JP4065716B2 - 有効面積の広い正分散光ファイバ - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、正分散光ファイバに関し、より詳細には、有効面積の広い伝送特性の改善された正分散光ファイバに関する。
【０００２】
【従来の技術】
光ファイバは、比較的大量の情報を含む光信号を、長距離にわたって、比較的小さい減衰で伝送することができる、細いガラス繊維またはプラスチック繊維である。通常、光ファイバは、ガラスまたは他の適切な材料からなる保護クラッド領域に囲まれた屈折コア領域を含む光プリフォームの一部を加熱し、引き出すことによって作られている。プリフォームから引き出された光ファイバは、通常、クラッド領域に加えられた１層または複数層の被覆でさらに保護されている。
【０００３】
光ファイバの伝送特性を改善するための努力の一環として、波長分割多重（ＷＤＭ）システムが使用されている。一般的には、ＷＤＭシステムは、各チャネルが異なる波長で動作する複数の情報チャネルを単一ファイバ上に多重化している。チャネル間の固有非直線性相互作用効果（例えば、４光子混合）を除去するために、多くのＷＤＭシステム構造は、（負の）分散補償ファイバと連結した正分散ファイバを含む分散補償構造を備えている。正分散ファイバは、通常、チャネル間の非線形相互作用を軽減するために、分散量の少ない単一モード・ファイバを備えている。分散補償ファイバには、もたらされた分散を軽減し、分散を累積させないために、負の分散を持たせる傾向がある。
【０００４】
しかし分散補償ファイバには、非分散補償ファイバより信号が大きく減衰する傾向があるため、分散補償構造の総合減衰を緩和するためには、正分散ファイバの損失を比較的少なくすることが望ましい。低損失正分散光ファイバは、従来から存在している。このようなファイバには、例えば住友電気工業（株）製の低損失純石英コア・ファイバがある。
【０００５】
しかし、上で参照した製品の中に開示されている光ファイバは、コア領域が、例えば二酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ_２）がドープされた石英で作られている、より従来型の光ファイバではなく、純石英コア領域を有していることに留意すべきである。例えば、純石英は、Ｇｅがドープされた石英より加工が困難であり、したがって高価であるため、通常、純石英コア領域を有する光ファイバは、ＧｅＯ_２またはその他がドープされたコア・ファイバより高価である。また、純石英コア・ファイバには、低下屈折率クラッド、例えばコアとクラッドの不整合特性に関連する固有の困難性があり、ファイバ引出しプロセスをより困難にしている。
【０００６】
したがって、従来の純石英コア・ファイバの製造および経済性の制限に無関係に、上で考察した望ましい伝送特性を有する、比較的広い有効面積を有する非ゼロ正分散光ファイバを始めとする光ファイバを有することが望ましい。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
したがって本発明の目的は、有効面積の広い正分散光ファイバを提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、屈折率がｎ_１のドープ・コア領域と、屈折率がｎ_２のクラッド領域と、ドープ・コア領域とクラッド領域の間に形成された第１および第２の環状リング、すなわち屈折率がそれぞれｎ_３およびｎ_４の領域とを含む正分散光ファイバの中に具体化されている。各領域は、屈折率の値の範囲が、０．１４＜（ｎ_１−ｎ_２）／ｎ_２＜０．３１、−０．１９＜（ｎ_３−ｎ_２）／ｎ_２＜−０．