JP3721923B2 - 光モジュール - Google Patents
光モジュール Download PDFInfo
- Publication number
- JP3721923B2 JP3721923B2 JP2000050452A JP2000050452A JP3721923B2 JP 3721923 B2 JP3721923 B2 JP 3721923B2 JP 2000050452 A JP2000050452 A JP 2000050452A JP 2000050452 A JP2000050452 A JP 2000050452A JP 3721923 B2 JP3721923 B2 JP 3721923B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- silicone resin
- optical
- optical waveguide
- fluorine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
- G02B1/045—Light guides
- G02B1/046—Light guides characterised by the core material
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
- G02B1/045—Light guides
- G02B1/048—Light guides characterised by the cladding material
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
- G02B6/1221—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths made from organic materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12166—Manufacturing methods
- G02B2006/12176—Etching
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/30—Optical coupling means for use between fibre and thin-film device
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4219—Mechanical fixtures for holding or positioning the elements relative to each other in the couplings; Alignment methods for the elements, e.g. measuring or observing methods especially used therefor
- G02B6/4236—Fixing or mounting methods of the aligned elements
- G02B6/424—Mounting of the optical light guide
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4251—Sealed packages
- G02B6/4253—Sealed packages by embedding housing components in an adhesive or a polymer material
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、フッ素を含有する樹脂を用いて光導波路を形成した光モジュールに関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、石英系の光導波路に替わって低コスト化が期待できるポリマー系の光導波路を用いた光モジュールの研究開発が活発に行われている。中でも、ポリマー材料としてポリイミドを用いたものは耐熱性や信頼性に優れるためにプロセス適合性や実用性を考える上では有利である。更にフッ素化をすることでC−H結合を低減し、光の伝送損失を低減することが可能となっている。従来例としては、特開平9−21920号公報、特開平10−288717号公報、特開平11−133254号公報等が挙げられる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
このポリマー系の光導波路では、光通信の波長である1.3〜1.6オm領域の伝送損失を低減すべく、損失の原因であるC−H結合を低減するためにフッ素を導入している。通常の光導波路は、下層から下層クラッド、コア層、上層クラッドの構成を取るが、フッ素の導入はコア層だけに限らず、上層・下層クラッドにも用いられる。これは、光がコア層からクラッド側に幾分しみ出し、クラッド側の損失も問題となるからである。
【0004】
