JP3600254B2 - 日焼け止め剤 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、日焼け止め剤、即ち、２９０〜４００ｎｍの範囲の波長の紫外線を吸収可能な化合物に関する。本発明はさらに、日焼け止め剤を配合したヒトの皮膚に適用するための日焼け止め組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般的に言えば、高層大気を通り抜けて地表に達する有害な紫外（ＵＶ）線、特に日光から生じた紫外線は次のように分類され得る：
ｉ．真皮の真上で吸収され、紅斑及び皮膚の色素沈着の原因となる、皮膚に対して強力な生理病理学的活性を有する富エネルギーＵＶ−Ｂ線（波長２９０〜３２０ｎｍ）；並びに
ｉｉ．そのエネルギーは非常に低く、引き起こす光生物学的作用は自然では非常に長期に及び、例えば皮膚の老化を促す、皮膚の深層（真皮まで及びそれ以上）にまで透過するＵＶ−Ａ線（波長３２０〜４００ｎｍ）。
【０００３】
日焼け止め組成物はＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂ線の両方に対する保護を提供することが望ましいが、ＵＶ−Ａ照射に起因する長期光生物学的作用を防止するためにＵＶ−Ａ線に対する保護が特に望ましい。
【０００４】
天然鉱物性ヒドロタルサイトは、層状（ｌａｙｅｒｄ）複水酸化物として時折公知の種類の物質の一例であって、一般式：
【０００５】
【化３】
【０００６】
を有する。
【０００７】
上記式中、Ｎは１つ又はそれ以上の３価の金属イオンである。Ｍは１つ又はそれ以上の２価の金属イオンであるかあるいは１価のリチウムである。
【０００８】
Ｍが２価の場合にはｙ＝ｎであり、Ｍが１価の場合にはｙ＝ｎ−ｍである。Ｘは陰イオンの１つ又は混合物である。
【０００９】
これらの物質中で、金属イオンは、金属イオンがＯＨ基を介して一緒に結合している層中に存在する。陰イオンＸは金属イオンの層の間の中間層に位置する。ｘ− は陰イオン上の電荷であり、ｙ＋ は混合金属ヒドロキシ陽イオン上の電荷である。
【００１０】
層状複水酸化物は、Ｍｅｙｎ ｅｔ ａｌ．，Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，２９ ５２０１（１９９０）及びＭｉｙａｔａ，Ｃｌａｙｓ ａｎｄ Ｃｌａｙ Ｍｉｎｅｒａｌｓ，３１，３０５（１９８３）を含めた多数の文献に記載されている。これらの文献を参照すると、陰イオンＸが他の陰イオンと交換され得ることがこれらの複水酸化物の特性であることが判る。天然ヒドロタルサイトそれ自体においては、中間層陰イオンは炭酸塩である。今までに合成された多数の複水酸化物においては、中間層陰イオンは無機であるが、種々の脂肪族及び芳香族カルボキシレートを含めた有機陰イオンの混入についてもいくつかの開示がある。Ｍｅｙｎ等（上記参照）は、金属が亜鉛／アルミニウム、亜鉛／クロム又はリチウム／アルミニウムである場合、中間層陰イオンとしてナフタレン−１−スルホネート、サリチレート及びいくつかの他の有機物質を混入することを開示している。Ｃｈｉｂｗａ，ケンブリッジ大学のＰｈＤ論文（１９８９）は、中間層陰イオンとしてクロロシンナメートの混入を開示している。
【００１１】
層状複水酸化物の種々の応用が、特に化学触媒としての使用を含めて、科学文献に示されている。
【００１２】
広義には、本発明は、日焼け止め剤として使用される、中間層陰イオンの少なくともいくつかが２９０〜４００ｎｍの範囲の紫外線を吸収する層状複水酸化物を提供する。
【００１３】
第一の態様において、本発明は、式：
【００１４】
【化４】
【００１５】
（式中、Ｎは３価の金属イオンの１つ又は混合物であり、Ｍは２価の金属イオンの１つ又は混合物であるかあるいはリチウムであって、Ｍが２価の場合にはｙ＝ｎであり、Ｍがリチウムの場合にはｙ＝（ｎ−ｍ）であり、Ｘはその少なくともいくつかが２９０〜４００ｎｍの範囲の波長の少なくとも一部で紫外線吸収を示す中間層陰イオンを表す）
の層状複水酸化物を配合した化粧品的に許容可能なビヒクルを含むヒトの皮膚に適用するための日焼け止め組成物を提供する。
【００１６】
第二の態様において、本発明は、日焼け止め剤としての上記した層状複水酸化物の使用を提供する。
【００１７】
第三の態様は、本発明は、陰イオンＸの大部分がクロロシンナメート、サリチレート又はナフタレン−１−スルホネートである公知の物質を除く、上記した層状複水酸化物を提供する。
【００１８】
本発明のある好ましい形態は、層状複水酸化物に混入したときにその混入前に当該陰イオンが示すＵＶ−Ａ吸収に比して高いＵＶ−Ａ吸収を示す中間層陰イオンを含む層状複水酸化物に関する。
【００１９】
本発明において、３価金属は、アルミニウム、クロム、鉄、ニッケル、マンガン及びスカンジウムのうちの１つ又はそれ以上である。
【００２０】
２価金属は、マグネシウム、亜鉛、カルシウム、コバルト、ニッケル、銅、マンガン及び鉄のうちの１つ又はそれ以上である。
【００２１】
考えられ得るイオンのリストから判るように、遷移金属のニッケル、マンガン及び鉄は２価又は３価の状態をとり得る。これらの金属の少なくともいくつかは同一物質中に２価イオンと３価イオンとを提供することができる。
【００２２】
層状複水酸化物において、１価又は２価イオン対３価イオンの比率は、ｍ／ｎ比で示される。本発明で用いる層状複水酸化物の金属イオンＭが２価の場合には、ｍ／ｎ比は好ましくは１〜５の範囲である。１価イオンＭの場合には、ｍ／ｎは好ましくは０．３３〜０．５の範囲である。
【００２３】
ｚの値は、一般的にはｍとｎの和の０〜１０倍、さらに好ましくは０〜２倍の範囲である。これは次のように表され得る：
【００２４】
【数１】
【００２５】
さらに好ましくは
【００２６】
【数２】
【００２７】
概して、紫外線吸収性陰イオンは２９０〜４００ｎｍの所定の範囲の少なくとも一部でかなり強力な吸収を示すのが望ましい。これは、酸形態又は単純アルカリ金属もしくはアンモニウム塩の陰イオンが、２９０〜４００ｎｍの所定の波長範囲の少なくとも一部で少なくとも２×１０３ 、好ましくは３×１０３ 、さらに好ましくは少なくとも５×１０３ 、もっと好ましくは８×１０３ のモル吸光係数の吸収を示すという要件として明記される。
【００２８】
このような陰イオンを層状複水酸化物中に中間層陰イオンとして混入した場合、その紫外線吸収は概してほとんど変わらずに保持されるということが判明した。
【００２９】
しかし、本発明のある好ましい態様において、使用する陰イオンは、層状複水酸化物に混入した場合にその混入前に当該陰イオンが示したＵＶ−Ａ吸収に比して高いＵＶ−Ａ吸収を示す陰イオンである。したがって、本発明の好ましい態様においては、ＵＶ−Ａ防止の増強は、複水酸化物中に特定の陰イオン（さらに詳しく後述する）を混入することにより得られる。
【００３０】
有効な紫外線吸収は、その最大値が所定の範囲外である吸収帯により提供される。例えば、ｐ−メトキシシンナメートイオンは２８５ｎｍで吸収最大を示すが、その吸収帯は２９０ｎｍ〜少なくとも約３２０ｎｍまでの範囲に亘って強力な吸収を提供するのに十分な広さである。
【００３１】
２６０〜３６０ｎｍの範囲で最大値を有する吸収帯により２９０〜４００ｎｍの範囲の吸収が提供される場合もしばしばある。
【００３２】
好ましい陰イオンは、４００〜７００ｎｍの可視帯、特に４５０ｎｍ以上、、とりわけ４５０又は５００〜６５０ｎｍの部分で強い吸収を示さない。このような範囲における吸収の吸光係数は、好ましくは当該範囲を通じて５×１０２ 以下である。
【００３３】
ある物質のモル吸光係数は通常溶液中で測定され、次式：
【００３４】
【数３】
【００３５】
［式中、Ｉは試料を透過した放射線の強度であり、
Ｉ０ は同一溶媒で構成されるが被験の物質を含有しない参考サンプルを透過した放射線の強度であり、
ｃはモル濃度（ｍｏｌ／リットル）であり、そして
ｌは溶液中の路長（ｃｍ）である］
で示される。
【００３６】
紫外線を吸収する中間層陰イオンＸの割合はかなり少なくてもよく、例えば存在する全中間層陰イオンの５モル％であり得るが、存在する中間層陰イオンの大部分のように多くてもよく、１００％までということさえある。
【００３７】
紫外線を吸収する中間層陰イオンは、下記のもののうちの１つ又はそれ以上である：
パラアミノベンズイミダゾール−５−スルホネート
３−イミダゾール−４−イルアクリレート
サリチレート
ｐ−メトキシシンナメート
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート
３，３，５−トリメチルシクロヘキシル−２−アセトアミドベンゾエート
シンナメート
ｐ−アミノベンゾエート
３，４−ジメトキシフェニルグリオキシレート
α−（２−オキソボルン−３−イリデン）−ｐ−キシレン−２−スルホネート
α−（２−オキソボルン−３−イリデン）トルエン−４−スルホネート
α−シアノ−４−メトキシシンナメート
２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホネート。
【００３８】
これらの陰イオンは、遊離状態で２９０〜４００ｎｍの範囲の波長で吸収を示すことが公知である。それらはすべて、日焼け止め剤として用いるのに許容可能な物質とみなされる。
【００３９】
上記したように、これらの陰イオンを層状複水酸化物中に中間層陰イオンとして混入すると、紫外線を吸収するその能力は保持されることが判明した。ほとんどの場合、上記の陰イオンを層状複水酸化物中に混入した場合、紫外線吸収スペクトルの変化は無視できる程度である。
【００４０】
本発明の目的に適した別の群の有機物質は、分子中にフェノール性陽子又は他の弱酸性陽子を混入することにより弱酸官能価を含有するものである。この陽子を除去すると層状複水酸化物中に混入可能な陰イオンを生成し得るということも判明した。このような化合物に由来する陰イオンは親化合物とは明らかに異なる吸収スペクトルを有するが、これらの陰イオンは層状複水酸化物中に混入すると、２９０〜４００ｎｍ（ＵＶ−Ａ領域）の光の有意な吸収を示す。事実、本発明の好ましい態様においては、層状複水酸化物の非存在下で親化合物の使用により得られるものより高いＵＶ−Ａ防止が得られるように層状複水酸化物中に混入した場合に、これらの陰イオンが上記したスペクトルを示すという効果が認められている。
【００４１】
このようなフェノール系化合物の重要な群としては、ヒドロキシル化ベンゾフェノン誘導体が挙げられる。弱酸性エノール形態で存在し得るある種のジケトン化合物を配合してもよい。本発明の好ましい態様に用いられる陰イオンが得られる化合物として、ＣＴＦＡ名と化学名で示す物質を非限定的に例示する：
【００４２】
中間層陰イオンを提供し得る別の化合物としては、Ｇｉｖａｕｄａｎ Ｃｏｒｐ．からＰＡＲＳＯＬ １７８９として販売されているブチルメトキシジベンゾイルメタンが挙げられる。
【００４３】
置換１，３−ジケトン（系統名 １−（４−メトキシ−５−ベンゾフラニル）−３−フェニル−１，３−プロパンジオン）であるＰｏｎｇｏｍｏｌから得られる陰イオン種も本発明のこの形態に含まれる。それは、２５０〜５００ｎｍの範囲内で紫外線吸収帯、並びに５，０００〜７０，０００の吸光係数を有する。ジケトンは、米国特許第５，１５２，９８３号に詳細に記載されており、その記載内容は参照により本明細書中に含めるものとする。
【００４４】
これらの物質のうち、ベンゾフェノン−４及びベンゾフェノン−９はスルホン酸基により付与される強酸官能価とフェノール性陽子により付与される弱酸官能価とを有する。これらの物質（及びベンゾフェノン−４の一ナトリウム塩であるベンゾフェノン−５）に関しては、その物質の多形態の陰イオンが生成され、層状複水酸化物中に混入され得る。したがって、例えばベンゾフェノン−４を用いると、一及び二陰イオンの両方が層状複水酸化物中に混入される。層状複水酸化物中に混入されるこの物質の一陰イオン及び二陰イオン形態、並びにその任意の組み合わせは日焼け止め剤として有用であって、本発明の範囲内であると考えられる。
【００４５】
層状複水酸化物は、水及びその他の溶媒に不溶である。しかしながら、それらは水を含めた溶媒中に分散液として懸濁し得る。したがって本発明の日焼け止め組成物は、ビヒクル中に分散された、紫外線吸収性中間層陰イオンを有する層状複水酸化物を含む。好ましくはビヒクルは水性であって、この中に層状複水酸化物を懸濁する。使用に関しては、本組成物を皮膚に擦り込んで、次に、ビヒクル中に含有される任意の揮発性有機化合物と一緒に水を蒸発させる。これにより、皮膚上に沈着物として層状複水酸化物が残留する。物質の層構造は、皮膚上に連続層として物質を沈着させるのを助ける。
【００４６】
水性ビヒクルは、その乳濁液中に懸濁される層状複水酸化物を含む水中油型乳濁液である。多数の層状複水酸化物はこのような乳濁液の水性相に懸濁されるが、いくつかのものは疎水性であって、油相に懸濁する。
【００４７】
層状複水酸化物は不溶性物質であり、且つ分子サイズが慣用の日焼け止め剤である有機化合物のサイズに比して大きい高分子である。
【００４８】
これらの特性は有利である。その大きな分子サイズ及び／又はその不溶性により、層状複水酸化物は一旦皮膚に沈着されると、皮膚に浸透する傾向も皮膚表面上を移動する傾向も示さない。（皮膚を通って体内に浸透したり、眼のような敏感な領域に移動することは、水溶性日焼け止め剤を用いたときに起り得る危険である。）本発明の物質は不溶性であるため使用者が水泳中も溶け出さないことも利点の１つである。
