JP3715104B2 - 光ファイバ - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ファイバに関し、特に、波分割多重化（ＷＤＭ）システムに適した光ファイバに関する。
【０００２】
【従来の技術】
光伝送は光ファイバ上に莫大なバンド幅を利用できるので通信技術において魅力的である。このようなバンド幅は、数千の電話通話および数百のテレビジョンのチャンネルを一般に高品質のガラス材料から作られている髪の毛ほど細い光ファイバ上で同時に伝送することを可能にする。光ファイバ上の伝送容量は、いくつものチャネルが１つのファイバに多重化され各チャネルが異なる波長において動作するようなＷＤＭシステムにおいて増加した。しかし、ＷＤＭシステムにおいては、４フォトン混合のようなチャネル間の非線形相互作用がシステム能力を厳しく減らしてしまう。この問題は、動作波長において少量の色分散を導入することによりこれらの非線形相互作用を減少させる光ファイバを記載する米国特許５３２７５１６（５１６特許）により大部分解決された。ここで、１つのファイバ上で伝送されるＷＤＭチャネルの数が増えると、光ファイバが搬送する光パワーも増えることに留意されたい。パワーが増加すると非線形の影響も増える。従って、光ファイバがＷＤＭチャネルそれぞれに対して少量の色分散を与えることが望ましい。
【０００３】
光ファイバの製造時に用いるガラスファイバの品質（ほぼ純粋なシリカ−ＳｉＯ₂）において重大な進歩が見られた。１９７０年にはガラスファイバの許容できる品質は２０ｄＢ／ｋｍの範囲であったが、今日では、損失は一般に０．２５ｄＢ／ｋｍより下である。実際に、ガラスファイバの理論的な最小損失は、約０．１６ｄＢ／ｋｍであり、それは約１５５０ｎｍの波長で起こる。この波長領域でエルビウムドープファイバアンプが動作し、エルビウムドープファイバアンプが利用可能な最も実用的な光アンプであるので、この波長領域が最も有用となっている。このようなアンプにおいてガラスファイバがドープされるエルビウムイオンは第１波長領域（例えば、９８０ｎｍ）においてエネルギーによって「ポンピング」され、エルビウムイオンが送信光信号によって励起されるような第２波長領域（例えば、１５３０〜１５６０ｎｍ）へとエネルギーを放つ。このようなアンプは、光信号のブロードスペクトルを増幅する必要があるＷＤＭシステムにおいて基本的な構成部分である。毎秒１テラビット（１Ｔｂ／ｓ＝１０００Ｇｂ／ｓ）の伝送が２５の隣接チャネル、チャネルごとの２つの偏光モードそれぞれの独立な変調などの技術を用いて既に実証されている。１５３０〜１５６５ｎｍ波長領域（エルビウムアンプ領域）においてＷＤＭシステムを動作させることが望ましいが、今日のファイバデザインはエルビウムアンプ領域にわたっての色分散において望まない大きな差を発生させてしまう。
【０００４】
１３１０ｎｍと１５５０ｎｍの両方の伝送をさせるために、広い波長領域にわたったフラット分散特性を有する光ファイバの設計に大きな努力が注がれた。しかし、このような「分散フラット化(dispersion flattened)」ファイバは曲げ損失が大きいことと製造時の許容範囲が厳しいことにより、あまり商業的な成功はしていない。
【０００５】
エルビウムアンプ領域をまたがって低分散勾配を与える光ファイバの１つとして、ドーナッツに似ている屈折率プロファイルを有し、文献、OFC'95 Technical Digest "Dispersion-shifted single-mode fiber for high-bit-rate and multiwavelength systems", page 259-260、に示されている。この設計は、低屈折率材料のコアを包囲する高屈折材料のリングからなる。しかし、このようなプロファイルに対応する伝送損失は、１５５０ｎｍにおいて０．２２ｄＢ／ｋｍのオーダーであり、これは所望のものより少なくとも１０％高い。記載された設計は、エルビルムアンプ領域における低勾配を有する負の色分散を提供することには有用であるように思えるが、エルビウムアンプ領域においてこのような低い勾配を有する正の色分散を提供するようには思えない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