一方、光モジュールに用いられる接着剤や封止剤としては、弾性率が低く応力を抑制でき、更に吸水率も低いことからシリコーン系樹脂が用いられる場合が多い。この場合、シリコーン系樹脂を塗布する前に、光モジュールの光導波路基板や光素子等の表面をクリーニングして、それらとシリコーン系樹脂との接着信頼性を向上させ、それによってモジュールの動作信頼性を安定的に確保していた。例えば、光モジュールに紫外線を照射したり、プラズマを用いたアッシングを行うことでクリーニングしていた。あるいは、光導波路と光ファイバを紫外線硬化型接着剤を用いて接続するが、この場合にも光導波路の表面には紫外線硬化型接着剤を硬化させるための紫外線が照射されていた。
【0005】
我々は、上記のような光モジュールについて開発・研究を続けているが、これによれば上層クラッド材料がフッ素を重量比で10%以上含有する樹脂からなるものである場合に、この表面に前記の紫外線を照射したりプラズマを用いたアッシングを施した後に、その表面にシリコーン系樹脂を塗布して硬化させると、シリコーン系樹脂が硬化阻害を受けることが明らかとなった。具体的には、上層クラッド材料がフッ素を10%以上含有すると、シリコーン系樹脂の硬化作業を行った後に針でシリコーン系樹脂に触って再度離すと糸を引く状態となったり、光モジュールを傾けたりすると、シリコーン系樹脂が流れたりすることが明らかとなった。
【0006】
本発明の目的は、シリコーン系樹脂の硬化阻害を抑制できる光モジュールを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記目的を達成するために、上層クラッド層とシリコーン系樹脂との間に、中間層を設けたものである。例えば、金属膜、非金属性の無機物層、フッ素を含有しない樹脂層、フッ素含有量の少ない樹脂層のうちの少なくとも1つを中間層として使用したものである。
【0008】
より具体的には、例えば、光導波路がフッ素を少なくとも含有する樹脂で構成され、該光導波路上部の少なくとも一部にシリコーン系樹脂が存在する光モジュールにおいて、該光導波路と該シリコーン系樹脂との間に金属膜を設けたものである。
【0009】
また、前記の金属膜が、Al、Ti、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Ni、Cu、Pt、Auの中から選ばれる少なくとも一種の金属で構成したものである。
【0010】
また、光導波路がフッ素を少なくとも含有する樹脂で構成され、該光導波路上部の少なくとも一部にシリコーン系樹脂が存在する光モジュールにおいて、該光導波路と該シリコーン樹脂との間に無機物層を設けたものである。
【0011】
また、前記無機物層が、Si、SiO2、SiN、TaO2、Al2O3の中から選ばれる少なくとも一種の材料で構成されるものである。
【0012】
また、光導波路がフッ素を少なくとも含有する樹脂で構成され、該光導波路上部の少なくとも一部にシリコーン系樹脂が存在する光モジュールにおいて、該光導波路と該シリコーン系樹脂との間にフッ素を含有しない樹脂層を設けたものである。
【0013】
また、光導波路がフッ素を少なくとも含有する樹脂で構成され、該光導波路上部の少なくとも一部にシリコーン系樹脂が存在する光モジュールにおいて、該光導波路と該シリコーン系樹脂との間にフッ素含有率が全重量の5%以下の樹脂層を設けたものである。
【0014】
また、前記フッ素を少なくとも含有する樹脂がポリイミドであるものである。
【0015】
また、前記のフッ素を含有しない樹脂層が、下記式(化1)で表される繰り返し単位からなるポリイミドであるものである。
【0016】
【化1】
【0017】
(式中R1は下記(化2)から選ばれる少なくとも一種の4価の有機基であり、R2は下記(化3)から選ばれる少なくとも一種の2価の有機基である。)
【0018】
【化2】
【0019】
【化3】
【0020】
従来技術において硬化阻害が生じた理由は、フッ素を含有する材料に、紫外線を照射したりプラズマを用いたアッシングを行うと、フッ素が関与する一部の基が活性化した状態で表面に露出するために、シリコーン系樹脂の硬化触媒と相互作用してシリコーン系樹脂が硬化しにくくなったか、あるいは、フッ素を含有する材料では、何らかの作用で表面にシリコーン系樹脂の硬化触媒と相互作用する基が露出しやすくなるためにシリコーン系樹脂が硬化しにくくなったものと推定される。
【0021】
しかし、上記のようにクラッド層とシリコーン系樹脂との間に中間層を設けることで、これらの相互作用を抑制でき、シリコーン系樹脂を正常に硬化させることができた。すなわち、中間層を設けることで、前述の表面洗浄を行ったとしてもシリコーン系樹脂の硬化阻害を抑制することができた。
【0022】
ここで、中間層6は、フッ素を10%以上含有する樹脂以外の個体で、かつ耐熱性が通常行われる信頼性試験の最高温度である85℃に対して2000時間程度保証できるものであれば、何でも使用することができる。例えば、金属膜、誘電体、フッ素を含まないか、フッ素含有量が5%以下の樹脂の何れでも使用できるが、これらに限定されるものではない。
【0023】
また、フッ素を含有しないか若しくはフッ素含有率が全重量の5%以下の樹脂層は、熱硬化型あるいは紫外線硬化型のエポキシ系樹脂やアクリル系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリサルフォン系樹脂、ポリエーテルサルフォン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポジ形及びネガ形の感光性レジスト材料及びそれらのベースポリマ、ポリイミド系樹脂等、耐熱性が通常行われる信頼性試験の最高温度である85℃に対して2000時間程度保証できるものであれば、何でも使用することができる。これらの中で、ポリイミド系の材料は、一般に耐薬品性に優れるために製造プロセスマージンが広く、また、耐熱性と耐候性に優れるために信頼性が高い、等の追加の効果を得ることができる。