【００４９】
紫外線吸収性有機中間層陰イオンは水性溶液中で塩化物イオンとイオン交換する傾向がないことが判明し、これはこれらの陰イオンが海水と接触した際にイオン交換により浸出しないことを示している。
【００５０】
本発明の層状複水酸化物を含有する日焼け止め組成物は、層状複水酸化物を水性ビヒクル（その最も簡単なものは水である）に添加し、次いで混合して懸濁液を生成することにより調製し得る。層状複水酸化物は自己増粘性及び自己懸濁性を有しており、水に分散された層状複水酸化物が粘度を高め、自動的に懸濁液中の固体の保持を助長する。
【００５１】
本発明の日焼け止め組成物は、０．０５〜５０重量％、さらに好ましくは０．１〜３０重量％、もっと好ましくは２〜２０重量％の層状複水酸化物を含有する。もちろん、含有量は達成される紫外線吸収の量に影響を及ぼす。したがって、紫外線照射を高度に防止するための日焼け止め組成物に対しては、上限に近い量を用いる。
【００５２】
その他の物質を本発明の日焼け止め組成物中に含有してもよい。別の日焼け止め剤を混入することも本発明の範囲内である。考えられるものとしては、非イオン性有機日焼け止め剤、微細二酸化チタンのような無機日焼け止め剤、及び有機ポリマーの粒子が挙げられる。
【００５３】
日焼け止め組成物中に含有し得るその他の物質としては、皮膚緩和油、湿潤剤及び平滑性を増強するための液体、特にシリコーン油が挙げられる。任意に存在させる微量成分としては、香料及び防腐剤が挙げられる。
【００５４】
紫外線吸収性中間層陰イオンを混入した層状複水酸化物の調製は、一般に２段階で実施する：第一段階はいくつかのその他の陰イオンを有する層状複水酸化物の調製であり、第二段階は少なくともいくつかの陰イオンを紫外線吸収性陰イオンに置換するためのイオン交換である。
【００５５】
層状複水酸化物の調製に関しては文献に多数の方法が開示されている。好ましくは高温で、ある金属の酸化物の懸濁液を別の金属の可溶性塩、特に硝酸塩、塩化物又は硫酸塩で処理し、その後固体を濾別するとよいことが判明した。
【００５６】
層状複水酸化物は、存在する元素に関する化学分析により及びＸ線回析によって確認し得る。
【００５７】
紫外線吸収性中間層陰イオンを導入するためのイオン交換は、導入したい陰イオンの水性溶液中に層状複水酸化物を懸濁することにより実施し得る。その工程は、反応速度を増大するために高温で実施する。次に層状複水酸化物を濾別する。それは、層状複水酸化物の水性懸濁液に関して実施した化学分析及び紫外線分光分析法によって特徴付けられる。
【００５８】
異なる陰イオンは、層状複水酸化物の中間層部位に対して異なる親和性を有する。有機陰イオンは硫酸塩、塩化物及び硝酸塩陰イオンと置換し得、よってそれらをイオン交換により層状複水酸化物中に混入させ得ることが判明した。これに対して、炭酸塩イオンは有機陰イオン及び上記の無機陰イオンと置換する。したがって、中間層陰イオンとして炭酸塩を有する層状複水酸化物は、イオン交換による本発明の日焼け止め剤の調製のための出発物質として選択すべきでない。
【００５９】
しかしながら、炭酸塩形態の層状複水酸化物は、望ましい紫外線吸収種が塩としてよりむしろその酸（水素イオン）形態で用いられる場合に、出発物質として用い得る。この場合、炭酸塩陰イオンは、イオン交換によるよりむしろ分解反応により置換される。
【００６０】
【実施例】
実施例１：
ヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウムの調製
１リットル容量のねじ蓋付ポリプロピレンびんに加えた２５０ｍｌの蒸留水に４６．８ｇの酸化マグネシウムを懸濁させた。１４５．１ｇの水和硝酸アルミニウム（Ａｌ（ＮＯ３ ）３ ・９Ｈ２ Ｏ）を５００ｍｌの蒸留水に溶解させ、その結果できた溶液を、撹拌しながら上記の酸化マグネシウム懸濁液に加えた。びんの蓋をして２分間激しく振盪した後、９０℃に加熱したサーモスタット付きオーブンに５日間保持した。この後、固形物を濾別し、水で入念に洗浄した後凍結乾燥した。この乾燥物を、飽和塩化ナトリウム溶液を入れたデシケーター中に保持することにより最終的に水蒸気で平衡化した。
【００６１】
この物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
Ｍｇ／Ａｌのモル比 ＝２．０、
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４９．８、
％Ｈ２ Ｏ（脱ヒドロキシル化により生じる）＝１６．７、
％ＮＯ３ ＝２３．２。
【００６２】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ＮＯ３ ）２ の無水物の一般式と一致する。
【００６３】
水和物のＸ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物はハイドロタルク石に類似した層状複水酸化物（ｌａｙｅｒｅｄ ｄｏｕｂｌｅ ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）であり、１．４８Ａ及び１．５１Ａ（以下Ａは「オングストローム」を示す）に、特徴的な線間隔（ｌｉｎｅｓｐａｃｉｎｇｓ）が存在すること、
ｉｉ）この層間硝酸塩含有物質に特徴的である８．８Ａに主要な回折線（ｍａｊｏｒ ｌｉｎｅ）があることを示した。
【００６４】
この物質を２×１０−２ｇ／ｋｇ濃度で水に懸濁させた懸濁液のｕｖスペクトルを２５０ｎｍから５００ｎｍの範囲（当然多少は可視範囲に及ぶ）に亙って測定した結果、吸収帯を示さなかった。
【００６５】
実施例２：
イオン交換によるケイ皮酸陰イオンのヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
１３．４７ｇのケイ皮酸を１５０ｍｌの水に溶解／懸濁させた。５．１ｇの水酸化カリウムを５０ｍｌの水に溶解させた後、これを上記の懸濁液に加え清澄溶液を得た。この溶液を、２５０ｍｌ容量のポリプロピレン製ねじ蓋付びんに入れた、実施例１で調製した如き硝酸塩型の層状複水酸化物２５ｇに加えた。びんに蓋をし、２分間振盪した後、９０℃で２時間加熱した。固形物を濾別し、温水で洗浄した後凍結乾燥した。この生成物を、飽和塩化ナトリウム溶液を入れたデシケーター中に保持することにより最終的に水蒸気で平衡化した。
【００６６】
得られた物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４０．４、
％Ｃ ＝２３．０。
【００６７】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ｃｉｎ）１．４ （ＮＯ３ ）０．６ （ここでｃｉｎ＝ケイ皮酸イオン（ｃｉｎｎａｍａｔｅ）である）の無水物の一般式と一致する。
【００６８】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった１６．９Ａに主要な回折線があることを示した。
【００６９】
この物質を１．６×１０−２ｇ／ｋｇ濃度で水に懸濁させた懸濁液のｕｖスペクトルを２５０ｎｍから５００ｎｍの範囲に亙って測定した結果、２６８ｎｍに中心を持つ単一のピークを示した。又、ケイ皮酸ナトリウム及びケイ皮酸の溶液もこの波長に接近した単一のピークを示した。
【００７０】
実施例３：
ケイ皮酸及び水酸化カリウムの量を２倍にし（ケイ皮酸２６．９４ｇ、水酸化カリウム１０．２ｇ）、反応時間を１８時間に増やしたことを除いては、実施例２と同様の手法を繰り返した。
【００７１】
この物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝３６．２９、
％Ｃ ＝２７．３４。
【００７２】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ｃｉｎ）１．８４（ＮＯ３ ）０．１６（ここでｃｉｎ＝ケイ皮酸イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【００７３】
この実施例は、斯く、増加量のケイ皮酸イオンをイオン交換によって導入できることを示している。
【００７４】
実施例４：
イオン交換によるｐ−メトキシケイ皮酸イオンのヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
ケイ皮酸を３２．３６ｇのｐ−メトキシケイ皮酸に置き換えたことを除いては実施例３と同様の手法を繰り返した。
【００７５】
得られた物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝３３．５１、
％Ｃ ＝２９．０５。
【００７６】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ｍｃｉｎ）１．９０（ＮＯ３ ）０．１０（ここでｍｃｉｎ＝ｐ−メトキシケイ皮酸イオン（ｐ−ｍｅｔｈｏｘｙ ｃｉｎｎａｍａｔｅ）である）の無水物の一般式と一致する。
【００７７】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった１８．２Ａに主要な回折線があることを示した。
【００７８】
この物質を２．５×１０−２ｇ／ｋｇ濃度で水に懸濁させた懸濁液のｕｖスペクトルを２５０ｎｍから５００ｎｍの範囲に亙って測定した結果、２８５ｎｍに中心を持つ幅広のピークを示した。
【００７９】
実施例５：
イオン交換による２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸イオンのヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
ケイ皮酸を２４．９ｇの２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸に置き換え、水酸化カリウムを３．６ｇの水酸化ナトリウムに置き換えたことを除いては実施例２と同様の手法を繰り返した。
【００８０】
得られた物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝３５．４７、
％Ｃ ＝２３．９８。
【００８１】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ｐｂｓ）１．１４（ＮＯ３ ）０．８６（ここでｐｂｓ＝２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸イオン（２−ｐｈｅｎｙｌｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｏｌｅ−５−ｓｕｌｐｈｏｎａｔｅ）である）の無水物の一般式と一致する。
【００８２】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった２２Ａに主要な回折線があることを示した。
【００８３】
この物質を２．５×１０−２ｇ／ｋｇ濃度で水に懸濁させた懸濁液のｕｖスペクトルを２５０ｎｍから５００ｎｍの範囲に亙って測定した結果、３０４ｎｍに最大吸収を持つ幅広のピークを示した。又、２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸ナトリウム及び２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸溶液も同様のピークを示した。
【００８４】
実施例６：
反応時間を２時間から１８時間に増やしたことを除いては、実施例５と同様の手法を繰り返した。
【００８５】
得られた物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝２７．９２、
％Ｃ ＝２８．０８。
【００８６】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ｐｂｓ）１．７０（ＮＯ３ ）０．３０（ここでｐｂｓ＝２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【００８７】
実施例７：
２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸及び水酸化ナトリウムの量を２倍にしたことを除いては、実施例６と同様の手法を繰り返した。
【００８８】
得られた物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝２７．６３、
％Ｃ ＝２９．２１。
【００８９】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ｐｂｓ）１．７８（ＮＯ３ ）０．２２（ここでｐｂｓ＝２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【００９０】
実施例８：
イオン交換によるベンゾフェノン−４のヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