従って、（１）１５５０ｎｍにおいて０．２２ｄＢ／ｋｍよりも小さい伝送損失、（２）少ない色分散の量（すなわち、少なくとも０．８ｐｓ／（ｎｍ−ｋｍ）の絶対値）、（３）低い勾配を有する色分散特性（すなわち、０．０５ｐｓ／（ｎｍ²−ｋｍ）よりも小さい）、を有するエルビウムアンプ領域における動作に適した光ファイバを提供することが望ましく、このような光ファイバは従来技術にはない。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明により、波長領域１５３０〜１５６５ｎｍ内のすべての波長に対して約０．８ｐｓ／（ｎｍ−ｋｍ）の絶対値である色分散を有する光ファイバを提供する。この光ファイバは、最大屈折率ｎ₁を有する透過材料のコアを有し、そのコアの外側表面上の透過クラッド材料の層は、屈折率ｎ₂を有する。コアは、最小屈折率がｎ₂と比べて抑えられている透過材料の環状領域を有する。これらの屈折率は、波長領域１５３０〜１５６５ｎｍにおいて低分散勾配を有する光ファイバを提供するために以下の式によって制約される。
０．５０＜（ｎ₁−ｎ₂）／ｎ₂＜０．７０、かつ
−０．３０＜（ｎ₃−ｎ₂）／ｎ₂＜−０．０５
【０００８】
本発明の一実施例において、正の色分散を有する光ファイバを開示する。これは波長領域１５３０〜１５６５ｎｍにわたって約＋０．０４３ｐｓ／（ｎｍ²−ｋｍ）の分散勾配を有し、その屈折率プロファイルは、ゲルマニウムドープ中央コア領域と純粋シリカクラッドの間のフッ素ドープ材料の単一の環状リングからなる。この単一のリングは、クラッド層の屈折率よりも低い屈折率を有する。
【０００９】
別の実施例において、負の色分散を有する光ファイバを開示する。その分散勾配もまた、波長領域１５３０〜１５６５ｎｍにわたって約＋０．０４３ｐｓ／（ｎｍ²−ｋｍ）であり、その屈折率プロファイルは、ゲルマニウムドープ中央コア領域と純粋シリカクラッドの間の制御された屈折率の材料の２つの環状リングからなる。第１の環状リングは、クラッドの屈折率よりも低い屈折率を有するフッ素ドープ材料からなる中央コアに隣接する。第２の環状リングは、クラッドに隣接し、クラッドの屈折率よりも高い屈折率を有するゲルマニウムドープ材料からなる。第２の環状リングは、ファイバの有効面積を増加させるために用いる。
【００１０】
本発明の光ファイバは、０．２０ｄＢ／ｋｍ以下の１５５０ｎｍにおける平均伝送損失を有し、曲げ損失に対して比較的非感受性とすることができる。また、本発明の光ファイバは、５０μｍ²よりも大きい有効面積を有する。
【００１１】
【発明の実施の形態】
多くの機構がファイバのバンド幅を制限する。マルチモードファイバにおいて、例えば、モーダル分散(modal dispersion)があり、モーダル分散においては、ファイバの一端に入る光のパルスがファイバの他端から出ていく際に散乱する。これは、マルチモードファイバが特定の波長の数百の異なるモード（パス）をサポートすることから発生する。異なるモードがファイバの他端で結合すると、結果としてパルス散乱（分散）が発生し、これは好ましくない。特に言及しない限り、分散とは、色分散（線形分散）を意味する。従来から、分散の符号は短い波長の放射が長い波長の放射よりも大きな速度を有するような状況において正と考えられている。
【００１２】
ファイバは、特定の波長の基本モード（ＬＰ₀₁）のみをサポートするようにも設計することができる。このようなファイバは、「シングルモードファイバ」と呼ばれる。これはマルチモードファイバよりも相当に大きなバンド幅を有し、これに比例して大きな速度において光信号を送信することができる。しかし、シングルモードファイバは、ＬＰ₁₁カットオフ波長よりも短い波長においてマルチモードファイバであるようにふるまう。このＬＰ₁₁カットオフ波長は、コア半径ａ、屈折率ｎ、およびコアの屈折率／クラッドの屈折率の比の差(fractional difference)Δにより決められる。実際に、Δおよびａが減少すると、ただ１つのモードがＬＰ₁₁カットオフ波長よりも長い波長において伝搬するまで、伝搬するモードは少なくなっていく。従って、ＬＰ₁₁カットオフ波長は、適切な量の分伝送される波長よりも短い必要がある。