【0024】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態について説明する。
【0025】
図1に本発明における実施の形態の断面図を示した。
【0026】
図において、1はシリコン基板、2はSiO2層(シリコン酸化膜層)、3は下層クラッド、4はコア層、5は上層クラッド、6は中間層、7はシリコーン系樹脂である。下層クラッド3、コア層4および上層クラッド5にはフッ素を含有した材料を用いており、光伝送損失の原因であるC−H結合を低減するように構成した。ここで、コア層4とクラッドとを光導波路とする。また、シリコーン系樹脂7を光モジュールの封止材として使用することで、光モジュールに発生する応力を緩和する構成とした。
【0027】
表1は、光導波路の下層クラッド3、コア層4、及び上層クラッド5を構成する材料系(ポリイミド)を示す。
【0028】
【表1】
【0029】
図1においては、下層クラッド3及び上層クラッド5としては下記式(化11)で表される繰り返し単位からなる構造のもので、そのR11とR12には表1のNo11の構成のものを使用した。また、コア層4としては下記式(化11)で表される繰り返し単位からなる構造のもので、そのR11とR12には表1のNo12の構成のものを使用した。
【0030】
【化11】
【0031】
次に、図1に示す光モジュールの製造方法について説明する。
【0032】
まず、厚さ1mmのシリコン基板1上にシリコン熱酸化膜(SiO2膜)2を厚さ1μmに形成した。
【0033】
次いで、前記式(化11)で表される表1のNo11の材料を下層クラッド3として形成し、その上にNo12の材料をコア層4として形成し、その上にNo11の材料を上層クラッド5として形成した。これらの材料は、前述の通り、フッ素を含有するポリイミドである。また、各層は、それらの前駆体であるポリアミド酸溶液のワニスをスピンコーティング法等により塗布し、300℃以上の加熱により形成した。また、コア層4は、加熱の後に、更に所望のパターニングを行った。また、上層クラッド5は、前記コア層4を覆うように塗布して形成した。
【0034】
次いで、その上に中間層6としてCrをスパッタリング法により厚さ0.05μmで形成した。
【0035】
次いで、光導波路上に形成した中間層6を含む光モジュールの表面全体に、低圧水銀灯から放出される紫外線を10mW/cm2(254nmで測定)の強度で5分間照射し、表面を洗浄した。
【0036】
次いで、熱硬化型のシリコーン系樹脂7をその洗浄した表面に塗布し、100℃以上で加熱した。これによりシリコーン系樹脂7は完全に硬化した。
【0037】
中間層6を形成しない従来例の場合、シリコーン系樹脂に針で触ると糸を引いた状態となり、シリコーン系樹脂は硬化不良を起こしていた。あるいは、硬化作業を行ったにもかかわらず、シリコーン系樹脂が当初塗布された部分から流れてしまうという問題を生じていた。この場合、樹脂の硬化の程度は殆ど液状であって、樹脂の引張弾性率は0kPaに近い状態であった。しかし、本実施の形態のように中間層6を形成すると、そのシリコーン系樹脂の引張弾性率が、樹脂材料に応じて50〜1000kPaとなり、完全に硬化した状態であることを確認できた。
【0038】
以上のように、シリコーン系樹脂7との接着信頼性を向上させるために紫外線照射等により表面クリーニングを行ったとしても、中間層6はフッ素を含有した樹脂ではないために、シリコーン系樹脂7の硬化を阻害することはなかった。また、下層クラッド3、コア層4、上層クラッド5がフッ素を含有しているとしても、中間層6によりシリコーン系樹脂7と接することはないので、これによってもシリコーン系樹脂7の硬化を阻害することはなかった。
【0039】
従って、中間層6を用いることで、下層クラッド3、コア層4、上層クラッド5にフッ素を含有する材料を使用したとしても、紫外線照射による表面洗浄を実施してシリコーン樹脂7との接着信頼性を確保することができた。すなわち、紫外線照射によるシリコーン系樹脂の硬化阻害を抑制することができた。なお、ここでは紫外線照射による洗浄の場合について説明したが、プラズマアッシング等他の洗浄を行う場合もフッ素を含有する樹脂がシリコーン樹脂7と接することはないので同様の効果が得られる。
【0040】
ところで、前述の実施例に於いては、中間層6にCrを用いたが、その代わりにTi、Ta、Mo、W、Mn、Fe、Ni、Cu、Pt、Au等の金属材料を用いた場合でも、Si、SiO2、SiN、TaO2、Al2O3等の非金属性の無機物を用いた場合でも、シリコーン系樹脂7は完全に硬化し、硬化阻害を抑制することができた。あるいは、Crの代わりにフッ素を含有しない樹脂若しくはフッ素含有率が全重量の5%以下の樹脂、例えば、熱硬化型あるいは紫外線硬化型のエポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリサルフォン系樹脂、ポリエーテルサルフォン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポジ形又はネガ形の感光性レジスト材料やそれらのベースポリマ等を用いた場合であっても、シリコーン系樹脂7は完全に硬化し、硬化阻害を抑制することができた。
【0041】
また、中間層6としてCrの代わりに(化21)において表2のNo21〜No29に記載されたポリイミド系の材料を用いた場合、すなわち(化21)で表される繰り返し単位からなる構造のものを用いた場合でも、シリコーン系樹脂7は完全に硬化し、硬化阻害を抑制することができた。なお、No21〜No29の各材料は、それらの前駆体であるポリアミド酸溶液のワニスをスピンコーティング法等により塗布し、300℃以上の加熱により厚さ1μm〜10μmとなるように形成した。
【0042】
【表2】
【0043】
【化21】
【0044】
(式中のR21とR22はそれぞれ表2に記載されたR21とR22である。)
ところで、中間層6にフッ素を含有していないポリイミド等の樹脂を用いれば、金属膜や無機誘電体膜を形成するための真空成膜設備や、フィルムを貼り付けるためのラミネーターや、射出成形を行うための設備等の特別な設備を必要とせず、樹脂による光導波路部と同一若しくは類似のプロセスを使用でき、設備と工程の面で簡易なプロセスとすることができると言ったメリットがある。
【0045】
次に、本発明の他の実施の形態を説明する。
【0046】
図2には、本発明による光伝送モジュールの断面図を示した。図2において、21はSiO2層(シリコン酸化膜層)が表面に1μm厚さで形成されたシリコン基板、22は下層クラッド、コア層、上層クラッドの順に形成された光導波路、23はフッ素を含有しないポリイミドからなる中間層、24と25はそれぞれAu−Snはんだを介してシリコン基板21に接続されたレーザダイオードとフォトダイオード、26はこれらを封止するシリコーン系樹脂である。なお、下層クラッド、コア層および上層クラッドには図1と同様の材料を用いている。
【0047】
図2に示す光モジュールでは、レーザダイオード24とフォトダイオード25(もしくは24)の光素子表面を含むモジュール全体を、紫外線により洗浄した後にシリコーン系樹脂26を塗布して加熱により硬化させて構成した。
【0048】
ここでも、中間層23が存在するためにシリコーン系樹脂26は完全に硬化し、硬化阻害を抑制することができた。また、光素子表面は紫外線により洗浄されているために光素子表面とシリコーン系樹脂26との間のミクロな接着も良好となり、動作信頼性を保証することができた。例えば、フォトダイオード25の暗電流を測定したところ、初期では電圧2V下で0.8nAであったが、85℃85%RHで2000時間の試験後も0.9nAと低いレベルを保持することができた。
【0049】
一方、図2に示す光モジュールにおいて中間層23を設けなかった場合では、上層クラッド全面に直接紫外線が照射されたために、この面にシリコーン系樹脂26が直接接触してシリコーン系樹脂26は硬化阻害を受け、初期に塗布した状態から樹脂が全体的に流れて薄くなってしまっていた。シリコーン系樹脂26は、微量の触媒によって全体が硬化するために、紫外線照射を受けた上層クラッド上に触媒が相互作用によってトラップされてしまうと、上層クラッド上のみならず、塗布したシリコーン系樹脂26全体が硬化しなくなってしまう。更には、硬化という現象に伴い本来なされるはずの接着がミクロなレベルで不完全となり、シリコーン系樹脂26と光素子との界面にミクロな凝結水をたたえる空間を作り出してしまい、光素子の動作信頼性を損なう。例えば、フォトダイオード25の暗電流を測定したところ、初期では電圧2V下で0.8nAであったが、85℃85%RHで2000時間の試験後では2.5μAと大きくなり、実用に耐えないレベルとなってしまった。
【0050】
従って、中間層23を設けることで、シリコーン系樹脂26とフォトダイオード25などの光素子との界面の接着も充分となり、長時間にわたり暗電流を所定レベル以下の値に保つことが可能となった。
【0051】
図3には、本発明のもう一つの例である光スプリッタモジュールを示した。ここで、31はシリコン基板、32は下層クラッド、コア層、上層クラッドの順に形成された図1と同種材料からなる光導波路、33はフッ素を含有しないポリイミドからなる中間層、34、35、36はガラス、37と43は紫外線硬化型接着剤、38はアルミニウム製のケース、39はシリコーン系樹脂である。また、図3(1)は光ファイバ41及び42がガラス35及び36中に納められた形態のもの、図3(2)は光ファイバ41及び42を直接シリコン基板上に搭載した形態のものである。何れの場合も、1本の光ファイバ41から光導波路32に入射した光が光導波路32内部で8本に分岐されて8本の光ファイバ42へと出射されるものである。また、光導波路32を構成する下層クラッド、コア層および上層クラッドには図1の例と同様の材料を用いた。
【0052】
本実施の形態においては、光ファイバ41、42を光導波路32へ接着する際に、紫外線硬化型接着剤37、43を塗布して紫外線を照射するが、この紫外線は光導波路32の上の中間層33にも漏れて照射される。そして、ケース38にこれらの光スプリッタモジュールを納めてシリコーン系樹脂39を充填して封止するように構成されるため、シリコーン系樹脂39の硬化不良を起こす場合があった。
【0053】
従って、中間層33を形成することで、シリコーン系樹脂39は完全に硬化し、硬化阻害を抑制することができる。そのために、これらの光スプリッタモジュールが傾いたり逆さになっても、中のシリコーン系樹脂39が流れてしまうことはない。なお、ここでシリコーン系樹脂39は、光スプリッタモジュール全体の耐湿性を向上させる効果の他に、光ファイバ41や42に外部から引っ張りや曲げの力が加わっても、これらの力が光ファイバの先端に直接作用しにくい役割を果たしており、更に図3(2)の構成では光ファイバ41及び42と光導波路32との間にシリコーン系樹脂39が入って光の反射を低減するためのマッチングオイルの役割をも有している。
