JP3701520B2

JP3701520B2 - 高分子電荷輸送材料および発光材料

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Publication number: JP3701520B2
Application number: JP23809699A
Authority: JP
Inventors: 能徳長崎; 祐一伊藤; 壽彌佐藤; 賢司荻野; 真由美仲尾
Original assignee: Toppan Inc
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 1999-08-25
Filing date: 1999-08-25
Publication date: 2005-09-28
Anticipated expiration: 2019-08-25
Also published as: JP2001064642A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電荷輸送材料に係り、有機薄膜ＥＬ素子や電子写真感光体に適用可能な高分子電荷輸送材料および発光材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機薄膜EL素子は、エレクトロルミネッセンス（以下単にELという）現象を利用した、発光層が有機材料からなる発光素子であり、自発光型の平面表示素子や平面光源として利用されている。この有機薄膜EL素子は、イーストマン・コダック社のC.W.Tangらにより開発され、特開昭５９−１９４２９３号公報、特開昭６３−２６４６９２号公報、特開昭６３−２９５６９５号公報、アプライド・フィジックス・レター第５１巻第１２号第９１３頁（１９８７年）、及びジャーナル・オブ・アプライドフィジックス第６５巻第９号第３６１０頁（１９８９年）等に記載されている。
【０００３】
一般に、有機薄膜EL素子は、陽極、有機正孔注入輸送層、有機発光層、及び陰極の順に積層されて構成され、以下に示すようにして作製される。
【０００４】
まず、ガラスや樹脂フィルム等の透明絶縁性の基板上に、陽極として、インジウムとスズとの複合酸化物（以下、単にＩＴＯという）からなる透明導電膜を蒸着法または、スパッタリング法等により形成する。次に、この陽極上に、有機正孔注入輸送層として、銅フタロシアニンやテトラアリールジアミン化合物等の有機正孔注入輸送材料からなる、単層または多層膜を、１００ｎｍ程度以下の厚さで形成する。
【０００５】
さらに、有機正孔注入輸送層上に、有機発光層としてトリス（８−キノリノール）アルミニウム（以下、単にＡｌｑとする）等の有機電子輸送性発光材料からなる有機発光層を、１００ｎｍ程度以下の厚さで、蒸着法により形成する。この有機発光層上に、陰極としてＭｇ：Ａｇ等の合金膜を、２００ｎｍ程度の厚さで、共蒸着法により形成することにより、有機薄膜ＥＬ素子が作製される。
【０００６】
以上のようにして作製される有機薄膜ＥＬ素子においては、電極間に直流低電圧を印加することにより、正孔と電子が有機発光層に注入され、これらの再結合により発光が生じる。なお、この素子に印加する直流低電圧は、通常、２０〜３０Ｖ以下であり、陰極にＭｇ：Ａｇ合金を用いた素子では、１０００ｃｄ／ｍ²以上の輝度が得られる。さらに、有機発光層中にクマリン系、ピラン系、キナクリドン系等の蛍光量子収率の高い蛍光色素を共蒸着等の方法でドーピングすれば、ＥＬの輝度は、さらに２倍以上に高めることができる。
【０００７】
しかし、上述の有機薄膜ＥＬ素子に利用されている電荷輸送材料（正孔注入輸送材料または電子輸送材料）および発光材料の大半は、これまで、耐熱性が十分でない低分子化合物が占めていた。これら低分子化合物を蒸着等の方法で正孔注入輸送層等の電荷輸送膜や発光層を形成した場合、膜の機械的強度や耐熱性が不足しピンホールが生じ易く、安定性に優れた有機薄膜ＥＬ素子を作製することができないという問題を有していた。このため、耐熱性に優れた、機械的強度の良好な電荷輸送材料および発光材料が望まれ、低分子電荷輸送材料および発光材料をポリマー化する試みもなされてきた。しかし、低分子電荷輸送材料および発光材料分子にビニル基、アミノ基等の重合性官能基を導入することは合成、精製工程が複雑になる。また、官能基を有するモノマーは精製が困難であったり保存安定性が不足したりする問題があった。
【０００８】
また、有機薄膜ＥＬ素子に用いる電荷輸送材料は、以下に示すように電子写真技術における感光体にも用いられている。
電子写真技術においては、非晶質セレン感光体を用いた電子写真複写機が実用化されて以来、数多くの無機及び有機感光体材料の開発が行われている。電子写真感光体の感光体材料としては、従来、非晶質シリコンやセレン、酸化亜鉛、及び硫化カドミウム等の無機感光体材料の膜が用いられていた。しかし、これら無機感光体材料は、ＣＶＤ法や蒸着等の真空成膜による製造コストが高かったり、セレンや硫化カドミウム等の材料は毒性を有するので廃棄処理の問題もあり、代わりに、安価で感度、及び安全性の高い有機感光体材料の開発が急速に進展している。
【０００９】
有機感光体材料を用いた電子写真感光体は、一般に、伝導性支持体上に、電荷発生層及び電荷輸送層が順次積層された２層構造となっている。ここで、電荷発生層とは、光を吸収することにより電荷を発生する機能を有する層であり、電荷輸送層は、電荷発生層で発生した電荷の感光体内での移動を可能にする機能を有する層である。
【００１０】
このような有機感光体材料を電子写真感光体に用いた場合は、上述の廃棄処理問題を引き起こす可能性は少なく、成膜もポリマーバインダー中に有機感光体材料を分散させてディップコートすることにより安価に製造することができる。また、有機感光体材料では、高い電荷発生性及び電荷輸送性を同時に有する材料が少ないため、通常、電荷発生層及び電荷輸送層を積層した二層構造とする必要がある。
【００１１】
以上のようにして構成される電子写真感光体を用いた電子写真プロセスでは、この電子写真感光体を、コロナ放電または接触帯電により帯電させ画像を露光することにより、静電潜像を感光体表面に形成し、この静電潜像を、潜像の電荷とは逆の符号に帯電したトナーを用いて現像し、これを普通紙に転写して定着することにより印画がおこなわれる。
【００１２】
近年、複写機の高速化の要求が高まり、電子写真感光体は、光応答性を向上させるために電荷輸送特性の向上が要求されている。また、この感光体はクリーニングすることにより再利用されるため、くり返し使用に耐えうる、優れた耐久性も要求されている。
【００１３】
しかしながら、低分子電荷発生材料または電荷輸送材料を樹脂バインダー中に分散塗布させた電荷輸送材料では電荷輸送特性を上げるために低分子電荷発生材料または電荷輸送材料の濃度を上げると成膜性の低下や塗膜の機械的強度が減少する問題があった。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように、有機薄膜ＥＬ素子の電荷輸送材料、発光材料あるいは電子写真感光体等の電荷輸送材料として用いられてきた材料は求められる特性を必ずしも満足させているわけではなく、より優れた電荷輸送性と耐久性の高い材料が求められている。
【００１５】
本発明の目的は、有機薄膜ＥＬ素子あるいは電子写真感光体に用いる、耐熱性、機械的強度を有し、容易に合成可能な高分子電荷輸送材料および発光材料を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、少なくとも２ヵ所以上の窒素に結合したアリール基のパラ位が水素である芳香族第三級アミンと、ジビニル化合物との付加重合により得られる、下記一般式（１）で示される構造を繰り返し単位として分子中に含むことを特徴とする高分子電荷輸送材料である。
【００１７】
【化５】

【００１８】
また、一般式（１）で示される本発明の高分子電荷輸送材料において、下記一般式（２）で示される構造を繰り返し単位として分子中に含むことを特徴とする高分子電荷輸送材料である。
【００１９】
【化６】

【００２０】
【化７】

【００２１】
また、一般式（１）で示される発光材料において、下記一般式（２）で示される構造を繰り返し単位として分子中に含むことを特徴とする発光材料である。
【００２２】
【化８】

【００２３】
【発明の実施の形態】
本発明の高分子電荷輸送材料および発光材料は、芳香族第三級アミンの窒素原子に結合したアリール基の主にパラ位水素が官能基となりジビニル化合物のビニル基との付加重合が酸触媒存在下容易に起こることを鋭意研究の結果見い出したことにより得られたものである。
【００２４】
たとえば、窒素原子に結合したアリール基のパラ位の水素を２個有する芳香族第三級アミン化合物と同モル量のジビニル化合物とを、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン等の有機溶媒中で、1 〜10mol ％程度のパラ- トルエンスルホン酸やトリフルオロメチルスルホン酸等の酸触媒存在下、付加重合させることにより、容易に合成することが可能である。
【００２５】
ポリマーを生成するためには芳香族第三級アミンの窒素原子に結合したアリール基のパラ位の水素の数が２つ以上必要であるが、３つ以上の場合は重合反応が進むとゲル化しやすくなるため、好ましくは２〜４つが望ましい。
【００２６】
本発明の高分子電荷輸送材料および発光材料は、数平均分子量が１，０００〜１，０００，０００程度の重合度のものが得られる。正孔輸送能を有するトリアリールアミン化合物を容易に高濃度で主鎖骨格に導入でき、さらに、高分子材料とすることで、ガラス転移温度をモノマーに用いた低分子化合物よりも高くすることも可能となる。薄膜の作製は溶媒に溶かし、スピンコート法、ディップコート法、インクジェット法等の湿式法で容易に行うことができる。
【００２７】
上記一般式（１）、（２）で示される本発明の高分子電荷輸送材料および発光材料において、Ｒ₁及びＲ₄はアリーレン基を示している。アリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基及びトリフェニレン基、および発光性の高いアントリレン基等をあげることができる。
【００２８】
Ｒ₂はアリール基を示している。アリール基としては、フェニル基、トリル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニルイル基、トリフェニルイル基、ペンタフェニル基、インデニル基、及びフルオレニル基等をあげることができる。
【００２９】
これらＲ₁〜Ｒ₃のアリール基及びアリーレン基はフッ素、塩素等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、及びターシャリーブチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、及びターシャリーブトキシ基等のアルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、及びジナフチルアミノ基等のアミノ基、N,N-ジトリルアニリン基等の芳香族第三級アミンを含む基、トリフルオロメチル基及びシアノ基等の電子吸引性置換基で置換されてもよい。また、Ｒ₁とＲ₃とは、互いに同一であっても、異なっていてもよい。
【００３０】
Ｒ₄としては炭素数１〜１０のアルキレン基、アリーレン基及びジアルキレンオキサイド基等を挙げることができる。
【００３１】
Ｒ₅及びＲ₆としては、水素原子、及びアルキル基を挙げることができる。Ｒ₅及びＲ₆に用いられるアルキル基は、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基であり、メチル基、エチル基、イソプロピル基、及びターシャリーブチル基等を挙げることができる。
【００３２】
Ｒ₇〜Ｒ₁₂としては、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、アミノ基、及びアリール基を挙げることができる。Ｒ₇〜Ｒ₁₂に用いられるハロゲン原子はフッ素、塩素等を挙げることができる。アルキル基としてはエチル基、メチル基、イソプロピル基、及びターシャリーブチル基等を挙げることができる。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、及びイソプロポキシ基等を挙げることができる。
【００３３】
また、Ｒ₇〜Ｒ₁₂に用いられるアミノ基としては、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、及びジナフチルアミノ基などを挙げることができる。アリール基としては、フェニル基、トリル基、ナフチル基、アントラリル基、フェナントリル基、ビフェニルイル基、トリフェニルイル基、ペンタフェニル基、インデニル基、及びフルオレニル基等を挙げることができる。
【００３４】
このＲ₇〜Ｒ₁₂に用いられるアリール基は、フッ素、塩素等のハロゲン原子、エチル基、メチル基、イソプロピル基、及びターシャリーブチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、及びイソプロポキシ基等のアルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、及びジナフチルアミノ基等のアミノ基、及びシアノ基等の置換基で置換されていてもよい。また、Ｒ７〜Ｒ₁₂は、互いに同一であっても、異なっていてもよい。
【００３５】
一般式（１）の具体例を下記化学式（１）〜（８）に挙げる。
【００３６】
【化９】

【００３７】
【化１０】

【００３８】
【化１１】

【００３９】
【化１２】

【００４０】
【化１３】

【００４１】
【化１４】

【００４２】
【化１５】

【００４３】
【化１６】

【００４４】
化学式（１）〜（７）に示した材料は主に有機薄膜EL素子用の正孔輸送材料及び電子写真用電荷輸送材料として利用できる。化学式（８）に示した材料は可視領域の青緑色蛍光が強く有機薄膜EL素子用の発光材料として利用できる。
以上示した本発明の高分子電荷輸送材料および発光材料は、他の電荷輸送材料や発光材料と混合して用いることも可能である。
【００４５】
【実施例】
以下、本発明の実施例について説明する。
（実施例１）
窒素雰囲気下で、パラ- トリルジフェニルアミン０．５ｍｍｏｌと１，４−ジビニルベンゼン０．５ｍｍｏｌに、１，４−ジオキサン４．０ｍｌを加え、これにパラ−トルエンスルホン酸１０ｍｏｌ％を加えて１０５℃で２４時間攪拌反応させた。これをメタノールで沈殿し、得られた沈殿物をトルエンとメタノールを用いて、再沈殿法で精製することにより、化学式（１）に示す、白色粉末状の高分子電荷輸送材料を得た。
【００４６】
図１に、上述のようにして得られた高分子電荷輸送材料の１ＨＮＭＲスペクトル（日本電子社製α−５００を使用、重クロロホルム溶媒）を示す。
【００４７】
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）σ[ ｐｐｍ] ：１．２〜１．７（６Ｈ、ＣＨ３）、２．１〜２．４（３Ｈ、ＣＨ３）、３．６〜４．４（２Ｈ、ＣＨ）、６．６〜７．４（１６Ｈ、ＣＨ）
【００４８】
また、この高分子電荷輸送材料について、ポンプとして日本分光工業社製の８８０−ＰＵを用い、検出器として日本分光工業社製の示差屈折計８３０−ＲＩを用い、スチレンゲルを固定相、クロロホルムを移動相としてＧＰＣ測定を行ったところ、数平均分子量が１，８００、重量平均分子量が７０，９００（昭和電工社製、標準ポリスチレン換算）であることがわかった。
【００４９】
この高分子電荷輸送材料について、セイコー電子工業社製のDSC ２２０を用い、窒素雰囲気下で昇温速度20℃／ｍｉｎでガラス転移温度（Ｔｇ）を測定したところ、１６０．７℃であることがわかった。
【００５０】
さらに、この高分子電荷輸送材料からなるキャスト膜を白金電極上に形成し、窒素雰囲気下、アセトニトリル中で、参照電極にＡｇ／ＡｇＣｌを用い、東方研社製ＰＳ−０６により、この高分子電荷輸送材料の酸化電位を測定した。その結果、０．８８Ｖ、１．００Ｖであり、高分子化していない低分子の電荷輸送材料を用いた場合とほぼ同様の値が得られた。また、このキャスト膜は、掃引を繰り返し行っても、同様な酸化還元波が得られた。
【００５１】
（実施例２）
窒素雰囲気下で、パラ- トリルジフェニルアミン０．５ｍｍｏｌと１，３−ジイソプロペニルベンゼン０．５ｍｍｏｌに、クロロベンゼン４．０ｍｌを加え、これにパラ- トルエンスルホン酸１０ｍｏｌ％を加えて１０５℃で２時間攪拌反応させた。これをメタノールで沈殿し、得られた沈殿物をトルエンとメタノールを用いて、再沈殿法で精製することにより、化学式（２）に示す、白色粉末状の高分子電荷輸送材料を得た。
【００５２】
図２に、上述のようにして得られた高分子電荷輸送材料の１ＨＮＭＲスペクトル（日本電子社製α−５００を使用、重クロロホルム溶媒）を示す。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）σ[ ｐｐｍ] ：１．５〜１．８（１２Ｈ、ＣＨ３）、２．２〜２．４（３Ｈ、ＣＨ３）、６．８〜７．４（１６Ｈ、ＣＨ）
【００５３】
また、この高分子電荷輸送材料について、ポンプとして日本分光工業社製の８８０−ＰＵを用い、検出器として日本分光工業社製の示差屈折計８３０−ＲＩを用い、スチレンゲルを固定相、クロロホルムを移動相としてＧＰＣ測定を行ったところ、数平均分子量が４, ２００、重量平均分子量が５, ７００（昭和電工社製、標準ポリスチレン換算）であることがわかった。
【００５４】
この高分子電荷輸送材料について、セイコー電子工業社製のDSC ２２０を用い、窒素雰囲気下で昇温速度20℃／ｍｉｎでガラス転移温度（Ｔｇ）を測定したところ、１１３．４℃であることがわかった。
【００５５】
さらに、この高分子電荷輸送材料からなるキャスト膜を白金電極上に形成し、窒素雰囲気下、アセトニトリル中で、参照電極にＡｇ／ＡｇＣｌを用い、東方研社製ＰＳ−０６により、この高分子電荷輸送材料の酸化電位を測定した。その結果、０．８０Ｖ、１．０５Ｖであり、高分子化していない低分子の電荷輸送材料を用いた場合とほぼ同様の値が得られた。また、このキャスト膜は、掃引を繰り返し行っても、同様な酸化還元波が得られた。
【００５６】
（実施例３）
透明絶縁性の基板として、厚さ１．１ｍｍの青板ガラス板上にスパッタリング法で成膜した１１０ｎｍのＩＴＯをエッチングしパターニングした後、使用前に水洗し、イソプロピルアルコール蒸気で乾燥し陽極とした。
次に、第１正孔注入輸送層としてＣｕＰｃを１０ｎｍ真空蒸着し、次に、第２正孔注入輸送層として（化学式１）で表す化合物をトルエンに溶解させ、スピンコート法により４０ｎｍの厚さで形成した。
【００５７】
次に、有機発光層としてＡｌｑを５０ｎｍ蒸着し、その上面にアルカリ金属含有電子注入層としてＬｉＦを０．５ｎｍ蒸着し、さらにその上面に陰極としてＡｌを２００ｎｍ蒸着する。
次に絶縁封止膜として酸化ゲルマニウムをＡｒプラズマ下で素子全体に１μｍ蒸着した。
最後に乾燥窒素下で、プラズマ洗浄したカバーガラスを感光性接着剤で貼り付けた。
【００５８】
この素子は陽極と陰極を直流電源につないで電圧印加すると３Ｖ以上の電圧で緑色発光し最高輝度で１０００cd/m²以上得られた。１００℃で３０分間加熱した後も素子は破壊せず高い耐熱性を示した。
【００５９】
（実施例４）
透明絶縁性の基板として、厚さ１．１ｍｍの青板ガラス板上にスパッタリング法で成膜した１７０ｎｍのＩＴＯをエッチングしパターニングした後、使用前に水洗し、イソプロピルアルコール蒸気で乾燥し陽極とした。
次に、正孔注入輸送層としてＣｕＰｃを１０ｎｍ真空蒸着する。
【００６０】
次に、有機発光層として（化学式８）で表される化合物をトルエンに溶解させスピンコート法により９０ｎｍの厚さで形成し、その上面にアルカリ金属含有電子注入層としてＬｉＦを０．５ｎｍ蒸着し、陰極としてＡｌを２００ｎｍ蒸着する。
次に絶縁封止膜として酸化ゲルマニウムをＡｒプラズマ下１μｍ蒸着した。
最後に乾燥窒素下で、プラズマ洗浄したカバーガラスを感光性接着剤で貼り付けた。
【００６１】
この素子は陽極と陰極を直流電源につないで電圧印加すると３Ｖ以上の電圧で青緑色発光が得られた。１００℃で３０分間加熱した後も素子は破壊せず高い耐熱性を示した。
【００６２】
上記実施例で形成された高分子電荷輸送材料からなるキャスト膜は、剥離やクラックなどが発生しにくく、機械的強度に優れていることが確認された。また、上記実施例の高分子電荷輸送材料は、１００℃以上の高いガラス転移温度を有し、高い耐熱性を得ることができた。さらに、酸化電位も、それらの高分子化していない低分子の電荷輸送材料と同程度であり、低分子と同等の電荷注入特性を得ることができる。
【００６３】
【発明の効果】
以上に示したように、本発明によると、芳香族第三級アミンとジビニル化合物との付加重合により生成される高分子で電荷輸送材料または発光材料として用いることにより、高い電荷注入特性、耐熱性、及び機械的強度を得ることができる。
【００６４】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１に係る高分子電荷輸送材料の１ＨＮＭＲスペクトルを示すグラフ図。
【図２】本発明の実施例２に係る高分子電荷輸送材料の１ＨＮＭＲスペクトルを示すグラフ図。

Claims

少なくとも２ヵ所以上の窒素原子に結合したアリール基のパラ位が水素である、芳香族第三級アミンと、ジビニル化合物との付加重合により得られる、下記一般式（１）で示される構造を繰り返し単位として分子中に含むことを特徴とする高分子電荷輸送材料。

（式中、ｍ、ｎは重合度を示す正の整数を表し、Ｒ_１及びＲ_３はアリーレン基、Ｒ_２はアリール基、Ｒ_４はアルキレン基、アリーレン基、及びジアルキレンオキサイド基、Ｒ_５、Ｒ_６は水素原子、アルキル基からなる群から選ばれる置換基を示し、前記アリール基及びアリーレン基は、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、アミノ基、アリール基、及び芳香族第３級アミンを含む基からなる群から選ばれる置換基で置換された置換基、または未置換の置換基を示す。）
下記一般式（２）で示される構造を繰り返し単位として分子中に含むことを特徴とする請求項１に記載の高分子電荷輸送材料。

（式中、ｎは重合度を表す正の整数を示し、Ｒ_４〜Ｒ_６は請求項１と同様。Ｒ_７〜Ｒ_１２は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、アミノ基及び、アリール基からなる群から選ばれる置換基を示し、上記Ｒ_７〜Ｒ_１２に用いられるアリール基はハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、及びアミノ基からなる群から選ばれる置換基で置換された置換基、または未置換の置換基を示す。）
少なくとも２ヵ所以上の窒素原子に結合したアリール基のパラ位が水素である、芳香族第三級アミンと、ジビニル化合物との付加重合により得られる、下記一般式（１）で示される構造を繰り返し単位として分子中に含むことを特徴とする発光材料。

（式中、ｍ、ｎは重合度を示す正の整数を表し、Ｒ_１及びＲ_３はアリーレン基、Ｒ_２はアリール基、Ｒ_４はアルキレン基、アリーレン基、及びジアルキレンオキサイド基、Ｒ_５、Ｒ_６は水素原子、アルキル基からなる群から選ばれる置換基を示し、前記アリール基及びアリーレン基は、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、アミノ基、アリール基、及び芳香族第３級アミンを含む基からなる群から選ばれる置換基で置換された置換基、または未置換の置換基を示す。）
下記一般式（２）で示される構造を繰り返し単位として分子中に含むことを特徴とする請求項３に記載の発光材料。

（式中、ｎは重合度を表す正の整数を示し、Ｒ_４〜Ｒ_６は請求項１と同様。Ｒ_７〜Ｒ_１２は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、アミノ基及び、アリール基からなる群から選ばれる置換基を示し、上記Ｒ_７〜Ｒ_１２に用いられるアリール基はハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、及びアミノ基からなる群から選ばれる置換基で置換された置換基、または未置換の置換基を示す。）