【００１３】
光ファイバの製造において、ガラスプレフォームロッドが垂直につらされ、制御された速度で炉の中に移動される。プレフォームは、炉の中で軟化し、ガラスファイバは、ドロータワー(draw tower)の底に位置するキャプスタンによりプレフォームロッドの溶融端から自由に引かれる。（引かれるファイバがプレフォームロッドよりも数千倍も小さな直径を有するにも関わらず、同じ屈折率プロファイルを有することは驚きである。）ガラスファイバの表面がアブレージョンによって起こる損傷を受けやすいので、ファイバが引かれた後でいずれかの表面に接触する前にファイバを被覆することが必要である。被覆材料の適用がガラス表面を損傷してはならないので、被覆材料は液体状態において適用される。適用されると被覆材料は、ガラスファイバがキャプスタンに到達する前に固化しなければならない。これは通常、光固化によりある程度の時間間隔を空けて行われる。このプロセスは、液体被覆材料が電磁放射により露出されることにより固体へ変換されるプロセスである。図１は、本発明で用いるのみ適した構造の二重被覆光ファイバである。図示するように、被覆材料の二層は、引かれたガラスファイバ１０に適用され、このガラスファイバ１０は、光を搬送するコア１１とクラッド１４からなる。クラッドファイバ１１は、約１２５μｍの直径を有する。プライマリ被覆材料と呼ぶ内側層１１１は、ガラスファイバ１０に適用される。セカンダリ被覆材料と呼ぶ外側層１１２は、プライマリ被覆材料１１１に適用される。セカンダリ被覆材料は一般に、取り扱いに耐えるために比較的高い弾性（モジュラス：例えば、１０⁹Ｐａ）を有するが、プライマリ被覆材料は、マイクロ曲げ損失を減らすクッションとして機能するように比較的低い弾性（例えば、１０⁶Ｐａ）を有する。セカンダリ被覆材料は、プライマリ被覆がまだウェット状態の間に適用することができ、次に、両方の被覆は電磁スペクトルの紫外線領域にある放射により同時に固化することができる。
【００１４】
図２は、従来技術の光ファイバの色分散を示し、特に、全体のフラット化特性２３がどのように材料および導波路分散成分の付加的な組み合わせによって作られるかを示す。（分散フラット化ファイバは一般に２つの波長、例えば、１４００ｎｍと１７００ｎｍ、においてゼロ分散を有する。）材料分散が光ファイバの製造に用いる実際の材料と固有に関連づけられることを思い出されたい。ここで、材料分散２１はシリカガラスに対応する。他方、導波路分散２２は、屈折率プロファイルの姿の関数である。材料分散と異なり、導波路分散は設計エンジニアによりある範囲内に限度を設けるように形成することができる。この特定の屈折率プロファイルは、色分散が１４００〜１７００ｎｍに広がる広い波長領域にわたって減るように分散フラット化ファイバの設計において用いられる。分散フラット化ファイバの例としては、米国特許４３７２６４７、米国特許４４３５０４０がある。
【００１５】
図３Ａを参照すると、これは複数の層３１〜３４を示す非被覆ガラスファイバ３０の断面積を概して示している。各層は、ファイバの導波路分散特性を変更するために異なる屈折率を有する。図３Ａは、屈折率における変化が層の間で急であることを示す（これは必要ではない）。段階的な屈折率な変化はより一般的であり、グレーデッドインデックスファイバと呼ばれる。しかし、本発明の理解を容易にするために急な変化を示した。本発明は、グレーデッドインデックスファイバにも適用できる。
【００１６】
光ファイバ３０は、公称屈折率がｎ₁である中央コア領域３１からなる。中央コア領域３１は、公称屈折率がｎ₃である第１中間領域３２により包囲され、第１中間領域３２は、公称屈折率がｎ₄である第２中間領域により包囲される。公称屈折率ｎ₂のクラッド層３４は第２中間領域を包囲する。図３Ａは、クラッド層３４の直径が約１２５ｎｍであるが中央コア３１の直径は７μｍよりも小さいのでスケールどおりではない。また、図３Ａは、４つの別々のガラス層を記載し、そのうちの３つのみが図３Ｂの本発明の第１実施例に従って屈折率プロファイルを製造することに用いられる。
【００１７】
図３Ｂは、本発明に従って正分散ファイバの屈折率プロファイルを記載し、その屈折率プロファイルを下の式で定義される正規化された屈折率差Δ₁とΔ₂の関数として示している。
