの範囲に設定すればよいことがわかる。
【0030】
図7は、マスク材及びアルミ電極の重なり幅と開放電圧の関係を実験により求めたものであり、マスク材の厚みは0.4μmに設定されている。図7によれば、マスク材とアルミ電極の重なりが大きくなるとマスク材がアルミニウムの拡散を阻害するため、BSF効果が減少し、開放電圧は低下する。したがって、マスク材とアルミ電極の重なり幅が2mm以上になれば開放電圧が低下し始めるため、開放電圧の低下を抑えて高いBSF効果を得るためには、重なり幅を2mm以内に設定すればよいことがわかる。
【0031】
上記のように、図5に示した実施例における太陽電池80は、アルミ電極7がマスク材71と所定の幅の重なり部分5を有してマスク材71を覆うように形成されているが、重なり部分におけるマスク材71の厚み及びその重なり幅5を最適化することにより、PN接合の逆方向電流を低減でき、開放電圧の低下を抑え、かつアルミ電極7のBSF効果を低下させないため、高出力の太陽電池80が得られる。また、マスク材71の除去が不要であるため、太陽電池の製造工程の簡略化が実現される。
【0032】
【発明の効果】
本発明では、マスク材と裏面電極の互いの位置関係の最適化を図ることにより、マスク材によるPN接合の確実な分離と有効なBSF構造の形成が保証される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の一形態による太陽電池の概略断面図。
【図2】図1の太陽電池の製造方法を工程順に説明するための概略断面図。
【図3】本発明の他の実施の形態による太陽電池の裏面模式図。
【図4】本発明の他の実施の形態による太陽電池の裏面模式図。
【図5】本発明のさらに他の実施の形態による太陽電池の概略断面図。
【図6】図5の太陽電池におけるマスク材の厚みと逆方向電流の関係を示すグラフ(a)及びマスク材の厚みと開放電圧の関係を示すグラフ(b)。
【図7】図5の太陽電池におけるマスク材及びアルミ電極の重なり部分と、開放電圧の関係を示すグラフ。
【図8】従来の太陽電池の製造方法を工程順に説明するための概略断面図。
【符号の説明】
1 p型半導体基板
2 反射防止膜
3 n+層(受光面側)
4 n+層(裏面側)
5 重なり部分
6 裏面銀電極
7 アルミ電極
8 p+層
9 表面銀電極
10 はんだ
11 マスク材
31 マスク材
51 マスク材
71 マスク材
Claims (5)
- 裏面にマスク材が形成された半導体基板にPN接合を形成する工程と、半導体基板の裏面に裏面電極を形成する工程とを備え、マスク材は、PN接合の少なくとも一部を分離するとともに半導体基板の裏面で裏面電極と重ならない部位に形成されることを特徴とする太陽電池の製造方法。
- 裏面にマスク材が形成された半導体基板にPN接合を形成する工程と、半導体基板の裏面に裏面電極を形成する工程とを備え、マスク材は、PN接合の少なくとも一部を分離するとともに半導体基板の裏面で裏面電極と一部重なる部位に形成され、その重なり部分のマスク材の厚みが、0.1〜0.2μmであることを特徴とする太陽電池の製造方法。
- 前記重なり部分のマスク材の幅が2mmを超えない請求項2に記載の方法。
- 半導体基板は、丸形であり、マスク材は、スピンコータを用いて形成される請求項1又は2に記載の方法。
- 半導体基板は、角形であり、マスク材は、スクリーン印刷により形成される請求項1又は2に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13558999A JP3741565B2 (ja) | 1999-05-17 | 1999-05-17 | 太陽電池およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13558999A JP3741565B2 (ja) | 1999-05-17 | 1999-05-17 | 太陽電池およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000332267A JP2000332267A (ja) | 2000-11-30 |
JP3741565B2 true JP3741565B2 (ja) | 2006-02-01 |
Family
ID=15155368
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13558999A Expired - Fee Related JP3741565B2 (ja) | 1999-05-17 | 1999-05-17 | 太陽電池およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3741565B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4195366B2 (ja) | 2003-12-19 | 2008-12-10 | シャープ株式会社 | 薬液塗布方法および薬液塗布装置 |
JP4688509B2 (ja) * | 2005-01-28 | 2011-05-25 | 京セラ株式会社 | 太陽電池素子及びこれを用いた太陽電池モジュール |
WO2014118923A1 (ja) * | 2013-01-30 | 2014-08-07 | 三菱電機株式会社 | 光起電力装置およびその製造方法、光起電力モジュール |
-
1999
- 1999-05-17 JP JP13558999A patent/JP3741565B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000332267A (ja) | 2000-11-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041201 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A02 | Decision of refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20051101 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091118 Year of fee payment: 4 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091118 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101118 Year of fee payment: 5 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111118 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121118 Year of fee payment: 7 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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