JP3660818B2 - 基板の除電方法および除電機能付きステージ - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置または半導体素子等を製造する際に用いる基板の除電方法および除電機能付きステージに関するもので、特に製造処理中に生じた静電気を除去することができる基板の除電方法および除電機能付きステージに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置または半導体素子等に用いられる基板に各種の製造装置を用いて所望の処理を施す際には、製造装置のステージに基板を吸着固定して処理を行う。このとき、基板表面または裏面に電荷が付着していると、処理が終了して基板をステージからリフトアップする際に、基板のステージとの間の静電容量が減少し、基板の表面電位は吸着時の１００倍になる。例えば、吸着時の基板の表面電位が１００Ｖであった場合、基板を２０ｍｍリフトアップしたときには、基板の静電容量は吸着時の約１／１００となるので、１０ｋＶになる。
【０００３】
したがって、図３（ａ）に示すように、ステージ２に吸着しているときの基板１の表面電位は低くても、図３（ｂ）に示すように、処理が終了して基板１をリフトアップすると、基板１を受け取るためのロボットハンド８等が基板１に接近し、基板１からロボットハンド８に放電９を起こし、基板１上に形成した電極パターン部等の静電破壊を起こす。
【０００４】
基板１をステージ２からリフトアップするときに、基板１の表面電位の上昇を防ぐため、以下のような方法が提案されている。
【０００５】
一般的に用いられている方法は、図４（ａ）に示すように、基板１を吸着しているステージ２の上方にイオナイザー（除電装置）６を取り付け、図４（ｂ）に示すように、基板１をステージ２からリフトアップする際、基板１を約１〜２ｍｍ持ち上げた状態で一旦停止し、基板１の静電容量減少による表面電位の上昇をイオナイザー６によって防いでから、図４（ｃ）に示すように、再度基板１を上昇させる方法である。
【０００６】
また、実開平１−１６０８３８号公報で提案されている方法は、図５に示すように、ステージ２内にイオナイザー６を取り付け、基板１をリフトアップする際にイオナイザー６によってイオン化されたエアーを基板１に吹き付け、リフトアップ時に生じる基板１の表面電位の上昇を防ぐ方法である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図５に示す方法では、基板１をステージ２からリフトアップする際の静電容量変化が非常に大きく、またイオナイザー６から発生されるイオン量が十分でないとともにプラスとマイナスのイオン量の釣り合いが通常±５０〜１００Ｖずれているため、基板１をステージ２から多少持ち上げた状態にして除電しないと、基板１の電荷を十分に除去することができない。
【０００８】
例えば、ステージ２に基板１を吸着させた状態で、表面電位５０Ｖの基板１の表面電荷を除去しようとするとき、市販のイオンバランス±５０〜１００Ｖのイオナイザー６では、逆に基板１を帯電させてしまう。仮にイオンバランスが０Ｖのイオナイザー６を使ったとしても、基板１がステージ２に吸着した状態で基板１の表面電位を下げる、例えば５０Ｖから数Ｖにするのには数十〜数百秒という非常に長時間を費やす。
【０００９】
したがって、生産ラインでの生産タクトでは、基板１をステージ２に吸着した状態で基板１の表面電荷を除去することは実用的ではなく、図４に示すような方法、つまり基板１をステージ２から多少上昇した状態にし、基板１の静電容量を下げることによって表面電位を上昇させた状態にして、イオナイザー６を用いて効率の良い除電を行っている。
【００１０】
イオナイザー６を用いた除電では、例えばステージ２に吸着時の表面電位１００Ｖの基板１を２０ｍｍリフトアップさせると表面電位１０ｋＶになるので、イオナイザー６によって表面電位１００Ｖに容易に下げることができる。しかし、これは基板１上の電荷が１／１００になったことに相当し、基板１がステージ２に吸着した状態に置き換えると１００Ｖであった表面電位を１Ｖにすることに相当するが、現状のイオナイザー６では基板１の表面電位を１Ｖにすることは不可能である。
【００１１】
また、基板１をステージ２からリフトアップする際には、図６に示すように、リフトアップ開始から約０．２秒で放電が起こるため、リフトアップを開始してからの除電では放電を起こす可能性が高い。
【００１２】
本発明は、以上のような従来の問題点に鑑みなされたものであって、基板がステージに吸着している状態でも基板の表面電位を効率良く下げることができる基板の除電方法および除電機能付きステージを提供することを目的としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
前述した目的を達成するために、本発明の請求項１記載の基板の除電方法は、ステージに載置した基板に所望の処理を施した後、前記基板上に溜まった電荷を除去する基板の除電方法において、前記基板の表面電位を測定し、この測定結果に基づいて、前記ステージに設けた電極に電圧を印加して前記基板の表面電位を変えるとともに、イオナイザーによって前記基板に電荷を与えることを特徴としている。
【００１４】
請求項２記載の除電機能付きステージは、基板を載置し、前記基板に所望の処理を施すためのものであって、所望の処理を施した前記基板上に溜まった電荷を除去する機能を有する除電機能付きステージにおいて、前記基板の表面電位を測定する表面電位計と、電圧を印加して前記基板の表面電位を変える電極と、前記基板に電荷を与えるイオナイザーと、を備えることを特徴としている。
【００１５】
本発明の基板の除電方法によれば、測定した基板の表面電位に基づいて、ステージに設けた電極に電圧を印加して基板の表面電位を変えるとともに、イオナイザーによって基板に電荷を与えることにより、ステージ上での除電を短時間で行うことができる。ステージに設けた電極に電圧を印加して基板の表面電位を高めることで、イオナイザーからイオンを受けやすくなり、除電効果を高めることができる。
【００１６】
本発明の除電機能付きステージによれば、基板の表面電位を測定する表面電位計と、電圧を印加して基板の表面電位を変える電極と、基板に電荷を与えるイオナイザーと、を備えることにより、ステージ上での除電を短時間で行うことができる。ステージに設けた電極に電圧を印加して基板の表面電位を高めることで、イオナイザーからイオンを受けやすくなり、除電効果を高めることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図１および図２を用いて、本発明の実施の形態について説明する。図１は本発明に係る除電機能付きステージを示す説明図、図２は本発明に係る他の除電機能付きステージを示す説明図である。
【００１８】
本発明でいう基板は、液晶表示装置を構成するガラス基板または半導体ウエハ等に限られるものではなく、ステージ上で所望の処理を行う板状体であれば、特に限定されるものではない。
【００１９】
また、本発明に係るステージは、成膜装置、露光装置、配向膜形成装置、ラビング装置、シール形成装置、貼り合わせ装置または分断装置等に用いることができ、ステージ上で基板に所望の処理を行う装置であれば用いることができ、特に限定されるものではない。
【００２０】
（実施の形態１）
図１に示すように、基板１を載置するステージ２内部には、基板１の表面電位を変えるための電極３が設けられている。電極３は高圧電源４に接続され、高圧電源４はコントローラ７に接続されている。さらに、基板１の表面電位を測定する表面電位計５が設けられ、ステージ２の上方にはイオナイザー６が設けられている。表面電位計５およびイオナイザー６は、コントローラ７に接続されている。
【００２１】
このステージ２を有する製造装置において基板１に所望の処理が行われた後、表面電位計５によって基板１の表面電位を測定し、この測定結果に基づき、コントローラ７によって電極３の電圧およびイオナイザー６の出力を制御して、基板１の表面電位を所定の値にする。
【００２２】
このように、ステージ２基板１をリフトアップすることなく、基板１の表面に溜まった電荷を急激に除去することができる。
【００２３】
（実施の形態２）
図２に示すように、基板１を載置するステージ２には、基板１の表面電位を変えるための電極３が基板１に接するように設けられている。電極３は高圧電源４に接続され、高圧電源４はコントローラ７に接続されている。さらに、基板１の表面電位を測定する表面電位計５が設けられ、ステージ２の上方にはイオナイザー６が設けられている。表面電位計５およびイオナイザー６は、コントローラ７に接続されている。
【００２４】
このステージ２を有する製造装置において基板１に所望の処理が行われた後、表面電位計５によって基板１の表面電位を測定し、この測定結果に基づき、コントローラ７によって電極３の電圧およびイオナイザー６の出力を制御して、基板１の表面電位を所定の値にする。
【００２５】
このように、ステージ２基板１をリフトアップすることなく、基板１の表面に溜まった電荷を急激に除去することができる。
【００２６】
【発明の効果】
以上の説明のように、本発明の基板の除電方法によれば、測定した基板の表面電位に基づいて、ステージに設けた電極に電圧を印加して基板の表面電位を変えるとともに、イオナイザーによって基板に電荷を与えることにより、ステージに設けた電極に電圧を印加して基板の表面電位を高めることでイオナイザーからイオンを受けやすくし、放電を起こすことなくステージ上での除電を短時間で行うことができる。
【００２７】
本発明の除電機能付きステージによれば、基板の表面電位を測定する表面電位計と、電圧を印加して基板の表面電位を変える電極と、基板に電荷を与えるイオナイザーと、を備えることにより、ステージに設けた電極に電圧を印加して基板の表面電位を高めることでイオナイザーからイオンを受けやすくし、放電を起こすことなくステージ上での除電を短時間で行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る除電機能付きステージを示す説明図である。
【図２】本発明に係る他の除電機能付きステージを示す説明図である。
【図３】（ａ）および（ｂ）は基板をリフトアップする際の放電状態を示す説明図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は従来の基板の除電方法を示す説明図である。
【図５】従来の他の基板の除電方法を示す説明図である。
【図６】基板をリフトアップする際の時間と基板の表面電位との関係を示す説明図である。
【符号の説明】
１ 基板
２ ステージ
３ 電極
４ 高圧電源
５ 表面電位計
６ イオナイザー（除電装置）
７ コントローラ
８ ロボットハンド
９ 放電
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置または半導体素子等を製造する際に用いる基板の除電方法および除電機能付きステージに関するもので、特に製造処理中に生じた静電気を除去することができる基板の除電方法および除電機能付きステージに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置または半導体素子等に用いられる基板に各種の製造装置を用いて所望の処理を施す際には、製造装置のステージに基板を吸着固定して処理を行う。このとき、基板表面または裏面に電荷が付着していると、処理が終了して基板をステージからリフトアップする際に、基板のステージとの間の静電容量が減少し、基板の表面電位は吸着時の１００倍になる。例えば、吸着時の基板の表面電位が１００Ｖであった場合、基板を２０ｍｍリフトアップしたときには、基板の静電容量は吸着時の約１／１００となるので、１０ｋＶになる。
【０００３】
したがって、図３（ａ）に示すように、ステージ２に吸着しているときの基板１の表面電位は低くても、図３（ｂ）に示すように、処理が終了して基板１をリフトアップすると、基板１を受け取るためのロボットハンド８等が基板１に接近し、基板１からロボットハンド８に放電９を起こし、基板１上に形成した電極パターン部等の静電破壊を起こす。
【０００４】
基板１をステージ２からリフトアップするときに、基板１の表面電位の上昇を防ぐため、以下のような方法が提案されている。
【０００５】
一般的に用いられている方法は、図４（ａ）に示すように、基板１を吸着しているステージ２の上方にイオナイザー（除電装置）６を取り付け、図４（ｂ）に示すように、基板１をステージ２からリフトアップする際、基板１を約１〜２ｍｍ持ち上げた状態で一旦停止し、基板１の静電容量減少による表面電位の上昇をイオナイザー６によって防いでから、図４（ｃ）に示すように、再度基板１を上昇させる方法である。
【０００６】
また、実開平１−１６０８３８号公報で提案されている方法は、図５に示すように、ステージ２内にイオナイザー６を取り付け、基板１をリフトアップする際にイオナイザー６によってイオン化されたエアーを基板１に吹き付け、リフトアップ時に生じる基板１の表面電位の上昇を防ぐ方法である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図５に示す方法では、基板１をステージ２からリフトアップする際の静電容量変化が非常に大きく、またイオナイザー６から発生されるイオン量が十分でないとともにプラスとマイナスのイオン量の釣り合いが通常±５０〜１００Ｖずれているため、基板１をステージ２から多少持ち上げた状態にして除電しないと、基板１の電荷を十分に除去することができない。
【０００８】
例えば、ステージ２に基板１を吸着させた状態で、表面電位５０Ｖの基板１の表面電荷を除去しようとするとき、市販のイオンバランス±５０〜１００Ｖのイオナイザー６では、逆に基板１を帯電させてしまう。仮にイオンバランスが０Ｖのイオナイザー６を使ったとしても、基板１がステージ２に吸着した状態で基板１の表面電位を下げる、例えば５０Ｖから数Ｖにするのには数十〜数百秒という非常に長時間を費やす。
【０００９】
したがって、生産ラインでの生産タクトでは、基板１をステージ２に吸着した状態で基板１の表面電荷を除去することは実用的ではなく、図４に示すような方法、つまり基板１をステージ２から多少上昇した状態にし、基板１の静電容量を下げることによって表面電位を上昇させた状態にして、イオナイザー６を用いて効率の良い除電を行っている。
【００１０】
イオナイザー６を用いた除電では、例えばステージ２に吸着時の表面電位１００Ｖの基板１を２０ｍｍリフトアップさせると表面電位１０ｋＶになるので、イオナイザー６によって表面電位１００Ｖに容易に下げることができる。しかし、これは基板１上の電荷が１／１００になったことに相当し、基板１がステージ２に吸着した状態に置き換えると１００Ｖであった表面電位を１Ｖにすることに相当するが、現状のイオナイザー６では基板１の表面電位を１Ｖにすることは不可能である。
【００１１】
また、基板１をステージ２からリフトアップする際には、図６に示すように、リフトアップ開始から約０．２秒で放電が起こるため、リフトアップを開始してからの除電では放電を起こす可能性が高い。
【００１２】
本発明は、以上のような従来の問題点に鑑みなされたものであって、基板がステージに吸着している状態でも基板の表面電位を効率良く下げることができる基板の除電方法および除電機能付きステージを提供することを目的としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
前述した目的を達成するために、本発明の請求項１記載の基板の除電方法は、ステージに載置した基板に所望の処理を施した後、前記基板上に溜まった電荷を除去する基板の除電方法において、前記基板の表面電位を測定し、この測定結果に基づいて、前記ステージに設けた電極に電圧を印加して前記基板の表面電位を変えるとともに、イオナイザーによって前記基板に電荷を与えることを特徴としている。
【００１４】
請求項２記載の除電機能付きステージは、基板を載置し、前記基板に所望の処理を施すためのものであって、所望の処理を施した前記基板上に溜まった電荷を除去する機能を有する除電機能付きステージにおいて、前記基板の表面電位を測定する表面電位計と、電圧を印加して前記基板の表面電位を変える電極と、前記基板に電荷を与えるイオナイザーと、を備えることを特徴としている。
【００１５】
本発明の基板の除電方法によれば、測定した基板の表面電位に基づいて、ステージに設けた電極に電圧を印加して基板の表面電位を変えるとともに、イオナイザーによって基板に電荷を与えることにより、ステージ上での除電を短時間で行うことができる。ステージに設けた電極に電圧を印加して基板の表面電位を高めることで、イオナイザーからイオンを受けやすくなり、除電効果を高めることができる。
【００１６】
本発明の除電機能付きステージによれば、基板の表面電位を測定する表面電位計と、電圧を印加して基板の表面電位を変える電極と、基板に電荷を与えるイオナイザーと、を備えることにより、ステージ上での除電を短時間で行うことができる。ステージに設けた電極に電圧を印加して基板の表面電位を高めることで、イオナイザーからイオンを受けやすくなり、除電効果を高めることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図１および図２を用いて、本発明の実施の形態について説明する。図１は本発明に係る除電機能付きステージを示す説明図、図２は本発明に係る他の除電機能付きステージを示す説明図である。
【００１８】
本発明でいう基板は、液晶表示装置を構成するガラス基板または半導体ウエハ等に限られるものではなく、ステージ上で所望の処理を行う板状体であれば、特に限定されるものではない。
【００１９】
また、本発明に係るステージは、成膜装置、露光装置、配向膜形成装置、ラビング装置、シール形成装置、貼り合わせ装置または分断装置等に用いることができ、ステージ上で基板に所望の処理を行う装置であれば用いることができ、特に限定されるものではない。
【００２０】
（実施の形態１）
図１に示すように、基板１を載置するステージ２内部には、基板１の表面電位を変えるための電極３が設けられている。電極３は高圧電源４に接続され、高圧電源４はコントローラ７に接続されている。さらに、基板１の表面電位を測定する表面電位計５が設けられ、ステージ２の上方にはイオナイザー６が設けられている。表面電位計５およびイオナイザー６は、コントローラ７に接続されている。
【００２１】
このステージ２を有する製造装置において基板１に所望の処理が行われた後、表面電位計５によって基板１の表面電位を測定し、この測定結果に基づき、コントローラ７によって電極３の電圧およびイオナイザー６の出力を制御して、基板１の表面電位を所定の値にする。
【００２２】
このように、ステージ２基板１をリフトアップすることなく、基板１の表面に溜まった電荷を急激に除去することができる。
【００２３】
（実施の形態２）
図２に示すように、基板１を載置するステージ２には、基板１の表面電位を変えるための電極３が基板１に接するように設けられている。電極３は高圧電源４に接続され、高圧電源４はコントローラ７に接続されている。さらに、基板１の表面電位を測定する表面電位計５が設けられ、ステージ２の上方にはイオナイザー６が設けられている。表面電位計５およびイオナイザー６は、コントローラ７に接続されている。
【００２４】
このステージ２を有する製造装置において基板１に所望の処理が行われた後、表面電位計５によって基板１の表面電位を測定し、この測定結果に基づき、コントローラ７によって電極３の電圧およびイオナイザー６の出力を制御して、基板１の表面電位を所定の値にする。
【００２５】
このように、ステージ２基板１をリフトアップすることなく、基板１の表面に溜まった電荷を急激に除去することができる。
【００２６】
【発明の効果】
以上の説明のように、本発明の基板の除電方法によれば、測定した基板の表面電位に基づいて、ステージに設けた電極に電圧を印加して基板の表面電位を変えるとともに、イオナイザーによって基板に電荷を与えることにより、ステージに設けた電極に電圧を印加して基板の表面電位を高めることでイオナイザーからイオンを受けやすくし、放電を起こすことなくステージ上での除電を短時間で行うことができる。
【００２７】
本発明の除電機能付きステージによれば、基板の表面電位を測定する表面電位計と、電圧を印加して基板の表面電位を変える電極と、基板に電荷を与えるイオナイザーと、を備えることにより、ステージに設けた電極に電圧を印加して基板の表面電位を高めることでイオナイザーからイオンを受けやすくし、放電を起こすことなくステージ上での除電を短時間で行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る除電機能付きステージを示す説明図である。
【図２】本発明に係る他の除電機能付きステージを示す説明図である。
【図３】（ａ）および（ｂ）は基板をリフトアップする際の放電状態を示す説明図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は従来の基板の除電方法を示す説明図である。
【図５】従来の他の基板の除電方法を示す説明図である。
【図６】基板をリフトアップする際の時間と基板の表面電位との関係を示す説明図である。
【符号の説明】
１ 基板
２ ステージ
３ 電極
４ 高圧電源
５ 表面電位計
６ イオナイザー（除電装置）
７ コントローラ
８ ロボットハンド
９ 放電
Claims (2)
- ステージに載置された基板上に溜まった電荷を除去する基板の除電方法において、前記基板の表面電位を測定し、この測定結果に基づいて、前記ステージに設けた電極に電圧を印加して前記基板の表面電位を変えるとともに、イオナイザーによって前記基板に電荷を与えることを特徴とする基板の除電方法。
- 基板を載置し、前記基板に所望の処理を施すためのステージであって、前記基板が前記ステージに載置された状態にて、所望の処理を施した前記基板上に溜まった電荷を除去する機能を有する除電機能付きステージにおいて、前記基板の表面電位を測定する表面電位計と、前記表面電位計の測定結果に基づいて電圧を印加して前記基板の表面電位を変える電極と、前記表面電位計の測定結果に基づいて前記基板に電荷を与えるイオナイザーと、を備えることを特徴とする除電機能付きステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36870798A JP3660818B2 (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | 基板の除電方法および除電機能付きステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36870798A JP3660818B2 (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | 基板の除電方法および除電機能付きステージ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000195934A JP2000195934A (ja) | 2000-07-14 |
| JP3660818B2 true JP3660818B2 (ja) | 2005-06-15 |
Family
ID=18492532
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36870798A Expired - Lifetime JP3660818B2 (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | 基板の除電方法および除電機能付きステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3660818B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4361538B2 (ja) * | 2006-02-16 | 2009-11-11 | 株式会社フューチャービジョン | ガラス基板の除電方法 |
| JP4800113B2 (ja) * | 2006-05-30 | 2011-10-26 | 株式会社アルバック | 印刷装置及び印刷方法 |
-
1998
- 1998-12-25 JP JP36870798A patent/JP3660818B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000195934A (ja) | 2000-07-14 |
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