Δ₁≒（（ｎ₁−ｎ₂）／ｎ₂）×１００％
Δ₂≒（（ｎ₃−ｎ₂）／ｎ₂）×１００％
【００１８】
所望のファイバの品質として、低損失、低分散勾配、および適切に大きな有効面積がある。これらのファイバ品質は、
０．５０％＜Δ₁＜０．６０％
−０．１５％＜Δ₂＜−０．０５％
であるΔ₁とΔ₂の値の範囲にわたっての正の分散ファイバにおいて得られる。
【００１９】
本発明の特定の実施例においては、Δ₁＝０．５５％、Δ₂＝−０．１０％であり、多層の半径は、ａ₁＝３．２μｍ、ａ２＝４．７μｍである。図３Ｂのファイバプロファイルは、ゲルマニウムドープシリカコア、フッ素ドープ中間層、および純粋シリカ外側クラッドからなる。しかし、コアおよびクラッド層は、本発明の利益を与えるのは屈折率の相対的な差であるので、上のような方法で作らなくてもよい。例えば、コアは純粋シリカから作り、中間層およびクラッドはフッ素ドープの異なるレベルであってもよい。
【００２０】
本発明に用いるのに適した正分散ファイバの仕様表を下のように作った。しかし、これはすべての許容範囲のファイバを示したのではなく、例示的にすぎない。

【００２１】
図３Ｃは、本発明に従う負分散ファイバの屈折率プロファイルを示す。
０．６０％＜Δ₁＜０．７０％
−０．３０％＜Δ₂＜−０．１０％
０．０５％＜Δ₃＜０．２５％
であるΔ₁、Δ₂、Δ₃の値の範囲にわたって負の分散ファイバが所望のファイバ品質を得られることがわかった。
【００２２】
本発明の特定の実施例において、Δ₁＝０．６５、Δ₂＝−０．２５、Δ₃＝０．１０である。また、多層の半径は、ｂ₁＝３．４μｍ、ｂ₂＝５．２μｍ、ｂ₃＝７．２μｍである。図３Ｃのファイバプロファイルは、ゲルマニウムドープシリカコア、フッ素ドープ第１中間層、ゲルマニウムドープ第２中間層、純粋シリカ外側クラッドからなる。しかし、コアとクラッド層はこの方法により作る必要はない。なぜなら、本発明の利益を与えるのは屈折率における相対的な差であるからである。例えば、コアは純粋シリカから作り、中間層とクラッドはフッ素ドープの異なるレベルを有するようにできる。
【００２３】
本発明に用いるのに適した負分散ファイバの仕様表を下のように作った。しかし、これはすべての許容範囲のファイバを示したのではなく、例示的にすぎない。

【００２４】
製造における適切な手順の詳細な説明は容易に得ることができる。プリフォームはモノリシックあるいはコンポジットでよい。コア領域は、改良化学気相蒸着法(modified chemical vapor deposition)あるいはスート化学である外部気相蒸着(outside vapor deposition)、気相軸蒸着(vapor axial deposition)を用いるプロセスの１つによって形成するのが好ましい。公知の手順（例えば、クラッディング、オーバークラッディング、被覆、ケーブリング等）はファイバ設計には影響を与えない。
【００２５】
図４は、本発明に従う光ファイバの色分散特性４３を示す。詳細には、材料分散成分４１および導波路分散成分４２の付加的な組み合わせによっていかに低分散勾配が作られるかを示す。図２における分散フラット化ファイバに対する導波路分散曲線２２も負の勾配を示すのにもかかわらず、導波路分散は、第２分散をゼロにして（１７００ｎｍに示してある）フラットな全体の分散曲線２３とするために、長い波長において急に増加する。しかし、このようなフラット化は、基本モードが有効にカットオフし始めることに従って実際に発生し、これは望まない高い曲げ損失を招いてしまう。
【００２６】
図５は、図３Ｂに示した屈折率プロファイルを有する正分散ファイバ４３−１、および図３Ｃに示した屈折率プロファイルを有する負分散ファイバ４３−２の色分散のグラフである。これらファイバのそれぞれは、１５５０ｎｍにおいて０．２０ｄＢ／ｋｍ以下である損失、５０μｍ２よりも大きい有効面積を有し、これらファイバのそれぞれは、エルビウムドープファイバアンプが動作する波長領域（１５３０〜１５６５ｎｍ）において０．８ｐｓ（ｎｍ−ｋｍ）よりも大きい絶対値である分散を有する。さらに重大なことは、これらファイバそれぞれは、１５５０ｎｍにおいて約０．０４３ｄＢ／（ｎｍ²−ｋｍ）の分散勾配を有することである。これらの特性により、低損失およびエルビウムアンプ領域にわたっての分散量が小さいことが望ましいＷＤＭ信号の伝送においてファイバ４３−１、４３−２を理想的にする。（逆に、非シフトシリカファイバは、約１３１０ｎｍにおいて分散ヌル点λ０、１５５０ｎｍにおいて＋１７ｐｓ／（ｎｍ−ｋｍ）の分散、１５５０ｎｍにおいて約０．０９５ｐｓ／（ｎｍ²−ｋｍ）の分散勾配を有するものである。）