０２、および−０．２０＜（ｎ_４−ｎ_２）／ｎ_２＜−０．０８になるように製造されている。コア領域には、例えばゲルマニウムまたは他の適切な物質がドープされている。第１および第２の領域には、例えばフッ素または他の適切な物質がダウン・ドープされている。クラッド領域は、例えば純石英である。本発明の実施形態による正分散ファイバは、波長１，５５０ｎｍにおいて、２０±２．０ピコ秒（ナノメータ−キロメータ）を超える色分散を有し、かつ、分散傾斜が０．０６２ｐｓ／（ｎｍ^２−ｋｍ）より小さくなっている。また、ファイバのモード・フィールド径（ＭＦＤ）は、少なくとも１１．９±０．７ミクロン（μｍ）である。また、本発明の実施形態による光ファイバは、例えば１００．０μｍ^２を超える比較的広い有効コア面積Ａ_ｅｆｆを有し、かつ、０．００３２ｎｍ^−１未満の相対分散傾斜（ＲＤＳ）を有している。光ファイバの製造には、幅が約６．０μｍから約６．４μｍまでのコア領域、幅が約２．０μｍから約４．１μｍまでの第１の環状領域、および幅が約１５．０μｍから約３５．０μｍまでの第２の環状領域の製造が含まれている。本発明の実施形態による光ファイバにより、従来のファイバの製造および経済性の制限による負担を負うことなく、例えば比較的広い有効コア面積および比較的小さい伝送損失などの所望の伝送特性が、所望の周波数（例えば１，５５０ｎｍ）で提供される。
【０００９】
【発明の実施の形態】
光ファイバが商業的に有用であるためには、多数の光ファイバ設計配慮が必要である。一般的には、ファイバは、伝送損失が小さく、また、極端に損失することなく、ある程度の曲げ量に耐えることができ、所定の全波長範囲にわたって分散が一定であり、分散傾斜が比較的緩やかであり、かつ、システム波長での単一モード伝送に適した遮断波長を有していることが望ましい。伝送損失の小さい高品質ガラス材が開発されているが、商業的に有用な光ファイバに所望の特徴のすべてを満たすには、高品質ガラス材だけでは不十分である。
【００１０】
所望の多くの特徴は、例えば、中心軸からの距離の関数として光ファイバの屈折率が如何に変化するかを示す、光ファイバの屈折率プロファイルによって処理される。屈折率プロファイルを説明するために使用されているパラメータは、一般的にガラスの最外層の屈折率で表されている。通常、屈折率プロファイルの理想化モデルは、軸に対して対称のリング、すなわち屈折率が異なる領域を備えているが、これらの領域の任意の１つの数、大きさ、および／または形状が変化すると、一般的には光ファイバの複数の特徴に影響が及ぶことになる（例えば分散傾斜が緩やかになるが、伝送損失が増加する）。したがって、すべてではないとしても、所望の特徴のほとんどを提供し、かつ、製造が容易な屈折率プロファイルを生成することは、重要な設計努力である。
【００１１】
光ファイバの帯域幅は、分散を始めとする多くの要因に影響される。例えば多モード・ファイバの場合、モード分散により、ファイバの一端から入った光のパルスが、ファイバの他端を出る際に広がってしまう結果となる。モード分散は、多モード・ファイバが、特定の波長の多くの異なるモード（経路）をサポートすることによって生じ、異なるモードがファイバの他端で結合されると、最終的な結果として、入力パルスが広がることになる。通常、モード分散は、望ましくない分散である。また、分散という用語は、通常、色分散すなわち「線形」分散を意味している。従来、分散の符号は、短波長放射の速度が長波長放射の速度より速い場合、正である。
【００１２】
