JP3608996B2 - 加熱攪拌装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、食材を加熱しながら攪拌する加熱攪拌装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の加熱攪拌装置としては例えば実開昭６２−１００３４号公報に記載されたようなものがある。この加熱攪拌装置では、加熱釜に対して斜めに配置された攪拌軸に円弧状の支持桿が備えられ、この円弧状の支持桿の規定位置に複数の掻取羽根が取り付けられている。そして、回転駆動部による攪拌軸の回転駆動により支持桿が回転し、掻取羽根が加熱釜の底部内面を掻き取り摺動する。従って、加熱釜の底部を掻取羽根によって十分に掻き取り、加熱されている加熱釜の底部内面に食材の薄膜が残って境面ができるのを防止し、高い接触伝熱効率を維持することができる。また、加熱釜の底部内面への食材の焦げ付きを抑制することができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記支持桿に支持される掻取羽根は、食材の入っている加熱釜の底部内面を掻取り摺動するものであるため、攪拌軸の回転駆動に対し大きな駆動抵抗になる。このため各攪拌羽根は必要最小限のものが所定間隔で規定位置に取り付けられており、しかも各攪拌羽根は部品の共通化によるコストダウンを図るために、できるだけ共通化した部品で構成するのが好ましいものとなっている。従って、場合によっては加熱釜の底部内面に対して掻き取り残しを招く恐れがある。
【０００４】
本発明は、かかる掻き取り残しを抑制することのできる加熱攪拌装置の提供を課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、少なくとも底部内面が球面状に形成され少なくとも底部が加熱される加熱釜と、該加熱釜内に挿入配置され回転駆動部によって回転駆動される攪拌軸と、該攪拌軸に取り付けられ前記攪拌軸の回転により前記少なくとも底部内面を掻き取り摺動する複数の主掻取羽根を所定間隔で規定位置に備えた主支持桿と、該主支持桿に対し副支持部により支持され少なくとも前記主掻取羽根の掻き取り残し部分を掻き取り摺動する副掻取羽根とよりなることを特徴とする。
【０００６】
請求項２の発明は、請求項１記載の加熱攪拌装置であって、前記攪拌軸は、前記加熱釜の底部に支持され、前記副掻取羽根は、前記加熱釜の底部に接する先端が前記攪拌軸に隣接し、且つ攪拌軸の回転方向後方へ後傾して設定されていることを特徴とする。
【０００７】
請求項３の発明は、請求項１記載の加熱攪拌装置であって、前記攪拌軸は、前記加熱釜の底部から離間して配置され、前記副掻取羽根は、前記加熱釜の底部に接する先端が前記攪拌軸の軸心の延長上に配置され、且つ攪拌軸の回転方向後方へ後傾して設定されていることを特徴とする。
【０００８】
請求項４の発明は、請求項１〜３の何れかに記載の加熱攪拌装置であって、前記攪拌軸は、前記加熱釜に対して斜めに配置され、前記副支持部は、前記主支持桿に取り付けられた枝桿であり、前記副掻取羽根は、前記加熱釜の底部中央を掻き取り摺動するように配置されたことを特徴とする。
【０００９】
【発明の効果】
請求項１の発明では、攪拌軸が回転駆動部によって回転駆動されると、主支持桿の主掻取羽根が加熱釜の少なくとも底部内面を掻き取り摺動し、底部内面に食材が付着するのを抑制することができる。同時に、副支持部の副掻取羽根が主掻取羽根の少なくとも掻き取り残し部分を掻き取り摺動し、加熱釜の底部内面の掻き取り残しを抑制することができる。
【００１０】
請求項２の発明では、請求項１の発明の効果に加え、副掻取羽根は加熱釜の底部に接する先端が加熱釜の底部に支持される攪拌軸に隣接し、かつ攪拌軸の回転方向後方へ後傾して設定されているので、副掻取羽根が底部内面に対し掻き取り摺動することによって攪拌軸周りの掻き取りを確実に行うことができる。従って、食材の攪拌速度が遅くなり、食材が滞りやすい攪拌軸周囲の掻き取り残しを確実に抑制することができる。
【００１１】
請求項３の発明では、請求項１の発明の効果に加え、副掻取羽根は加熱釜の底部に接する先端が加熱釜の底部から離間して配置された攪拌軸の軸心の延長上に配置され、かつ攪拌軸の回転方向へ後傾して設定されているので、副掻取羽根が底部内面を掻き取り摺動することによって攪拌軸の軸心の延長上を含めてその周囲の掻き取りを確実に行うことができる。従って、食材の攪拌速度が遅くなり、食材が滞りやすい攪拌軸軸心の延長上及びその周囲の掻き取り残しを確実に抑制することができる。
【００１２】
請求項４の発明では、請求項１〜３の何れかの発明の効果に加え、主支持桿に取り付けられた枝桿の副掻取羽根は加熱釜の底部中央を掻き取り摺動することができる。従って、重力によって食材が滞りやすく、かつ加熱によって温度が高くなりやすい加熱釜の底部中央の掻き取り残しを確実に抑制することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
（第１実施形態）
図１〜図５は本発明の第１実施形態を示している。図１は本発明の第１実施形態を適用した加熱攪拌装置の一部断面全体概略正面図である。まず概要を説明すると、図１のように、加熱攪拌装置は、加熱釜１と攪拌軸３と主支持桿５とを備えている。
【００１４】
前記加熱釜１は、少なくとも底部内面が球面状に形成され、少なくとも底部が加熱される構成となっている。すなわち、加熱釜１は筒状の胴部７と、半球状の底部９とが一体に構成され、底部９側の外面周囲にジャケット１１が閉じ断面で設けられている。ジャケット１１には外部から加熱用の蒸気が給排されるようになっている。なおジャケット１１は、脚１３ａ，１３ｂを介しベース１５上に支持されている。また前記加熱釜１の底部９にはその最下部に食材ドレン用の排出口１７が設けられている。
【００１５】
前記加熱釜１の上端には開閉自在な蓋体１９が取り付けられている。前記攪拌軸３は前記加熱釜１内に挿入配置され、回転駆動部２１によって回転駆動される構成となっている。この攪拌軸３は加熱釜１に対して斜めに配置され、その下端２２は底部９の中央最下部からずれた位置において軸支持されている。この軸支持は、球面状の浅い凹凸による接離自在な軸受構造によって攪拌軸３の先端を底部９内面に回転自在に支持するものである。又、攪拌軸３の上部側は、蓋体１９側に回転自在に支持され、その上端が回転駆動部２１に連動連結されている。回転駆動部２１は、例えば電動モータによって構成されている。
【００１６】
前記主支持桿５は前記攪拌軸３に取り付けられ、攪拌軸３の回転により少なくとも底部９内面を掻き取り摺動する複数の主掻取羽根２３を所定間隔で規定位置に備えている。この主支持桿５は、前記底部９内面と同一曲率の円弧状に形成されている。従って、回転駆動部２１によって攪拌軸３を回転させると、支持桿５が回転し、加熱釜１内の食材は、前記ジャケット１１に供給される蒸気による加熱を受けながら攪拌調理される。このとき主掻取羽根２３は底部９内面を掻き取り摺動し、底部９内面に食材の薄膜による境面ができるのを規制し、高い接触伝熱効率を維持すると共に、食材の攪拌にも寄与する。また、主掻取羽根２３による底部９内面の掻き取り摺動により、底部９内面への食材の焦げ付きを抑制することができる。
【００１７】
この主掻取羽根２３は、その構造上の制約から掻き取り残し部分を招く場合がある。まずこの掻き取り残しを起こす理由を説明する。
【００１８】
前記主掻取羽根２３は、図２の加熱釜を省略した概略正面図や、図３の同平面図のようになっている。すなわち、主掻取羽根２３は本実施形態において４組備えられている。各主掻取羽根２３は、それぞれ独立した主掻取羽根片２４が、例えば５枚一組となって主ブラケット２５間に若干の揺動が可能なように支持されている。この支持構造は、例えば図４のようになっている。図４において、矢印Ａの方向が主掻取羽根２３の底部９に対する掻き取り摺動方向であり、前記主ブラケット２５は主支持桿５に対し実線図示のように回転方向前面側に取り付けられている。一対のブラケット２５間には、上下のピンボルト２７ａ，２７ｂが橋渡され、主掻取羽根片２４の基部２４ａが両ピンボルト２７ａ，２７ｂ間に挟まれるようにして矢印Ａの回転方向前後に若干の揺動を可能にしながら支持されている。
【００１９】
この主掻取羽根２３は、前記の構造により主支持桿５の回転方向の前側に支持されることによって、図４の矢印Ａのように底部９に対し掻き取り移動するとき、食材から抵抗を受けてその先端が底部９に押し付けられながら掻き取り摺動することになる。掻き取られた食材は、主掻取羽根２３の傾斜に沿って移動し、その上端側から回転後方へ抜けることになり、攪拌抵抗を軽減することができる。
【００２０】
これに対し、主掻取羽根２３を、図４の鎖線図示のように主支持桿５の回転方向後面側に配置した場合には、掻き取り摺動時に主掻取羽根２３（図４鎖線図示）に受けられる食材は主掻取羽根２３（図４鎖線図示）に沿って上昇し、主支持桿５と主掻取羽根２３（図４鎖線図示）との間を通って回転後方へ抜けることになり、大きな抵抗となる。このため、主掻取羽根２３の規定位置は、主支持桿５の回転方向前面側となっている（図４実線図示）。
【００２１】
しかし、このような主掻取羽根２３（図４実線図示）の配置を攪拌軸３の周りにおいても採用すると、例えば図５の鎖線図示のようになる。すなわち、この配置状態においては、攪拌軸３と主掻取羽根２３との間に間隔Ｌを生じてしまい、主掻取羽根２３が攪拌軸３の周りで回転すると、間隔Ｌの部分だけ掻き取り残し部分を生ずることになる。一方、この攪拌軸３の回りは、攪拌回転の中心側となるため周速度が小さく食材が滞って焦げ付き易くなり、積極的な掻き取りにより掻き取り残しを抑制する必要がある。
【００２２】
そこで、攪拌軸３の周辺では、配置構造を変えた副掻取羽根２９としている。但し、本実施形態においては、この副掻取羽根２９は主掻取羽根としても機能しているものである。すなわち、主掻取羽根２３と副掻取羽根２９とが主支持桿に対し所定間隔で取り付けられ、かつ掻取軸３の回転軸に対し非対称に配置されることによって、主掻取羽根２３及び副掻取羽根２９によって加熱釜の底部９の略全体を掻き取ることができる。
【００２３】
前記副掻取羽根２９は、例えば５本の副掻取羽根片３１で構成され、主支持桿５に対し回転方向後面側に突設された一対の副ブラケット３３間に支持されている。この支持は、副ブラケット３３間に支持されたピンボルト３５ａ，３５ｂに各副掻取羽根片３１の基部３１ａが若干の揺動を可能にして挟み込まれるように支持されたものである。従って、副ブラケット３３及びピンボルト３５ａ，３５ｂは、本実施形態において、副支持部を構成している。
【００２４】
そして、前記加熱釜１の底部９に接する副掻取羽根２９の先端２９ａは、攪拌軸３及び主支持桿５の中心線上に沿って配置され、攪拌軸３側の副掻取羽根片３１は攪拌軸３の周面に接している。すなわち、加熱釜１の底部９に接する先端２９ａが攪拌軸３に隣接した構成となっている。且つ副掻取羽根２９は、攪拌軸３の回転方向後方へ後傾して設定されている。
【００２５】
又、本実施形態においては、主支持桿５に副支持部として枝桿３７が取り付けられている。この枝桿３７に他の副掻取羽根３９が取り付けられている。この副掻取羽根３９は加熱釜１の底部９中央を掻き取り摺動するように配置されている。 ここで、前記のように主掻取羽根２３は主支持桿５に対し規定位置に取り付けられ、例えば５本一組の主掻取羽根片２４の組み合わせによるものである。このように、主掻取羽根２３のそれぞれを同一の構成とすることによって、部品の共通化を図り、コストダウンを図ることができる。又、主掻取羽根２３を必要以上に大きくしないことにより、攪拌抵抗の増大を抑制することができる。
【００２６】
しかしながら、主掻取羽根２３の大きさや配置が決められてしまうと、例えば図２のように、底部９の中央において掻き取り残し部分を招く恐れがある。この底部９の中央は、攪拌軸３の先端に近いため掻き取り速度が遅いと共に、重力作用によって食材が滞りやすく、且つ加熱によって温度が高くなり、食材が焦げ付きやすい部分であり、積極的に掻取りを行なう必要がある。そこで、前記副掻取羽根３９を設けている。
【００２７】
この副掻取羽根３９は、図３，図６のように両側２本の副掻取羽根片４１と、中央の副掻取羽根片４３との組み合わせでなっている。２本の副掻取羽根片４１は、例えば前記副掻取羽根２９の副掻取羽根片３１と同一のもので構成されている。中央の副掻取羽根片４３は、幅広に形成され、底部９中央の排出口１７の開口１７ａよりも大きく形成され、底部９中央を円滑に掻き取るようになっている。この副掻取羽根３９は、副支持部としての副ブラケット４５に支持されているもので、前記同様副支持部としてのピンボルトによってその基部４１ａ，４３ａが挟み込まれるようにして支持され、若干の揺動ができるようになっている。
【００２８】
かかる構造において、攪拌軸３が回転すると、主掻取羽根２３及び副掻取羽根２９の主掻取羽根としての作用とにより、各主掻取羽根２３、副掻取羽根２９は、食材から抵抗を受けて底部９内面に押し付けられながら掻き取り摺動し、底部９の内面が略全体的に掻き取られることになる。
【００２９】
そして特に、副掻取羽根２９は、加熱釜１の底部９に接する先端２９ａが攪拌軸３に隣接し、かつ攪拌軸３の回転方向後方へ後傾しているため、攪拌軸３の周面に略密接しながら回転することができ、攪拌軸３の先端周囲に掻き取り残しを招くのを確実に抑制することができる。この副掻取羽根２９は、主支持桿５に対し回転方向後方に位置しているが、回転の周速度からしてこの部分での回転抵抗の増大は僅かなものであり、全体としては許容される範囲のものである。
【００３０】
又、前記副掻取羽根３９は、回転によって図６のように底部９の中央を掻き取り摺動する。従って、攪拌軸３の先端に近いため掻き取り速度が遅いと共に、重力作用によって食材が滞りやすく、且つ加熱によって温度が高くなり、食材が焦げ付きやすい底部９の中央を副掻取羽根３９によって確実に掻取り、該部分における掻き取り残しを確実に抑制し、焦げ付きを防止することができる。
【００３１】
又、本実施形態においては、副掻取羽根３９の中央の副掻取羽根片４３が幅広に形成され、排出口１７の開口１７ａを跨ぐようにして掻き取ることができるため、円滑な掻き取りを行なうことができる。
【００３２】
さらに、枝桿３７を設けることによって主支持桿５に対する主掻取羽根２３の配置位置の自由度が増大する。
（第２実施形態）
図７，図８は、本発明の第２実施形態を示し、図７は加熱釜を省略した概略正面図、図８は同平面図である。なお、第１実施形態と対応する構成部分には同符号を付して説明し、また重複した説明は省略する。
【００３３】
図７，図８のように、本実施形態においては、主支持桿５が円環状に形成され、攪拌軸３が上下に分離され、主掻取羽根２３もその配置位置が若干異なっている。但し、基本的には第１実施形態と同様の構造である。
【００３４】
一方、本実施形態においては、副掻取羽根２９の副支持部として、主支持桿５に取り付けられた枝桿４７を備えている。この枝桿４７に副掻取羽根２９の副ブラケット３３が固定されたものである。副掻取羽根２９の加熱釜１の底部９に接する先端は、攪拌軸３に隣接し、かつ攪拌軸３の回転方向後方へ後傾して設定されている基本的構造は、第１実施形態と同様である。また、副掻取羽根３９においては、幅広の副掻取羽根片４３が一側に、幅狭の副掻取羽根片４１が他側に寄せて配置されている。これは、攪拌軸３の回転によって、幅広の掻取羽根片４３が底部９中央の排出口１７上を掻き取り摺動するように配置した為めである。
【００３５】
従って、本実施形態においても第１実施形態と略同様な作用効果を奏することができる。又、本実施形態においては、副掻取羽根２９を枝桿４７に支持するようにしたので、主支持桿５に対する主掻取羽根２３の配置位置の選択がより自由となる。
（第３実施形態）
図９〜図１１は、本発明の第３実施形態に係り、図９は加熱釜を省略した概略正面図、図１０は同平面図、図１１は副掻取羽根取付けの説明図である。なお、第１実施形態と対応する構成部分には同符号を付して説明し、また重複した説明は省略する。
【００３６】
本実施形態においては、攪拌軸３が加熱釜１の底部９から離間して配置されたものである。すなわち、攪拌軸３の先端には、小さな弧状の継手部４９が設けられ、該継手部４９の両側にそれぞれ円弧状の主支持桿５が分断して取りつけられている。このように攪拌軸３の先端に継手部４９を設け、底部９との間に大きな空間を設けることによって、攪拌軸３先端での食材の攪拌流動を促進し、且つ攪拌抵抗をより減少させることができる。
【００３７】
そして、本実施形態においては、副掻取羽根３９が幅広の副掻取羽根片４３と、幅狭の３個の副掻取羽根片４１とで構成され、副掻取羽根３９の副支持部として、枝桿３７が攪拌軸３に対し回転方向へ若干傾けて設定されている。かかる設定によって、副掻取羽根３９はその端部の副掻取羽根片４１の加熱釜１の底部９に接する先端４１ａが、図９のように攪拌軸３の軸心３ａの延長上に配置され、且つ攪拌軸３の回転方向後方へ後傾して設定されることになる。又、副掻取羽根３９は、前記と同様に加熱釜１の底部９中央を図１１のように掻き取り摺動するように配置されている。
【００３８】
従って、本実施形態においても、副掻取羽根３９によって攪拌軸３の軸心３ａの延長上、あるいはその周辺を確実に掻き取ることができ、掻き取り残し部分を確実に抑制し、同時に副掻取羽根３９によって底部９中央を確実に掻き取り、掻き取り残し部分を確実に抑制することができる。
【００３９】
なお、上記各実施形態では、副掻取羽根２９，３９が主掻取羽根２３の掻き取り残し部分を掻き取るものとして説明したが、副掻取羽根３９は主掻取羽根２３の掻き取り範囲を重ねて掻き取る構成であり、副掻取羽根２９もそのように構成することができる。但し、副掻取羽根２９，３９の双方ともに、主掻取羽根２３の掻き取り残し部分のみを掻き取る構成にすることもできる。副掻取羽根２９，３９を、主掻取羽根２３に対し、積極的に重複させて掻き取る構成にすることもできる。攪拌軸３は加熱釜１に対して斜めに配置されたが、必ずしも斜めである必要はなく、攪拌軸３を加熱釜１に対して垂直方向に配置することもできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係り、一部を断面で示した全体概略正面図である。
【図２】第１実施形態に係り、加熱釜を省略した概略正面図である。
【図３】第１実施形態に係り、加熱釜を省略した概略平面図である。
【図４】第１実施形態に係り、主掻取羽根の取付状態を示す断面図である。
【図５】第１実施形態に係り、副掻取羽根の取付状態を示す断面図である。
【図６】第１実施形態に係り、他の副掻取羽根の取付状態を示す説明図である。
【図７】本発明の第２実施形態に係り、加熱釜を省略した概略正面図である。
【図８】第２実施形態に係り、加熱釜を省略した概略平面図である。
【図９】本発明の第３実施形態に係り、加熱釜を省略した概略正面図である。
【図１０】第３実施形態に係り、加熱釜を省略した概略平面図である。
【図１１】第３実施形態に係り、副掻取羽根取付けの説明図である。
【符号の説明】
１ 加熱釜
３ 攪拌軸
５ 主支持桿
９ 底部
２１ 回転駆動部
２２ 攪拌軸の先端
２９，３９ 副掻取羽根
２９ａ 副掻取羽根の先端
３３，４５ 副ブラケット（副支持部）
３５ａ，３５ｂ ピンボルト（副支持部）
３７，４７ 枝桿（副支持部）
４１ａ 副掻取羽根片の先端（副掻取羽根の先端）

Claims (4)

1. 少なくとも底部内面が球面状に形成され少なくとも底部が加熱される加熱釜と、
   該加熱釜内に挿入配置され回転駆動部によって回転駆動される攪拌軸と、
   該攪拌軸に取り付けられ前記攪拌軸の回転により前記少なくとも底部内面を掻き取り摺動する複数の主掻取羽根を所定間隔で規定位置に備えた主支持桿と、
   該主支持桿に対し副支持部により支持され少なくとも前記主掻取羽根の掻き取り残し部分を掻き取り摺動する副掻取羽根とよりなることを特徴とする加熱攪拌装置。
2. 請求項１記載の加熱攪拌装置であって、
   前記攪拌軸は、前記加熱釜の底部に支持され、
   前記副掻取羽根は、前記加熱釜の底部に接する先端が前記攪拌軸に隣接し、且つ攪拌軸の回転方向後方へ後傾して設定されていることを特徴とする加熱攪拌装置。
3. 請求項１記載の加熱攪拌装置であって、
   前記攪拌軸は、前記加熱釜の底部から離間して配置され、
   前記副掻取羽根は、前記加熱釜の底部に接する先端が前記攪拌軸の軸心の延長上に配置され、且つ攪拌軸の回転方向後方へ後傾して設定されていることを特徴とする加熱攪拌装置。
4. 請求項１〜３の何れかに記載の加熱攪拌装置であって、
   前記攪拌軸は、前記加熱釜に対して斜めに配置され、
   前記副支持部は、前記主支持桿に取り付けられた枝桿であり、
   前記副掻取羽根は、前記加熱釜の底部中央を掻き取り摺動するように配置されたことを特徴とする加熱攪拌装置。

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