【００２７】
図６は、本発明に従う実用的なケーブルの構築に関する詳細を与える。光ファイバは、２束の光ファイバを有し、これらはヤーンバインダ６０６によってルース状に巻かれ、同一のユニットを形成している。束の１つは、米国特許５６１１０１６において議論しているように、正分散ファイバ３０−１を有し、他方の束は負分散ファイバ３０−２を有することが好ましい。正および負の分散ファイバを別々のグループ（ユニット）へと分離することが好ましいが、本発明において必要なことではない。これらの束は、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンのような誘電体材料から作られる。管状メンバ６０５をシースシステムが囲い、これは、吸水性テープ６０３、ポリエチレン材料などでできているプラスチックジャケット６０１、綱やエポキシ浸透ガラスファイバなどからなる強度メンバ６０２−６０２を有する。強度メンバは、取り扱い時や通常のサービス時において光ファイバへとかかってしまう応力を減らすために用いられ、公知の方法によってケーブル６００内に設けることができる。Kevlar（登録商標）でできた引裂ひも６０４は、全体のシースシステム６０１〜６０３の除去を容易にする。埋め材料が通常、内部に含むファイバのクッション材として機能する管状メンバ６０５内に配置され、マイクロ曲げ損失からそれらを守る。
【００２８】
図７は、本発明に従うＷＤＭシステム７００を示す。これは４つの送信器７１〜７４からなり、これらは４つの異なるベースバンド信号で１５３０〜１５６５ｎｍ領域における所定の４つの波長を変調する。変調された波長は次に、受動４：１カプラ７５によりコンバイニングされ、光アンプ７１０（エルビウムドープファイバアンプが好ましい）を有するファイバ伝送線３０−１、３０−２へと導入される。図７の実施例において、ファイバ伝送線３０−１は所定長の正分散ファイバからなり、ファイバ伝送線３０−２は所定長の負分散ファイバからなる。受信端において、４つのチャネルはそれらの波長に従ってデマルチプレキサ８５により分割され、個々のベースバンド信号を抽出するように受信器８１〜８４により処理される。
【００２９】
隣接する層の間を段階的にテーパ状となる屈折率プロファイル（例えば、グレーデッドインデックスプロファイル）、層の幅における変更、同じ一般的なプロファイルの形を得るために異なるドーピング物質の利用、光ファイバの製造においてガラスではなくプラスチック材料の利用のような多くの変形例がある。多くの実用的な光ファイバにおいて、ファイバの製造時に用いる製造プロセスのおかげでファイバの中央において屈折率の低い部分が存在することは留意すべきである。図３Ｂ、Ｃが理想化したプロファイルを示すが、本発明はこのような中央部分の屈折率の低い部分にかかるものも包含する。
【００３０】
特許請求の範囲に記載した参照符号は、発明の容易な説明のためのみに記載したものであり、これにより本発明を限定的に解釈すべきではない。
【００３１】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明により、小さい伝送損失、少ない色分散、低い勾配を有する色分散特性を有するエルビウムアンプ領域における動作に適した光ファイバを提供できた。
【図面の簡単な説明】
【図１】２つの保護被覆層を有する従来技術の光ファイバの斜視図である。
【図２】波長の関数としての分散フラット化ファイバの全体の色分散のグラフ図であり、その材料分散および導波路分散成分を示す。
【図３】（Ａ）異なる屈折率材料のいくつかの層を示す非被覆光ファイバの断面図である。（Ｂ）本発明に従う正分散ファイバの屈折率プロファイルを示すグラフ図である。（Ｃ）本発明に従う負分散ファイバの屈折率プロファイルを示すグラフ図である。