７．４１ｇの２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸（ベンゾフェノン−４）を１５０ｍｌの水に溶解させた。１．３５ｇの水酸化カリウムを５０ｍｌの水に溶解させ、これらの２種類の溶液を混合した。この溶液を、２５０ｍｌ容量のネジ蓋付きポリプロピレンびんに入れた、実施例１で得たヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム６．２５ｇに加えた。びんに蓋をして２分間振盪した後、９０℃で２時間加熱した。固形物を濾別し、新しく調製した上記と同じ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸及び水酸化カリウム溶液と接触させた。この混合液を９０℃で１８時間加熱した。しかる後、固形物を濾別し、温水で洗浄し、凍結乾燥した。この物質を、飽和塩化ナトリウム溶液を入れたデシケーター中に保持することにより最終的に水蒸気で平衡化した。
【００９１】
得られた物質の化学組成を分析により決定した。結果は、次のとおりであった：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝３４．５７、
％Ｃ ＝２５．４２。
【００９２】
赤外線分光は、この物質中に残存硝酸塩が存在しないことを示した。これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（Ｂｅｎｚ）１．１６（ここでＢｅｎｚは２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸の陰イオン、即ちベンゾフェノン−４の陰イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【００９３】
ベンゾフェノン−４陰イオンは、一部は一価のイオン種として、また一部は二価のイオン種として構造式中に存在すると考えられる。
【００９４】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった２０Ａ及び１３．４Ａに主要な回折線があることを示した。（２０Ａ線は主に一価のイオン種を含む層に相当し、１３．４Ａ線は二価のイオン種を含む層に相当する）。
【００９５】
この物質を５×１０−２ｇ／ｋｇ濃度で水に懸濁させた懸濁液の、２５０ｎｍから５００ｎｍの範囲に亙って測定したｕｖスペクトルは、約２５０、２８５、３２０及び３６５ｎｍに中心をもつピークを有する幅広い吸収帯を有する。
【００９６】
実施例９：
イオン交換によるベンゾフェノン−４のヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
２８ｇのベンゾフェノン−４及び７．２ｇの水酸化ナトリウムを２００ｍｌの蒸留水に溶解させ、鮮黄色の溶液を得た。この溶液を、２５０ｍｌ容量のネジ蓋付きポリプロピレンびんに入れた、実施例１で調製した如き硝酸塩型の層状複水酸化物２５ｇに加えた。びんに蓋をして２分間振盪した後、９０℃で２時間加熱した。固形物を濾別し、温水で洗浄した後、凍結乾燥した。この生成物を、飽和塩化ナトリウム溶液を入れたデシケーター中に２４時間保持することにより最終的に水蒸気で平衡化した。
【００９７】
得られた物質の化学組成を分析により決定した。結果は、次のとおりであった：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４０．４７、
％Ｃ ＝２０．９０、
％Ｎ ＝０．８２。
【００９８】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（Ｂｅｎｚ）０．８１（ＮＯ３ ）０．３８（ここでＢｅｎｚはベンゾフェノン−４の陰イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【００９９】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった１３．３Ａに主要な回折線があることを示した。（これは二価の陰イオンのベンゾフェノン−４を主として含む層に相当する）。
【０１００】
この物質を４×１０−２ｇ／ｋｇ濃度で水に懸濁させた懸濁液の、２５０ｎｍから５００ｎｍの範囲に亙って測定したｕｖスペクトルは、約２５０、２８５及び３６５ｎｍに中心をもつピークを有する幅広い吸収帯を有する。
【０１０１】
実施例１０：
イオン交換によるベンゾフェノン−４のヒドロキシ塩化アルミニウムマグネシウム中への導入
ヒドロキシ塩化アルミニウムマグネシウム（掘削泥水添加物ＸＵＳ５０１６５．０４Ｌ）の試料をＤｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙから入手した。この物質は、欧州特許出願公開第２０７８１０号及び対応の米国特許第４６６４８４３号、第４７９０９５４号及び第５０９４７７８号に記載される種類のものである。この物質のＸ線回折分析は、主要な結晶相が７．８Ａの基礎間隔を有する層状複水酸化物であることを示した。
【０１０２】
４．９５ｇのベンゾフェノン−４及び１．２９ｇの水酸化ナトリウムを４０ｍｌの蒸留水に溶解させ、鮮黄色の溶液を得た。この溶液を、２５０ｍｌ容量のネジ蓋付きポリプロピレンびんに入れた、上記のＤＯＷ社の原料１０ｇに加えた。びんにをして２分間振盪した後、９０℃で２時間加熱した。固形物を濾別し、温水で洗浄した後、凍結乾燥した。この生成物を、飽和塩化ナトリウム溶液を入れたデシケーター中に２４時間保持することにより最終的に水蒸気で平衡化した。
【０１０３】
得られた物質の化学組成を化学分析により決定した。結果は、次のとおりであった：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４６．６３、
％Ｃ ＝１８．０１。
【０１０４】
これはＭｇ４ Ａｌ４ （ＯＨ）１６（Ｂｅｎｚ）０．８ （Ｃｌ，ＯＨ）０．４ の無水物の一般式と一致する。
【０１０５】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する主要な結晶相は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった１３．８Ａに主要な回折線があることを示した。
【０１０６】
実施例１１：
イオン交換によるベンゾフェノン−３のヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
４．５ｇのＮａＯＨ及び１７．１ｇのベンゾフェノン−３を３５０ｍｌの脱イオン水に溶解させた。しかる後、この溶液を、実質的に実施例１で述べた如く調製したヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム１４．１ｇを有するびんに加えた。この混合液を振盪し、室温で１８時間静置した。得られた黄色固形物を中位の多孔度のフリット漏斗中、８０℃で１５００ｍｌのエタノール続いて１０００ｍｌの水で洗浄した。得られた固形物を濾過及び凍結乾燥し、自由流動性の乾燥黄色粉末固形物を得た。
【０１０７】
この物質の化学組成を化学分析により決定した。結果は次の通りである：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝５４．５、
％Ｃ ＝５．２５。
【０１０８】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（Ｂｚ３）０．１５（ＮＯ３ ）０．４９（ＯＨ）１．３６（ここでＢｚ３はベンゾフェノン−３から誘導される陰イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【０１０９】
Ｘ線回折データは、
ｉ）存在する唯一の結晶物質は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった１１．８Ａに主要な回折線があることを示した。
【０１１０】
実施例１２：
イオン交換によるベンゾフェノン−３のヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
８．６ｇのベンゾフェノン−３を５０ｍｌのエタノールに溶解させ、これを、５０ｍｌの蒸留水に溶解した１．５ｇの水酸化ナトリウムに加え、黄色溶液を得た。この溶液を、２５０ｍｌ容量のネジ蓋付きポリプロピレンびんに入れた、実施例１と同様に調製した硝酸塩型の層状複水酸化物１０ｇに加えた。びんに蓋をして２分間振盪し、９０℃で２０分間加熱した後、室温で穏やかに３時間撹拌した。固形物を濾別した後、エタノール次に熱水で繰り返し洗浄した。固形生成物を凍結乾燥し、水蒸気で平衡化した。
【０１１１】
得られた物質の化学組成を化学分析により決定した。結果は、次のとおりであった：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４７．４７、
％Ｃ ＝１２．４５、
％Ｎ ＝１．３５。
【０１１２】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（Ｂｚ３）０．４１（ＮＯ３ ）０．５３（ＯＨ）１．０６（ここでＢｚ３はベンゾフェノン−３から誘導される陰イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【０１１３】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物質は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった、ベンゾフェノン−３交換物質の特徴である１１．５Ａに主要な回折線があることを示した。
【０１１４】
実施例１３：
イオン交換によるベンゾフェノン−８のヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
９．２ｇのベンゾフェノン−８を５０ｍｌのエタノールに溶解させ、これを、５０ｍｌの蒸留水に溶解した１．５ｇの水酸化ナトリウムに加え、濃オレンジ色の溶液を得た。この溶液を、２５０ｍｌ容量のネジ蓋付きポリプロピレンびんに入れた、実施例１と同様に調製した硝酸塩型の層状複水酸化物１０ｇに加えた。びんに蓋をして２分間振盪し、９０℃で１時間加熱した後、室温で穏やかに２時間撹拌した。固形物を濾別した後、エタノール次に熱水で繰り返し洗浄した。固形生成物を凍結乾燥し、水蒸気で平衡化した。
【０１１５】
得られた物質の化学組成を化学分析により決定した。結果は、次のとおりであった：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４８．６７、
％Ｃ ＝９．４２、
％Ｎ ＝１．６４。
【０１１６】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（Ｂｚ８）０．３ （ＮＯ３ ）０．６３（ＯＨ）１．０７（ここでＢｚ８はベンゾフェノン−８から誘導される陰イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【０１１７】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物質は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった、ベンゾフェノン−８交換物質の特徴である１７．０Ａに主要な回折線があることを示した。
【０１１８】
実施例１４：
イオン交換によるブチルメトキシジベンゾイルメタン（Ｐａｒｓｏｌ １７８９）のヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
１１．６２ｇのＰａｒｓｏｌ １７８９を１：１（重量による）の蒸留水−エタノール混合液１００ｍｌに懸濁させ、これを、５０ｍｌの蒸留水に溶解した１．５ｇの水酸化ナトリウムに加え、鮮黄色溶液／懸濁液を得た。これを、２５０ｍｌ容量のネジ蓋付きポリプロピレンびんに入れた、実施例１で得た硝酸塩型の層状複水酸化物１０ｇに加えた。びんに蓋をして２分間振盪し、９０℃で６時間加熱した。固形物を濾別した後、アセトン次に熱水で繰り返し洗浄した。固形生成物を凍結乾燥し、水蒸気で平衡化した。
【０１１９】
得られた物質の化学組成を化学分析により決定した。結果は、
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝３７．５８、
％Ｃ ＝２７．６８、
％Ｎ ＝０．７２。
【０１２０】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（Ｐａｒ）０．８１（ＮＯ３ ）０．３６（ＯＨ）０．８３（ここでＰａｒはＰａｒｓｏｌ １７８９の陰イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【０１２１】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物質は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった、Ｐａｒｓｏｌ １７８９交換物質の特徴である１４．９Ａ及び１１．４Ａに主要な回折線があることを示した。
【０１２２】
実施例１５：
ヒドロキシ硝酸アルミニウム亜鉛の調製
酸化マグネシウムを９４．５ｇの酸化亜鉛に完全に置き換えたことを除いては実施例１に記載の方法によって、ヒドロキシ硝酸アルミニウム亜鉛を調製した。
【０１２３】
この物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
Ｚｎ／Ａｌのモル比 ＝２．０、
％ＺｎＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝６１．５、