単一モード・ファイバは、特定の波長の基本モード（ＬＰ_０１）のみをサポートするために設計された光ファイバである。多モード・ファイバよりはるかに広い帯域幅を有する単一モード・ファイバは、帯域幅の広さに比例して、より速い伝送速度で光信号を伝送しているが、それにもかかわらず、コア半径（ａ）、屈折率（ｎ）、および極わずかなコア／クラッド屈折率差（Δ）によって決まるＬＰ_１１遮断波長より短い波長に対しては、多モード・ファイバであるかのように挙動している。Δおよびａが小さくなるほどモード伝搬が少なくなり、最終的にただ１つのモードのみが、ＬＰ_１１遮断波長より長い波長で伝搬するようになる。したがってＬＰ_１１遮断波長は、適切な量だけ、伝送すべき波長より短くしなければならない。
【００１３】
ここで図１を参照すると、例えば、本発明の実施形態が有効な被覆光ファイバ１０が示されている。光ファイバ１０は、光搬送コア領域１２、およびコア領域１２を取り囲んでいるクラッド領域１４を含んでいる。本明細書において既に考察したように、通常、コア領域１２およびクラッド領域１４はガラスでできており、典型的にはガラス・プリフォームから引き出されている。
【００１４】
コア領域１２の直径は、単一モード・ファイバの場合、約５μｍ〜８μｍであり、また、多モード・ファイバの場合は、約５０ミクロンまたは６２．５ミクロン（μｍ）である。コア領域１２の直径は、ファイバが単一モードであるか、あるいは多モードであるかによって変化するが、コア領域１２を取り囲んでいるクラッド領域１４の全体の直径は、通常、約１２５μｍである。
【００１５】
クラッド領域１４は、保護および強化のために、１層または複数層の被覆、例えば一次被覆層１６および二次被覆層１８で覆われており、その結果、全体の外径が、通常、約２５０μｍ〜１，０００μｍになっている。二次被覆層１８は、取扱いに耐えることができるよう、一般的に比較的弾性率が大きく、例えば１０^９パスカル（Ｐａ）である。一次被覆層１６の弾性率は比較的小さく、例えば１０^６Ｐａであり、マイクロベンディング損失を低減するクッションを提供している。
【００１６】
次に図２を参照すると、例えば図１に示す光ファイバ１０のような光ファイバの色分散が、グラフで示されている。詳細には、図２は、総合分散フラット特性２３が、材料分散２１と導波路分散２２の付加結合を介して、如何に生成されるかをグラフで示したものである。通常、分散フラット・ファイバは、例えば１，４００ｎｍおよび１，７００ｎｍの２つの波長において零分散である。
【００１７】
材料分散２１は、光ファイバを製造するために使用している実際の材料に固有に関連している。図２では、材料分散２１は、石英ガラスに関連している。導波路分散２２は、ファイバの屈折率プロファイルの関数である。材料分散とは異なり、導波路分散は、設計技術者による制限範囲内で影響を受ける。色分散を１，４００ｎｍ〜１，７００ｎｍに及ぶ広範囲の波長領域にわたって低減する分散フラット・ファイバの設計には、総合分散フラット特性２３をもたらした特定の屈折率プロファイルが使用されている。
【００１８】
次に図３ａを参照すると、ファイバ３０の導波路分散特性を修正するために、それぞれ異なる屈折率を有する複数の層３１、３２、３３および３４の構成を示す、非被覆ガラス・ファイバ３０の横断面が示されている。層３１〜３４は、屈折率が層と層の間で急激に変化していることを示しているが、場合によっては、必ずしもそうなるとは限らない。通常は、グレーデッド・インデックス・ファイバになるように、隣接する層には、隣接する層と層の間の屈折率が徐々に変化する屈折率が使用されているが、本発明の実施形態に対する理解を容易にするために、急激な変化が示されている。本発明の実施形態がグレーデッド・インデックス・ファイバを意図していることを理解されたい。
【００１９】