【図４】波長の関数として本発明に従うファイバの色分散のグラフ図であり、その材料分散および導波路分散成分を示す。
【図５】本発明の正分散ファイバおよび負分散ファイバの色分散のグラフ図であり、エルビウムアンプ領域において詳細にそれらの特性を示す。
【図６】本発明に従う光ファイバを含むケーブルの斜視図である。
【図７】正および負分散ファイバとともにエルビウムドープファイバアンプを含む伝送パスにわたって動作する４チャネルＷＤＭシステムである。
【符号の説明】
１０ ガラスファイバ
１１ コア
１４ クラッド
３０ 光ファイバ
３１ コア領域
３２ 第１中間領域
３３ 第２中間領域
３４ クラッド層
１１０ 二重被覆光ファイバ
１１１ 内側層
１１２ 外側層
６００ 光ケーブル
６０１ プラスチックジャケット
６０２ 強度メンバ
６０３ 吸水性テープ
６０４ 引裂ひも
６０５ 管状メンバ
６０６ ヤーンバインダ
３０−１ 正分散ファイバ
３０−２ 負分散ファイバ

Claims (8)

1. １５３０〜１５６５nmの領域の全ての波長において＋０．８ps／(nm−km)よりも大きい正の色分散を有する光ファイバであって、
   該光ファイバは、公称屈折率ｎ₁を有する透過材料からなる中央領域を含むコアと、公称屈折率ｎ₂を有する透過なクラッド材料からなる該コアの周囲の層とからなり、
   該コアは、公称屈折率ｎ₃を有する透過材料からなる該中央領域周囲の環状領域を含み、ここで
   Δ_１＝（（ｎ₁−ｎ₂）／ｎ₂）×１００％、Δ_２＝（（ｎ₃−ｎ₂）／ｎ₂）×１００％ とすると、
   ０．５０％＜ Δ_１ ＜０．６０％、及び
   −０．１５％＜ Δ_２ ＜−０．０５％ であり、
   該光ファイバは、１５３０〜１５６５ｎｍの領域の全ての波長において、０.０５ps／(nm²−km)より小さい分散勾配を有している光ファイバ。
2. １５３０〜１５６５ｎｍの領域の全ての波長において−０．８ps／(nm−km)よりも小さい負の色分散を有する光ファイバであって、
   該光ファイバは、公称屈折率ｎ₁を有する透過材料からなる中央領域を含むコアと、公称屈折率ｎ₂を有する透明なクラッド材料からなる該コアの周囲の層とからなり、
   該コアは、公称屈折率ｎ₃を有する透過材料からなる該中央領域周囲の第１の環状領域、及び公称屈折率ｎ₄を有する透過材料からなる該第１の環状領域周囲の第２の環状領域を含み、
   Δ_１＝（（ｎ₁−ｎ₂）／ｎ₂）×１００％、Δ_２＝（（ｎ₃−ｎ₂）／ｎ₂）×１００％ 及び Δ_３＝（（ｎ₄−ｎ₂）／ｎ₂）×１００％ とすると、
   ０．６０％＜ Δ_１ ＜０．７０％、
   −０．３０％＜ Δ_２ ＜−０．１０％ 及び
   ０．０５％＜ Δ_３ ＜０．２５ ％であり、
   該光ファイバは、１５３０〜１５６５nmの領域の全ての波長において、０.０５ps／(nm²−km)より小さい分散勾配を有している光ファイバ。
3. 請求項１又は２に記載の光ファイバにおいて、該光ファイバは１５３０〜１５６５nmの領域の全ての波長において０．０４３±０．００５ps／(nm²−km)である分散勾配を有している光ファイバ。
4. 請求項１又は２に記載の光ファイバにおいて、該光ファイバはプラスチックジャケットを有するシースシステム内に収容されて光ケーブルを構成している光ファイバ。
5. 波長分割多重システムであって、請求項１又は２に記載の光ファイバを含む伝送路、該伝送路の一方の端に接続された多重化装置及び該伝送路の他方の端に接続された多重分離装置とからなり、
   該多重化装置は、１５３０〜１５６５nmの領域内の異なる波長で変調された複数の光信号の源を含み、該伝送路は該多重化装置と該多重分離装置とを相互接続して波長分割多重システムを形成している波長分割多重システム。
6. 請求項５の波長分割多重システムにおいて、該伝送路は光増幅器を含む波長分割多重システム。
7. 請求項６に記載の波長分割多重システムにおいて、該光増幅器はエルビウムドープ・ファイバ増幅器である波長分割多重システム。
8. 請求項５に記載の波長分割多重システムにおいて、該伝送路は該光ファイバに直列接続された第２の光ファイバを含み、該第２の光ファイバは該光ファイバの分散勾配に略等しいが極性が反対の分散勾配を有しているものである波長分割多重システム。

Images