JPH08136437A - エアーフィルタのリーク検査方法およびそのエアーフィルタの製造方法 - Google Patents
エアーフィルタのリーク検査方法およびそのエアーフィルタの製造方法Info
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- JPH08136437A JPH08136437A JP27135994A JP27135994A JPH08136437A JP H08136437 A JPH08136437 A JP H08136437A JP 27135994 A JP27135994 A JP 27135994A JP 27135994 A JP27135994 A JP 27135994A JP H08136437 A JPH08136437 A JP H08136437A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 リーク検査用粒子としてシリカ粒子を用いる
ことにより、２次汚染を生じることがなく、またリーク
検査の信頼性を高めることができる高性能エアーフィル
タのリーク検査方法を提供すること。 【構成】 コロイド状シリカの懸濁液をスプレーした後
に乾燥させ、生成したシリカ粒子を超高性能エアーフィ
ルタ２０の上流側の気流中に投入すること、および超高
性能エアーフィルタ２０の下流側にリークしてくる該シ
リカ粒子を、粒子検出器Ｂを用いて検出すること、を包
含する高性能エアーフィルタのリーク検査方法。
ことにより、２次汚染を生じることがなく、またリーク
検査の信頼性を高めることができる高性能エアーフィル
タのリーク検査方法を提供すること。 【構成】 コロイド状シリカの懸濁液をスプレーした後
に乾燥させ、生成したシリカ粒子を超高性能エアーフィ
ルタ２０の上流側の気流中に投入すること、および超高
性能エアーフィルタ２０の下流側にリークしてくる該シ
リカ粒子を、粒子検出器Ｂを用いて検出すること、を包
含する高性能エアーフィルタのリーク検査方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、リーク検査用エアロゾ
ル粒子としてシリカ粒子を用いたエアーフィルタのリー
ク検査方法およびそのエアーフィルタの製造方法に関
し、さらに詳しくはＨＥＰＡフィルタ、ＵＬＰＡフィル
タ等の超高性能エアーフィルタのリークの有無を検査す
るための方法およびその超高性能エアーフィルタの製造
方法に関する。
ル粒子としてシリカ粒子を用いたエアーフィルタのリー
ク検査方法およびそのエアーフィルタの製造方法に関
し、さらに詳しくはＨＥＰＡフィルタ、ＵＬＰＡフィル
タ等の超高性能エアーフィルタのリークの有無を検査す
るための方法およびその超高性能エアーフィルタの製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】粒子径０．３μｍの微粒子を９９．９７
％以上の効率で捕集するＨＥＰＡフィルタ、ＵＬＰＡフ
ィルタ等の超高性能エアーフィルタは、ろ材のピンホー
ルや枠との接着部からのリークが無いことを確認するた
め、１台づつリーク検査が行われる。リーク検査は、エ
アーフィルタに送風しながら、フィルタ上流側の気流中
にエアロゾル粒子を投入し、フィルタ下流面にてパーテ
ィクルカウンタやフォトメータ等の粒子検出器の吸引プ
ローブを走査して、リーク箇所より漏洩する粒子を検出
するものである。
％以上の効率で捕集するＨＥＰＡフィルタ、ＵＬＰＡフ
ィルタ等の超高性能エアーフィルタは、ろ材のピンホー
ルや枠との接着部からのリークが無いことを確認するた
め、１台づつリーク検査が行われる。リーク検査は、エ
アーフィルタに送風しながら、フィルタ上流側の気流中
にエアロゾル粒子を投入し、フィルタ下流面にてパーテ
ィクルカウンタやフォトメータ等の粒子検出器の吸引プ
ローブを走査して、リーク箇所より漏洩する粒子を検出
するものである。
【０００３】リーク検査用エアロゾル粒子としては、Ｊ
ＩＳ Ｚ ８９１２の１３種または１４種ダストとして
規定されるフタル酸ジオクチル（Ｄ．Ｏ．Ｐ）粒子が、
一般に使われている。ＤＯＰ粒子の発生方法は、ラスキ
ンノズルと呼ばれるノズルをＤＯＰ液中に浸漬し、ノズ
ルの穴より噴出する圧縮空気流により粒子径１ミクロン
以下のＤＯＰ粒子を発生させる。その構造はＪＩＳ Ｂ
９９２７に示されている。
ＩＳ Ｚ ８９１２の１３種または１４種ダストとして
規定されるフタル酸ジオクチル（Ｄ．Ｏ．Ｐ）粒子が、
一般に使われている。ＤＯＰ粒子の発生方法は、ラスキ
ンノズルと呼ばれるノズルをＤＯＰ液中に浸漬し、ノズ
ルの穴より噴出する圧縮空気流により粒子径１ミクロン
以下のＤＯＰ粒子を発生させる。その構造はＪＩＳ Ｂ
９９２７に示されている。
【０００４】電子デバイス製造用クリーンルームに用い
られる超高性能エアーフィルタのリーク検査にも、ＤＯ
Ｐ粒子が使われている。リーク検査中にフィルタろ材に
付着したＤＯＰは、フィルタの通過空気中に徐々に揮発
しクリーンルーム内に飛散する。ＤＯＰがシリコンウエ
ハ表面に付着すると、絶縁膜の耐電圧低下などシリコン
ウエハより製造される電子デバイスの特性を劣化させる
問題が生じる。
られる超高性能エアーフィルタのリーク検査にも、ＤＯ
Ｐ粒子が使われている。リーク検査中にフィルタろ材に
付着したＤＯＰは、フィルタの通過空気中に徐々に揮発
しクリーンルーム内に飛散する。ＤＯＰがシリコンウエ
ハ表面に付着すると、絶縁膜の耐電圧低下などシリコン
ウエハより製造される電子デバイスの特性を劣化させる
問題が生じる。
【０００５】ＤＯＰ等のフィルタに付着した液体ミスト
の揮発によるクリーンルームの汚染を避けるため、固体
状粒子を用いる方法が幾つか提案されている。
の揮発によるクリーンルームの汚染を避けるため、固体
状粒子を用いる方法が幾つか提案されている。
【０００６】ひとつは、ヨーロッパ規格（ＥＵＲＯＶＥ
ＮＴ ４／４，”Ｓｏｄｉｕｍ ｃｈｒｏｌｉｄｅ ａ
ｅｒｏｓｏｌ ｔｅｓｔ ｆｏｒ ｆｉｌｔｅｒｓ ｕ
ｓｉｎｇ ｆｌａｍｅ ｐｈｏｔｏｍｅｔｒｉｃ ｔｅ
ｃｈｎｉｑｕｅ”）にあるように、塩化ナトリウム等の
水溶液をスプレーし、生成した液滴を乾燥させることに
より、塩化ナトリウム等の粒子を発生させる方法であ
る。しかし、この方法では塩化ナトリウム等の溶解物に
よりフィルタろ材が汚染し、クリーンルーム中にこれら
が飛散する危険性がある。
ＮＴ ４／４，”Ｓｏｄｉｕｍ ｃｈｒｏｌｉｄｅ ａ
ｅｒｏｓｏｌ ｔｅｓｔ ｆｏｒ ｆｉｌｔｅｒｓ ｕ
ｓｉｎｇ ｆｌａｍｅ ｐｈｏｔｏｍｅｔｒｉｃ ｔｅ
ｃｈｎｉｑｕｅ”）にあるように、塩化ナトリウム等の
水溶液をスプレーし、生成した液滴を乾燥させることに
より、塩化ナトリウム等の粒子を発生させる方法であ
る。しかし、この方法では塩化ナトリウム等の溶解物に
よりフィルタろ材が汚染し、クリーンルーム中にこれら
が飛散する危険性がある。
【０００７】また、フィルタ検定用のポリスチレンラテ
ックス粒子の懸濁液をスプレーし、生成した液滴を乾燥
させることにより、ポリスチレンラテックスの微粒子を
発生させる方法がある。ポリスチレンラテックス粒子は
電子デバイス製造プロセスの汚染源となる可能性は低い
が、分散媒中で凝集しやすく懸濁液中の固形分濃度を高
くすることが難しいため、リーク検査に必要な高濃度の
エアロゾル粒子を発生させるためには、特開平５−３１
７６７１号公報に開示のような複雑で特殊な装置が必要
となる。
ックス粒子の懸濁液をスプレーし、生成した液滴を乾燥
させることにより、ポリスチレンラテックスの微粒子を
発生させる方法がある。ポリスチレンラテックス粒子は
電子デバイス製造プロセスの汚染源となる可能性は低い
が、分散媒中で凝集しやすく懸濁液中の固形分濃度を高
くすることが難しいため、リーク検査に必要な高濃度の
エアロゾル粒子を発生させるためには、特開平５−３１
７６７１号公報に開示のような複雑で特殊な装置が必要
となる。
【０００８】また、大気中の浮遊粉塵をフィルタ検査用
粒子として用いる場合もあるが、気象条件等により濃度
が変動するため、リーク検査の信頼性が低い。例えば、
粉塵濃度が低すぎる場合、リークのある下流側に洩れて
くる粒子数が少なくなるので、リークを見落す可能性が
ある。また、大気塵中に含まれる重金属等によりフィル
タろ材が汚染され、クリーンルーム中にこれらが飛散す
る危険性もある。
粒子として用いる場合もあるが、気象条件等により濃度
が変動するため、リーク検査の信頼性が低い。例えば、
粉塵濃度が低すぎる場合、リークのある下流側に洩れて
くる粒子数が少なくなるので、リークを見落す可能性が
ある。また、大気塵中に含まれる重金属等によりフィル
タろ材が汚染され、クリーンルーム中にこれらが飛散す
る危険性もある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】よって、上記方法では
次のような課題がある。
次のような課題がある。
【００１０】（１）ＤＯＰ粒子にてリーク検査を行う
と、エアーフィルタに付着したＤＯＰがそのエアーフィ
ルタより再飛散し、清浄域の２次汚染の原因となる。
と、エアーフィルタに付着したＤＯＰがそのエアーフィ
ルタより再飛散し、清浄域の２次汚染の原因となる。
【００１１】（２）塩化ナトリウム水溶液等でリーク検
査を行うと、塩化ナトリウムによりフィルタろ材が汚染
し、清浄域の２次汚染の原因となる。
査を行うと、塩化ナトリウムによりフィルタろ材が汚染
し、清浄域の２次汚染の原因となる。
【００１２】（３）ポリスチレンラテックス粒子にてリ
ーク検査を行うと、検査に必要な高濃度の粒子を発生さ
せるためには、複雑で特殊な装置が必要となる。
ーク検査を行うと、検査に必要な高濃度の粒子を発生さ
せるためには、複雑で特殊な装置が必要となる。
【００１３】（４）大気塵にてリーク検査を行うと、大
気塵によりエアーフィルタが汚染し、清浄域の２次汚染
の原因となる。また、大気塵濃度は気象条件等により変
動するため、リーク検査の信頼性が低くなる。
気塵によりエアーフィルタが汚染し、清浄域の２次汚染
の原因となる。また、大気塵濃度は気象条件等により変
動するため、リーク検査の信頼性が低くなる。
【００１４】本発明は上記課題を解消するためになされ
たものであり、その目的とするところは、シリカ粒子を
用いることにより、２次汚染を生じることがなく、かり
にシリカ粒子がフィルタ下流側に飛散したとしても、清
浄域を汚染することがない超高性能エアーフィルタのリ
ーク検査方法を提供することにある。
たものであり、その目的とするところは、シリカ粒子を
用いることにより、２次汚染を生じることがなく、かり
にシリカ粒子がフィルタ下流側に飛散したとしても、清
浄域を汚染することがない超高性能エアーフィルタのリ
ーク検査方法を提供することにある。
【００１５】本発明の他の目的は、従来から使用されて
いる比較的安価な装置を用いて行うことができる高性能
エアーフィルタのリーク検査方法を提供することにあ
る。
いる比較的安価な装置を用いて行うことができる高性能
エアーフィルタのリーク検査方法を提供することにあ
る。
【００１６】本発明のさらに他の目的は、リーク検査の
信頼性を高めることができる高性能エアーフィルタのリ
ーク検査方法を提供することにある。
信頼性を高めることができる高性能エアーフィルタのリ
ーク検査方法を提供することにある。
【００１７】本発明のさらに他の目的は、上記のリーク
検査方法を使用して、信頼性を高めた高性能エアーフィ
ルタを効率よく安価に製造することができる方法を提供
することにある。
検査方法を使用して、信頼性を高めた高性能エアーフィ
ルタを効率よく安価に製造することができる方法を提供
することにある。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明のエアーフィルタ
のリーク検査方法は、コロイド状シリカの懸濁液をスプ
レーした後に乾燥させ、生成したシリカ粒子をエアーフ
ィルタの上流側の気流中に投入すること、およびエアー
フィルタの下流側にリークしてくる該シリカ粒子を、粒
子検出器を用いて検出すること、を包含し、そのことに
より上記目的が達成される。
のリーク検査方法は、コロイド状シリカの懸濁液をスプ
レーした後に乾燥させ、生成したシリカ粒子をエアーフ
ィルタの上流側の気流中に投入すること、およびエアー
フィルタの下流側にリークしてくる該シリカ粒子を、粒
子検出器を用いて検出すること、を包含し、そのことに
より上記目的が達成される。
【００１９】上記エアーフィルタは、一般的には、ＨＥ
ＰＡフィルタまたはＵＬＰＡフィルタ等の高性能フィル
タである。
ＰＡフィルタまたはＵＬＰＡフィルタ等の高性能フィル
タである。
【００２０】上記懸濁液中のシリカ粒子の固形分濃度は
０．４〜１５重量％が好ましい。
０．４〜１５重量％が好ましい。
【００２１】上記生成したシリカ粒子の粒子径が０．１
μｍ以上であり、かつ発生量が１分間当り１０10個以上
であるのが好ましい。
μｍ以上であり、かつ発生量が１分間当り１０10個以上
であるのが好ましい。
【００２２】本発明のエアーフィルタの製造方法は、シ
リカのエアロゾル粒子をエアーフィルタの上流側の気流
中に投入すること、および該エアーフィルタの下流側に
リークしてくる該粒子を、粒子検出器を用いて検出する
こと、を包含し、そのことにより上記目的が達成され
る。
リカのエアロゾル粒子をエアーフィルタの上流側の気流
中に投入すること、および該エアーフィルタの下流側に
リークしてくる該粒子を、粒子検出器を用いて検出する
こと、を包含し、そのことにより上記目的が達成され
る。
【００２３】本発明を、さらに詳細に説明すると次の通
りである。
りである。
【００２４】フィルタのリーク検査中にフィルタに付着
したエアロゾル粒子の飛散による２次汚染を避けるた
め、リーク検査用のエアロゾル粒子は揮発性のない固体
状で、万一フィルタから飛散してもシリコンウエハ等を
汚染しないように金属や有機成分を含まないシリカ（Ｓ
ｉ０2）粒子を使用する。
したエアロゾル粒子の飛散による２次汚染を避けるた
め、リーク検査用のエアロゾル粒子は揮発性のない固体
状で、万一フィルタから飛散してもシリコンウエハ等を
汚染しないように金属や有機成分を含まないシリカ（Ｓ
ｉ０2）粒子を使用する。
【００２５】本発明に使用されるコロイド状シリカの懸
濁液は、高分子量無水珪酸のコロイド溶液であり、コロ
イド粒子の粒径は、通常０．１μｍ以下である。該コロ
イド粒子は非常に微細な球形であり、粒子表面の電位に
より液相中で単分散で安定して存在している。懸濁液に
おけるシリカ粒子の固形分濃度は、１５重量％を超える
とシリカ濃度が高すぎてコリソンアトマイザのノズルが
詰まりやすく作業性が劣り、０．４重量％未満では図１
に示されるように１分間当り１０10個以上の発生量に満
たないため、０．４〜１５重量％が好ましく、さらに好
ましくは０．５〜１２重量％である。この懸濁液をスプ
レーするには、従来公知の装置が使用され、例えば、コ
ソリンアトマイザを使用することができる。
濁液は、高分子量無水珪酸のコロイド溶液であり、コロ
イド粒子の粒径は、通常０．１μｍ以下である。該コロ
イド粒子は非常に微細な球形であり、粒子表面の電位に
より液相中で単分散で安定して存在している。懸濁液に
おけるシリカ粒子の固形分濃度は、１５重量％を超える
とシリカ濃度が高すぎてコリソンアトマイザのノズルが
詰まりやすく作業性が劣り、０．４重量％未満では図１
に示されるように１分間当り１０10個以上の発生量に満
たないため、０．４〜１５重量％が好ましく、さらに好
ましくは０．５〜１２重量％である。この懸濁液をスプ
レーするには、従来公知の装置が使用され、例えば、コ
ソリンアトマイザを使用することができる。
【００２６】スプレーされたシリカ粒子は液滴の状態で
あるため、検査する超高性能フィルタ上流側の気流中に
投入する前に液滴中の水分を乾燥させる。液滴を乾燥さ
せるには、従来公知の乾燥機が使用される。
あるため、検査する超高性能フィルタ上流側の気流中に
投入する前に液滴中の水分を乾燥させる。液滴を乾燥さ
せるには、従来公知の乾燥機が使用される。
【００２７】フィルタ下流側にリークしてくるシリカ粒
子は、ＪＩＳ Ｂ９９２７に規定される手順に従い、パ
ーティクルカウンタ等の粒子検出器を用いて検出し、リ
ークの有無を判定する。リークの検出感度を上げ信頼性
を高めるためには、フィルタ上流側の粒子濃度が高いほ
ど良い。電子デバイス製造クリーンルーム用超高性能エ
アーフィルタのリーク検査の場合、粒子径が０．１μｍ
より大きいエアロゾル粒子を１分間当り１０10個以上発
生できることが好ましい。このためには、図１に示され
るように、スプレーされる懸濁液中のシリカの粒径が
０．０５５μｍの場合は液中のシリカの固形分濃度が
０．４重量％以上、０．１８μｍの場合は１重量％以上
が、それぞれ好ましい。
子は、ＪＩＳ Ｂ９９２７に規定される手順に従い、パ
ーティクルカウンタ等の粒子検出器を用いて検出し、リ
ークの有無を判定する。リークの検出感度を上げ信頼性
を高めるためには、フィルタ上流側の粒子濃度が高いほ
ど良い。電子デバイス製造クリーンルーム用超高性能エ
アーフィルタのリーク検査の場合、粒子径が０．１μｍ
より大きいエアロゾル粒子を１分間当り１０10個以上発
生できることが好ましい。このためには、図１に示され
るように、スプレーされる懸濁液中のシリカの粒径が
０．０５５μｍの場合は液中のシリカの固形分濃度が
０．４重量％以上、０．１８μｍの場合は１重量％以上
が、それぞれ好ましい。
【００２８】本発明は、種々のフィルタのリーク検査に
使用することができる。例えば、バイオロジカルクリー
ンルーム用エアーフィルタや、マスク用フィルタ、ガス
ライン用フィルタ、ディスク装置用フィルタが挙げられ
る。特に、電子デバイス製造プロセスにおけるクリーン
ルームに好適に使用される。
使用することができる。例えば、バイオロジカルクリー
ンルーム用エアーフィルタや、マスク用フィルタ、ガス
ライン用フィルタ、ディスク装置用フィルタが挙げられ
る。特に、電子デバイス製造プロセスにおけるクリーン
ルームに好適に使用される。
【００２９】
【作用】コロイド状シリカの懸濁液をスプレーした後に
乾燥させることにより、粒子径が０．１μｍより大きい
エアロゾル粒子を１分間当り１０10個以上発生させるこ
とができる。
乾燥させることにより、粒子径が０．１μｍより大きい
エアロゾル粒子を１分間当り１０10個以上発生させるこ
とができる。
【００３０】生成したシリカの粒子を超高性能エアーフ
ィルタの上流側の気流中に投入し、そして該エアーフィ
ルタの下流側にリークしてくる該シリカ粒子を、粒子検
出器を用いて検出することにより、該フィルタにおける
リークの有無を判定することができる。
ィルタの上流側の気流中に投入し、そして該エアーフィ
ルタの下流側にリークしてくる該シリカ粒子を、粒子検
出器を用いて検出することにより、該フィルタにおける
リークの有無を判定することができる。
【００３１】このように、エアロゾル粒子としてシリカ
粒子を使用することにより、リーク検査中にフィルタに
付着したエアロゾル粒子から発生する、有機物や金属等
による清浄域の２次汚染を避けることができる。また、
上記のように、リーク検査に必要な粒子を高濃度で容易
に発生できるため、リーク検査の信頼性を高めることが
できる。
粒子を使用することにより、リーク検査中にフィルタに
付着したエアロゾル粒子から発生する、有機物や金属等
による清浄域の２次汚染を避けることができる。また、
上記のように、リーク検査に必要な粒子を高濃度で容易
に発生できるため、リーク検査の信頼性を高めることが
できる。
【００３２】
【実施例】以下、具体的な実施例について説明する。
【００３３】はじめに、本実施例で用いたシリカ粒子の
発生装置と、シリカ粒子による超高性能エアーフィルタ
のリーク検査装置の概略を説明する。
発生装置と、シリカ粒子による超高性能エアーフィルタ
のリーク検査装置の概略を説明する。
【００３４】シリカ粒子の発生装置Ａは、図２に示すよ
うに、コロイダルシリカ懸濁液が投入され、またコリソ
ン型アトマイザ１６が収容されている粒子発生器１０
と、該発生器１０に圧縮空気が送り込まれる送気管１１
と、該送気管１１に接続されているフィルタ１２、レギ
ュレータ１３、流量計１４、圧力計１５と、その空気の
流入により発生器１０で発生したコロイダルシリカ粒子
を含む微細な液滴を送り込む乾燥筒１７と、を有する。
図中１８は該乾燥筒１７へ空気を送るための送気管であ
って、該送気管１８にはバルブ１９、流量計２０がそれ
ぞれ接続されている。
うに、コロイダルシリカ懸濁液が投入され、またコリソ
ン型アトマイザ１６が収容されている粒子発生器１０
と、該発生器１０に圧縮空気が送り込まれる送気管１１
と、該送気管１１に接続されているフィルタ１２、レギ
ュレータ１３、流量計１４、圧力計１５と、その空気の
流入により発生器１０で発生したコロイダルシリカ粒子
を含む微細な液滴を送り込む乾燥筒１７と、を有する。
図中１８は該乾燥筒１７へ空気を送るための送気管であ
って、該送気管１８にはバルブ１９、流量計２０がそれ
ぞれ接続されている。
【００３５】超高性能エアーフィルタのリーク検査装置
Ｂは、図３に示すように、試験用フィルタ２０を配置す
るテストチャンバー２１と、該テストチャンバー２１に
清浄空気を送る送気管２２と、該テストチャンバー２１
に配置された該フィルタ２０の上流側の空気をサンプリ
ングする経路２３と、該フィルタ２０の下流側の空気を
サンプリングする経路２４と、パーティクルカウンタ２
５と、上記送気管２２の途中にシリカエアロゾルを投入
するための上記図２で示したシリカのエアロゾル粒子発
生器Ａと、を具備している。図中２６はフィルタ、２７
は送風機、２８はオリフィス流量計、２９はマノメー
タ、３０はサンプリングプローブである。
Ｂは、図３に示すように、試験用フィルタ２０を配置す
るテストチャンバー２１と、該テストチャンバー２１に
清浄空気を送る送気管２２と、該テストチャンバー２１
に配置された該フィルタ２０の上流側の空気をサンプリ
ングする経路２３と、該フィルタ２０の下流側の空気を
サンプリングする経路２４と、パーティクルカウンタ２
５と、上記送気管２２の途中にシリカエアロゾルを投入
するための上記図２で示したシリカのエアロゾル粒子発
生器Ａと、を具備している。図中２６はフィルタ、２７
は送風機、２８はオリフィス流量計、２９はマノメー
タ、３０はサンプリングプローブである。
【００３６】平均粒子径が０．０５５μｍ、固形分量が
５０％のコロイダルシリカ溶液を用意し、これを比抵抗
が１０18ＭΩｍの純水で６．２５倍に希釈し、固形分が
８％のコロイド状シリカの懸濁液を作成した。この懸濁
液を、図２に示すようなコリソン型アトマイザ１６を取
り付けた粒子発生器１０に充填し、フィルタ１２で濾過
した清浄な３０ｋＰａの圧力の空気を約１０リットル／
ｍｉｎの流量で発生器１０に印加しコロイダルシリカ粒
子を含む微細な液滴を発生させた。
５０％のコロイダルシリカ溶液を用意し、これを比抵抗
が１０18ＭΩｍの純水で６．２５倍に希釈し、固形分が
８％のコロイド状シリカの懸濁液を作成した。この懸濁
液を、図２に示すようなコリソン型アトマイザ１６を取
り付けた粒子発生器１０に充填し、フィルタ１２で濾過
した清浄な３０ｋＰａの圧力の空気を約１０リットル／
ｍｉｎの流量で発生器１０に印加しコロイダルシリカ粒
子を含む微細な液滴を発生させた。
【００３７】この液滴を、フィルタ１２で濾過後シリカ
ゲルで乾燥させた流量７０リットル／ｍｉｎの常温常圧
の空気と混合し、液滴を乾燥させ、シリカのコロイダル
粒子（以下、シリカ粒子ともいう）を発生させた。発生
したシリカ粒子をニュークリポアフィルタにて捕集し、
走査型電子顕微鏡にてシリカ粒子の粒径を測定し、粒径
０．１μｍ以上のシリカ粒子が発生していることを確認
した（図４）。なお、図４は、倍率５．０００倍の走査
型電子顕微鏡写真の複写図であり、図中の白い部分がシ
リカ粒子を示している。
ゲルで乾燥させた流量７０リットル／ｍｉｎの常温常圧
の空気と混合し、液滴を乾燥させ、シリカのコロイダル
粒子（以下、シリカ粒子ともいう）を発生させた。発生
したシリカ粒子をニュークリポアフィルタにて捕集し、
走査型電子顕微鏡にてシリカ粒子の粒径を測定し、粒径
０．１μｍ以上のシリカ粒子が発生していることを確認
した（図４）。なお、図４は、倍率５．０００倍の走査
型電子顕微鏡写真の複写図であり、図中の白い部分がシ
リカ粒子を示している。
【００３８】このシリカ粒子を用いて、図３に示す装置
にてクリーンルーム用エアーフィルタのリーク検査を行
った。フィルタ上流側のシリカ粒子の濃度は、粒子径が
０．１μｍ以上の粒子で３．５×１０9個／ｍ3であっ
た。クリーンルーム用エアーフィルタは寸法が縦６１ｃ
ｍ、幅１２２ｃｍであり、風量２０ｍ3／分にて許容リ
ーク率は０．００１％以下である。
にてクリーンルーム用エアーフィルタのリーク検査を行
った。フィルタ上流側のシリカ粒子の濃度は、粒子径が
０．１μｍ以上の粒子で３．５×１０9個／ｍ3であっ
た。クリーンルーム用エアーフィルタは寸法が縦６１ｃ
ｍ、幅１２２ｃｍであり、風量２０ｍ3／分にて許容リ
ーク率は０．００１％以下である。
【００３９】このフィルタを６台用意し、外径が０．１
〜１．０７ｍｍの針でろ材に穴を開け、各フィルタに１
２ケづつ人工的なリークを作りパーティクルカウンタ
（ＰＭＳ社製、μＬＰＣ１１０ Ｔｕｒｂｏ）にて、各
リーク箇所よりフィルタ下流側にリークしてくる粒子を
検出し、各々のリークのリーク率（フィルタ下流側粒子
濃度／フィルタ上流側粒子濃度）を求めた。
〜１．０７ｍｍの針でろ材に穴を開け、各フィルタに１
２ケづつ人工的なリークを作りパーティクルカウンタ
（ＰＭＳ社製、μＬＰＣ１１０ Ｔｕｒｂｏ）にて、各
リーク箇所よりフィルタ下流側にリークしてくる粒子を
検出し、各々のリークのリーク率（フィルタ下流側粒子
濃度／フィルタ上流側粒子濃度）を求めた。
【００４０】次に、同じフィルタで従来の方法によりリ
ーク率を求めた。測定装置は上と同じように図３の構造
のものを用いた。ＤＯＰ粒子をＪＩＳ Ｂ９９２７にあ
るラスキンノズルタイプの発生器より発生させ、フィル
タ上流側の気流中に投入した。各リーク箇所よりフィル
タ下流側にリークしてくる粒子をフォトメータ（ＪＩＳ
Ｚ４８１２にある光散乱式相対濃度計、ＡＴＩ社製、
ＴＤＡ−２Ｅ）により検出し、各々のリークのリーク率
を求めた。
ーク率を求めた。測定装置は上と同じように図３の構造
のものを用いた。ＤＯＰ粒子をＪＩＳ Ｂ９９２７にあ
るラスキンノズルタイプの発生器より発生させ、フィル
タ上流側の気流中に投入した。各リーク箇所よりフィル
タ下流側にリークしてくる粒子をフォトメータ（ＪＩＳ
Ｚ４８１２にある光散乱式相対濃度計、ＡＴＩ社製、
ＴＤＡ−２Ｅ）により検出し、各々のリークのリーク率
を求めた。
【００４１】上記シリカ粒子を使用して求めたリーク率
を縦軸に、ＤＯＰ粒子を使用して求めたリーク率を横軸
にとり、プロットした結果を図５に示す。これより、本
発明の方法によるリーク測定結果は、従来のＤＯＰによ
るそれと、よく一致していることが確認された。
を縦軸に、ＤＯＰ粒子を使用して求めたリーク率を横軸
にとり、プロットした結果を図５に示す。これより、本
発明の方法によるリーク測定結果は、従来のＤＯＰによ
るそれと、よく一致していることが確認された。
【００４２】
【発明の効果】このように、本発明によれば次の効果が
得られる。
得られる。
【００４３】（１）リークを検出するめフィルタ上流側
に投入されるトレーサ粒子として、シリカ粒子（ＳｉＯ
2）を用いているため、現行のＤＯＰ粒子を用いる場合
のようにフィルタに付着した粒子が揮発することがな
く、従って、フィルタ下流側で２次汚染を生じることが
ない。また、かりにシリカ粒子がフィルタ下流側に飛散
したとしても、ナトリウム等の電子デバイス製造プロセ
スに有害な金属や有機物を含まないため、清浄域を汚染
することがない。
に投入されるトレーサ粒子として、シリカ粒子（ＳｉＯ
2）を用いているため、現行のＤＯＰ粒子を用いる場合
のようにフィルタに付着した粒子が揮発することがな
く、従って、フィルタ下流側で２次汚染を生じることが
ない。また、かりにシリカ粒子がフィルタ下流側に飛散
したとしても、ナトリウム等の電子デバイス製造プロセ
スに有害な金属や有機物を含まないため、清浄域を汚染
することがない。
【００４４】（２）コロイド状シリカは、粒径０．１μ
ｍ以下の粒子でも高濃度で液相中で凝集せず安定に分散
して存在する。このため、公知の方法（コリソナトマイ
ザ）で溶液をスプレすることにより、シリカのエアロゾ
ル粒子（粒径０．１μｍ以上）を高濃度で比較的容易に
発生可能であり（１０10ケ／分以上）、リーク検査の信
頼性を高めることができる。
ｍ以下の粒子でも高濃度で液相中で凝集せず安定に分散
して存在する。このため、公知の方法（コリソナトマイ
ザ）で溶液をスプレすることにより、シリカのエアロゾ
ル粒子（粒径０．１μｍ以上）を高濃度で比較的容易に
発生可能であり（１０10ケ／分以上）、リーク検査の信
頼性を高めることができる。
【００４５】（３）リーク箇所よりリークしてくるシリ
カ粒子をパーティクルカウンタにて検出することにより
求めたリーク率は、ＤＯＰを用いた従来の測定法による
値とよく一致しており、現行の代替法として適用でき
る。
カ粒子をパーティクルカウンタにて検出することにより
求めたリーク率は、ＤＯＰを用いた従来の測定法による
値とよく一致しており、現行の代替法として適用でき
る。
【００４６】（４）上記リーク検査方法を使用して、信
頼性を高めた高性能エアーフィルタを効率よく安価に製
造することができる。
頼性を高めた高性能エアーフィルタを効率よく安価に製
造することができる。
【図１】シリカ懸濁液中の固形分濃度とシリカエアロゾ
ル発生量との関係を示す図である。
ル発生量との関係を示す図である。
【図２】シリカ粒子の発生方法を示す模式図である。
【図３】シリカ粒子による超高性能エアーフィルタのリ
ーク検査方法を示す模式図である。
ーク検査方法を示す模式図である。
【図４】走査型電子顕微鏡により撮影したシリカ粒子の
構造を示す写真の複写図である。
構造を示す写真の複写図である。
【図５】従来法および本発明の方法による超高性能エア
ーフィルタのリーク率測定結果の相関を示す図である。
ーフィルタのリーク率測定結果の相関を示す図である。
Ａ シリカ粒子の発生装置 １６ コリソン型アトマイザ １０ 粒子発生器 １７ 乾燥筒 Ｂ 超高性能エアーフィルタのリーク検査装置 ２０ 試験用フィルタ ２１ テストチャンバー
Claims (6)
- 【請求項１】 コロイド状シリカの懸濁液をスプレーし
た後に乾燥させ、生成したシリカ粒子をエアーフィルタ
の上流側の気流中に投入すること、およびエアーフィル
タの下流側にリークしてくる該シリカ粒子を、粒子検出
器を用いて検出すること、 を包含するエアーフィルタのリーク検査方法。 - 【請求項２】 前記エアーフィルタが、ＨＥＰＡフィル
タまたはＵＬＰＡフィルタである請求項１記載のエアー
フィルタのリーク検査方法。 - 【請求項３】 前記懸濁液中のシリカ粒子の固形分濃度
が０．４〜１５重量％である請求項１記載のエアーフィ
ルタのリーク検査方法。 - 【請求項４】 前記生成したシリカ粒子の粒子径が０．
１μｍ以上であり、かつその発生量が１分間当り１０10
個以上である請求項１記載のエアーフィルタのリーク検
査方法。 - 【請求項５】 シリカのエアロゾル粒子をエアーフィル
タの上流側の気流中に投入すること、および該エアーフ
ィルタの下流側にリークしてくる該粒子を、粒子検出器
を用いて検出すること、 を包含するエアーフィルタの製造方法。 - 【請求項６】 前記エアーフィルタが、ＨＥＰＡフィル
タまたはＵＬＰＡフィルタである請求項５記載のエアー
フィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6271359A JP2695754B2 (ja) | 1994-11-04 | 1994-11-04 | エアーフィルタのリーク検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6271359A JP2695754B2 (ja) | 1994-11-04 | 1994-11-04 | エアーフィルタのリーク検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08136437A true JPH08136437A (ja) | 1996-05-31 |
| JP2695754B2 JP2695754B2 (ja) | 1998-01-14 |
Family
ID=17498977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6271359A Expired - Fee Related JP2695754B2 (ja) | 1994-11-04 | 1994-11-04 | エアーフィルタのリーク検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2695754B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6269681B1 (en) | 1999-03-19 | 2001-08-07 | Daikin Industries Ltd. | Group of particles for air filter test and method of air filter test |
| JP2002243626A (ja) * | 2001-02-16 | 2002-08-28 | Techno Ryowa Ltd | エアフィルタのリーク検査方法 |
| WO2012064751A3 (en) * | 2010-11-08 | 2012-09-13 | Aaf-Mcquay Inc, D/B/A Aaf International | Eptfe filter for aseptic pharmaceutical use and method of using |
| US9266068B2 (en) | 2010-11-08 | 2016-02-23 | American Air Filter Company, Inc. | Aerosol generator for EPTFE filter testing and method of use |
| BE1023000B1 (fr) * | 2015-09-11 | 2016-10-31 | Manoha Sprl | Séchoir, en particulier pour le séchage de vêtements et d'accessoires pour salle blanche |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100947716B1 (ko) | 2008-03-28 | 2010-03-16 | 광주과학기술원 | 바이오에탄올의 세균성 오염의 검출 방법 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5365298A (en) * | 1976-11-24 | 1978-06-10 | Ppg Industries Inc | Method of making alkali metal azide |
| JPS62143818A (ja) * | 1985-12-16 | 1987-06-27 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | 球状シリカゲルの製造方法 |
| JPH05332892A (ja) * | 1992-05-29 | 1993-12-17 | Oki Electric Ind Co Ltd | フィルタの試験方法及びそれに用いる微粒子の発生方法 |
-
1994
- 1994-11-04 JP JP6271359A patent/JP2695754B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5365298A (en) * | 1976-11-24 | 1978-06-10 | Ppg Industries Inc | Method of making alkali metal azide |
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| JPH05332892A (ja) * | 1992-05-29 | 1993-12-17 | Oki Electric Ind Co Ltd | フィルタの試験方法及びそれに用いる微粒子の発生方法 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6269681B1 (en) | 1999-03-19 | 2001-08-07 | Daikin Industries Ltd. | Group of particles for air filter test and method of air filter test |
| JP2002243626A (ja) * | 2001-02-16 | 2002-08-28 | Techno Ryowa Ltd | エアフィルタのリーク検査方法 |
| WO2012064751A3 (en) * | 2010-11-08 | 2012-09-13 | Aaf-Mcquay Inc, D/B/A Aaf International | Eptfe filter for aseptic pharmaceutical use and method of using |
| US9266068B2 (en) | 2010-11-08 | 2016-02-23 | American Air Filter Company, Inc. | Aerosol generator for EPTFE filter testing and method of use |
| US9457301B2 (en) | 2010-11-08 | 2016-10-04 | American Air Filter Company, Inc. | ePTFE filter for aseptic pharmaceutical use and method of using |
| BE1023000B1 (fr) * | 2015-09-11 | 2016-10-31 | Manoha Sprl | Séchoir, en particulier pour le séchage de vêtements et d'accessoires pour salle blanche |
| WO2017042343A1 (fr) * | 2015-09-11 | 2017-03-16 | Manoha | Sechoir, en particulier pour le sechage de vetements et d'accessoires pour salle blanche |
| US10683604B2 (en) | 2015-09-11 | 2020-06-16 | Manoha | Dryer, particularly for drying clean-room garments and accessories |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2695754B2 (ja) | 1998-01-14 |
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