光ファイバ３０は、公称屈折率がｎ_１の中心コア領域３１を備えている。中心コア領域３１は、公称屈折率がｎ_３の第１の環状リングすなわち領域３２に囲まれている。第１の領域３２は、公称屈折率がｎ_４の第２の環状リングすなわち領域３３に囲まれている。公称屈折率がｎ_２の外部クラッド３４が第２の領域３３を囲んでいる。図３ａが非スケールで表されていることに留意すべきである（例えば単一モード・ファイバの場合、クラッド層３４の直径は、約１２５μｍであり、中心コア領域３１の直径は、約８μｍである）。
【００２０】
次に図３ｂを参照すると、屈折率プロファイル、例えば図３ａに示すファイバ３０の構成と類似の構成を有するファイバの屈折率プロファイルが示されている。屈折率の実際の値を用いて屈折率プロファイルをグラフ化するより、屈折率プロファイルを、Δ_１≒（ｎ_１−ｎ_２）／ｎ_２×１００％、Δ_２≒（ｎ_３−ｎ_２）／ｎ_２×１００％、およびΔ_３≒（ｎ_４−ｎ_２）／ｎ_２×１００％で定義される正規化屈折率差Δ_１、Δ_２およびΔ_３の関数として示す方が便利かつ習慣的である。屈折率プロファイルに関しては、図３ａの第１の領域３２に対応する領域の外半径はａ_２であり、内半径はａ_１である。第２の領域３３に対応する領域の外半径はａ_３であり、内半径はａ_２である。この特定の従来構成では、Δ_１＝０．６５、Δ_２＝−０．２５、およびΔ_３＝０．１０である。また、この特定の従来構成では、ａ_１＝３．４μｍ、ａ_２＝５．２μｍ、およびａ_３＝７．２μｍである。したがって第１の領域３２の幅は１．８μｍ（５．２μｍ−３．４μｍ）であり、第２の領域３３の幅は２．０μｍ（７．２μｍ−５．２μｍ）である。
【００２１】
通常、図３ｂに示す屈折率プロファイルは、ゲルマニウムまたは他の適切な物質がドープされた石英コア、フッ素または他の適切な物質がドープされた第１の環状リングすなわち領域、ゲルマニウムまたは他の適切な物質がドープされた第２の環状リングすなわち領域、および純石英外部クラッドを備えている。通常、石英にゲルマニウムまたは類似の物質をドープすることにより、ドープ材の屈折率が大きくなり、また、石英にフッ素または類似の物質をドープすることにより、ドープされた材料の屈折率が小さくなる。
【００２２】
通常、図３ｂに示す石英コアは、例えばゲルマニウム・ドープ領域であるが、光ファイバのコア領域を純石英製にすることも可能である。第１および第２の環状領域、およびクラッド領域は、例えば異なるドープ準位のフッ素または他の適切な物質を使用することにより、屈折率の小さい準位を有している。例えば、図４ａおよび４ｂを参照すると、非被覆ガラス・ファイバ４０、例えば住友電気工業（株）製の純石英コア・ファイバの横断面図（図４ａ）、および対応する屈折率プロファイル（図４ｂ）が示されている。この従来構成では、光ファイバ４０は、公称屈折率がｎ_３の第１の環状リング４２に囲まれた、屈折率がｎ_１の中心コア領域４１を備えている。第１の環状リング４２は、公称屈折率がｎ_４の第２の環状リング４３に囲まれている。第２の環状リング４３は、公称屈折率がｎ_２の外部クラッド４４に囲まれている。さらに詳細には、この特定の構成では、ｎ_１、ｎ_２、ｎ_３およびｎ_４の値は、Δ_１＝０．２６％およびΔ_２＝０．０８％になるような値になっている。また、ｂ_１に対するｂ_２の比率は２．５である。
【００２３】
従来の多くの光ファイバ屈折率プロファイルは、ゲルマニウム・ドープ石英コア、１層または複数層のフッ素ドープ中間層、および純石英外部クラッドからなる従来のコア・プロファイルを有しているが、図４ａおよび４ｂに示す住友製ファイバの屈折率プロファイルは、純石英コア、フッ素ドープ中間層、およびフッ素ドープ外部クラッドからなっている。中間層の屈折率（ｎ_３）は、外部クラッドの屈折率（ｎ_２）より小さく、したがって中間層は、外部クラッドより高濃度にフッ素がドープされている。しかし、本明細書において既に考察したように、純石英コアを有する光ファイバには多数の欠点がある。例えば、純石英は、ドープされた石英より加工が困難であり、したがって高価である。また、フッ素ドープ・クラッドの製造は、さらに困難である。例えば、純石英コア・ファイバに匹敵するロッド・イン・チューブ（ＲＩＴ）オーバクラッド・チューブは、製造および／または入手がさらに困難であり、したがってさらに高価である。つまり、フッ素または他の適切な物質が（ダウン）ドープされたオーバクラッド・チューブは、例えば、より従来型のゲルマニウム・ドープ石英コアと共に使用される純石英オーバクラッド・チューブより入手が困難である。
【００２４】
次に図５ａおよび５ｂを参照すると、本発明の実施形態による光ファイバ５０の横断面図（図５ａ）、および対応する屈折率プロファイル（図５ｂ）が示されている。本発明によるプロファイルは、ドープ石英コア領域５１、屈折率がコア領域の屈折率より小さい第１の環状リングすなわち領域５２、屈折率が第１の領域の屈折率より小さい第２の環状リングすなわち領域５３、および屈折率が第１および第２の領域の屈折率より大きく、かつ、コア領域の屈折率より小さい外部クラッド５４を備えている。第１の領域（環状リング）の外半径はｃ_２であり、内半径はｃ_１である。第２の領域（環状リング）の外半径はｃ_３であり、内半径はｃ_２である。例えば、ファイバ・プロファイルは、ゲルマニウム・ドープ石英コア、コア領域を取り囲む第１のフッ素ドープ領域、第１の領域を取り囲む第２のフッ素ドープ領域、および第２の領域を取り囲む純石英外部クラッドからなる構成を表している。別法としては、コア領域にゲルマニウムおよびフッ素が共ドープされ、あるいは他の適切な共ドーパントが共ドープされる。また、別法としては、第１および第２の領域の一方または両方にコア領域にゲルマニウムおよびフッ素が共ドープされ、あるいは他の適切な共ドーパントが共ドープされる。
【００２５】
本発明の実施形態によれば、本発明による屈折率プロファイルにより、例えば上で考察したような、従来の同様のファイバが有する欠点のない、比較的広い有効伝送面積（すなわち有効コア面積Ａ_ｅｆｆ）を有し、かつ、少なくとも従来のファイバと同程度の望ましい伝送特性を有する正分散光ファイバが提供される。例えば、図５ａに示す本発明の実施形態によれば、Δ_１＝０．３０３、Δ_２＝−０．０２６、およびΔ_３＝−０．０７５である。また、この特定の構成では、ｃ_１＝６．３４３μｍ、ｃ_２＝８．３４３μｍ、およびｃ_３＝２３．３４３μｍである。したがって第１の環状リングの幅は２．０００μｍ（８．３４３μｍ−６．３４３μｍ）であり、第２の環状リングの幅は１５μｍ（２３．３４３μｍ−８．３４３μｍ）である。
【００２６】
また、図６ａおよび６ｂを参照すると、本発明の他の実施形態による光ファイバ５５の横断面図（図６ａ）、および対応する屈折率プロファイル（図６ｂ）が示されている。上で考察した本発明の実施形態のプロファイルと同様、図６ａおよび６ｂに示すファイバ・プロファイルは、ドープ石英コア５６、屈折率がコア領域の屈折率より小さい第１の領域５７、屈折率が第１の領域の屈折率より小さい第２の領域５８、および屈折率が第１および第２の領域の屈折率より大きく、かつ、コア領域の屈折率より小さい外部クラッド５９を有している。また、第１の領域５７の外半径はｄ_２であり、内半径はｄ_１である。第２の領域５８の外半径はｄ_３であり、内半径はｄ_２である。図５ｂに示すように、Δ_１＝０．１４８、Δ_２＝−０．１８７、およびΔ_３＝−０．２００である。また、この特定の構成では、ｄ_１＝６．００μｍ、ｄ_２＝１０．０１３μｍ、およびｄ_３＝２９．０１３μｍである。したがって第１の領域の幅は４．０１３μｍ（１０．０１３μｍ−６．００μｍ）であり、第２の領域の幅は１９．０００μｍ（２９．０１３μｍ−１０．０１３μｍ）である。
【００２７】
本発明の実施形態についての以上の考察においては、特定の値が開示されているが、本発明の実施形態によれば、上で説明したファイバ品質は、
０．１４＜Δ_１＜０．３１
−０．１９＜Δ_２＜−０．０２
−０．２０＜Δ_３＜−０．０８
であるΔ_１、Δ_２およびΔ_３の範囲のすべての値に対して得ることができることに留意されたい。また、この方式によれば、例えばコア領域の半径は、約６．０μｍと約６．４μｍの間であり、第１の領域の幅は、約２．０μｍと約４．１μｍの間、また、第２の領域の幅は、約１５．０μｍと約３５．０μｍの間である。したがってｃ_１および／またはｄ_１の値は、約６．０μｍと約６．４μｍの間であり、ｃ_２および／またはｄ_２の値は、約８．０μｍと約１０．５μｍの間、また、ｃ_３および／またはｄ_３の値は、約２３．０μｍと約４５．５μｍの間である。
【００２８】
本発明の実施形態によるファイバ構成は、波長１，５５０ｎｍにおいて、２０±０．２ｐｓ／（ｎｍ−ｋｍ）を超える大きさの色分散、および０．０６２ｐｓ／（ｎｍ^２−ｋｍ）未満の分散傾斜を有している。さらに、このようなファイバ構成は、波長１，５５０ｎｍにおいて、少なくとも約１１．９±０．７μｍのモード・フィールド径（ＭＦＤ）を有し、また、波長１，５５０ｎｍにおける有効コア面積Ａ_ｅｆｆは、１００μｍ^２より大きくなっている（例えば１０６μｍ^２）。また、分散傾斜（１，５５０ｎｍにおける）を分散（１，５５０ｎｍにおける）で割った相対分散傾斜（ＲＤＳ）は、０．００３２ｎｍ^−１未満である。
【００２９】
本発明の実施形態による正分散光ファイバのための仕様表が開発されているが、表は、許容可能なファイバの全範囲を画定することを意図したものではなく、単に説明用のものであるに過ぎない。

【００３０】
次に図７を参照すると、本発明の実施形態が有効な光システム６０の簡易図が示されている。光通信システム６０は、例えば１，５３０ｎｍ〜１，５６５ｎｍの範囲の波長を異なるベースバンド信号で変調する、１つまたは複数の光源すなわちトランスミッタ６２を備えている。変調された波長は、例えばマルチプレクサ６３または他の適切な結合器を介して結合され、組合せファイバ伝送線路６４_ａおよび６４_ｂに導かれる。組合せファイバ伝送線路間には、例えば光増幅器６６が含まれている。組合せファイバ伝送線路６４_ａおよび６４_ｂは、例えば、本発明の実施形態による光ファイバ（例えばファイバ伝送線路６４_ａ）、および分散補償ファイバ（例えばファイバ伝送線路６４_ｂ）などの正分散ファイバを含んだ分散補償構造を備えている。伝送された光チャネルは、レシーバ端で、例えばデマルチプレクサ６７によって、その波長に応じて分割され、レシーバ６８によって処理されて個々のベースバンド信号が抽出される。
【００３１】
本明細書において説明した光ファイバの実施形態に対して、特許請求の範囲の各クレームによって定義されている本発明の精神および範囲、およびそれらと等価のすべての範囲を逸脱することなく、多くの変更および置換を加えることができることは、当分野の技術者には明らかであろう。このような変更および置換には、他にもあるが、隣接する層と層の間で漸減する屈折率プロファイル（例えばグレーデッド・インデックス・プロファイル）、層の幅の変化、同一汎用プロファイル形状を実現するための異なるドープ物質の使用、および塑性物質（ガラス以外）を使用した光ファイバの製造などが含まれる。また、多くの実用ファイバには、ファイバの製造に使用される製造プロセスにより、ファイバの中心に屈折率低下が存在していることに留意すべきである。本明細書におけるいくつかの図は、理想化したプロファイルを示しているが、本発明の実施形態が、このような中心低下を意図していることを理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【図１】被覆光ファイバの斜視図である。
【図２】材料分散成分および導波路分散成分を示す、分散フラット光ファイバの波長を関数とした総合色分散のグラフである。
【図３ａ】異なる屈折率材の複数の層を示す、非被覆光ファイバの横断面図である。
【図３ｂ】図３ａに示す光ファイバの屈折率プロファイルを示すグラフである。
【図４ａ】異なる屈折率をもつ材料の複数の層を示す、他の非被覆光ファイバの横断面図である。
【図４ｂ】図４ａに示す光ファイバの屈折率プロファイルを示すグラフである。
【図５ａ】異なる屈折率をもつ材料の複数の層を示す、本発明の実施形態による光ファイバの横断面図である。
【図５ｂ】図５ａに示す光ファイバの屈折率プロファイルを示すグラフである。
【図６ａ】異なる屈折率をもつ材料の複数の層を示す、本発明の他の実施形態による光ファイバの横断面図である。
【図６ｂ】図６ａに示す光ファイバの屈折率プロファイルを示すグラフである。
【図７】本発明の実施形態が有効な光システムの簡易図である。

Claims (7)

1. 光ファイバ（５０、５５）であって、
   屈折率ｎ_１を有するドープ・コア領域（５１、５６）と、
   屈折率ｎ_２を有するクラッド領域（５４、５９）と、
   ドープ・コア領域とクラッド領域との間でドープ・コア領域に隣接する、屈折率ｎ_３を有する第１の領域（５２、５７）と、
   ドープ・コア領域とクラッド領域との間で第１の領域に隣接する、屈折率ｎ_３よりも小さい屈折率ｎ_４を有する第２の領域（５３、５８）とを含み、
   ０．１４％＜（ｎ_１−ｎ_２）／ｎ_２＜０．３１％、−０．１９％＜（ｎ_３−ｎ_２）／ｎ_２＜−０．０２％、および−０．２０％＜（ｎ_４−ｎ_２）／ｎ_２＜−０．０８％であり、そして、
   前記ドープ・コア領域の半径が約６．０μｍから約６．４μｍまでの範囲内にあり、前記第１の領域の幅が約２．０μｍから約４．１μｍまでの範囲内にあり、そして前記第２の領域の幅が約１５．０μｍから約３５．０μｍまでの範囲内にあることを特徴とする光ファイバ。
2. 波長１５５０ｎｍにおける光ファイバの色分散の大きさが２０±２．０ｐｓ／（ｎｍ−ｋｍ）より大きいことを特徴とする請求項１に記載のファイバ。
3. 波長１５５０ｎｍにおける光ファイバの分散傾斜が０．０６２ｐｓ／（ｎｍ^２−ｋｍ）より小さいことを特徴とする請求項１に記載のファイバ。
4. 波長１５５０ｎｍにおける光ファイバのモード・フィールド径（ＭＦＤ）が１１．６４μｍより大きいことを特徴とする請求項１に記載のファイバ。
5. 波長１５５０ｎｍにおける光ファイバの有効コア面積Ａ_ｅｆｆが１００．０μｍ^２より大きいことを特徴とする請求項１に記載のファイバ。
6. 第２のクラッド領域の周囲に形成された、少なくとも１層の被覆層をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のファイバ。
7. 光ファイバの相対分散傾斜（ＲＤＳ）が０．００３１０ｎｍ^−１より小さいことを特徴とする請求項１に記載のファイバ。

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