％Ｈ２ Ｏ（脱ヒドロキシル化により生じる）＝１２．９、
％ＮＯ３ ＝１７．８。
【０１２４】
これはＺｎ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ＮＯ３ ）２ の無水物の一般式と一致する。
【０１２５】
水和物のＸ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物はハイドロタルク石に類似した層状複水酸化物であり、１．５１Ａ及び１．５３Ａに、特徴的な線間隔が存在すること、
ｉｉ）この層間硝酸塩含有物質の特徴である８．８Ａに主要な回折線があることを示した。
【０１２６】
実施例１６：イオン交換による２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸イオンのＺｎ／Ａｌ層状複水酸化物中への導入
２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホネート１９．６５ｇを水１５０ｍｌに溶解／懸濁した。水酸化ナトリウム２．８７ｇを水５０ｍｌに溶解した後、該懸濁物に添加して透明な溶液を得た。次いで、この溶液を、２５０ｍｌ容のポリプロピレン製ねじ蓋付びん中の、実施例１５で得た硝酸塩型の層状複水酸化物２５ｇに添加した。そのびんに蓋をし、２分間攪拌した後、９０℃で１８時間加熱した。固体を濾別し、温水で洗浄後、凍結乾燥した。この物質を、飽和塩化ナトリウム溶液が入ったデシケータ中で保管することにより最終的に水蒸気で平衡化した。
【０１２７】
その物質の化学組成物は、熱および元素分析により決定した。結果は次の通りである：
％ＺｎＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝３７．２７、
％Ｃ ＝２６．３０。
【０１２８】
これは、Ｚｎ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ｐｂｓ）１．９４（ＮＯ３ ）０．０６の無水物の理想的な式と一致し、Ｘ線回折パターンから、
ｉ）存在する唯一の結晶性物質は、層状複水酸化物であること、
ｉｉ）主要な回折線が２２Ａにあり、これは出発物質では存在しないことがわかった。
【０１２９】
実施例１７：イオン交換によるベンゾフェノン−４のヒドロキシ硝酸アルミニウム亜鉛中への導入
水酸化ナトリウム５．６ｇを室温で脱イオン水２２５ｍｌに溶解した。これに、２１．５ｇのベンゾフェノン−４を添加した。その混合物を攪拌してベンゾフェノン−４を完全に溶解した。次いで、得られた溶液を、実施例１５の記載に従って調製したヒドロキシ硝酸アルミニウム亜鉛２５ｇを含むびんに移した。この混合物を浸盪し、９５℃のオーブン中に１８時間置いた。固体を濾過し、８０℃の水１５００ｍｌで洗浄し、再び濾過し、最後に凍結乾燥した。自由流動性の黄色粉末が得られた。
【０１３０】
この物質の化学組成物は、分析により決定した。結果は次の通りである：
％ＺｎＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４９．０、
％Ｃ ＝１８．０。
【０１３１】
これは、Ｚｎ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（Ｂｅｎｚ）０．９４（ＮＯ３ ）０．０５の無水物の式［式中、Ｂｅｎｚはベンゾフェノン−４から誘導されるアニオンである。］と一致した。この場合、ベンゾフェノン−４は、構造中に主にジアニオン形で存在すると考えられる。このことは、Ｘ線回折データにより支持される。
【０１３２】
Ｘ線回折データからは、
ｉ）存在する唯一の結晶性物質は、層状複水酸化物であること、
ｉｉ）主要な回折線が１３．５Ａにあり、これは出発物質では存在しない（１３．５Ａの線は、主として２価のイオン種を含む層に対応する。）ことがわかった。
【０１３３】
そのような２価のイオン種は、組成物によるＵＶ−Ａ保護を高めたい場合に好ましい。
【０１３４】
実施例１８：ヒドロキシ硝酸アルミニウムカルシウムの調製
溶液１：水酸化ナトリウム２５ｇおよび硝酸ナトリウム３６．４ｇを水１７５ｍｌに溶解した。
【０１３５】
溶液２：硝酸カルシウム四水和物６８．１ｇおよび硝酸アルミニウム無水和物４６．８ｇを水３２５ｍｌに溶解した。
【０１３６】
溶液１を１ｌ容のポリプロピレン製びんに入れた。次いで、溶液２を約１時間かけてそのびんにゆっくり加えた。溶液２の添加中、そのびんの中身を激しく攪拌した。びんに蓋をし、９０℃のオーブンに７日間入れておいた。固体を濾別し、水洗、凍結乾燥し、最後に実施例１の記載に従って水蒸気で平衡化した。
【０１３７】
Ｘ線回折から、その物質は、８．５Ａの基礎間隔を有する層状複水酸化物を少量の未同定物質とともに含むことがわかった。
【０１３８】
実施例１９：イオン交換による２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸イオンのＣａ／Ａｌ層状複水酸化物中への導入
２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホネート１３．８ｇを水１５０ｍｌに溶解／懸濁した。水酸化ナトリウム２．０ｇを水５０ｍｌに溶解した後、該懸濁物に添加して透明な溶液を得た。次いで、この溶液を、２５０ｍｌ容のポリプロピレン製ねじ蓋付びん中の、実施例１８で得た硝酸塩型層状複水酸化物１５ｇに添加した。そのびんに蓋をし、２分間攪拌した後、９０℃で１８時間加熱した。固体を濾別し、温水で洗浄後、凍結乾燥した。その物質を、飽和塩化ナトリウム溶液が入ったデシケータ中で保管することにより最終的に水蒸気で平衡化した。
【０１３９】
生成物のＸ線回折パターンは、出発物質の特徴である８．５Ａの回折線を示さなかった。その代わりに、２２Ａに主要な回折線が存在し、これは、出発物質では存在しなかった。
【０１４０】
その物質の化学組成物は、熱および元素分析により決定した。結果は次の通りである：
％ＣａＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４３．１２％、
％Ｃ ＝２３．４０％。
【０１４１】
これは、４１重量％の２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホネートを含む物質と一致する。
【０１４２】
実施例２０：ハイドロタルク石による陰イオン性日焼け止め保持に対する塩（塩化ナトリウム）の効果
実施例２で調整した物質１ｇを、塩化ナトリウム０．２ｇ（この塩化物イオンは、ケイ皮酸イオンの化学量論的置換に必要な量より多い）を含む水５０ｍｌに分散させた。その懸濁物を室温で２時間攪拌し、固体を濾別した。次いで、濾液の紫外線分光分析を行ってケイ皮酸イオンの存在を調べた。測定量は、層状複水酸化物からほんの３％のケイ皮酸イオンが除去されたことと一致した。
【０１４３】
実施例２１：日焼け止め組成物の製造
下記成分を混合して７５℃に加熱することにより油相を調製した：
鉱油（Ｓｉｒｉｕｓ Ｍ８５） １０．０％、
Ｎａｆｏｌ １６／１８ ２．０％、
モノステアリン酸グリセロール ０．５％、
ポリオキシエチレン（２０）セチルエーテル ０．５％。
【０１４４】
量は、最終物質の重量％で示す。Ｎａｆｏｌ １６／１８はパルミチルアルコールおよびステアリルアルコールの混合物である。
【０１４５】
水相は、下記成分から調製した：
脱イオン水 ７４．７％、
グリセロール ２．０％、
キサンタンゴム ０．３％。
【０１４６】
この水相は、グリセロールを水に添加した後、高せん断ミキサー（Ｓｉｌｖｅｒｓｏｎ ミキサー）を有するＲｈｏｄｏｐｏｌ中で混合することにより調製した。
【０１４７】
次いで、両方の相を７５℃に加熱し、高せん断ミキサー中で混合した後、層状複水酸化物１０％を添加した。
【０１４８】
次いで、そのエマルジョンを冷却した。
【０１４９】
層状複水酸化物は上記実施例６で調製したものであるが、上記実施例２〜１０、１６、１７または１９のいずれかで調製した層状複水酸化物を使用することも可能である。
【０１５０】
また、複水酸化物と種々の層間陰イオン（例えば、等量の実施例４および７の物質または等量の実施例７および８の物質）との混合物を使用することもできる。
【０１５１】
所望により、着色顔料を水相に少量添加して、水をその分だけ少なくすることもできる。
【０１５２】
実施例２２（比較例）および実施例２３：ベンゾフェノン−４（遊離のものおよびヒドロキシ硝酸アルミニウム亜鉛に取り込まれたものの両方）を含む日焼け止め組成物の製造および特性
下記表Ｉの組成を有する日焼け止め製品を製造した。これらの日焼け止め製品の製造方法は次の通りである。ブチレングリコール、ジメチコーンコポリオール、ＥＤＴＡ、水、グリセリン、Ｇｅｒｍａｂｅｎおよび紫外線吸収剤を、高せん断ホモジナイザーを使用して室温で１０分間混合し、混合物Ａを得た。実施例２２の日焼け止め活性物質は、ベンゾフェノン−４自体であった。実施例２３の日焼け止め活性物質は、実施例１７で調製した、ヒドロキシ硝酸アルミニウム亜鉛中にベンゾフェノン−４がイオン交換されたものであった。別々の容器中で、オクチルドデシルネオペンタノエート、プロピレングリコールイソセト−３ アセテート、セチルジメチコーンおよびオクチルメトキシシンナメートを一緒に溶解し、上述の混合物Ａに添加した。次いで、この混合物のｐＨを、トリエタノールアミンまたは塩酸水を必要に応じて使用することにより７．６〜７．９に調整した。エマルジョンが得られ、これを使用して下記に述べる ｉｎ ｖｉｔｒｏ ＳＰＦ試験を行った。
【０１５３】
日焼け止め剤において紫外線から守るための組成物の効能を評価するために、充分確立された ｉｎ ｖｉｔｒｏ Ｓｕｎ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｆａｃｔｏｒ （ＳＰＦ）法を使用した。その方法は、Ｄｉｆｆｅｙらの文献（Ｄｉｆｆｅｔ， ＢＬ， ａｎｄ Ｒｏｂｓｏｎ， Ｊ， “Ａ Ｎｅｗ Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ ｔｏ Ｍｅａｓｕｒｅ Ｓｕｎｓｃｒｅｅｎ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｆｓｃｔｏｒｓ ｔｈｒｏｕｇｈｏｕｔ ｔｈｅ Ｕｌｔｒａ−ｖｉｏｌｅｔ Ｓｐｅｃｔｒｕｍ”， Ｊ． Ｓｏｃ． Ｃｏｓｍｅｔ． Ｃｈｅｍ．， ４０， １２７−１３３， （１９８９）） に記載されている。この方法は、本質的に、標準量の日焼け止め組成物（２ｍｇ／ｃｍ２ ）を、表面粗さがヒトの皮膚に近い特定のテープ（Ｔｒａｎｓｐｏｒｅ ，３Ｍ社製）に塗布することから成る。次いで、日焼け止めエマルジョンフィルムの拡散透過率スペクトルを、特別に改造した分光光度計で２９０〜４００ｎｍにわたって測定した。通常の（紅斑）ＳＰＦは、Ｄｉｆｆｅｙらによる上記文献に記載された方法でスペクトルデータから計算される。ＵＶ−Ａ保護因子は、３２０〜４００ｎｍの波長における、日焼け止めフィルムの平均透過率の逆数として計算される。
【０１５４】
実施例２２および実施例２３の日焼け止め組成物に対するこれらの測定結果（各組成物に対して３〜５回反復して行った測定の平均）を下記表ＩＩに示す。
【０１５５】
層状複水酸化物中にイオン交換されたベンゾフェノン−４を含む実施例２３の日焼け止め物質が、広範囲の波長にわたって、ベンゾフェノン−４が層状複水酸化物中にイオン交換されていない比較例２２の日焼け止め物質よりもかなり良好に紫外線から守ることができることがわかる。
【０１５６】
【表１】
【０１５７】
【表２】
【産業上の利用分野】
本発明は、日焼け止め剤、即ち、２９０〜４００ｎｍの範囲の波長の紫外線を吸収可能な化合物に関する。本発明はさらに、日焼け止め剤を配合したヒトの皮膚に適用するための日焼け止め組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般的に言えば、高層大気を通り抜けて地表に達する有害な紫外（ＵＶ）線、特に日光から生じた紫外線は次のように分類され得る：
ｉ．真皮の真上で吸収され、紅斑及び皮膚の色素沈着の原因となる、皮膚に対して強力な生理病理学的活性を有する富エネルギーＵＶ−Ｂ線（波長２９０〜３２０ｎｍ）；並びに
ｉｉ．そのエネルギーは非常に低く、引き起こす光生物学的作用は自然では非常に長期に及び、例えば皮膚の老化を促す、皮膚の深層（真皮まで及びそれ以上）にまで透過するＵＶ−Ａ線（波長３２０〜４００ｎｍ）。
【０００３】
日焼け止め組成物はＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂ線の両方に対する保護を提供することが望ましいが、ＵＶ−Ａ照射に起因する長期光生物学的作用を防止するためにＵＶ−Ａ線に対する保護が特に望ましい。
【０００４】
天然鉱物性ヒドロタルサイトは、層状（ｌａｙｅｒｄ）複水酸化物として時折公知の種類の物質の一例であって、一般式：
【０００５】
【化３】
を有する。
【０００７】
上記式中、Ｎは１つ又はそれ以上の３価の金属イオンである。Ｍは１つ又はそれ以上の２価の金属イオンであるかあるいは１価のリチウムである。
【０００８】
Ｍが２価の場合にはｙ＝ｎであり、Ｍが１価の場合にはｙ＝ｎ−ｍである。Ｘは陰イオンの１つ又は混合物である。
【０００９】
これらの物質中で、金属イオンは、金属イオンがＯＨ基を介して一緒に結合している層中に存在する。陰イオンＸは金属イオンの層の間の中間層に位置する。ｘ− は陰イオン上の電荷であり、ｙ＋ は混合金属ヒドロキシ陽イオン上の電荷である。
【００１０】
層状複水酸化物は、Ｍｅｙｎ ｅｔ ａｌ．，Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，２９ ５２０１（１９９０）及びＭｉｙａｔａ，Ｃｌａｙｓ ａｎｄ Ｃｌａｙ Ｍｉｎｅｒａｌｓ，３１，３０５（１９８３）を含めた多数の文献に記載されている。これらの文献を参照すると、陰イオンＸが他の陰イオンと交換され得ることがこれらの複水酸化物の特性であることが判る。天然ヒドロタルサイトそれ自体においては、中間層陰イオンは炭酸塩である。今までに合成された多数の複水酸化物においては、中間層陰イオンは無機であるが、種々の脂肪族及び芳香族カルボキシレートを含めた有機陰イオンの混入についてもいくつかの開示がある。Ｍｅｙｎ等（上記参照）は、金属が亜鉛／アルミニウム、亜鉛／クロム又はリチウム／アルミニウムである場合、中間層陰イオンとしてナフタレン−１−スルホネート、サリチレート及びいくつかの他の有機物質を混入することを開示している。Ｃｈｉｂｗａ，ケンブリッジ大学のＰｈＤ論文（１９８９）は、中間層陰イオンとしてクロロシンナメートの混入を開示している。
【００１１】
層状複水酸化物の種々の応用が、特に化学触媒としての使用を含めて、科学文献に示されている。
【００１２】
広義には、本発明は、日焼け止め剤として使用される、中間層陰イオンの少なくともいくつかが２９０〜４００ｎｍの範囲の紫外線を吸収する層状複水酸化物を提供する。
【００１３】
第一の態様において、本発明は、式：
【００１４】
【化４】
（式中、Ｎは３価の金属イオンの１つ又は混合物であり、Ｍは２価の金属イオンの１つ又は混合物であるかあるいはリチウムであって、Ｍが２価の場合にはｙ＝ｎであり、Ｍがリチウムの場合にはｙ＝（ｎ−ｍ）であり、Ｘはその少なくともいくつかが２９０〜４００ｎｍの範囲の波長の少なくとも一部で紫外線吸収を示す中間層陰イオンを表す）
の層状複水酸化物を配合した化粧品的に許容可能なビヒクルを含むヒトの皮膚に適用するための日焼け止め組成物を提供する。
【００１６】
第二の態様において、本発明は、日焼け止め剤としての上記した層状複水酸化物の使用を提供する。
【００１７】
第三の態様は、本発明は、陰イオンＸの大部分がクロロシンナメート、サリチレート又はナフタレン−１−スルホネートである公知の物質を除く、上記した層状複水酸化物を提供する。
【００１８】
本発明のある好ましい形態は、層状複水酸化物に混入したときにその混入前に当該陰イオンが示すＵＶ−Ａ吸収に比して高いＵＶ−Ａ吸収を示す中間層陰イオンを含む層状複水酸化物に関する。
【００１９】
本発明において、３価金属は、アルミニウム、クロム、鉄、ニッケル、マンガン及びスカンジウムのうちの１つ又はそれ以上である。
【００２０】
２価金属は、マグネシウム、亜鉛、カルシウム、コバルト、ニッケル、銅、マンガン及び鉄のうちの１つ又はそれ以上である。
【００２１】
考えられ得るイオンのリストから判るように、遷移金属のニッケル、マンガン及び鉄は２価又は３価の状態をとり得る。これらの金属の少なくともいくつかは同一物質中に２価イオンと３価イオンとを提供することができる。
【００２２】
層状複水酸化物において、１価又は２価イオン対３価イオンの比率は、ｍ／ｎ比で示される。本発明で用いる層状複水酸化物の金属イオンＭが２価の場合には、ｍ／ｎ比は好ましくは１〜５の範囲である。１価イオンＭの場合には、ｍ／ｎは好ましくは０．３３〜０．５の範囲である。
【００２３】
ｚの値は、一般的にはｍとｎの和の０〜１０倍、さらに好ましくは０〜２倍の範囲である。これは次のように表され得る：
【００２４】
【数１】
さらに好ましくは
【００２６】
【数２】
概して、紫外線吸収性陰イオンは２９０〜４００ｎｍの所定の範囲の少なくとも一部でかなり強力な吸収を示すのが望ましい。これは、酸形態又は単純アルカリ金属もしくはアンモニウム塩の陰イオンが、２９０〜４００ｎｍの所定の波長範囲の少なくとも一部で少なくとも２×１０３ 、好ましくは３×１０３ 、さらに好ましくは少なくとも５×１０３ 、もっと好ましくは８×１０３ のモル吸光係数の吸収を示すという要件として明記される。
【００２８】
このような陰イオンを層状複水酸化物中に中間層陰イオンとして混入した場合、その紫外線吸収は概してほとんど変わらずに保持されるということが判明した。
【００２９】
しかし、本発明のある好ましい態様において、使用する陰イオンは、層状複水酸化物に混入した場合にその混入前に当該陰イオンが示したＵＶ−Ａ吸収に比して高いＵＶ−Ａ吸収を示す陰イオンである。したがって、本発明の好ましい態様においては、ＵＶ−Ａ防止の増強は、複水酸化物中に特定の陰イオン（さらに詳しく後述する）を混入することにより得られる。
【００３０】
有効な紫外線吸収は、その最大値が所定の範囲外である吸収帯により提供される。例えば、ｐ−メトキシシンナメートイオンは２８５ｎｍで吸収最大を示すが、その吸収帯は２９０ｎｍ〜少なくとも約３２０ｎｍまでの範囲に亘って強力な吸収を提供するのに十分な広さである。
【００３１】
２６０〜３６０ｎｍの範囲で最大値を有する吸収帯により２９０〜４００ｎｍの範囲の吸収が提供される場合もしばしばある。
【００３２】
好ましい陰イオンは、４００〜７００ｎｍの可視帯、特に４５０ｎｍ以上、、とりわけ４５０又は５００〜６５０ｎｍの部分で強い吸収を示さない。このような範囲における吸収の吸光係数は、好ましくは当該範囲を通じて５×１０２ 以下である。
【００３３】
ある物質のモル吸光係数は通常溶液中で測定され、次式：
【００３４】
【数３】
［式中、Ｉは試料を透過した放射線の強度であり、
Ｉ０ は同一溶媒で構成されるが被験の物質を含有しない参考サンプルを透過した放射線の強度であり、
ｃはモル濃度（ｍｏｌ／リットル）であり、そして
ｌは溶液中の路長（ｃｍ）である］
で示される。
【００３６】
紫外線を吸収する中間層陰イオンＸの割合はかなり少なくてもよく、例えば存在する全中間層陰イオンの５モル％であり得るが、存在する中間層陰イオンの大部分のように多くてもよく、１００％までということさえある。
【００３７】
紫外線を吸収する中間層陰イオンは、下記のもののうちの１つ又はそれ以上である：
パラアミノベンズイミダゾール−５−スルホネート
３−イミダゾール−４−イルアクリレート
サリチレート
ｐ−メトキシシンナメート
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート
３，３，５−トリメチルシクロヘキシル−２−アセトアミドベンゾエート
シンナメート
ｐ−アミノベンゾエート
３，４−ジメトキシフェニルグリオキシレート
α−（２−オキソボルン−３−イリデン）−ｐ−キシレン−２−スルホネート
α−（２−オキソボルン−３−イリデン）トルエン−４−スルホネート
α−シアノ−４−メトキシシンナメート
２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホネート。
【００３８】
これらの陰イオンは、遊離状態で２９０〜４００ｎｍの範囲の波長で吸収を示すことが公知である。それらはすべて、日焼け止め剤として用いるのに許容可能な物質とみなされる。
【００３９】
上記したように、これらの陰イオンを層状複水酸化物中に中間層陰イオンとして混入すると、紫外線を吸収するその能力は保持されることが判明した。ほとんどの場合、上記の陰イオンを層状複水酸化物中に混入した場合、紫外線吸収スペクトルの変化は無視できる程度である。
【００４０】
本発明の目的に適した別の群の有機物質は、分子中にフェノール性陽子又は他の弱酸性陽子を混入することにより弱酸官能価を含有するものである。この陽子を除去すると層状複水酸化物中に混入可能な陰イオンを生成し得るということも判明した。このような化合物に由来する陰イオンは親化合物とは明らかに異なる吸収スペクトルを有するが、これらの陰イオンは層状複水酸化物中に混入すると、２９０〜４００ｎｍ（ＵＶ−Ａ領域）の光の有意な吸収を示す。事実、本発明の好ましい態様においては、層状複水酸化物の非存在下で親化合物の使用により得られるものより高いＵＶ−Ａ防止が得られるように層状複水酸化物中に混入した場合に、これらの陰イオンが上記したスペクトルを示すという効果が認められている。
【００４１】
このようなフェノール系化合物の重要な群としては、ヒドロキシル化ベンゾフェノン誘導体が挙げられる。弱酸性エノール形態で存在し得るある種のジケトン化合物を配合してもよい。本発明の好ましい態様に用いられる陰イオンが得られる化合物として、ＣＴＦＡ名と化学名で示す物質を非限定的に例示する：
中間層陰イオンを提供し得る別の化合物としては、Ｇｉｖａｕｄａｎ Ｃｏｒｐ．からＰＡＲＳＯＬ １７８９として販売されているブチルメトキシジベンゾイルメタンが挙げられる。
【００４３】
置換１，３−ジケトン（系統名 １−（４−メトキシ−５−ベンゾフラニル）−３−フェニル−１，３−プロパンジオン）であるＰｏｎｇｏｍｏｌから得られる陰イオン種も本発明のこの形態に含まれる。それは、２５０〜５００ｎｍの範囲内で紫外線吸収帯、並びに５，０００〜７０，０００の吸光係数を有する。ジケトンは、米国特許第５，１５２，９８３号に詳細に記載されており、その記載内容は参照により本明細書中に含めるものとする。
【００４４】
これらの物質のうち、ベンゾフェノン−４及びベンゾフェノン−９はスルホン酸基により付与される強酸官能価とフェノール性陽子により付与される弱酸官能価とを有する。これらの物質（及びベンゾフェノン−４の一ナトリウム塩であるベンゾフェノン−５）に関しては、その物質の多形態の陰イオンが生成され、層状複水酸化物中に混入され得る。したがって、例えばベンゾフェノン−４を用いると、一及び二陰イオンの両方が層状複水酸化物中に混入される。層状複水酸化物中に混入されるこの物質の一陰イオン及び二陰イオン形態、並びにその任意の組み合わせは日焼け止め剤として有用であって、本発明の範囲内であると考えられる。
【００４５】
層状複水酸化物は、水及びその他の溶媒に不溶である。しかしながら、それらは水を含めた溶媒中に分散液として懸濁し得る。したがって本発明の日焼け止め組成物は、ビヒクル中に分散された、紫外線吸収性中間層陰イオンを有する層状複水酸化物を含む。好ましくはビヒクルは水性であって、この中に層状複水酸化物を懸濁する。使用に関しては、本組成物を皮膚に擦り込んで、次に、ビヒクル中に含有される任意の揮発性有機化合物と一緒に水を蒸発させる。これにより、皮膚上に沈着物として層状複水酸化物が残留する。物質の層構造は、皮膚上に連続層として物質を沈着させるのを助ける。
【００４６】
水性ビヒクルは、その乳濁液中に懸濁される層状複水酸化物を含む水中油型乳濁液である。多数の層状複水酸化物はこのような乳濁液の水性相に懸濁されるが、いくつかのものは疎水性であって、油相に懸濁する。
【００４７】
層状複水酸化物は不溶性物質であり、且つ分子サイズが慣用の日焼け止め剤である有機化合物のサイズに比して大きい高分子である。
【００４８】
これらの特性は有利である。その大きな分子サイズ及び／又はその不溶性により、層状複水酸化物は一旦皮膚に沈着されると、皮膚に浸透する傾向も皮膚表面上を移動する傾向も示さない。（皮膚を通って体内に浸透したり、眼のような敏感な領域に移動することは、水溶性日焼け止め剤を用いたときに起り得る危険である。）本発明の物質は不溶性であるため使用者が水泳中も溶け出さないことも利点の１つである。
【００４９】
紫外線吸収性有機中間層陰イオンは水性溶液中で塩化物イオンとイオン交換する傾向がないことが判明し、これはこれらの陰イオンが海水と接触した際にイオン交換により浸出しないことを示している。
【００５０】
本発明の層状複水酸化物を含有する日焼け止め組成物は、層状複水酸化物を水性ビヒクル（その最も簡単なものは水である）に添加し、次いで混合して懸濁液を生成することにより調製し得る。層状複水酸化物は自己増粘性及び自己懸濁性を有しており、水に分散された層状複水酸化物が粘度を高め、自動的に懸濁液中の固体の保持を助長する。
【００５１】
本発明の日焼け止め組成物は、０．０５〜５０重量％、さらに好ましくは０．１〜３０重量％、もっと好ましくは２〜２０重量％の層状複水酸化物を含有する。もちろん、含有量は達成される紫外線吸収の量に影響を及ぼす。したがって、紫外線照射を高度に防止するための日焼け止め組成物に対しては、上限に近い量を用いる。
【００５２】
その他の物質を本発明の日焼け止め組成物中に含有してもよい。別の日焼け止め剤を混入することも本発明の範囲内である。考えられるものとしては、非イオン性有機日焼け止め剤、微細二酸化チタンのような無機日焼け止め剤、及び有機ポリマーの粒子が挙げられる。
【００５３】
日焼け止め組成物中に含有し得るその他の物質としては、皮膚緩和油、湿潤剤及び平滑性を増強するための液体、特にシリコーン油が挙げられる。任意に存在させる微量成分としては、香料及び防腐剤が挙げられる。
【００５４】
紫外線吸収性中間層陰イオンを混入した層状複水酸化物の調製は、一般に２段階で実施する：第一段階はいくつかのその他の陰イオンを有する層状複水酸化物の調製であり、第二段階は少なくともいくつかの陰イオンを紫外線吸収性陰イオンに置換するためのイオン交換である。
【００５５】
層状複水酸化物の調製に関しては文献に多数の方法が開示されている。好ましくは高温で、ある金属の酸化物の懸濁液を別の金属の可溶性塩、特に硝酸塩、塩化物又は硫酸塩で処理し、その後固体を濾別するとよいことが判明した。
【００５６】
層状複水酸化物は、存在する元素に関する化学分析により及びＸ線回析によって確認し得る。
【００５７】
紫外線吸収性中間層陰イオンを導入するためのイオン交換は、導入したい陰イオンの水性溶液中に層状複水酸化物を懸濁することにより実施し得る。その工程は、反応速度を増大するために高温で実施する。次に層状複水酸化物を濾別する。それは、層状複水酸化物の水性懸濁液に関して実施した化学分析及び紫外線分光分析法によって特徴付けられる。
【００５８】
異なる陰イオンは、層状複水酸化物の中間層部位に対して異なる親和性を有する。有機陰イオンは硫酸塩、塩化物及び硝酸塩陰イオンと置換し得、よってそれらをイオン交換により層状複水酸化物中に混入させ得ることが判明した。これに対して、炭酸塩イオンは有機陰イオン及び上記の無機陰イオンと置換する。したがって、中間層陰イオンとして炭酸塩を有する層状複水酸化物は、イオン交換による本発明の日焼け止め剤の調製のための出発物質として選択すべきでない。
【００５９】
しかしながら、炭酸塩形態の層状複水酸化物は、望ましい紫外線吸収種が塩としてよりむしろその酸（水素イオン）形態で用いられる場合に、出発物質として用い得る。この場合、炭酸塩陰イオンは、イオン交換によるよりむしろ分解反応により置換される。
【００６０】
【実施例】
実施例１：
ヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウムの調製
１リットル容量のねじ蓋付ポリプロピレンびんに加えた２５０ｍｌの蒸留水に４６．８ｇの酸化マグネシウムを懸濁させた。１４５．１ｇの水和硝酸アルミニウム（Ａｌ（ＮＯ３ ）３ ・９Ｈ２ Ｏ）を５００ｍｌの蒸留水に溶解させ、その結果できた溶液を、撹拌しながら上記の酸化マグネシウム懸濁液に加えた。びんの蓋をして２分間激しく振盪した後、９０℃に加熱したサーモスタット付きオーブンに５日間保持した。この後、固形物を濾別し、水で入念に洗浄した後凍結乾燥した。この乾燥物を、飽和塩化ナトリウム溶液を入れたデシケーター中に保持することにより最終的に水蒸気で平衡化した。
【００６１】
この物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
Ｍｇ／Ａｌのモル比 ＝２．０、
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４９．８、
％Ｈ２ Ｏ（脱ヒドロキシル化により生じる）＝１６．７、
％ＮＯ３ ＝２３．２。
【００６２】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ＮＯ３ ）２ の無水物の一般式と一致する。
【００６３】
水和物のＸ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物はハイドロタルク石に類似した層状複水酸化物（ｌａｙｅｒｅｄ ｄｏｕｂｌｅ ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）であり、１．４８Ａ及び１．５１Ａ（以下Ａは「オングストローム」を示す）に、特徴的な線間隔（ｌｉｎｅｓｐａｃｉｎｇｓ）が存在すること、
ｉｉ）この層間硝酸塩含有物質に特徴的である８．８Ａに主要な回折線（ｍａｊｏｒ ｌｉｎｅ）があることを示した。
【００６４】
この物質を２×１０−２ｇ／ｋｇ濃度で水に懸濁させた懸濁液のｕｖスペクトルを２５０ｎｍから５００ｎｍの範囲（当然多少は可視範囲に及ぶ）に亙って測定した結果、吸収帯を示さなかった。
【００６５】
実施例２：
イオン交換によるケイ皮酸陰イオンのヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
１３．４７ｇのケイ皮酸を１５０ｍｌの水に溶解／懸濁させた。５．１ｇの水酸化カリウムを５０ｍｌの水に溶解させた後、これを上記の懸濁液に加え清澄溶液を得た。この溶液を、２５０ｍｌ容量のポリプロピレン製ねじ蓋付びんに入れた、実施例１で調製した如き硝酸塩型の層状複水酸化物２５ｇに加えた。びんに蓋をし、２分間振盪した後、９０℃で２時間加熱した。固形物を濾別し、温水で洗浄した後凍結乾燥した。この生成物を、飽和塩化ナトリウム溶液を入れたデシケーター中に保持することにより最終的に水蒸気で平衡化した。
【００６６】
得られた物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４０．４、
％Ｃ ＝２３．０。
【００６７】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ｃｉｎ）１．４ （ＮＯ３ ）０．６ （ここでｃｉｎ＝ケイ皮酸イオン（ｃｉｎｎａｍａｔｅ）である）の無水物の一般式と一致する。
【００６８】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった１６．９Ａに主要な回折線があることを示した。
【００６９】
この物質を１．６×１０−２ｇ／ｋｇ濃度で水に懸濁させた懸濁液のｕｖスペクトルを２５０ｎｍから５００ｎｍの範囲に亙って測定した結果、２６８ｎｍに中心を持つ単一のピークを示した。又、ケイ皮酸ナトリウム及びケイ皮酸の溶液もこの波長に接近した単一のピークを示した。
【００７０】
実施例３：
ケイ皮酸及び水酸化カリウムの量を２倍にし（ケイ皮酸２６．９４ｇ、水酸化カリウム１０．２ｇ）、反応時間を１８時間に増やしたことを除いては、実施例２と同様の手法を繰り返した。
【００７１】
この物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝３６．２９、
％Ｃ ＝２７．３４。
【００７２】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ｃｉｎ）１．８４（ＮＯ３ ）０．１６（ここでｃｉｎ＝ケイ皮酸イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【００７３】
この実施例は、斯く、増加量のケイ皮酸イオンをイオン交換によって導入できることを示している。
【００７４】
実施例４：
イオン交換によるｐ−メトキシケイ皮酸イオンのヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
ケイ皮酸を３２．３６ｇのｐ−メトキシケイ皮酸に置き換えたことを除いては実施例３と同様の手法を繰り返した。
【００７５】
得られた物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝３３．５１、
％Ｃ ＝２９．０５。
【００７６】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ｍｃｉｎ）１．９０（ＮＯ３ ）０．１０（ここでｍｃｉｎ＝ｐ−メトキシケイ皮酸イオン（ｐ−ｍｅｔｈｏｘｙ ｃｉｎｎａｍａｔｅ）である）の無水物の一般式と一致する。
【００７７】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった１８．２Ａに主要な回折線があることを示した。
【００７８】
この物質を２．５×１０−２ｇ／ｋｇ濃度で水に懸濁させた懸濁液のｕｖスペクトルを２５０ｎｍから５００ｎｍの範囲に亙って測定した結果、２８５ｎｍに中心を持つ幅広のピークを示した。
【００７９】
実施例５：
イオン交換による２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸イオンのヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
ケイ皮酸を２４．９ｇの２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸に置き換え、水酸化カリウムを３．６ｇの水酸化ナトリウムに置き換えたことを除いては実施例２と同様の手法を繰り返した。
【００８０】
得られた物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝３５．４７、
％Ｃ ＝２３．９８。
【００８１】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ｐｂｓ）１．１４（ＮＯ３ ）０．８６（ここでｐｂｓ＝２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸イオン（２−ｐｈｅｎｙｌｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｏｌｅ−５−ｓｕｌｐｈｏｎａｔｅ）である）の無水物の一般式と一致する。
【００８２】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった２２Ａに主要な回折線があることを示した。
【００８３】
この物質を２．５×１０−２ｇ／ｋｇ濃度で水に懸濁させた懸濁液のｕｖスペクトルを２５０ｎｍから５００ｎｍの範囲に亙って測定した結果、３０４ｎｍに最大吸収を持つ幅広のピークを示した。又、２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸ナトリウム及び２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸溶液も同様のピークを示した。
【００８４】
実施例６：
反応時間を２時間から１８時間に増やしたことを除いては、実施例５と同様の手法を繰り返した。
【００８５】
得られた物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝２７．９２、
％Ｃ ＝２８．０８。
【００８６】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ｐｂｓ）１．７０（ＮＯ３ ）０．３０（ここでｐｂｓ＝２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【００８７】
実施例７：
２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸及び水酸化ナトリウムの量を２倍にしたことを除いては、実施例６と同様の手法を繰り返した。
【００８８】
得られた物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝２７．６３、
％Ｃ ＝２９．２１。
【００８９】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ｐｂｓ）１．７８（ＮＯ３ ）０．２２（ここでｐｂｓ＝２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【００９０】
実施例８：
イオン交換によるベンゾフェノン−４のヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
７．４１ｇの２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸（ベンゾフェノン−４）を１５０ｍｌの水に溶解させた。１．３５ｇの水酸化カリウムを５０ｍｌの水に溶解させ、これらの２種類の溶液を混合した。この溶液を、２５０ｍｌ容量のネジ蓋付きポリプロピレンびんに入れた、実施例１で得たヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム６．２５ｇに加えた。びんに蓋をして２分間振盪した後、９０℃で２時間加熱した。固形物を濾別し、新しく調製した上記と同じ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸及び水酸化カリウム溶液と接触させた。この混合液を９０℃で１８時間加熱した。しかる後、固形物を濾別し、温水で洗浄し、凍結乾燥した。この物質を、飽和塩化ナトリウム溶液を入れたデシケーター中に保持することにより最終的に水蒸気で平衡化した。
【００９１】
得られた物質の化学組成を分析により決定した。結果は、次のとおりであった：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝３４．５７、
％Ｃ ＝２５．４２。
【００９２】
赤外線分光は、この物質中に残存硝酸塩が存在しないことを示した。これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（Ｂｅｎｚ）１．１６（ここでＢｅｎｚは２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸の陰イオン、即ちベンゾフェノン−４の陰イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【００９３】
ベンゾフェノン−４陰イオンは、一部は一価のイオン種として、また一部は二価のイオン種として構造式中に存在すると考えられる。
【００９４】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった２０Ａ及び１３．４Ａに主要な回折線があることを示した。（２０Ａ線は主に一価のイオン種を含む層に相当し、１３．４Ａ線は二価のイオン種を含む層に相当する）。
【００９５】
この物質を５×１０−２ｇ／ｋｇ濃度で水に懸濁させた懸濁液の、２５０ｎｍから５００ｎｍの範囲に亙って測定したｕｖスペクトルは、約２５０、２８５、３２０及び３６５ｎｍに中心をもつピークを有する幅広い吸収帯を有する。
【００９６】
実施例９：
イオン交換によるベンゾフェノン−４のヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
２８ｇのベンゾフェノン−４及び７．２ｇの水酸化ナトリウムを２００ｍｌの蒸留水に溶解させ、鮮黄色の溶液を得た。この溶液を、２５０ｍｌ容量のネジ蓋付きポリプロピレンびんに入れた、実施例１で調製した如き硝酸塩型の層状複水酸化物２５ｇに加えた。びんに蓋をして２分間振盪した後、９０℃で２時間加熱した。固形物を濾別し、温水で洗浄した後、凍結乾燥した。この生成物を、飽和塩化ナトリウム溶液を入れたデシケーター中に２４時間保持することにより最終的に水蒸気で平衡化した。
【００９７】
得られた物質の化学組成を分析により決定した。結果は、次のとおりであった：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４０．４７、
％Ｃ ＝２０．９０、
％Ｎ ＝０．８２。
【００９８】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（Ｂｅｎｚ）０．８１（ＮＯ３ ）０．３８（ここでＢｅｎｚはベンゾフェノン−４の陰イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【００９９】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった１３．３Ａに主要な回折線があることを示した。（これは二価の陰イオンのベンゾフェノン−４を主として含む層に相当する）。
【０１００】
この物質を４×１０−２ｇ／ｋｇ濃度で水に懸濁させた懸濁液の、２５０ｎｍから５００ｎｍの範囲に亙って測定したｕｖスペクトルは、約２５０、２８５及び３６５ｎｍに中心をもつピークを有する幅広い吸収帯を有する。
【０１０１】
実施例１０：
イオン交換によるベンゾフェノン−４のヒドロキシ塩化アルミニウムマグネシウム中への導入
ヒドロキシ塩化アルミニウムマグネシウム（掘削泥水添加物ＸＵＳ５０１６５．０４Ｌ）の試料をＤｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙから入手した。この物質は、欧州特許出願公開第２０７８１０号及び対応の米国特許第４６６４８４３号、第４７９０９５４号及び第５０９４７７８号に記載される種類のものである。この物質のＸ線回折分析は、主要な結晶相が７．８Ａの基礎間隔を有する層状複水酸化物であることを示した。
【０１０２】
４．９５ｇのベンゾフェノン−４及び１．２９ｇの水酸化ナトリウムを４０ｍｌの蒸留水に溶解させ、鮮黄色の溶液を得た。この溶液を、２５０ｍｌ容量のネジ蓋付きポリプロピレンびんに入れた、上記のＤＯＷ社の原料１０ｇに加えた。びんにをして２分間振盪した後、９０℃で２時間加熱した。固形物を濾別し、温水で洗浄した後、凍結乾燥した。この生成物を、飽和塩化ナトリウム溶液を入れたデシケーター中に２４時間保持することにより最終的に水蒸気で平衡化した。
【０１０３】
得られた物質の化学組成を化学分析により決定した。結果は、次のとおりであった：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４６．６３、
％Ｃ ＝１８．０１。
【０１０４】
これはＭｇ４ Ａｌ４ （ＯＨ）１６（Ｂｅｎｚ）０．８ （Ｃｌ，ＯＨ）０．４ の無水物の一般式と一致する。
【０１０５】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する主要な結晶相は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった１３．８Ａに主要な回折線があることを示した。
【０１０６】
実施例１１：
イオン交換によるベンゾフェノン−３のヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
４．５ｇのＮａＯＨ及び１７．１ｇのベンゾフェノン−３を３５０ｍｌの脱イオン水に溶解させた。しかる後、この溶液を、実質的に実施例１で述べた如く調製したヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム１４．１ｇを有するびんに加えた。この混合液を振盪し、室温で１８時間静置した。得られた黄色固形物を中位の多孔度のフリット漏斗中、８０℃で１５００ｍｌのエタノール続いて１０００ｍｌの水で洗浄した。得られた固形物を濾過及び凍結乾燥し、自由流動性の乾燥黄色粉末固形物を得た。
【０１０７】
この物質の化学組成を化学分析により決定した。結果は次の通りである：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝５４．５、
％Ｃ ＝５．２５。
【０１０８】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（Ｂｚ３）０．１５（ＮＯ３ ）０．４９（ＯＨ）１．３６（ここでＢｚ３はベンゾフェノン−３から誘導される陰イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【０１０９】
Ｘ線回折データは、
ｉ）存在する唯一の結晶物質は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった１１．８Ａに主要な回折線があることを示した。
【０１１０】
実施例１２：
イオン交換によるベンゾフェノン−３のヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
８．６ｇのベンゾフェノン−３を５０ｍｌのエタノールに溶解させ、これを、５０ｍｌの蒸留水に溶解した１．５ｇの水酸化ナトリウムに加え、黄色溶液を得た。この溶液を、２５０ｍｌ容量のネジ蓋付きポリプロピレンびんに入れた、実施例１と同様に調製した硝酸塩型の層状複水酸化物１０ｇに加えた。びんに蓋をして２分間振盪し、９０℃で２０分間加熱した後、室温で穏やかに３時間撹拌した。固形物を濾別した後、エタノール次に熱水で繰り返し洗浄した。固形生成物を凍結乾燥し、水蒸気で平衡化した。
【０１１１】
得られた物質の化学組成を化学分析により決定した。結果は、次のとおりであった：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４７．４７、
％Ｃ ＝１２．４５、
％Ｎ ＝１．３５。
【０１１２】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（Ｂｚ３）０．４１（ＮＯ３ ）０．５３（ＯＨ）１．０６（ここでＢｚ３はベンゾフェノン−３から誘導される陰イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【０１１３】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物質は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった、ベンゾフェノン−３交換物質の特徴である１１．５Ａに主要な回折線があることを示した。
【０１１４】
実施例１３：
イオン交換によるベンゾフェノン−８のヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
９．２ｇのベンゾフェノン−８を５０ｍｌのエタノールに溶解させ、これを、５０ｍｌの蒸留水に溶解した１．５ｇの水酸化ナトリウムに加え、濃オレンジ色の溶液を得た。この溶液を、２５０ｍｌ容量のネジ蓋付きポリプロピレンびんに入れた、実施例１と同様に調製した硝酸塩型の層状複水酸化物１０ｇに加えた。びんに蓋をして２分間振盪し、９０℃で１時間加熱した後、室温で穏やかに２時間撹拌した。固形物を濾別した後、エタノール次に熱水で繰り返し洗浄した。固形生成物を凍結乾燥し、水蒸気で平衡化した。
【０１１５】
得られた物質の化学組成を化学分析により決定した。結果は、次のとおりであった：
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４８．６７、
％Ｃ ＝９．４２、
％Ｎ ＝１．６４。
【０１１６】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（Ｂｚ８）０．３ （ＮＯ３ ）０．６３（ＯＨ）１．０７（ここでＢｚ８はベンゾフェノン−８から誘導される陰イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【０１１７】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物質は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった、ベンゾフェノン−８交換物質の特徴である１７．０Ａに主要な回折線があることを示した。
【０１１８】
実施例１４：
イオン交換によるブチルメトキシジベンゾイルメタン（Ｐａｒｓｏｌ １７８９）のヒドロキシ硝酸アルミニウムマグネシウム中への導入
１１．６２ｇのＰａｒｓｏｌ １７８９を１：１（重量による）の蒸留水−エタノール混合液１００ｍｌに懸濁させ、これを、５０ｍｌの蒸留水に溶解した１．５ｇの水酸化ナトリウムに加え、鮮黄色溶液／懸濁液を得た。これを、２５０ｍｌ容量のネジ蓋付きポリプロピレンびんに入れた、実施例１で得た硝酸塩型の層状複水酸化物１０ｇに加えた。びんに蓋をして２分間振盪し、９０℃で６時間加熱した。固形物を濾別した後、アセトン次に熱水で繰り返し洗浄した。固形生成物を凍結乾燥し、水蒸気で平衡化した。
【０１１９】
得られた物質の化学組成を化学分析により決定した。結果は、
％ＭｇＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝３７．５８、
％Ｃ ＝２７．６８、
％Ｎ ＝０．７２。
【０１２０】
これはＭｇ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（Ｐａｒ）０．８１（ＮＯ３ ）０．３６（ＯＨ）０．８３（ここでＰａｒはＰａｒｓｏｌ １７８９の陰イオンである）の無水物の一般式と一致する。
【０１２１】
Ｘ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物質は層状複水酸化物であること、
ｉｉ）出発物質には存在しなかった、Ｐａｒｓｏｌ １７８９交換物質の特徴である１４．９Ａ及び１１．４Ａに主要な回折線があることを示した。
【０１２２】
実施例１５：
ヒドロキシ硝酸アルミニウム亜鉛の調製
酸化マグネシウムを９４．５ｇの酸化亜鉛に完全に置き換えたことを除いては実施例１に記載の方法によって、ヒドロキシ硝酸アルミニウム亜鉛を調製した。
【０１２３】
この物質の化学組成を分析により決定した。結果は次のとおりである：
Ｚｎ／Ａｌのモル比 ＝２．０、
％ＺｎＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝６１．５、
％Ｈ２ Ｏ（脱ヒドロキシル化により生じる）＝１２．９、
％ＮＯ３ ＝１７．８。
【０１２４】
これはＺｎ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ＮＯ３ ）２ の無水物の一般式と一致する。
【０１２５】
水和物のＸ線回折パターンは、
ｉ）存在する唯一の結晶物はハイドロタルク石に類似した層状複水酸化物であり、１．５１Ａ及び１．５３Ａに、特徴的な線間隔が存在すること、
ｉｉ）この層間硝酸塩含有物質の特徴である８．８Ａに主要な回折線があることを示した。
【０１２６】
実施例１６：イオン交換による２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸イオンのＺｎ／Ａｌ層状複水酸化物中への導入
２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホネート１９．６５ｇを水１５０ｍｌに溶解／懸濁した。水酸化ナトリウム２．８７ｇを水５０ｍｌに溶解した後、該懸濁物に添加して透明な溶液を得た。次いで、この溶液を、２５０ｍｌ容のポリプロピレン製ねじ蓋付びん中の、実施例１５で得た硝酸塩型の層状複水酸化物２５ｇに添加した。そのびんに蓋をし、２分間攪拌した後、９０℃で１８時間加熱した。固体を濾別し、温水で洗浄後、凍結乾燥した。この物質を、飽和塩化ナトリウム溶液が入ったデシケータ中で保管することにより最終的に水蒸気で平衡化した。
【０１２７】
その物質の化学組成物は、熱および元素分析により決定した。結果は次の通りである：
％ＺｎＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝３７．２７、
％Ｃ ＝２６．３０。
【０１２８】
これは、Ｚｎ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（ｐｂｓ）１．９４（ＮＯ３ ）０．０６の無水物の理想的な式と一致し、Ｘ線回折パターンから、
ｉ）存在する唯一の結晶性物質は、層状複水酸化物であること、
ｉｉ）主要な回折線が２２Ａにあり、これは出発物質では存在しないことがわかった。
【０１２９】
実施例１７：イオン交換によるベンゾフェノン−４のヒドロキシ硝酸アルミニウム亜鉛中への導入
水酸化ナトリウム５．６ｇを室温で脱イオン水２２５ｍｌに溶解した。これに、２１．５ｇのベンゾフェノン−４を添加した。その混合物を攪拌してベンゾフェノン−４を完全に溶解した。次いで、得られた溶液を、実施例１５の記載に従って調製したヒドロキシ硝酸アルミニウム亜鉛２５ｇを含むびんに移した。この混合物を浸盪し、９５℃のオーブン中に１８時間置いた。固体を濾過し、８０℃の水１５００ｍｌで洗浄し、再び濾過し、最後に凍結乾燥した。自由流動性の黄色粉末が得られた。
【０１３０】
この物質の化学組成物は、分析により決定した。結果は次の通りである：
％ＺｎＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４９．０、
％Ｃ ＝１８．０。
【０１３１】
これは、Ｚｎ４ Ａｌ２ （ＯＨ）１２（Ｂｅｎｚ）０．９４（ＮＯ３ ）０．０５の無水物の式［式中、Ｂｅｎｚはベンゾフェノン−４から誘導されるアニオンである。］と一致した。この場合、ベンゾフェノン−４は、構造中に主にジアニオン形で存在すると考えられる。このことは、Ｘ線回折データにより支持される。
【０１３２】
Ｘ線回折データからは、
ｉ）存在する唯一の結晶性物質は、層状複水酸化物であること、
ｉｉ）主要な回折線が１３．５Ａにあり、これは出発物質では存在しない（１３．５Ａの線は、主として２価のイオン種を含む層に対応する。）ことがわかった。
【０１３３】
そのような２価のイオン種は、組成物によるＵＶ−Ａ保護を高めたい場合に好ましい。
【０１３４】
実施例１８：ヒドロキシ硝酸アルミニウムカルシウムの調製
溶液１：水酸化ナトリウム２５ｇおよび硝酸ナトリウム３６．４ｇを水１７５ｍｌに溶解した。
【０１３５】
溶液２：硝酸カルシウム四水和物６８．１ｇおよび硝酸アルミニウム無水和物４６．８ｇを水３２５ｍｌに溶解した。
【０１３６】
溶液１を１ｌ容のポリプロピレン製びんに入れた。次いで、溶液２を約１時間かけてそのびんにゆっくり加えた。溶液２の添加中、そのびんの中身を激しく攪拌した。びんに蓋をし、９０℃のオーブンに７日間入れておいた。固体を濾別し、水洗、凍結乾燥し、最後に実施例１の記載に従って水蒸気で平衡化した。
【０１３７】
Ｘ線回折から、その物質は、８．５Ａの基礎間隔を有する層状複水酸化物を少量の未同定物質とともに含むことがわかった。
【０１３８】
実施例１９：イオン交換による２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸イオンのＣａ／Ａｌ層状複水酸化物中への導入
２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホネート１３．８ｇを水１５０ｍｌに溶解／懸濁した。水酸化ナトリウム２．０ｇを水５０ｍｌに溶解した後、該懸濁物に添加して透明な溶液を得た。次いで、この溶液を、２５０ｍｌ容のポリプロピレン製ねじ蓋付びん中の、実施例１８で得た硝酸塩型層状複水酸化物１５ｇに添加した。そのびんに蓋をし、２分間攪拌した後、９０℃で１８時間加熱した。固体を濾別し、温水で洗浄後、凍結乾燥した。その物質を、飽和塩化ナトリウム溶液が入ったデシケータ中で保管することにより最終的に水蒸気で平衡化した。
【０１３９】
生成物のＸ線回折パターンは、出発物質の特徴である８．５Ａの回折線を示さなかった。その代わりに、２２Ａに主要な回折線が存在し、これは、出発物質では存在しなかった。
【０１４０】
その物質の化学組成物は、熱および元素分析により決定した。結果は次の通りである：
％ＣａＯ＋Ａｌ２ Ｏ３ ＝４３．１２％、
％Ｃ ＝２３．４０％。
【０１４１】
これは、４１重量％の２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホネートを含む物質と一致する。
【０１４２】
実施例２０：ハイドロタルク石による陰イオン性日焼け止め保持に対する塩（塩化ナトリウム）の効果
実施例２で調整した物質１ｇを、塩化ナトリウム０．２ｇ（この塩化物イオンは、ケイ皮酸イオンの化学量論的置換に必要な量より多い）を含む水５０ｍｌに分散させた。その懸濁物を室温で２時間攪拌し、固体を濾別した。次いで、濾液の紫外線分光分析を行ってケイ皮酸イオンの存在を調べた。測定量は、層状複水酸化物からほんの３％のケイ皮酸イオンが除去されたことと一致した。
【０１４３】
実施例２１：日焼け止め組成物の製造
下記成分を混合して７５℃に加熱することにより油相を調製した：
鉱油（Ｓｉｒｉｕｓ Ｍ８５） １０．０％、
Ｎａｆｏｌ １６／１８ ２．０％、
モノステアリン酸グリセロール ０．５％、
ポリオキシエチレン（２０）セチルエーテル ０．５％。
【０１４４】
量は、最終物質の重量％で示す。Ｎａｆｏｌ １６／１８はパルミチルアルコールおよびステアリルアルコールの混合物である。
【０１４５】
水相は、下記成分から調製した：
脱イオン水 ７４．７％、
グリセロール ２．０％、
キサンタンゴム ０．３％。
【０１４６】
この水相は、グリセロールを水に添加した後、高せん断ミキサー（Ｓｉｌｖｅｒｓｏｎ ミキサー）を有するＲｈｏｄｏｐｏｌ中で混合することにより調製した。
【０１４７】
次いで、両方の相を７５℃に加熱し、高せん断ミキサー中で混合した後、層状複水酸化物１０％を添加した。
【０１４８】
次いで、そのエマルジョンを冷却した。
【０１４９】
層状複水酸化物は上記実施例６で調製したものであるが、上記実施例２〜１０、１６、１７または１９のいずれかで調製した層状複水酸化物を使用することも可能である。
【０１５０】
また、複水酸化物と種々の層間陰イオン（例えば、等量の実施例４および７の物質または等量の実施例７および８の物質）との混合物を使用することもできる。
【０１５１】
所望により、着色顔料を水相に少量添加して、水をその分だけ少なくすることもできる。
【０１５２】
実施例２２（比較例）および実施例２３：ベンゾフェノン−４（遊離のものおよびヒドロキシ硝酸アルミニウム亜鉛に取り込まれたものの両方）を含む日焼け止め組成物の製造および特性
下記表Ｉの組成を有する日焼け止め製品を製造した。これらの日焼け止め製品の製造方法は次の通りである。ブチレングリコール、ジメチコーンコポリオール、ＥＤＴＡ、水、グリセリン、Ｇｅｒｍａｂｅｎおよび紫外線吸収剤を、高せん断ホモジナイザーを使用して室温で１０分間混合し、混合物Ａを得た。実施例２２の日焼け止め活性物質は、ベンゾフェノン−４自体であった。実施例２３の日焼け止め活性物質は、実施例１７で調製した、ヒドロキシ硝酸アルミニウム亜鉛中にベンゾフェノン−４がイオン交換されたものであった。別々の容器中で、オクチルドデシルネオペンタノエート、プロピレングリコールイソセト−３ アセテート、セチルジメチコーンおよびオクチルメトキシシンナメートを一緒に溶解し、上述の混合物Ａに添加した。次いで、この混合物のｐＨを、トリエタノールアミンまたは塩酸水を必要に応じて使用することにより７．６〜７．９に調整した。エマルジョンが得られ、これを使用して下記に述べる ｉｎ ｖｉｔｒｏ ＳＰＦ試験を行った。
【０１５３】
日焼け止め剤において紫外線から守るための組成物の効能を評価するために、充分確立された ｉｎ ｖｉｔｒｏ Ｓｕｎ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｆａｃｔｏｒ （ＳＰＦ）法を使用した。その方法は、Ｄｉｆｆｅｙらの文献（Ｄｉｆｆｅｔ， ＢＬ， ａｎｄ Ｒｏｂｓｏｎ， Ｊ， “Ａ Ｎｅｗ Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ ｔｏ Ｍｅａｓｕｒｅ Ｓｕｎｓｃｒｅｅｎ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｆｓｃｔｏｒｓ ｔｈｒｏｕｇｈｏｕｔ ｔｈｅ Ｕｌｔｒａ−ｖｉｏｌｅｔ Ｓｐｅｃｔｒｕｍ”， Ｊ． Ｓｏｃ． Ｃｏｓｍｅｔ． Ｃｈｅｍ．， ４０， １２７−１３３， （１９８９）） に記載されている。この方法は、本質的に、標準量の日焼け止め組成物（２ｍｇ／ｃｍ２ ）を、表面粗さがヒトの皮膚に近い特定のテープ（Ｔｒａｎｓｐｏｒｅ ，３Ｍ社製）に塗布することから成る。次いで、日焼け止めエマルジョンフィルムの拡散透過率スペクトルを、特別に改造した分光光度計で２９０〜４００ｎｍにわたって測定した。通常の（紅斑）ＳＰＦは、Ｄｉｆｆｅｙらによる上記文献に記載された方法でスペクトルデータから計算される。ＵＶ−Ａ保護因子は、３２０〜４００ｎｍの波長における、日焼け止めフィルムの平均透過率の逆数として計算される。
【０１５４】
実施例２２および実施例２３の日焼け止め組成物に対するこれらの測定結果（各組成物に対して３〜５回反復して行った測定の平均）を下記表ＩＩに示す。
【０１５５】
層状複水酸化物中にイオン交換されたベンゾフェノン−４を含む実施例２３の日焼け止め物質が、広範囲の波長にわたって、ベンゾフェノン−４が層状複水酸化物中にイオン交換されていない比較例２２の日焼け止め物質よりもかなり良好に紫外線から守ることができることがわかる。
【０１５６】
【表１】
【表２】
Claims (18)
- （ｉ）化粧品的に許容可能なビヒクル、及び
（ｉｉ）下記式Ｉの０．０５重量％から５０重量％の層状複水酸化物が、
式Ｉ：
で表わされ、該層状複水酸化物は該ビヒクル中に分散されている、有効量の上記（ｉ）（ｉｉ）を含むヒトの皮膚に適用するための日焼け止め組成物。 - ３価金属がアルミニウムである請求項１記載の組成物。
- 金属Ｍがマグネシウム、亜鉛またはカルシウムから選択される請求項１記載の組成物。
- 金属Ｍがリチウムである請求項１記載の組成物。
- 中間層陰イオンＸの少なくとも５モル％が、
パラアミノベンズイミダゾール−５−スルホネート
３−イミダゾール−４−イルアクリレート
サリチレート
ｐ−メトキシシンナメート
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート
３，３，５−トリメチルシクロヘキシル−２−アセトアミドベンゾエート
シンナメート
ｐ−アミノベンゾエート
３，４−ジメトキシフェニルグリオキシレート
α−（２−オキソボルン−３−イリデン）−ｐ−キシレン−２−スルホネート
α−（２−オキソボルン−３−イリデン）トルエン−４−スルホネート
α−シアノ−４−メトキシシンナメート
２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホネート
の１つ又は混合物から選択される陰イオンである請求項１記載の組成物。 - 中間層陰イオンＸの少なくとも５モル％が２００〜４００ｎｍの範囲の波長の少なくとも一部で紫外線吸収を示すフェノール系化合物の陰イオンである請求項１記載の組成物。
- 中間層陰イオンＸがヒドロキシル化ベンゾフェノン部分を含む化合物の陰イオンである請求項６記載の組成物。
- 中間層陰イオンＸの少なくとも５モル％が、
ベンゾフェノン−１
ベンゾフェノン−２
ベンゾフェノン−３
ベンゾフェノン−４
ベンゾフェノン−５
ベンゾフェノン−６
ベンゾフェノン−７
ベンゾフェノン−８
ベンゾフェノン−９
ベンゾフェノン−１０
ベンゾフェノン−１２
の１つ又は混合物から選択される化合物の陰イオンである請求項６記載の組成物。 - 中間層陰イオンＸの大部分がブチルメトキシジベンゾイルメタンの陰イオンである請求項１記載の組成物。
- 中間層陰イオンＸの大部分が１−（４−メトキシ−５−ベンゾフラニル）−３−フェニル−１，３−プロパンジオンの陰イオンである請求項１記載の組成物。
- 中間層陰イオンＸの大部分が、
ホモメンチルサリチレート又は
２−エチルヘキシルサリチレート
から選択される化合物の陰イオンである請求項７記載の組成物。 - 中間層陰イオンＸの大部分が請求項１１に定義された群から選択される陰イオンである請求項８記載の組成物。
- 中間層イオンの大部分がベンゾフェノン−４の陰イオンである請求項８記載の組成物。
- （ｉ）化粧品的に許容可能なビヒクル、及び
（ｉｉ）下記式Ｉの０．０５重量％から５０重量％の層状複水酸化物が、
式Ｉ：
で表わされ、該層状複水酸化物は該ビヒクル中に分散されている、有効量の上記（ｉ）（ｉｉ）を含むヒトの皮膚に適用する日焼け止め方法。 - ３価金属がアルミニウムである請求項１４記載の方法。
- 金属Ｍがマグネシウム、亜鉛またはカルシウムから選択される請求項１４記載の方法。
- 金属Ｍがリチウムである請求項１４記載の方法。
- 中間層陰イオンＸの少なくとも５モル％が、
パラアミノベンズイミダゾール−５−スルホネート
３−イミダゾール−４−イルアクリレート
サリチレート
ｐ−メトキシシンナメート
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート
３，３，５−トリメチルシクロヘキシル−２−アセトアミドベンゾエート
シンナメート
ｐ−アミノベンゾエート
３，４−ジメトキシフェニルグリオキシレート
α−（２−オキソボルン−３−イリデン）−ｐ−キシレン−２−スルホネ ート
α−（２−オキソボルン−３−イリデン）トルエン−４−スルホネート
α−シアノ−４−メトキシシンナメート
２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホネート
の１つ又は混合物から選択される陰イオンである請求項１４記載の方法。
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