JP3664854B2 - 真空処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は真空雰囲気内で基板を処理する真空処理装置の技術分野にかかり、特に、垂直状態の基板を処理する真空処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、真空雰囲気中で基板を移動させる場合には、基板搬送ロボットを用い、水平状態でハンド上に載置した基板を水平方向に搬送しているが、スパッタリング法等によって基板表面に薄膜を形成する場合には、ダストが付着しないように、真空処理装置内で基板を垂直状態にしてターゲットと対向配置させる方が望ましい。
【0003】
図4の符号103に示すものは、基板を垂直状態にして表面に薄膜を形成する従来技術の真空処理装置であり、搬送室110と真空槽111とを有している。搬送室110内には基板搬送ロボット112が配置されており、真空槽111内には、ホットプレート兼用の基板ホルダ104が配置されている。
【0004】
搬送ロボット112は、水平方向に伸縮自在なアーム116を有しており、該アーム116先端部分のハンド117上に、水平状態の基板106を載置すると、基板106を水平方向に搬送することができ、水平姿勢にある基板ホルダ104上の所定位置まで移動させられるように構成されている。
【0005】
基板ホルダ104には複数の孔が設けられており、基板ホルダ104が水平姿勢にある場合には、各孔内には、基板昇降機構120が有する複数のピン105が収納されている。
【0006】
基板ホルダ104上に基板106を位置させた状態で、基板昇降機構120を動作させ、ピン105を上方に移動させると、基板106はピン105先端に乗せられる。その状態でアーム116を縮ませ、ハンド117を基板106と基板ホルダ104の間から抜き取り、搬送室110内に戻した後、ピン105を下方に移動させ、各ピン105を基板ホルダ104の孔内に収納すると、基板106はハンド117から基板ホルダ104に移し替えられる。
【0007】
その後、基板ホルダ104に設けられた基板保持機構を動作させ、基板106を基板ホルダ104表面に密着保持させ、回転軸124を回転させて基板ホルダ104を起立させると、基板106は基板ホルダ104と一緒に起立し、垂直状態になる。
【0008】
真空槽111の壁面にはカソード108が設けられており、基板106が基板ホルダ104に密着した状態で垂直状態になると、その基板106は、カソード108内に配置されたターゲットと平行に対向配置される。
【0009】
その状態でカソード108に電圧を印加すると、ターゲットがスパッタリングされ、垂直状態の基板106表面に薄膜が形成される。
【0010】
以上説明した真空処理装置103では、基板106が移動や起立する際に摺動しないため、真空槽111内でのダストの発生はなく、また、垂直状態で基板106表面に薄膜が形成されるので、ターゲットやその近傍からダストが発生した場合でも基板106表面に付着しないので、欠陥のない高品質の薄膜が得られるようになっている。
【0011】
しかしながら上述のような真空処理装置103では、真空槽111に1台のカソード108しか設けることができないため、同時に複数枚の基板を処理することができない。近年では、高品質であるばかりでなく、高スループットの真空処理装置が求められている。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記従来技術の要求に応じるために創作されたものであり、その目的は、垂直状態の複数枚の基板を処理できる真空処理装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項1記載の発明は、真空槽を有し、前記真空槽内には基板昇降機構と複数の基板ホルダとが配置された真空処理装置であって、前記各基板ホルダは水平姿勢と起立姿勢になれるように構成され、前記基板昇降機構が上下動すると、前記各基板ホルダのうち、水平姿勢にある基板ホルダとの間で水平状態の基板を受け渡しをできるように構成され、前記水平姿勢にある基板ホルダは、前記基板を保持した状態で起立姿勢になれるように構成されたことを特徴とする。
【0014】
この場合、請求項2記載の発明のように、前記基板昇降機構に上下動可能な複数のピンを設け、前記基板ホルダが水平姿勢になったときに、前記複数のピンは、前記基板ホルダに設けられた孔内に収納できるように構成するとよい。
【0015】
また、請求項3記載の発明のように、複数枚の基板を水平状態にして上下に配置できるように構成された分離型チャンバーと、上下動と水平動が可能に構成されたアームを有する基板搬送ロボットとを設け、前記基板搬送ロボットを動作させ、前記アーム先端に基板を乗せると、前記分離型チャンバーと前記基板昇降機構との間で、前記基板の搬送をできるように構成することもできる。
【0016】
このような、請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の真空処理装置については、請求項4記載の発明のように、前記真空槽にターゲットを有するカソードを複数設け、前記基板ホルダに基板を保持させて起立姿勢にすると、前記基板と前記ターゲットとが、前記真空槽に設けられた窓を介して、平行に対向配置されるように構成することもできる。
【0017】
上述した本発明の構成によれば、真空処理装置の真空槽内に基板昇降機構と複数の基板ホルダが配置されており、各基板昇降機構は水平姿勢と起立姿勢になれるように構成されている。
【0018】
そして、基板昇降機構が上下動すると、各基板ホルダのうち、水平姿勢にあるものと基板昇降機構との間で基板の受け渡しをできるように構成されており、更に、その基板ホルダは水平姿勢で基板を保持し、起立姿勢になれるように構成されている。
【0019】
従って、一台の基板ホルダを水平姿勢にし、基板昇降機構によって基板を受け渡し、起立姿勢にすると、今度は別の基板ホルダを水平姿勢にして基板を受け渡すことが可能であり、このように、一台の基板昇降機構により、複数枚の基板を起立させて垂直状態にできるので、小型、低コストでスループットの高い真空処理を得ることができる。
【0020】
この場合、各基板ホルダに孔を設けておき、基板昇降機構に設けたピンを水平姿勢にある基板ホルダの孔内で上下させ、その基板ホルダと基板昇降機構の間で基板の受け渡しを行わせると、基板昇降機構の構造が簡単になる。
【0021】
また、複数枚の基板を水平状態にして上下に配置できる分離チャンバーを設ける場合、上下動と水平動が可能なアームを有する基板搬送ロボットを設けておくと、アーム先端を分離チャンバーの所望位置に挿入することで、基板搬送ロボットと、分離チャンバーとの間で基板の受け渡しができるようになる。その基板搬送ロボットと基板昇降機構との間では基板の受け渡しができるので、結局、分離チャンバーと基板昇降機構との間の基板搬送が可能になる。
【0022】
以上説明した真空処理装置について、ターゲットを有するカソードを真空槽に複数設け、基板ホルダに基板を保持させた状態で起立姿勢にさせた場合には、その基板ホルダと一緒に起立して垂直状態になった基板とカソード内のターゲットとが、真空槽に設けられた窓を介して、平行に対向配置させられるので、複数枚の基板を垂直状態にして同時にスパッタリングすることが可能となり、小型、低コストで高スループットのスパッタリング装置が得られる。
【0023】
【発明の実施の形態】
図1を参照し、符号3は本発明の真空処理装置の一実施形態であり、真空槽11と分離型チャンバー10とを有している。真空槽11内には、基板搬送ロボット12と、二台の基板ホルダ41、42が設けられており、図示しない真空ポンプによって、内部を真空排気できるように構成されている。
【0024】
真空槽11の相対する二壁面には、窓91、92が一個ずつ設けられており、各窓91、92には2台のカソード81、82が装着されている。各カソード81、82内には、ターゲットが設けられており(図示せず)、各ターゲット表面は、窓91、92から真空槽11内に面するように構成されている。
【0025】
基板搬送ロボット12は、上下動可能に構成された昇降軸15と、該昇降軸15の上部に取り付けられたアーム16と、該アーム16の先端部分であるハンド17とを有しており、図示しないモータを動作させると、アーム16は回転動と伸縮動が可能なように構成されている。その回転動と伸縮動によって先端部分が水平方向に移動し、ハンド17を所望の場所に位置させられるようになっている。
【0026】
真空槽11内には、基板昇降機構が配置されており(図示せず)、該基板昇降機構には、複数のピン5が上下動可能に設けられている。また、真空槽11内には、2本の回転軸241、242が、相対する二壁面に沿って平行に横設されており、前述の基板ホルダ41、42は、各回転軸241、242にそれぞれ取り付けられている。
【0027】
回転軸241、242は図示しないモータによって個別に回転できるように構成されており、ピン5を全部下方に移動させた状態で、回転軸241、242を回転させると、基板ホルダ41、42は水平姿勢にも起立姿勢にもなれるように構成されている。
【0028】
但し、水平姿勢になる場合には、二台の基板ホルダ41、42は真空槽11内の同じ場所、同じ高さで静止するように構成されている。従って、各基板ホルダ41、42は同時に起立姿勢になれるが、図1に示すように、一方の基板ホルダ41が水平姿勢で静止している場合には、他方の基板ホルダ42は起立姿勢にしかなれない。
【0029】
各基板ホルダ41、42には複数の孔7が設けられており、いずれか一方の基板ホルダ41、42を水平姿勢にし、ピン5を上方に移動させると、各ピン5は孔7内に挿通され、先端は、基板ホルダ41、42の上方に位置するように構成されている。
【0030】
上述の分離型チャンバー10には、下段の下部チャンバー101と上段の上部チャンバー102が設けられており、二台の基板ホルダ41、42に基板を載置する場合には、先ず、下部チャンバー101と上部チャンバー102内に基板を1枚ずつ配置し、基板搬送ロボット12の昇降軸15を下げた状態にしてアーム16を伸縮させ、先端部分のハンド17を下部チャンバー101内に挿入し、内部に配置された基板6をハンド17上に乗せた後、ハンド17を抜き出す。
【0031】
図1はこの状態を示しており、次いで、アーム16を水平回転させ、ハンド17上の基板6を基板ホルダ41、42側に向ける。このとき、予め一方の基板ホルダ41を水平姿勢に、他方の基板ホルダ42を起立姿勢にしておく。
【0032】
水平姿勢にある基板ホルダ41の孔7内には、下方に移動されたピン5が収納されており、その状態でアーム16を伸ばし、ハンド17上の基板6を、基板ホルダ41上の所定位置まで移動させる。
次いで、ピン5を上方に移動させると、各ピン5先端に設けられたフックが基板6の裏面に当接され、基板6がハンド17上から持ち上げられる。
【0033】
その状態でアーム16を縮め、基板ホルダ41と基板6の間から逃がした後、ピン5を下方に移動させると、基板6は基板ホルダ41上に載置され、かくて基板昇降機構から基板ホルダ41への基板6の受け渡しが行われる。
【0034】
各基板ホルダ41、42には、図示しない基板保持機構が設けられており、その基板保持機構を動作させると、載置された基板6は、基板ホルダ41表面に密着保持された状態になる。その状態で回転軸241を回転させ、基板ホルダ41を起立姿勢にすると、基板6は垂直状態になる。
【0035】
その状態では二台の基板ホルダ41、42は、両方とも起立姿勢になっており、基板ホルダ41に保持された基板6は、窓91を介してカソード81内のターゲットと平行に対向配置される。
【0036】
各基板ホルダ41、42はホットプレートを兼用するように構成されており、起立姿勢の基板ホルダ41は、基板6を垂直状態で保持したまま、所定温度まで加熱する。
【0037】
基板搬送ロボット12側では、水平姿勢にあった基板ホルダ41上からハンド17を逃がした後、昇降軸15を上方に動かしており、それに伴って上方に移動したアーム16'を回転動と伸縮動させ、上部チャンバ102内に挿入し、内部に配置されていた未処理の基板6'をハンド17'上に乗せる。
【0038】
その状態から昇降軸15を下方に動かし、元の高さに戻ったアーム16を回転動と伸縮動させ、ハンド17と、該ハンド17上の未処理の基板6とを基板ホルダ41、42側に向ける。
【0039】
起立姿勢にあった基板ホルダ42を図2に示すように水平姿勢にし、ハンド17を、その基板ホルダ42上の所定位置まで移動させ、上述したのと同様の手順により、基板6を基板ホルダ42上に載置し、密着保持させる。そして、その基板ホルダ42を起立姿勢にし、窓92を介してカソード82内のターゲットに対向配置させる。
【0040】
図3はそのときの状態を示しており、二台の基板ホルダ41、42は両方とも起立姿勢にある。各基板ホルダ41、42に垂直状態で保持された基板6は、カソード81、82内のターゲットと平行に対向配置されており、各基板6と各ターゲットの間にスパッタリングガスを導入し、カソード81、82に電力を投入するとスパッタリングが開始され、ターゲットから飛び出した粒子が垂直状態の基板6表面に入射し、ダストが付着しない状態で薄膜が形成される。
【0041】
先に起立姿勢にした基板ホルダ41側では、基板6が先に所定温度まで加熱されるため、後で起立姿勢にした基板ホルダ42よりも先にスパッタリングを開始させており、所定膜厚の薄膜が形成されると、その基板ホルダ41側のスパッタリングを終了させ、ピン5を下方に移動させた状態で基板ホルダ41を水平姿勢にする。
【0042】
このとき、ハンド17上には未処理の基板が乗せられており、基板ホルダ41の基板保持機構を解除した後、孔7内に収納されたピン5のうち、一部のピン5を上方に移動させ、薄膜が形成された基板6を持ち上げる。
【0043】
各ピン5の先端は、内側に向けてフックが形成されており、基板6はフックに引っかけられた状態で持ち上げられるため、上方に移動したピン5の間にも他の基板を挿入できるようになっており、アーム16を伸ばし、持ち上げられた基板6と基板ホルダ41の間にハンド17を挿入すると、ハンド17上の未処理の基板がピン5間に挿入される。
【0044】
その状態で孔7内に残るピン5を上方に移動させると、ハンド17上から未処理の基板が持ち上げられる。次いで、持ち上げられた基板と基板ホルダ41の間からハンド17を逃がし、各ピン5を下方に移動させると、未処理の基板が基板ホルダ41上に載置される。
【0045】
その状態では、薄膜が形成された基板6は、一部のピン5上に乗せられており、その基板6と基板ホルダ41上に載置された基板との間にハンド17を挿入し、ピン5を下方に移動させると、薄膜が形成された基板6はハンド17上に移し替えられる。アーム17の回転動と伸縮動により、薄膜が形成された基板6を下部チャンバ101内に搬送すると、その基板6は分離チャンバ10内に収納される。
【0046】
次いで、基板ホルダ41の表面に未処理の基板を密着保持させ、起立姿勢にすると、未処理の基板は垂直状態でカソード81内のターゲットと対向配置され、スパッタリングができる状態になる。
【0047】
基板ホルダ41を起立状態にした後、スパッタリング作業が終了した基板ホルダ42を水平姿勢にし、上述したのと同様の手順により、薄膜が形成された基板と未処理の基板とを交換する。
【0048】
以上説明したように、本発明の真空処理装置3では、複数枚の基板を同時に垂直状態にしてスパッタリングを行い、薄膜が形成された基板を未処理の基板と次々交換できるので、薄膜形成を連続的に行うことが可能になっている。
【0049】
また、本発明の真空処理装置3によれば、同じピン5を用い、一台の基板搬送ロボット12と二台の基板ホルダ41、42との間で基板の受け渡しを行わせられるので、真空槽11の体積が小さくて済み、また、基板昇降機構も一台で済むので、小型、低コストである。スパッタリング装置に対して本発明の真空処理装置を適用すれば、小型、高スループットで欠陥のない薄膜を形成できるようになる。
【0050】
但し、本発明の真空処理装置はスパッタリング装置等の薄膜形成装置に限定されるものではなく、真空雰囲気内で基板を水平状態から垂直状態にして処理を行う装置に広く用いることができる。
【0051】
なお、上述の真空処理装置3は、長方形の基板6(6')に対応するため、矩形の真空槽11内の相対する壁面に二台の基板ホルダ41、42を設けたが、正方形の基板であれば、三壁面にそれぞれ三台設けることができる。更に、ピン5及びそのピン5を上下動させる基板昇降機構を水平回転できるように構成しておくと、多角形形状の真空槽の壁面に四台以上の基板ホルダを設けることが可能になる。
【0052】
また、上記基板ホルダ41、42は水平姿勢になったときに、同じ場所、同じ高さに位置していたが、異なる高さで静止するようにしてもよい。
【0053】
【発明の効果】
小型、高スループットの真空処理装置が得られる。特に、スパッタリング装置に適用した場合には、無欠陥の薄膜を効率よく形成できるようになる。
基板昇降機構が一台で済むので、経済的である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の真空処理装置を説明するための図
【図2】その真空処理装置の動作を説明するための図
【図3】その真空処理装置の二台の基板ホルダが起立姿勢になった状態を示す図
【図4】従来技術の真空処理装置の一例を示す図
【符号の説明】
3……真空処理装置 41、42……基板ホルダ 5……ピン 6、6'……基板 81、82……カソード 10……分離型チャンバ 11……真空槽
Claims (4)
- 真空槽を有し、前記真空槽内には基板昇降機構と複数の基板ホルダとが配置された真空処理装置であって、
前記各基板ホルダは水平姿勢と起立姿勢になれるように構成され、
前記基板昇降機構が上下動すると、前記各基板ホルダのうち、水平姿勢にある基板ホルダとの間で水平状態の基板を受け渡しをできるように構成され、
前記水平姿勢にある基板ホルダは、前記基板を保持した状態で起立姿勢になれるように構成されたことを特徴とする真空処理装置。 - 前記基板昇降機構は上下動可能な複数のピンを有し、前記基板ホルダが水平姿勢になったときに、前記複数のピンは、前記基板ホルダに設けられた孔内に収納できるように構成されたことを特徴とする請求項1記載の真空処理装置。
- 複数枚の基板を水平状態にして上下に配置できるように構成された分離型チャンバーと、
上下動と水平動が可能に構成されたアームを有する基板搬送ロボットとが設けられ、
前記基板搬送ロボットを動作させ、前記アーム先端に基板を乗せると、前記分離型チャンバーと前記基板昇降機構との間で、前記基板の搬送ができるように構成されたことを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の真空処理装置。 - 前記真空槽にはターゲットを有するカソードが複数設けられ、前記基板ホルダに基板を保持させて起立姿勢にすると、前記基板と前記ターゲットとが、前記真空槽に設けられた窓を介して、平行に対向配置されるように構成されたことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の真空処理装置。
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