JP3611710B2

JP3611710B2 - 基板処理システム

Info

Publication number: JP3611710B2
Application number: JP01726598A
Authority: JP
Inventors: 勝司吉岡; 義光福冨
Original assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1998-01-29
Filing date: 1998-01-29
Publication date: 2005-01-19
Anticipated expiration: 2018-01-29
Also published as: JPH11216317A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板に所定の処理を行う基板処理装置および基板処理装置に清浄な空気を供給する空調ユニットを備えた基板処理システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板等の基板に所定の処理を行うために、基板処理装置が用いられている。基板処理装置の１つに回転式塗布装置がある。回転式塗布装置は、基板にレジスト液を供給し、回転塗布することにより基板の表面に均一なレジスト薄膜を形成する装置である。
【０００３】
図５は従来の回転式塗布装置を備えた基板処理システムの断面模式図である。図５において、基板処理システムは、回転式塗布装置３０、空調ユニット４１および送風管路４５を備える。
【０００４】
空調ユニット４１は化学吸着フィルタ４２、ファン４３および温湿調整部４４を備える。温湿調整部４４の出口側には送風管路４５の一端が接続されている。また、送風管路４５の他端は空気導入部３７に接続されている。空気導入部３７における送風管路４５との接続部近傍には風量調節用のダンパ３９が設けられている。ダンパ３９の近傍には空気導入部３７内に導かれる空気の温度および湿度を検出する温湿度検出器４０が配置されている。さらに、空気導入部３７内における回転式塗布装置３０との境界にはＵＬＰＡ（ＵｌｔｒａＬｏｗＰｅｎｅｔｒａｔｉｏｎＡｉｒ）フィルタ３８が配置されている。
【０００５】
回転式塗布装置３０は筐体３６の内部に回転ユニット３１が配置されている。回転ユニット３１は、基板Ｗを保持する基板保持部３３と、基板保持部３３を回転駆動する回転モータ３２と、基板Ｗからの処理液の飛散を防止するためのカップ３４とを備える。カップ３４の下面には排気管路３５が形成されている。また、回転式塗布装置３０には、基板Ｗにレジスト液やリンス液を供給するための種々の部品（図示せず）が配設されている。
【０００６】
回転式塗布装置３０の処理時には、ファン４３の回転により、外部の空気が空調ユニット４１内に取り込まれる。空気は、空調ユニット４１の化学吸着フィルタ４２により基板処理に有害な溶剤やアルカリ成分が除去され、温湿調整部４４により温度および湿度が所定の値に調整される。その後、空気は送風管路４５を通り回転式塗布装置３０の上部に配置された空気導入部３７に送り込まれる。
【０００７】
空気導入部３７内には温湿度検出器４０が取り付けられている。温湿度検出器４０は空調ユニット４１から送り込まれる空気の温度および湿度を検出し、検出信号を温湿調整部４４に出力する。この検出信号に基づいて、温湿調整部４４は回転式塗布装置３０に向けて送り出す空気の温度および湿度をフィードバック制御して所定の値に調整する。空気導入部３７に供給された空気は、ＵＬＰＡフィルタ３８を通過することによって塵埃が除去され、筐体３６内を下降してカップ３４の内部に供給される。
【０００８】
回転ユニット３１では、回転駆動される基板Ｗの表面にＵＬＰＡフィルタ３８を通過した清浄な空気流が供給される。この清浄な空気流は、温度および湿度が所定の値に調整されているため、基板Ｗの処理雰囲気の温度等の状態が一定に保持される。これにより、基板周辺の温度不均一等に起因するレジスト膜の膜厚不均一が防止され、レジスト膜が均一な膜厚に形成される。
【０００９】
また、基板Ｗに供給される清浄な空気流は、基板Ｗから飛散されるレジスト液のミスト（飛沫）やパーティクル（粒子）を流し去り、排気管路３５を通して外部に排出する。これにより、基板Ｗの周囲が清浄な状態に保たれ、基板Ｗの表面にミストやパーティクルが再付着して欠陥が生じることが防止されている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
図５に示す従来の基板処理システムでは、回転式塗布装置３０に導入される空気の通気経路の上流側に化学吸着フィルタ４２が配置され、下流側にＵＬＰＡフィルタ３８が配置されている。化学吸着フィルタ４２は、化学増幅型レジストが用いられる場合に対応して設けられている。化学増幅型レジストは、雰囲気中にアンモニア成分が存在すると、アンモニア成分と反応して変質する。このため、回転式塗布装置３０内に導入する空気中からアルカリ成分などを除去するために化学吸着フィルタ４２が設けられている。なお、化学吸着フィルタ４２では空気中に含まれる塵埃４６については十分に除去することができない。
【００１１】
化学吸着フィルタ４２は比較的寿命が短く、頻繁に交換する必要がある。このため、交換作業が容易なように、回転式塗布装置３０とは別置きにされた空調ユニット４１の上部に配置されている。
【００１２】
一方、回転ユニット３１の上部に配置されたＵＬＰＡフィルタ３８は、空気中に含まれる塵埃４６を除去するために設けられている。これにより、回転ユニット３１には化学吸着フィルタ４２およびＵＬＰＡフィルタ３８を通過した清浄な空気が供給される。
【００１３】
しかしながら、温湿度検出器４０は、化学吸着フィルタ４２とＵＬＰＡフィルタ３８との間に配置されている。温湿度検出器４０は温度検出部および湿度検出部を有しており、湿度検出部は離間した２枚の電極間の電位差を検出し、検出した電位差をアナログ信号で出力するように構成されている。このため、湿度検出部の電極近傍の空気中に塵埃４６が浮遊したり、電極に塵埃４６が付着すると検出精度が低下する。このため、温湿度検出器４０からの出力信号に基づく温湿調整部４４の調整状態が変動し、回転式塗布装置３０の回転ユニット３１に供給される空気の湿度が所定の値から変化する。これにより、基板Ｗ上のレジスト膜の形成に悪影響が生じる。
【００１４】
また、図６は従来の基板処理システムにおける他の動作状態を説明するための断面模式図である。回転ユニット３１において基板Ｗに供給される化学増幅型レジストの一部は基板Ｗの外周に飛散され、回転ユニット３１の上方に浮遊する。ＵＬＰＡフィルタ３８は気体成分を除去する能力を有していない。このため、科学増幅型レジスト中の気体状の特定成分４７はＵＬＰＡフィルタ３８を通過して空気導入部３７内に侵入する。そして、温湿度検出器４０の周囲に拡散すると、温湿度検出器４０の温度検出部および湿度検出部では、化学増幅型レジスト中の特定成分４７の影響を受けて温度や湿度の検出精度が低下する。これにより、温湿調整部４４の調整状態が変動し、それによって回転式塗布装置３０の回転ユニット３１における基板Ｗの回転塗布処理に悪影響が生じる。
【００１５】
さらに、空気導入部３７内に侵入した化学増幅型レジスト中の特定成分４７が送風管路４５を逆流して空調ユニット４１側に侵入すると、温湿調整部４４内に配設された銅配管に作用して銅配管を腐食させるなどの不都合が生じる。
【００１６】
本発明の目的は基板処理装置への通気経路中に設けられる検出器の検出精度が空気中に塵埃などによって低下することのない基板処理システムを提供することである。
【００１７】
本発明の他の目的は、通気経路中に設けられる検出器の検出精度が基板処理装置側から逆流する処理液の気体成分によって低下することのない基板処理システムを提供することである。
【００１８】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
第１の発明に係る基板処理システムは、空調ユニットと、基板に所定の処理を行う処理部を含む基板処理装置と、基板処理装置に設けられ、空気を処理部に導入する空気導入部と、空調ユニットと空気導入部との間に接続された送風管路とを備え、空調ユニットが、第１の化学吸着フィルタと、第１の化学吸着フィルタを通過した空気の所定の性状を調整する調整手段と、第１の化学吸着フィルタから調整手段を介して送風管路へ向かう空気の流れを形成する送風手段とを含み、空気導入部内に空気の所定の性状を検出する検出器が設けられるとともに、空気導入部内で検出器の下流側に第１の塵埃除去フィルタが設けられ、空気導入部内でかつ検出器の上流側に第２の塵埃除去フィルタが配置されたものである。
【００１９】
第１の発明に係る基板処理システムにおいては、第１の化学吸着フィルタにより空気中の溶剤やアルカリ成分など基板処理に有害な成分を除去し、さらに第１の塵埃除去フィルタにより空気中の塵埃を除去し、空気を清浄化して基板処理装置へ導いている。さらに、基板処理装置に導かれる空気は、空調ユニットにより所定の性状が調整されている。このため、基板処理装置では所定の性状に調整され、かつ清浄化された空気が供給されることによって最適な処理雰囲気下で基板の処理が行われる。
【００２０】
また、空気導入部内に検出器を設けるとともに、空気導入部内でかつ検出器の上流側に第２の塵埃除去フィルタを配置することにより、検出器に空気中の塵埃が近接したり付着したりすることを防止している。これにより、検出器の検出精度が塵埃の付着等により低下することが防止され、検出器の検出結果に基づいて空気の所定の性状を所望の値に正確に調整することが可能となる。それによって処理部における基板処理を最適な雰囲気下で行わせることができる。
【００２１】
第２の発明に係る基板処理システムは、第１の発明に係る基板処理システムの構成において、検出器の下流側に第２の化学吸着フィルタが設けられたものである。
【００２２】
この場合、検出器の下流側に設けられた第２の化学吸着フィルタは、基板処理装置側から逆流する有害な気体成分を吸着して除去する。このため、有害な気体成分が検出器に作用し、検出器の検出精度が低下することが防止される。また、有害な気体成分が空気導入部を通って逆流し、空調ユニットの内部において悪影響を及ぼすことを防止することができる。
【００２３】
第３の発明に係る基板処理システムは、空調ユニットと、基板に所定の処理を行う処理部を含む基板処理装置と、基板処理装置に設けられ、空気を処理部に導入する空気導入部と、空調ユニットと空気導入部との間に接続された送風管路とを備え、空調ユニットが、第１の化学吸着フィルタと、第１の化学吸着フィルタを通過した空気の所定の性状を調整する調整手段と、第１の化学吸着フィルタから調整手段を介して送風管路へ向かう空気の流れを形成する送風手段とを含み、空気導入部内に空気の所定の性状を検出する検出器が設けられるとともに、空気導入部内でかつ検出器の下流側に第２の化学吸着フィルタが設けられ、空気導入部内でかつ第２の化学吸着フィルタの下流側に第１の塵埃除去フィルタが設けられたものである。
【００２４】
第３の発明に係る基板処理システムにおいては、第１の化学吸着フィルタにより空気中の溶剤やアルカリ成分など基板処理に有害な成分を除去し、さらに第１の塵埃除去フィルタにより空気中の塵埃を除去し、空気を清浄化して基板処理装置へ導いている。さらに、基板処理装置に導かれる空気は空調ユニットにより空気の所定の性状が調整されている。このため、基板処理装置では所定の性状に調整されかつ清浄化された空気が供給されることによって最適な処理雰囲気下で基板の処理が行われる。また、空気導入部内に検出器を設けるとともに、空気導入部内でかつ検出器の下流側に第２の化学吸着フィルタを配置している。第２の化学吸着フィルタは、基板処理装置側から逆流する有害な気体成分を吸着して除去する。このため、有害な気体成分が検出器に作用し、検出器の検出精度が低下することが防止される。また、有害な気体成分が送風管路を通って逆流し、空調ユニットの内部において悪影響を及ぼすことを防止することができる。
【００２５】
第４の発明に係る基板処理システムは、空調ユニットと、基板に所定の処理を行う処理部を含む基板処理装置と、基板処理装置に設けられ、空気を処理部に導入する空気導入部と、空調ユニットと空気導入部との間に接続される送風管路とを備え、空調ユニットが、第１の化学吸着フィルタと、第１の化学吸着フィルタを通過した空気の所定の性状を調整する調整手段と、第１の化学吸着フィルタから調整手段を介して送風管路へ向かう空気の流れを形成する送風手段とを含み、空気導入部内に第１の塵埃除去フィルタが設けられ、送風管路の途中が主管路と主管路をバイパスするバイパス管路とに分岐され、バイパス管路内に空気の所定の性状を検出する検出器が設けられ、バイパス管路内で検出器の上流側に第２の塵埃除去フィルタが設けられ、バイパス管路内で検出器の下流側に第２の化学吸着フィルタが設けられたものである。
【００２６】
第４の発明に係る基板処理システムにおいては、第１の化学吸着フィルタにより空気中の溶剤やアルカリ成分など基板処理に有害な成分を除去し、さらに第１の塵埃除去フィルタにより空気中の塵埃を除去し、空気を清浄化して基板処理装置へ導いている。さらに、基板処理装置に導かれる空気は、空調ユニットにより所定の性状が調整されている。このため、基板処理装置では所定の性状に調整されかつ清浄化された空気が供給されることによって最適な処理雰囲気下で基板の処理が行われる。
【００２７】
この場合、空気導入部に接続されるバイパス管路内の検出器の上流側に設けられた第２の塵埃除去フィルタは、空調ユニット側から送出される空気中の塵埃を除去する。これにより、第２の塵埃除去フィルタの下流に配置された検出器に空気中の塵埃が近接し、あるいは付着して検出精度を低下させることを防止することができる。また、空気導入部に接続されるバイパス管路内の検出器の下流側に設けられた第２の化学吸着フィルタは、基板処理装置側から逆流する有害な気体成分を吸着除去する。これにより、有害な気体成分が検出器に作用し、検出精度を低下させることを防止することができる。この第２の塵埃除去フィルタおよび第２の化学吸着フィルタにより、検出器の検出精度が維持される。
【００２８】
第５の発明に係る基板処理システムは、第１〜第４のいずれかの発明に係る基板処理システムの構成において、調整手段が、検出器の出力に基づいて空気の所定の性状を調整するものである。
【００２９】
この場合、検出器の出力に基づいて調整手段による空気の所定の性状の調整動作を制御することにより正確かつ迅速に空気の性状を所定の値に調整することが可能となり、基板処理装置における基板の処理状態を安定化することができる。
【００３０】
第６の発明に係る基板処理システムは、第１〜第５のいずれかの発明に係る基板処理システムの構成において、第１の化学吸着フィルタが送風手段の上流側に設けられたものである。
【００３１】
この場合、作業者が取扱容易な位置に第１の化学吸着フィルタを配置することが可能となり、第１の化学吸着フィルタの保守作業が容易となる。
第７の発明に係る基板処理システムは、第１〜第６のいずれかの発明に係る基板処理システムの構成において、基板処理装置は、基板にレジスト液を塗布する回転式塗布装置である。
【００３２】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の第１の実施例による基板処理システムの断面模式図である。図１において、基板処理システムは、回転式塗布装置１、空調ユニット１７および送風管路１３を備える。
【００３３】
空調ユニット１７は、温湿調整部１４、ファン１５および化学吸着フィルタ１６を備える。化学吸着フィルタ１６は外部から取り込まれる空気中に含まれるアルカリ成分や溶剤を除去するために設けられている。ファン１５は空気を温湿調整部１４、送風管路１３を通して回転式塗布装置１に送出するために設けられている。
【００３４】
温湿調整部１４はファン１５により取り込まれた空気の温度を調整するための空気冷却器または空気加熱器と、空気の湿度を調整する加湿器を備える。空気冷却器、空気加熱器および加湿器は後述する温湿度検出器１２からの出力信号に基づいてフィードバック制御される。
【００３５】
温湿調整部１４の出口側には送風管路１３の一端部が接続されている。また、送風管路１３の他端部は回転式塗布装置１の上部に配置された空気導入部８に接続されている。送風管路１３と空気導入部８との連結部には、空気の流量を調整するダンパ１１が設けられている。さらに、ダンパ１１の下流側には塵埃を除去するためのＨＥＰＡ（ＨｉｇｈＥｆｆｉｃｉｅｎｃｙＰａｒｔｉｃｕｌａｔｅＡｉｒ）フィルタ１２が設けられている。ＨＥＰＡフィルタ１２は空気中の塵埃を捕獲して除去する。
【００３６】
さらに、空気導入部８内におけるＨＥＰＡフィルタ１２の下流側には温湿度検出器１０が取り付けられている。温湿度検出器１０は空気導入部８内に導入される空気の温度を検出する温度検出部と、空気の湿度を検出する湿度検出部とを有する。そして、温度検出信号および湿度検出信号をそれぞれ温湿調整部１４に出力する。
【００３７】
また、空気導入部８と回転式塗布装置１の上面との境界部分にはＵＬＰＡフィルタ９が配設されている。ＵＬＰＡフィルタ９はＨＥＰＡフィルタ１２と同様に、空気中の塵埃を除去する。ＵＬＰＡフィルタ９はＨＥＰＡフィルタ１２に比べ、より粒子の小さい塵埃をより高い捕集率で除去することができる。このＵＬＰＡフィルタ９を通過することにより、回転式塗布装置１に導入される空気中から塵埃を十分に除去することができる。
【００３８】
回転式塗布装置１では、筐体７の内部に回転ユニット２が配置されている。回転ユニット２は、基板Ｗを保持する基板保持部４と、基板保持部４を回転駆動する回転モータ３と、基板Ｗからの処理液の飛散を防止するためのカップ５とを備える。カップ５の下面には排気管路６が形成されている。さらに、回転式塗布装置１には、基板Ｗにレジスト液やリンス液を供給するための種々の部品（図示せず）が配設されている。
【００３９】
上記の構成を有する基板処理システムにおいて、空気は空調ユニット１７、送風管路１３、空気導入部８を通り、回転式塗布装置１に供給される。また、この基板処理システムでは、空気の流動経路の上流側から化学吸着フィルタ１６、ＨＥＰＡフィルタ１２およびＵＬＰＡフィルタ９が配置されている。そして、化学吸着フィルタ１６により空気中の溶剤やアルカリ成分が除去され、さらにＨＥＰＡフィルタ１２およびＵＬＰＡフィルタ９により空気中の塵埃が除去される。また、温湿調整部部１４により空気の温度および湿度が所定の値に調整される。これにより、回転式塗布装置１の回転ユニット２には温度および湿度が所定値に調整された清浄な空気流が供給される。
【００４０】
また、温湿度検出器１０はＨＥＰＡフィルタ１２とＵＬＰＡフィルタ９との間に配置されている。このため、化学吸着フィルタ１６を通過した塵埃はＨＥＰＡフィルタ１２により除去される。このため、温湿度検出器１０に空気中の塵埃が付着して検出精度が低下することが防止される。
【００４１】
本実施例および以下の実施例において、空調ユニット１７が本発明の空調ユニットに相当し、回転式塗布装置１が基板処理装置に相当し、送風管路１３および空気導入部８が通気路に相当し、ＵＬＰＡフィルタ９が第１の塵埃除去フィルタに相当し、化学吸着フィルタ１６が第１の化学吸着フィルタに相当し、温湿度検出器１０が検出器に相当する。さらに、本実施例において、ＨＥＰＡフィルタ１２が本発明の第２の塵埃除去フィルタに相当する。
【００４２】
図２は本発明の第２の実施例による基板処理システムの断面模式図である。第２の実施例による基板処理システムでは回転式塗布装置１で用いられる化学増幅型レジストに含まれる気体状の特定成分が空気導入部８あるいは送風管路１３を逆流して温湿調整部１４に侵入することを防止するために化学吸着フィルタ２０が設けられている。
【００４３】
化学吸着フィルタ２０はＵＬＰＡフィルタ９上に重ねて取り付けられている。回転式塗布装置１では、基板Ｗに塗布される化学増幅型レジストに含まれる特定成分が筐体７内を上昇する。筐体７の上面にはＵＬＰＡフィルタ９が配置されている。しかしながら、ＵＬＰＡフィルタ９は塵埃などの粒子を捕獲除去するフィルタであり、化学増幅型レジスト中の特定成分はＵＬＰＡフィルタ９を通過する。そこで、ＵＬＰＡフィルタ９の上面に化学吸着フィルタ２０を積層することにより、ＵＬＰＡフィルタ９を通過した化学増幅型レジスト中の特定成分を吸着除去することができる。
【００４４】
これにより、化学増幅型レジスト中の特定成分が空気導入部８内の温湿度検出器１０に近接して温度や湿度の検出精度を低下させることが防止される。さらに、送風成分が送風管路１３を逆流し、温湿調整部１４内の銅配管を腐食するなどの不都合が防止される。
【００４５】
本実施例において、化学吸着フィルタ２０が本発明の第２の化学吸着フィルタに相当する。
【００４６】
図３は、本発明の第３の実施例による基板処理システムの断面模式図である。第３の実施例による基板処理装置は、第１の実施例による基板処理システムと第２の実施例による基板処理システムにおけるフィルタを組み合わせて配置したものである。
【００４７】
すなわち、空気の流動経路の上流側から順に化学吸着フィルタ１６、ＨＥＰＡフィルタ、化学吸着フィルタ２１およびＵＬＰＡフィルタ９を配置したものである。これにより、温湿度検出器１０の上流側にはＨＥＰＡフィルタ１２が配置され、下流側には化学吸着フィルタ２０が配置される。このため、外部から化学吸着フィルタ１７を通過して流動する空気中に含まれる塵埃はＨＥＰＡフィルタ１２により除去され、温湿度検出器１０には到達しない。また、回転式塗布装置１側から逆流する化学増幅型レジストの特定成分は化学吸着フィルタ２０により除去され、温湿度検出器１０に到達しない。これにより、空気中の塵埃により、または化学増幅型レジスト中の特定成分により温湿度検出器１０の測定精度が低下することが防止される。さらに、温湿調整部１４への化学増幅型レジストの特定成分の逆流による悪影響が防止される。
【００４８】
本実施例において、ＨＥＰＡフィルタ１２が本発明の第２の塵埃除去フィルタに相当し、化学吸着フィルタ２０が本発明の第２の化学吸着フィルタに相当する。
【００４９】
図４は本発明の第４の実施例による基板処理システムの断面模式図である。図４において、第４の実施例による基板処理システムでは、送風管路１３の途中が主管路１３ａとバイパス管路１３ｂとに分岐されており、バイパス管路１３ｂ中に温湿度検出器１０が取り付けられている。さらに、温湿度検出器１０の上流側には塵埃を除去するためのＨＥＰＡフィルタ２２が配置され、下流側には化学吸着フィルタ２３が配置されている。ＨＥＰＡフィルタ２２は化学吸着フィルタ１６を通過する空気中に含まれる塵埃を除去する。これにより、温湿度検出器１０が塵埃の付着などにより測定精度が低下することが防止される。
【００５０】
さらに、化学吸着フィルタ２３は回転式塗布装置１側から逆流する化学増幅型レジストの特定成分を除去する。これにより、化学増幅型レジストの特定成分により温湿度検出器１０の測定精度が低下することが防止される。
【００５１】
本実施例において、ＨＥＰＡフィルタ２２が本発明の第２の塵埃除去フィルタに相当し、化学吸着フィルタ２３が第２の化学吸着フィルタに相当する。
【００５２】
なお、上記実施例において、基板処理装置として回転式塗布装置１を用いた例について説明したが、これに限定されることなく、例えば現像装置など他の基板処理装置に本発明を適用することができる。
【００５３】
さらに、本発明において温湿度検出器１０の上流側に設けられる塵埃除去フィルタとしては、上記実施例のようにＨＥＰＡフィルタ１２，２２のみならず、例えばＵＬＰＡフィルタ他の塵埃除去フィルタを用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例による基板処理システムの断面模式図である。
【図２】本発明の第２の実施例による基板処理システムの断面模式図である。
【図３】本発明の第３の実施例による基板処理システムの断面模式図である。
【図４】本発明の第４の実施例による基板処理システムの断面模式図である。
【図５】従来の基板処理システムの断面模式図である。
【図６】従来の基板処理システムにおける処理状態を説明るための断面模式図である。
【符号の説明】
１回転式塗布装置
２回転ユニット
８空気導入部
９ＵＬＰＡフィルタ
１０温湿度検出器
１２，２２ＨＥＰＡフィルタ
１３送風管路
１３ａ主管路
１３ｂバイパス管路
１４温湿調整部
１５ファン
１６，２０，２３化学吸着フィルタ
１７空調ユニット

Claims

基板処理システムであって、
空調ユニットと、
基板に所定の処理を行う処理部を含む基板処理装置と、
前記基板処理装置に設けられ、空気を前記処理部に導入する空気導入部と、
前記空調ユニットと前記空気導入部との間に接続された送風管路とを備え、
前記空調ユニットは、第１の化学吸着フィルタと、前記第１の化学吸着フィルタを通過した空気の所定の性状を調整する調整手段と、前記第１の化学吸着フィルタから前記調整手段を介して前記送風管路へ向かう空気の流れを形成する送風手段とを含み、
前記空気導入部内に空気の所定の性状を検出する検出器が設けられるとともに、前記空気導入部内で前記検出器の下流側に第１の塵埃除去フィルタが設けられ、前記空気導入部内でかつ前記検出器の上流側に第２の塵埃除去フィルタが配置されたことを特徴とする基板処理システム。
前記検出器の下流側に第２の化学吸着フィルタが設けられたことを特徴とする請求項１記載の基板処理システム。
基板処理システムであって、
空調ユニットと、
基板に所定の処理を行う処理部を含む基板処理装置と、
前記基板処理装置に設けられ、空気を前記処理部に導入する空気導入部と、
前記空調ユニットと前記空気導入部との間に接続された送風管路とを備え、
前記空調ユニットは、第１の化学吸着フィルタと、前記第１の化学吸着フィルタを通過した空気の所定の性状を調整する調整手段と、前記第１の化学吸着フィルタから前記調整手段を介して前記送風管路へ向かう空気の流れを形成する送風手段とを含み、
前記空気導入部内に前記空気の所定の性状を検出する検出器が設けられるとともに、前記空気導入部内でかつ前記検出器の下流側に第２の化学吸着フィルタが設けられ、前記空気導入部内でかつ前記第２の化学吸着フィルタの下流側に第１の塵埃除去フィルタが設けられたことを特徴とする基板処理システム。
基板処理システムであって、
空調ユニットと、
基板に所定の処理を行う処理部を含む基板処理装置と、
前記基板処理装置に設けられ、空気を前記処理部に導入する空気導入部と、
前記空調ユニットと前記空気導入部との間に接続される送風管路とを備え、
前記空調ユニットは、第１の化学吸着フィルタと、前記第１の化学吸着フィルタを通過した空気の所定の性状を調整する調整手段と、前記第１の化学吸着フィルタから前記調整手段を介して前記送風管路へ向かう空気の流れを形成する送風手段とを含み、
前記空気導入部内に第１の塵埃除去フィルタが設けられ、
前記送風管路の途中が主管路と前記主管路をバイパスするバイパス管路とに分岐され、
前記バイパス管路内に前記空気の所定の性状を検出する検出器が設けられ、前記バイパス管路内で前記検出器の上流側に第２の塵埃除去フィルタが設けられ、前記バイパス管路内で前記検出器の下流側に第２の化学吸着フィルタが設けられたことを特徴とする基板処理システム。
前記調整手段は、前記検出器の出力に基づいて空気の所定の性状を調整することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の基板処理システム。
前記第１の化学吸着フィルタは前記送風手段の上流側に設けられたことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の基板処理システム。
前記基板処理システムは、基板にレジスト液を塗布する回転式塗布装置であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の基板処理システム。