【0054】
一方、図3(1)(2)で中間層33を設けなかった場合では、上層クラッド面に直接紫外線が照射されたために、シリコーン系樹脂39は硬化阻害を受け硬化不良となった。そのために、シリコーン系樹脂39は光スプリッタモジュールが傾いたり逆さになると流れてしまう、光スプリッタモジュール全体の耐湿性を向上させる効果が薄れて光ファイバ41や42と光導波路32との光軸が高温高湿試験中にずれやすくなる、光ファイバ41や42に外部から引っ張りや曲げの力が加わるとこれらの力が光ファイバの先端に直接作用して光ファイバが折れやすくなる、更に図3(2)の構成では光ファイバ41及び42と光導波路32との間に泡が入って光の反射が増大してしまう、等の不具合を生じていた。そのために、図3(1)(2)の光スプリッタモジュールは、実用に足るものではなかった。
【0055】
以上説明したように、光導波路がフッ素を少なくとも含有する樹脂で構成され、該光導波路上部の少なくとも一部にシリコーン系樹脂が存在する光モジュールにおいて、該光導波路と該シリコーン系樹脂の間に前記の中間層を設けることにより、シリコーン系樹脂の硬化を阻害すること無く、信頼性の高い光モジュールを提供することができる。
【0056】
なお、フッ素含有量が10%以上の場合において硬化不良モードが明らかに発生するが、10%未満のものに対しても硬化不良などのシリコーン系樹脂との反応現象を未然に防止できることは言うまでもない。
【0057】
【発明の効果】
本発明によれば、シリコーン系樹脂の硬化阻害を抑制できる光モジュールを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態例である光モジュールの光導波路部分を含む断面図
【図2】本発明の実施の形態例である光伝送モジュールの光導波路部分を含む断面図
【図3】本発明の実施の形態例である光スプリッタモジュールの断面図
【符号の説明】
1…シリコン基板、2…SiO2層(シリコン酸化膜層)、3…下層クラッド、4…コア層、5…上層クラッド、6…中間層、7…シリコーン系樹脂、21…シリコン基板、22…光導波路、23…中間層、24…レーザダイオード(もしくはフォトダイオード)、25…フォトダイオード、26…シリコーン系樹脂、31…シリコン基板、32…光導波路、33…中間層、34〜36…ガラス、37、43…紫外線硬化型接着剤、38…ケース、39…シリコーン系樹脂、41、42…光ファイバ。
Claims (8)
- 光導波路がフッ素を少なくとも含有する樹脂で構成され、該光導波路上部の少なくとも一部にシリコーン系樹脂が存在する光モジュールにおいて、該光導波路と該シリコーン系樹脂との間に金属膜を設けたことを特徴とする光モジュール。
- 前記の金属膜が、Al、Ti、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Ni、Cu、Pt、Auの中から選ばれる少なくとも一種の金属で構成されることを特徴とする請求項1記載の光モジュール。
- 光導波路がフッ素を少なくとも含有する樹脂で構成され、該光導波路上部の少なくとも一部にシリコーン系樹脂が存在する光モジュールにおいて、該光導波路と該シリコーン系樹脂との間に無機物層を設けたことを特徴とする光モジュール。
- 前記無機物層が、Si、SiO2、SiN、TaO2、Al2O3の中から選ばれる少なくとも一種の材料で構成されることを特徴とする請求項3に記載の光モジュール。
- 光導波路がフッ素を少なくとも含有する樹脂で構成され、該光導波路上部の少なくとも一部にシリコーン系樹脂が存在する光モジュールにおいて、該光導波路と該シリコーン系樹脂との間にフッ素を含有しない樹脂層を設けたことを特徴とする光モジュール。
- 光導波路がフッ素を少なくとも含有する樹脂で構成され、該光導波路上部の少なくとも一部にシリコーン系樹脂が存在する光モジュールにおいて、該光導波路と該シリコーン系樹脂との間にフッ素含有率が全重量の5%以下の樹脂層を設けたことを特徴とする光モジュール。
- 前記フッ素を少なくとも含有する樹脂がポリイミドであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の光モジュール。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000050452A JP3721923B2 (ja) | 2000-02-22 | 2000-02-22 | 光モジュール |
US09/740,610 US6554491B2 (en) | 2000-02-22 | 2000-12-18 | Optical module |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000050452A JP3721923B2 (ja) | 2000-02-22 | 2000-02-22 | 光モジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001235641A JP2001235641A (ja) | 2001-08-31 |
JP3721923B2 true JP3721923B2 (ja) | 2005-11-30 |
Family
ID=18572236
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000050452A Expired - Lifetime JP3721923B2 (ja) | 2000-02-22 | 2000-02-22 | 光モジュール |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6554491B2 (ja) |
JP (1) | JP3721923B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU2002367342A1 (en) * | 2001-12-28 | 2003-07-24 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Optical transmission/reception module of optical waveguide type, and substrate for making the same |
US7452140B2 (en) * | 2003-07-16 | 2008-11-18 | Ibiden Co., Ltd. | Protective sealing of optoelectronic modules |
US8536298B2 (en) | 2005-05-25 | 2013-09-17 | Sabic Innovative Platics Ip B.V. | Precipitative process to prepare polyimides |
DE102006039516A1 (de) * | 2006-08-23 | 2008-03-13 | CCS Technology, Inc., Wilmington | Verfahren zur Herstellung eines optischen Verzweigers und optisher Verzweiger |
EP2202549A4 (en) * | 2007-08-30 | 2012-07-18 | Mitsui Chemicals Inc | OPTICAL WAVEGUIDE POLYMER FILM |
JP2010139562A (ja) * | 2008-12-09 | 2010-06-24 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 光導波路、光導波路搭載基板及び光送受信装置 |
TWI446036B (zh) * | 2010-05-24 | 2014-07-21 | Univ Nat Central | 光學傳輸模組 |
CN109196395B (zh) * | 2016-06-02 | 2020-10-30 | Agc株式会社 | 树脂光波导路 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3674878B2 (ja) | 1995-07-07 | 2005-07-27 | 日本電信電話株式会社 | ポリイミド光導波路 |
JPH09311232A (ja) | 1996-05-21 | 1997-12-02 | Hitachi Ltd | 光導波路、その製造方法および光モジュール |
JP3087676B2 (ja) * | 1997-02-13 | 2000-09-11 | 日本電気株式会社 | ゲル状樹脂を用いた光結合系及び実装構造 |
US6229949B1 (en) * | 1997-02-19 | 2001-05-08 | Hitachi, Ltd. | Polymer optical waveguide, optical integrated circuit, optical module and optical communication apparatus |
JP2949282B2 (ja) | 1997-04-14 | 1999-09-13 | 日本航空電子工業株式会社 | V溝付光導波路基板の製造方法及びその製法により製造されたv溝付光導波路基板 |
JP3835906B2 (ja) | 1997-10-29 | 2006-10-18 | 株式会社日立製作所 | ポリマー光導波路、光集積回路、及び光モジュール |
JP3355122B2 (ja) * | 1998-01-08 | 2002-12-09 | 富士通株式会社 | 光モジュールの封止方法 |
JP3721935B2 (ja) * | 2000-04-19 | 2005-11-30 | 住友電気工業株式会社 | 光学装置 |
US6694069B2 (en) * | 2000-10-30 | 2004-02-17 | Kyocera Corporation | Optical integrated circuit substrate and optical module |
-
2000
- 2000-02-22 JP JP2000050452A patent/JP3721923B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2000-12-18 US US09/740,610 patent/US6554491B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6554491B2 (en) | 2003-04-29 |
US20010043783A1 (en) | 2001-11-22 |
JP2001235641A (ja) | 2001-08-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0961139B1 (en) | Polymer optical waveguide, optica integrated circuit , optical module and optical communication apparatus | |
KR100734787B1 (ko) | 광배선층, 광·전기배선기판, 실장기판 및 그들의 제조방법 | |
JP4679580B2 (ja) | 光導波路フィルムおよび光電気混載フィルム | |
JP3721923B2 (ja) | 光モジュール | |
KR100926395B1 (ko) | 광 도파로 필름과 그 제조 방법, 그것을 포함하는 광 전기혼재 필름 및 전자기기 | |
JP6237494B2 (ja) | 光デバイス、光モジュール、及び光デバイスの製造方法 | |
US20020186954A1 (en) | Fiber optic array assembly and method of making the same | |
JP2007010692A (ja) | 光導波路及びその製造方法 | |
JP2007505355A (ja) | 導波路形成方法及びそれで形成された導波路 | |
JP4487297B2 (ja) | 保護層を備えた樹脂製光導波路、その製造方法および光部品 | |
US6810181B2 (en) | Electrode structure | |
US20050087896A1 (en) | Method for producing optical circuit pattern and polymer optical waveguide | |
JP4542557B2 (ja) | 光路変換ミラーおよびその作製方法 | |
JP2001033640A (ja) | 光導波路 | |
KR20080037039A (ko) | 광통신용 유리 부재의 접합 방법 | |
JP2003270461A (ja) | 光通信部品、積層型光通信モジュール、およびその製造方法 | |
JP2005024813A (ja) | 複合光学装置およびその製造方法 | |
JP5378173B2 (ja) | 光導波路の製造方法、光導波路、及び光電気複合配線板 | |
JP2003337237A (ja) | 光通信部品および積層型光通信モジュール | |
WO2023063313A1 (ja) | 光電気複合基板およびその製造方法 | |
Hara et al. | Preparation and properties of novel silicone-based flexible optical waveguide | |
JP2003279777A (ja) | 光導波路デバイスの製造方法 | |
JP2010079256A (ja) | 光ファイバピグテイル | |
JP2005126666A (ja) | プライマー組成物及び積層体 | |
JP4458328B2 (ja) | 光導波路の製法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040210 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041209 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050823 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050905 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 3721923 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080922 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090922 Year of fee payment: 4 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090922 Year of fee payment: 4 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090922 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100922 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100922 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110922 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120922 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130922 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |