JP3647119B2 - 基板搬送装置 - Google Patents
基板搬送装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3647119B2 JP3647119B2 JP01470296A JP1470296A JP3647119B2 JP 3647119 B2 JP3647119 B2 JP 3647119B2 JP 01470296 A JP01470296 A JP 01470296A JP 1470296 A JP1470296 A JP 1470296A JP 3647119 B2 JP3647119 B2 JP 3647119B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- shuttle
- substrate processing
- processing unit
- unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Feeding Of Workpieces (AREA)
- Manipulator (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は基板搬送装置に関し、特に本発明は複数の基板処理ユニットに前記基板を連続的に搬送する基板搬送装置に関する。さらに、詳細には本発明は、液晶表示装置のガラス基板、プリント配線基板などの基板を複数の基板処理ユニットに連続的に搬送する基板搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図10は、本願出願人により先に出願した特開平7−45501号公報に開示される角型基板処理装置の平面概略図である。この角型基板処理装置は液晶表示装置のガラス基板などの角型基板1にフォトレジスト薄膜を形成する装置である。角型基板処理装置にはスピンコーター2、基板端縁洗浄装置3、乾燥用オーブン4などの複数の基板処理ユニットが直列に配列される。スピンコーター2は角型基板1の表面にフォトレジスト薄膜を塗布する。基板端縁洗浄装置3は角型基板1の端面を洗浄し、端縁に付着したフォトレジストの不要薄膜を除去する。乾燥用オーブン4は塗布されたフォトレジスト薄膜のポストベークを行う。
【0003】
前記角型基板処理装置には、スピンコーター2においてフォトレジスト薄膜が塗布された角型基板1を基板端縁洗浄装置3に搬送し、基板端縁洗浄装置3で洗浄された角型基板1を乾燥用オーブン4に搬送する基板搬送装置が備えられる。この基板搬送装置はスピンコーター2から基板端縁洗浄装置3に角型基板1を搬送する入口側アーム5、基板端縁洗浄装置3から乾燥用オーブン4に角型基板1を搬送する出口側アーム6を備える。入口側アーム5、出口側アーム6はそれぞれ支持ボックス7に支持され、これらの入口側アーム5、出口側アーム6はそれぞれアーム駆動手段9により駆動させられる。
【0004】
前記アーム駆動手段9は、スピンコーター2の処理位置から基板端縁洗浄装置3の処理位置に、また基板端縁洗浄装置3の処理位置から乾燥用オーブン4に約90度の回転角度においてそれぞれ入口側アーム5、出口側アーム6を支持ボックス7と一体に旋回させる。入口側アーム5は並列に配置される4本のアームで構成され、同様に出口側アーム6は並列に配置される4本のアームで構成される。この並列に配置される4本のアームは異なる大きさの角型基板1を搬送するために支持ボックス7に対してそれぞれ伸縮できるように構成されている。また、入口側アーム5の4本のアームにはそれぞれ2個づつ、合計4個の爪部(チャックチップ)5a−5dが設けられる。爪部5a−5dはアーム駆動手段9により、4本のアームおよび支持ボックスと一体的に昇降して、また爪部5aおよび5bと爪部5cおよび5dとは角型基板1の保持ならびに保持の解除を行うために開閉できる。角型基板1の保持は角型基板1の対角線近傍において角型基板1の4つの端面にそれぞれ4個の爪部5a−5dが当接することにより行われる。同様に、出口側アーム6の2本のアームには合計4個の爪部6a−6dが設けられ、爪部6a−6dは昇降するとともに開閉する。
【0005】
このような構成を有する基板搬送装置において、角型基板1の搬送は以下の手順により行われる。まず、スピンコーター2の処理位置において角型基板1の表面にフォトレジスト薄膜が塗布されると、角型基板1上に入口側アーム5が移動し、そして爪部5a−5dが下降し、この爪部5a−5dにより角型基板1が保持される。保持された角型基板1は爪部5a−5dの上昇とともに上昇し、入口側アーム5の旋回により基板端縁洗浄装置3まで搬送される。搬送された角型基板1は爪部5a−5dの下降とともに下降し、基板端縁洗浄装置3の処理位置に角型基板1が搬送されると爪部5a−5dによる角型基板1の保持が解除される。角型基板1は基板端縁洗浄装置3において端面の洗浄を行う。出口側アーム6による基板端縁洗浄装置3から乾燥用オーブン4までの間の角型基板1の搬送はほとんど同様に行われる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
前述の角型基板処理装置に搭載された基板搬送装置においては、以下のような問題があった。
【0007】
(1)特に入口側アーム5の爪部5a−5dは角型基板1を保持するときに、スピンコーター2によりフォトレジスト薄膜が塗布された直後の角型基板1の端面に当接する。その結果、爪部5a−5dにフォトレジストが付着して、乾燥し、パーティクル発生の原因となる。このパーティクル発生を防止するため、角型基板処理装置のスピンコーター2と基板端縁洗浄装置3との間に爪部5a−5dを洗浄するアーム洗浄部8(図10参照)が設置され、基板搬送装置の構造が複雑になる。
【0008】
(2)角型基板1はスピンコーター2の処理位置から基板端縁洗浄装置3の処理位置に搬送されさらに基板端縁洗浄装置3の処理位置から乾燥用オーブン4に搬送される。つまり、角型基板1の搬送ごとに90度ずつ角型基板1が回転し、角型基板1の向きが変化する。このため、角型基板1の向きを表わすオリエンテーションフラット、インデックスなどの管理が大変になる。
【0009】
(3)前述のように、角型基板1の向きが搬送されるごとに変化するので、入口側アーム5の爪部5a−5dにより角型基板1を保持する位置と出口側アーム6の爪部6a−6dにより角型基板1を保持する位置とが若干異なる。このため、保持する位置を変えた2種類の入口側アーム5および出口側アーム6が必要になり、基板搬送装置の構造が複雑になる。さらに、スピンコータ2で角型基板1を保持する向きが90度変化すると、この向きの変化に合せて入口側アーム5の種類が変わり、洗浄部8の形状を変えなくてはならない。
【0010】
(4)近年、液晶表示装置の大型化にともない、角型基板1のサイズも大型化の傾向にある。前記入口側アーム5、出口側アーム6はいずれも角型基板1を対角線に沿って保持するので、角型基板1のたわみ量が大きくなる。たわみ量が大きくなると角型基板1の搬送ができなくなる。
【0011】
(5)入口側アーム5、出口側アーム6は各基板処理ユニット間においてそれぞれ独立にセットアップされている。角型基板1の搬送方向下流の出口側アーム6が旋回し、この出口側アーム6が上流側の入口側アーム5と干渉しないエリアに移動した段階で入口側アーム5の旋回が開始される。このため、入口側アーム5による角型基板1の搬送、出口側アーム6による角型基板1の搬送にはいずれも干渉を避けるための待機時間が含まれ、この待機時間は角型基板1を連続的に搬送する際のロスタイムになるので、搬送速度が遅くなる。
【0012】
(6)前記入口側アーム5、出口側アーム6はいずれも旋回しながら角型基板1を搬送するので、角型基板1のサイズが大きくなると入口側アーム5、出口側アーム6の旋回半径が大きくなる。このため、基板搬送装置が大型化してしまう。
【0013】
本発明は上記課題を解決するためになされたものである。従って、本発明の目的は、簡易な構造で小型化が実現でき、かつ生産性が向上できる基板搬送装置を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項1に記載された発明は、水平方向に直列に配置され矩型状の基板表面にそれぞれ異なる処理が施される複数の基板処理ユニットにそれぞれ順次前記基板を搬送する基板搬送装置において、前記複数の基板処理ユニットは、基板表面に薄膜を塗布する基板処理ユニットを含み、前記複数の基板処理ユニットにそれぞれ設けられ、前記基板を水平に保持した状態において前記基板に所定の処理を施す基板処理位置とこの基板処理位置よりも上方に位置する基板搬送保持位置との間で基板を昇降させる複数の基板昇降手段と、前記基板を水平に保持し、前記複数の基板処理ユニットの配置方向に沿って所定間隔で設けられる待機位置と、前記待機位置に隣接する基板搬送保持位置との間で移動可能な複数の基板保持手段と、前記基板処理ユニットの基板搬送保持位置と隣り合う他の基板処理ユニットの基板搬送保持位置との間において前記基板処理ユニットの配置方向に沿って前記複数の基板保持手段を同時かつ同一方向に移動させる基板移動手段と、を備え、前記基板保持手段は、前記搬送される基板の互いに平行であり、かつ前記配置方向に平行な2辺の側面および基板裏面端に沿って伸びる1対のL字形状の部材であって、前記複数の基板処理ユニット内の基板搬送保持位置において基板裏面端部に当接するとともに基板を前記2辺のそれぞれ外側から基板側面に接触させずに水平に保持し、基板表面及び基板側面に接触しない1対のシャトルハンド部と、前記1対のシャトルハンド部が下面にそれぞれ取付けられて支持される部材であって、前記基板移動手段によって前記基板処理ユニットの配置方向に沿って直線的に移動されるシャトルアーム部と、を有し、前記基板昇降手段は、前記基板移動手段により当該基板処理ユニットの基板搬送保持位置に前記基板が搬送されると、基板搬送保持位置まで上昇して前記基板を支持し、前記基板移動手段により前記シャトルハンド部が当該基板基板処理ユニットの位置から待機位置に移動されると、基板処理位置に下降することを特徴とする。
【0016】
請求項2に記載される発明は、前記請求項1に記載される基板搬送装置において、前記シャトルハンド部の基板裏面に当接し保持する部分に設けられ、基板裏面の吸着保持が行える吸着部を備えたことを特徴とする。
【0017】
請求項3に記載される発明は、前記請求項1に記載される基板搬送装置において、前記基板移動手段は、前記複数の基板処理ユニットの配置方向に沿って配置されるシャトルガイド部と、前記シャトルガイド部にガイドされ前記配置方向に沿って移動するとともに、前記複数の基板保持手段のシャトルアーム部が個々に設けられた複数のシャトルスライダー部と、前記複数のシャトルスライダー部の隣り合うもの同士を相互に連結する複数の連結ブラケット部と、前記複数のシャトルスライダー部を前記配置方向に沿って移動させるシャトルスライダー駆動手段と、を備えたことを特徴とする。
【0018】
請求項4に記載された発明は、前記請求項3に記載される基板搬送装置において、前記シャトルスライダー駆動手段は、前記シャトルガイド部に沿って配置され、前記シャトルスライダー部に連結された駆動用ベルトと、前記駆動用ベルトの一端側に連接された駆動プーリーと、前記駆動プーリーに連結され、かつ駆動プーリーに回転力を与える駆動用モーターと、前記駆動用ベルトの他端側に連接される従動プーリーと、を備えたことを特徴とする。
また、前記基板昇降手段は、前記基板搬送保持位置より若干上方に余分に移動可能であることが好ましい。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、本発明の基板搬送装置の一実施形態が矩形状の基板にフォトレジスト薄膜を塗布する基板処理装置に搭載された場合を説明する。前記矩形基板としては液晶表示装置のガラス基板、フォトマスクのガラス基板、サーマルヘッド製造用のセラミックス基板、プリント配線基板、半導体基板のいずれも使用できる。
【0020】
図1は基板処理装置および基板搬送装置の具体的な構造を示す正面図、図2は平面図、図3は左側側面図である。図1乃至図3に示すように、基板処理装置は複数の基板処理ユニット10A−10Dが左側から右側に向かって直線的に配置される。本実施形態において、基板処理ユニット10Aは洗浄された基板を乾燥するデバイドベーク、基板処理ユニット10Bはスピンコーター、基板処理ユニット10Cは基板端縁洗浄装置、基板処理ユニット10Dはポストベークである。なお、基板処理ユニット10A−10Dの詳細な説明は省略する。
【0021】
基板搬送装置は基板処理ユニット10A−10Dにわたって構成され、この基板搬送装置は基板処理ユニット10Aから基板処理ユニット10Dに向かって矩形基板を連続的に搬送する。基板搬送装置には基板昇降機構、基板保持機構、基板移動機構を備える。
【0022】
基板昇降機構は前記図1乃至図3に示すように複数の基板処理ユニット10A−10Dにそれぞれ設置される(基板処理ユニット10B−10Dにおいては記載を省略してある)。基板昇降機構は昇降駆動源21Aおよび昇降部材21Bを備える。本実施形態において昇降部材21Bにはリフトピンが使用される。また、昇降部材21Bには、スピンコーターなどで基板を吸着保持するバキュームチャックなどが使用できる。昇降駆動源21Aは各基板処理ユニット10A−10Dのそれぞれにおいてほぼ中央部に設置され、かつ基板処理位置の下部に設置される。基板処理位置は矩形基板の表面にフォトレジスト薄膜の塗布処理などの処理が行われる位置である。昇降駆動源21Aは昇降部材21Bに連結されこの昇降部材21Bの上昇および下降を行う。本実施形態において昇降駆動源21Aにはエアーシリンダーが使用される。昇降部材21Bの上側先端は昇降駆動源21Aの駆動により基板処理位置とこの基板処理位置よりも上方に設定された基板搬送保持位置との間において上昇および下降を行う。昇降部材21Bの上側先端の上昇および下降は基板を水平に維持した状態において行われる。基板搬送保持位置は前記基板保持機構により基板を保持し水平搬送する高さ位置である。基板昇降機構は、昇降部材21Bが基板の処理中に矩形基板に干渉しないために、昇降部材21Bの上側先端は基板処理位置よりも若干下方に余分に昇降駆動源21Aにより昇降動作させる。また、昇降部材21Bを基板保持機構との間でスムースに矩形基板の受け渡しおよび受け取りを行うために、昇降部材21Bの上側先端は基板搬送保持位置よりも若干上方に余分に移動させる。
【0023】
前記基板保持機構は複数の基板処理ユニット10A−10Dの配置方向において隣り合う2つの基板処理ユニットに対して1個の割合で設置される。この基板保持機構はシャトルハンド部11およびシャトルアーム部12を備える。図4は前記シャトルハンド部11の具体的な構造を示す側面図、図5は正面図、図6は前記図5は平面図である。シャトルハンド部11は図4乃至図6に示すように矩形基板30の対向する2辺に沿ってそれぞれ設けられた2個の(一対の)ハンド部11aおよび11bを備える。ハンド部11a、11bは図4に示すようにそれぞれ基板30の側面に沿ってこの側面に接触させずに上側から下側に伸びさらに基板30の裏面端部に折れ曲がるL字形状で構成される(シャトルアーム部12に取り付ける部分を含めるとコの字形状に見える)。図4乃至図6に示すように、ハンド部11a、11bはそれぞれ2個ずつの吸着部11cが設けられる。すなわち、本実施形態のシャトルハンド部11には合計4個の吸着部11cが設けられる。それぞれの吸着部11cは連結パイプ11dを通して図示しない真空装置に接続され、この真空装置により吸着部11cは基板30の裏面を吸着でき、基板30の保持ならびに搬送が確実かつ安定して行える。
【0024】
また、前記シャトルハンド部11のハンド部11a、11bにはそれぞれ少なくとも2本のスライドピン(本実施形態においてはボルトナットが使用される)11eが設けられる。スライドピン11eはシャトルアーム部12に設けられたガイド用長穴12fに沿ってスライドでき、基板30のサイズ変更に応じてハンド部11a、11b間の寸法が調節できる。さらに、ハンド部11a、11bにはそれぞれ目盛針(本実施形態においては目盛針に相当するものとしてスライドピン11eを使用している)が設けられる。シャトルアーム部12には目盛板12eが取り付けられており、前記スライドピン(目盛針)11eはガイド用長穴12fに沿ったハンド部11aまたは11bのスライド量に応じて移動する。つまり、スライドピン(目盛針)11eが指し示す目盛板12eの目盛を参考にハンド部11aと11bとの間の寸法を調整することにより、寸法の調整が容易に行える。
【0025】
図7は前記シャトルアーム部12の具体的な構造を示す側面図、図8は平面図である。シャトルアーム部12は並列に配置される2本のアーム部12aおよびこの2本のアーム部12aを連結する複数のブラケット12b−12dを備える。2本のアーム部12aは複数の基準面S1−S4を基準として複数のブラケット12b−12dにより組み立てられる。ブラケット12dの下面と基準面S3およびS4とが一致した面において前記シャトルハンド部11のそれぞれのハンド部11a、11bがスライドできる。さらに、シャトルアーム部12にはアームカバー12h、12iおよび12jが設けられ、アームカバー12h、12iおよび12jは外観の装飾効果が高められるとともに特に基板30の搬送方向における機械的強度が高められる。
【0026】
前記基板移動機構は、前記図1乃至図3に示すように、シャトルガイド部14、シャトルスライダー部13、連結ブラケット16およびシャトルスライダー駆動機構を備える。
【0027】
図9は、図1に示す基板搬送装置の要部を示す正面図である。図7および図9に示すように、前記シャトルガイド部14は複数の基板処理ユニット10A−10Dの配置方向に沿って上下に並列に設置された2本のガイドレールで構成される。シャトルガイド部14は基板処理ユニットの配置方向に沿って設置されたベースプレート19に取り付けられる。ベースプレート19は各基板処理ユニット10A−10Dのそれぞれに支持される。また、ベースプレート19は基板処理ユニットの配置方向において複数に分割されており、この分割された複数のベースプレート19はブラケット20により相互に連結される。前記シャトルガイド部14にはシャトルスライダー部13が取り付けられる。シャトルスライダー部13はベアリングユニット13aおよび13bによりシャトルガイド部14に取り付けられ、シャトルスライダー部13はシャトルガイド部14にガイドされ基板処理ユニットの配置方向に沿って移動する。本実施形態において、シャトルスライダー部13はシャトルアーム部12と同一個数の3個備える。図9中、中央部分に設置されたシャトルスライダー部13と隣り合う右側のシャトルスライダー部13との間は連結ブラケット16により機械的に連結される。同様に、シャトルスライダー部13と隣り合う左側のシャトルスライダー部13との間は連結ブラケット16により機械的に連結される。つまり、中央部分のシャトルスライダー部13がシャトルガイド部14に沿って移動した場合には、このシャトルスライダー部13と同一移動方向でかつ同一移動量において他の2個のシャトルスライダー部13が移動する。シャトルスライダー部13は基板30の搬送ピッチにオーバーランなどの余裕寸法を加えた距離だけ移動する(往復移動する)。
【0028】
前記シャトルスライダー駆動機構は図1および図9に示すように駆動用モーター15A、駆動プーリー15B、従動プーリー15Cおよび駆動用ベルト(タイミングベルト)15Dを備える駆動用ベルト15Dはシャトルガイド部14に沿って配置される。駆動用ベルト15Dの図中右側は駆動プーリー15Bに連接され(巻き掛けられ)、図中左側は従動プーリー15Cが連接される。駆動プーリー15Bの回転軸は駆動用モーター15Aの回転軸に連結され、駆動用モーター15Aの回転駆動力が駆動プーリー15Bを通して駆動用ベルト15Dに伝達される。図7に示すように、駆動用ベルト15Dはシャトルスライダー部13のベアリングユニット13aと13bとの間を走行し、駆動用ベルト15Dの一部分が取付け部材13cにより中央部分のシャトルスライダー部13に連結される。つまり、駆動用ベルト15Dの走行により中央部分のシャトルスライダー部13が移動して、このシャトルスライダー部13の移動に伴い連結ブラケット16より他のシャトルスライダー部13が移動する。
【0029】
次に、前述の基板搬送装置の基板搬送動作について説明する。
【0030】
基板処理ユニット10Bの基板処理位置においてフォトレジスト薄膜が塗布された基板30は、昇降駆動源21Aにより昇降部材21Bで上方に押し上げられ、基板搬送保持位置に送られる。基板処理ユニット10A以外の他の基板処理ユニット10B−10Dにおいても同様に昇降駆動源21Aおよび昇降部材21Bにより基板処理位置から基板搬送保持位置に基板30が送られる。
【0031】
一方、シャトルアーム部12のシャトルハンド部11は待機位置(図1の実線で示す位置であり、本実施形態においては基板搬送ピッチの中央部分)から基板搬送保持位置に移動する。この移動は、シャトルスライダー駆動機構の駆動用モーター15Aの回転力が駆動プーリー15Bを介して駆動用ベルト15Dに伝達され、この駆動用ベルト15Dに与えられた駆動力でシャトルスライダー部13の移動が行われる。シャトルスライダー部13はシャトルガイド部14に沿って移動する。複数のシャトルスライダー部13は相互に連結ブラケット16において連結されているので、複数のシャトルスライダー部13は同一方向で同一の移動量において移動できる。
【0032】
そして、基板搬送保持位置において基板30はシャトルハンド部11に保持される(基板30の受け渡しが行われる)。基板30は裏面に当接した吸着部11cで吸着され、基板30は確実かつ安定してシャトルハンド部11に保持される。
【0033】
次に、シャトルアーム部12は次段の基板処理ユニット10Bに移動し、基板30が基板処理ユニット10Bに搬送される。基板30の搬送は隣り合う基板処理ユニットのそれぞれの基板搬送保持位置とほぼ同一の高さにおいて行われる。特に本実施形態においては基板30の高さならびに水平度が維持された状態において、基板30が搬送される。この基板30の搬送は隣り合う基板処理ユニット間、他の基板処理ユニット間のそれぞれにおいて同時に行われる。
【0034】
基板処理ユニット10Bの基板搬送保持位置に搬送された基板30は吸着部11cによる吸着が停止されシャトルハンド部11の保持が解除される。そして、基板搬保持位置まで上昇してきた昇降部材21Bに支持され、シャトルハンド部11は基板搬送保持位置から待機位置に向かって移動する。シャトルハンド部11が基板30に干渉しない範囲まで移動すると昇降部材21Bが下降し、基板30が基板処理位置に送られる。
【0035】
この一連の搬送動作は基板処理ユニット10Bと10Cとの間、基板処理ユニット10Cと10Dとの間でも同様に行われる。しかも、各基板処理ユニット間のシャトルハンド部11は同一方向に移動しかつ同一移動量において基板30を搬送できる。
【0036】
変形例
上述の実施形態において、以下に示す変形が行える。
【0037】
(1)前記シャトルハンド部11において、吸着部11c、連結パイプ11dおよび真空装置を無くし、L字形状のハンド部11aおよび11b上に単に基板30を載せ、この基板30を搬送してもよい。この場合基板30は摩擦力によりハンド11aおよび11b上において保持される。
【0038】
(2)前記シャトルハンド部11において、2個のハンド部11aおよび11bが互いに連動してスライドが行える構造にしてもよい。つまり、一方のハンド部11aを広げる方向にスライドさせると他方のハンド部11bが連動して広がる方向にスライドする。この連動機構は機械式のものでもモーターなどを使用した電気式のものでもよい。
【0039】
(3)前記シャトルアーム部12は片持ち支持構造に限定されず、両端支持構造にしてもよい。
【0040】
(4)前記シャトルスライダー部13の間の連結には連結ブラケット16に限らず、リンク機構、ロングパルスのタイミングベルトなどで連結を行うことができる。また、駆動用ベルト15Dに代えてボールねじを使用し、1個のシャトルスライダー部13に限らずすべてのシャトルスライダー部13に駆動力を伝達してもよい。
【0041】
(5)前記基板昇降機構の昇降駆動源21Aにおいて、ボールねじ、リニアモーター、油圧シリンダー、ラック&ピニオン機構、ワイヤー、スチールベルトなどの駆動方式が使用してもよい。シャトルスライダー駆動装置についても同様である。
【0042】
(6)シャトルスライダー部13において、特定のシャトルスライダー部13に変速機を設置し、基板処理ユニットごとに基板搬送ピッチを変えてもよい。
【0043】
【発明の効果】
請求項1に記載された発明においては、基板搬送装置において、以下の効果が得られる。
【0044】
(1)前記基板保持手段が基板裏面に当接し基板が保持され、各種の処理が施される基板表面および基板側面に基板保持手段が接触しない。従って、基板保持手段にパーティクルの発生原因となる各種の処理剤が付着しなくなるので、製造上の歩留りが向上できる基板搬送装置が実現できる。
【0045】
(2)前記基板保持手段に各種の処理剤が付着しなくなるので、基板保持手段の洗浄機構が無くせる。従って、簡易な構造の基板搬送装置が実現できる。
【0046】
(3)前記基板保持手段で保持された基板は前記基板移動手段により隣り合う基板処理ユニットの基板搬送保持位置の間を基板処理ユニットの配置方向に沿って直線的に搬送できる。従って、基板処理ユニットごとに基板の向きを回転させながら搬送する回転搬送機構が基板搬送装置から無くせるので、簡易な構造の基板搬送装置が実現できる。また、基板の向きがそれぞれの基板処理ユニットごとに変更されないので、オリエンテーションフラット、インデックスなどに基づく基板の向きの管理が簡易に実現できる。
【0047】
(4)さらに、基板の向きを回転せずに基板が基板処理ユニットの配置方向に沿って直線的に搬送されるので、前記複数の基板保持手段の構造が同一構造にできる。従って、簡易な構造の基板搬送装置が実現できる。
【0048】
(5)前記基板保持手段による基板の保持が基板の対向する2辺のそれぞれの近傍の基板裏面において行われるので、基板対角線に沿って基板を保持する場合に比べて基板の保持スパンが短くなる。従って、基板の搬送に必要なスペースが減少できるので、基板搬送装置の小型化が実現できる。さらに、基板の搬送の際に基板のたわみ量が減少できるので、基板表面の歪が減少でき、基板表面に施される各種処理の品質が良好な状態で維持できる。従って、製造上の歩留りが向上できる基板搬送装置が実現できる。
【0049】
(6)前記複数の基板保持手段は基板移動手段によりそれぞれの基板搬送保持位置の間を同時に移動でき、基板処理ユニットの基板搬送保持位置から次段の基板処理ユニットの基板搬送処理位置まで連続的に搬送されるすべての基板が同時に搬送できる。従って、隣り合う基板搬送保持位置間と次段の隣り合う基板搬送保持位置間との間において、相互に搬送される基板が重なりあい干渉し合うことがなくなるので、基板の搬送に際して次段の基板の搬送に影響を与えないための搬送待機時間(待ち時間)が無くせる。従って、基板搬送効率が向上でき、基板搬送時間が短縮できる基板搬送装置が実現できる。
【0050】
(7)前記基板は前記基板移動手段により基板処理ユニットの配置方向に沿って直線的に搬送できる(回転搬送が無くなる)ので、搬送経路が短縮され、基板搬送効率が向上でき、基板搬送時間が短縮できる基板搬送装置が実現できる。さらに、複雑なメカニズムの回転搬送機構が無くなり、単純なメカニズムの直線搬送機構が採用されるので、簡易な構造の基板搬送装置が実現できる。さらに、単純なメカニズムの直線搬送機構の採用により、故障が減少でき、メンテナンスが簡素化できるので、信頼性および安定性に優れた基板搬送装置が実現できる。
【0051】
従って、簡易な構造で小型化が実現でき、かつ生産性が向上できる基板搬送装置が提供できる。
【0052】
前記請求項3に記載された発明においては、前記基板処理ユニットの基板搬送保持位置と次段の基板処理ユニットの基板搬送保持位置との間で前記吸着部が基板裏面に当接し、この吸着部を通して真空装置により基板裏面が吸着できる。従って、シャトルハンド部に基板が確実かつ安定に保持できるので、基板の搬送上、信頼性の高い基板搬送装置が実現できる。
【0053】
前記請求項4に記載された発明においては、前記シャトルスライダー駆動手段により特定のシャトルスライダー部が駆動されると、このシャトルスライダー部に連結ブラケットを介して連結される他のシャトルスライダー部が連動して駆動できる。従って、他のシャトルスライダー部を直接駆動するシャトルスライダー駆動手段が無せるので、シャトルスライダー駆動手段の個数が減少でき、簡易な構造の基板搬送装置が実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施形態に係る基板処理装置および基板搬送装置の正面図である。
【図2】 基板処理装置および基板搬送装置の平面図である。
【図3】 基板処理装置および基板搬送装置の側面図である。
【図4】 基板搬送装置のシャトルハンド部の側面図である。
【図5】 シャトルハンド部の正面図である。
【図6】 シャトルハンド部の平面図である。
【図7】 前記基板搬送装置のシャトルアーム部の正面図である。
【図8】 前記シャトルアーム部の平面図である。
【図9】 前記基板搬送装置の要部の正面図である。
【図10】 従来の角型基板処理装置の平面図である。
【符号の説明】
10A−10D 基板処理ユニット、11 シャトルハンド部、11a,11b ハンド部、11c 吸着部、11d 連結パイプ、12 シャトルアーム部、13 シャトルスライダー部、14 シャトルガイド部、15A 駆動用モーター、15B 駆動プーリー、15C 従動プーリー、15D 駆動用ベルト、19 ベースプレート、21A 昇降駆動源、21B 昇降部材。
Claims (5)
- 水平方向に直列に配置され矩型状の基板表面にそれぞれ異なる処理が施される複数の基板処理ユニットにそれぞれ順次前記基板を搬送する基板搬送装置において、
前記複数の基板処理ユニットは、基板表面に薄膜を塗布する基板処理ユニットを含み、
前記複数の基板処理ユニットにそれぞれ設けられ、前記基板を水平に保持した状態において前記基板に所定の処理を施す基板処理位置とこの基板処理位置よりも上方に位置する基板搬送保持位置との間で基板を昇降させる複数の基板昇降手段と、
前記基板を水平に保持し、前記複数の基板処理ユニットの配置方向に沿って所定間隔で設けられる待機位置と、前記待機位置に隣接する基板搬送保持位置との間で移動可能な複数の基板保持手段と、
前記基板処理ユニットの基板搬送保持位置と隣り合う他の基板処理ユニットの基板搬送保持位置との間において前記基板処理ユニットの配置方向に沿って前記複数の基板保持手段を同時かつ同一方向に移動させる基板移動手段と、
を備え、
前記基板保持手段は、
前記搬送される基板の互いに平行であり、かつ前記配置方向に平行な2辺の側面および基板裏面端に沿って伸びる1対のL字形状の部材であって、前記複数の基板処理ユニット内の基板搬送保持位置において基板裏面端部に当接するとともに、基板を前記2辺のそれぞれ外側から基板側面に接触させずに水平に保持し、基板表面及び基板側面に接触しない1対のシャトルハンド部と、
前記1対のシャトルハンド部が下面にそれぞれ取付けられて支持される部材であって、前記基板移動手段によって前記基板処理ユニットの配置方向に沿って直線的に移動されるシャトルアーム部と、
を有し、
前記基板昇降手段は、
前記基板移動手段により当該基板処理ユニットの基板搬送保持位置に前記基板が搬送されると、基板搬送保持位置まで上昇して前記基板を支持し、前記基板移動手段により前記シャトルハンド部が当該基板処理ユニットの位置から待機位置に移動されると、基板処理位置に下降することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1に記載される基板搬送装置において、
前記シャトルハンド部の基板裏面に当接し保持する部分に設けられ、基板裏面の吸着保持が行える吸着部を備えたことを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1に記載される基板搬送装置において、
前記基板移動手段は、
前記複数の基板処理ユニットの配置方向に沿って配置されるシャトルガイド部と、
前記シャトルガイド部にガイドされ前記配置方向に沿って移動するとともに、前記複数の基板保持手段のシャトルアーム部が個々に設けられた複数のシャトルスライダー部と、
前記複数のシャトルスライダー部の隣り合うもの同士を相互に連結する複数の連結ブラケット部と、
前記複数のシャトルスライダー部を前記配置方向に沿って移動させるシャトルスライダー駆動手段と、
を備えたことを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項3に記載される基板搬送装置において、
前記シャトルスライダー駆動手段は、
前記シャトルガイド部に沿って配置され、前記シャトルスライダー部に連結された駆動用ベルトと、
前記駆動用ベルトの一端側に連接された駆動プーリーと、
前記駆動プーリーに連結され、かつ駆動プーリーに回転力を与える駆動手段と、
前記駆動用ベルトの他端側に連接される従動プーリーと、
を備えたことを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1に記載される基板搬送装置において、
前記基板昇降手段は、
前記基板搬送保持位置より若干上方に余分に移動可能であることを特徴とする基板搬送装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01470296A JP3647119B2 (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | 基板搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01470296A JP3647119B2 (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | 基板搬送装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09201734A JPH09201734A (ja) | 1997-08-05 |
JP3647119B2 true JP3647119B2 (ja) | 2005-05-11 |
Family
ID=11868520
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP01470296A Expired - Lifetime JP3647119B2 (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | 基板搬送装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3647119B2 (ja) |
-
1996
- 1996-01-30 JP JP01470296A patent/JP3647119B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09201734A (ja) | 1997-08-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101256779B1 (ko) | 기판처리방법 및 기판처리장치 | |
US9087865B2 (en) | Substrate transferring system and substrate transferring method | |
JP5265099B2 (ja) | 基板検査装置 | |
KR101286283B1 (ko) | 기판 반송 장치 및 기판 반송 방법 | |
JP2007158005A (ja) | 基板搬送装置及び基板処理装置 | |
US6247579B1 (en) | Substrate transfer apparatus and method of substrate transfer | |
JP2002246450A (ja) | 基板保持装置及び基板搬送方法 | |
CN103177991B (zh) | 基板处理装置和移载方法 | |
KR101190996B1 (ko) | 롤 프린팅 장치 및 이를 이용한 컬러 필터 패턴 형성방법 | |
KR20070058978A (ko) | 기판 반송 시스템, 기판 반송 장치 및 기판 처리 장치 | |
WO2008044340A1 (fr) | Dispositif de transfert de substrat | |
JP3647119B2 (ja) | 基板搬送装置 | |
JP4394797B2 (ja) | 基板搬送装置 | |
JPH08236597A (ja) | 移載装置 | |
JP5165718B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JPH0922933A (ja) | 基板搬送方法及びその装置 | |
JPH09232405A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2578845Y2 (ja) | 自動基板裁断装置における位置決め機能を有する搬送機 | |
KR102222263B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR100519983B1 (ko) | 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법 | |
JP3912478B2 (ja) | 基板搬送装置 | |
JPH1187456A (ja) | 基板処理装置 | |
JP3884622B2 (ja) | 基板搬送装置およびそれを用いた基板処理装置、ならびに基板処理方法 | |
JP4282379B2 (ja) | ウエハ検査装置 | |
JP4474672B2 (ja) | 基板移載装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040430 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040622 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040812 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20040812 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041102 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041222 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20050106 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050201 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050208 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080218 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090218 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100218 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100218 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100218 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110218 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110218 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120218 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120218 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130218 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130218 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140218 Year of fee payment: 9 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |