JP3585490B2 - マガジンの仕切り及びその中に配置された円板状対象物の割出し装置 - Google Patents

マガジンの仕切り及びその中に配置された円板状対象物の割出し装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3585490B2
JP3585490B2 JP51956794A JP51956794A JP3585490B2 JP 3585490 B2 JP3585490 B2 JP 3585490B2 JP 51956794 A JP51956794 A JP 51956794A JP 51956794 A JP51956794 A JP 51956794A JP 3585490 B2 JP3585490 B2 JP 3585490B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magazine
disc
shaped object
handling
plane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP51956794A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH07506940A (ja
Inventor
ビルクナー,アンドレアス
ラーネ,ベルント
シュルツ,クラウス
Original Assignee
ブルックス オートメーション ゲーエムベーハー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ブルックス オートメーション ゲーエムベーハー filed Critical ブルックス オートメーション ゲーエムベーハー
Publication of JPH07506940A publication Critical patent/JPH07506940A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3585490B2 publication Critical patent/JP3585490B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • H01L21/67265Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/544Marks applied to semiconductor devices or parts, e.g. registration marks, alignment structures, wafer maps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/544Marks applied to semiconductor devices or parts
    • H01L2223/54453Marks applied to semiconductor devices or parts for use prior to dicing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/137Associated with semiconductor wafer handling including means for charging or discharging wafer cassette

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

本発明は、マガジンの仕切り及びその中に配置された円板状対象物、特にウェーハ及びマスクの割出し装置に関するものであり、それらの円板状対象物の加工のためにマガジンが、円板ハンドリング装置のマガジン収納台を用いてマガジンリフトによって高さ測定できるように取出し及び供給のためのハンドリング平面に対して調整自在である割出し装置に関するものである。この種の技術的解決方法は、集積回路の製造時には特にハンドリングに応用可能であり例えば米国特許第4895486号において公知である。
集積回路の製造時にはウェーハが異なる加工工程の間で個別の加工機械に移送されねばならない。これは、標準化された移送ボックス、いわゆる標準機械式インターフェースボックス(SMIFボックス)で行われることが次第に多くなっている。このボックスの底部には、仕切り内にウェーハを配置したマガジンが適切な方法で固定されている。加工機械へ供給するためには、マガジンが移送ボックスから適切な手段で取り出され、ウェーハが取出し・供給装置によって取り出される。加工後にはウェーハはマガジンの仕切りへ、またマガジンは移送ボックスへ戻される。
衝撃圧センサ又は反射結合を用いてマガジン内のウェーハを検出することが可能であるが、これにはマガジンの処理を所定の順序で行わねばならないという欠点がある。その場合にウェーハはマガジンから任意に取り出すことができず、供給マガジンは下から上へと空にしなければならず、そして取出しマガジンは上から下へと装填されねばならない。それは、必要なセンサ配置とそれに関連してウェーハの取出し及び供給に起因している。したがって一定階層へのウェーハ配分は保持されない。そのような技術的解決方法を用いた場合には、検査時の通常見本抜取りも前述の移送ボックスでの装填も不可能である。
米国特許第4895486号によれば、制御装置によってキャリヤ(マガジン)内での円板状対象物の有無及びキャリヤ内での基準平面に対する円板状対象物の相対位置を測定することが公知である。この場合にはそのような対象物の有無に対する第1信号及び対象物に対する位置信号が互いに結合される。第1信号は、対象物が配置され得る空間を監視する光電センサによって得られる。第2信号は、キャリヤの昇降用駆動装置と結合された位置エンコーダを介して発生する。基準平面並びに対象物の保持可能空間を決めるためには、キャリヤ内の空間が垂直方向でセグメントに分割される。基準平面として用いられるセグメント及び円板状対象物のないセグメントと並んで、対象物が配置され得るウインドウセグメントが画定される。キャリヤの割出しは、キャリヤ内の基準平面を測定技術的に検出した後でウインドウセグメントの位置がコンピュータによってそれぞれ使用されたキャリヤの構造データに基づき求められて記憶される。
上記の解決によれば、対象物の数及び対象物の設置場所が基準平面に対し相対的にキャリヤの内部で測定可能ではある。しかしながら、キャリヤから対象物を取り出すためには、このキャリヤ又は取出し・供給装置が、キャリヤの仕切りの格子寸法で位置決めされる必要がある。その際には互いに差のあるキャリヤ形状寸法及び許容誤差が考慮されねばならない。そうでない場合には、誤りを排除することができない。問題は特に空のキャリヤが任意に送られるような場合に生ずる。
そのほかに、垂直上昇方向でのキャリヤ移動時にキャリヤ内の対象物の正しい位置を他の光電センサによって監視することが可能である。それによって、間違った又は修正されていないハンドリングにてキャリヤから突出する対象物が移送ボックスに戻される場合に損傷を受けることを回避するものである。キャリヤから突出する対象物が認識されると、マガジンの移送が停止され、誤りを除去するために作業者の手動による介入ができるようにされる。突出している対象物の認識は意味があるが、しかしながら、必要な手動介入はクリーンルーム条件や場合によっては機械設置室内の加工機械の空調条件の妨害になるとともに次に続く各加工を不必要に遅らせる。
したがって、本発明の課題は寸法許容誤差に関係なくマガジンの任意かつ予設定可能な各平面へ取出し・供給装置を正確に到達させることを保証し、それにて上記解決方法による追加調整に関連した費用を回避し、さらには上記移送ボックスを広範囲に使用できるようにすることである。その他に、ウェーハの誤状態の認識時にも引続き次作業へ確実に移行することができる。
本発明によれば、この課題はマガジンの仕切り及び同マガジン中に配置された円板状対象物、特にウェーハ及びマスクの加工のためにマガジンが、円板ハンドリング装置のマガジン収納台を用いてマガジンリフトによって高さ測定できるように取出し及び供給のための第1ハンドリング平面に対して調整自在である円板状対象物の割出し装置により円板状対象物をその位置で測定光束によって基準平面に対し相対的に検出する送信器及び受信器から成る光電センサを用いて解決される。すなわち、測定光束が基準平面に対し相対的にマガジン仕切りの位置をも検出し、かつ基準平面が円板ハンドリング装置内で第1ハンドリング平面と構造的に固定関係にあることによって解決される。
送信器から送出されその中心光線によって基準平面にある測定光束は、マガジン仕切りを有して対向する壁部の間を通過そており、マガジン内方を向いて仕切りを形成し測定光束に影をつける壁突出部に向けられている。これらの突出部は、円板状対象物の設置台として用いられる。積み重なって配置されたマガジン仕切りの方向での高さ調整によってマガジン仕切りは順番に基準平面と共通位置をとるが、この高さ調整によってマガジン仕切りの像も並びにマガジン仕切り内に配置された円板状対象物の像も測定光束の変調によって形成される。
マガジン仕切り自体及びその中に含まれた対象物は、単一センサシステムを用いて測定技術的に検出される。それによって、構造データからのマガジン仕切り位置の演算技術的確定又は割出しスケールを用いた位置の確定とは違って、実際に生ずる関係が求められる。それによって取出し及び戻しを任意に行うことができる。したがって、異なる仕切り間隔を備えたマガジン間でも選別変更は各方法によって互いに可能となるし、またマガジン内の基準平面に対しても可能となる。空のマガジンも任意に装填され得る。
マガジンから突出している円板状対象物の位置決めに第1ハンドリング平面に対して平行な第2ハンドリング平面に円板戻し装置が設けられている。円板戻し装置の起動は第2センサのセンサ信号によって左右される。第2センサの測定光束は、円板状対象物に対して平行に向けられており、マガジンの高さ調節時に取出し及び供給に用いられるマガジン側に直接的に隣接されている。
センサ信号によって起動される円板戻し装置は、外部介入を必要とすることなく対象物をマガジン仕切り内へ戻す。さらに、マガジンは手動介入されることなく移送ボックスへ確実に移動され、突出する対象物の損傷が回避される。
次に概略図の用いて本発明の実施例をさらに詳しく説明する。ここに示すのは次のとおりである:
図1は、円板ハンドリング装置の一部分を部分的に断面で示し、
図2は、マガジンの断面図と関連した光電センサの配置を示し、
図3は、測定光束の横断面図とともにマガジンの前面図を示し、
図4は、挿入された円板状対象物を備えたマガジンの壁部の一部の一断面を拡大して示すとともに、光電センサを用いて走査された前記一断面の像を示し、
図5は、第2センサ及び円板戻し装置を備えたマガジンの上面図を示し、
図6は、制御ユニット、処理ユニット及び評価ユニットの結合を、本発明を実施するためのその他のユニット類とともにブロック回路図で示している。
図1にて部分的に示す円板ハンドリング装置は、その内部で駆動スピンドル1を介してz方向(円板ハンドリング装置の設置面に対して直角)に昇降自在なマガジン収納台2を有している。スピンドル1の駆動は、角度測定システム4を装備しているステッピングモータ3を用いて行われるので、スピンドルピッチを介して上昇時又は下降時の移動距離が検出可能である。電子制御装置を備えたステッピングモータ3及び角度測定システム4は、図6に従った制御コンピュータ25と協働してマガジンリフトの位置調整器を形成する。このマガジンリフトには、そのほかにスピンドル1及びマガジン収納台2が組み合されている。取出し・供給装置5は、ハンドリング平面H−Hで作動するハンドリングアーム6を有しており、送信器7と受信器8とから成る光電センサ及びマガジンリフトと同様に共通枠9に対して固定されている。送信器7から送出される測定光束10は、その中心光線によって、マガジン11内に配置されわかりやすくするために図3において示されるマガジン仕切り12及びその中に配置される円板状対象物13を割出すための基準平面E−Eにおいて伸長する。基準平面E−Eとハンドリング平面H−Hとの間の離間距離は駆動スピンドル1の走行範囲以内において選択され得る。
図2及び図3は、マガジン11及びマガジン仕切り12内に挿入された場合の例えばウェーハ又はマスクのような円板状対象物13に関するセンサの配置を示している。それによれば送信器7及び受信器8の配置は、測定光束10がマガジン11の壁14、15間で通過するように案内されて角部16に向けられている。角部16は、図4によれば円板状対象物13の支持台として用いられマガジン11の内側に向いた突出部17が測定光束10をさぎるように測定光束10内の達している。図示したマガジン11の傾斜光線が選択されたのは、マガジンが大抵の場合に背側で部分的に閉鎖されているからである。そのように閉鎖されていない場合には、壁14,15及びマガジンの仕切り12に対して平行な測定光束10の光線通路も可能であることは勿論である。測定光束10の中心光線は、好適には突出部17の前エッジに沿って直接的に伸長する。
第1センサのほかにも、取出し及び供給に用いられるマガジン側(取出し・供給装置5の対向側)でマガジン11に、送信器18及び受信器19から成る他のセンサが隣接されている。このセンサは、第1センサに対し所定距離で離間しており、マガジン11の正のz方向での移送時にマガジン11から突出している対象物20を認識する。
図5に示すように、マガジン11から突出している対象物20の位置決めのために円板戻し装置21が設けられている。この円板戻し装置は、第1ハンドリング平面H−Hに対して平行な第2ハンドリング平面で第1センサによって得られた位置情報に基づいて対象物20をマガジン11内に移動させる。それによってマガジン11の移送が、手動介入を行うことなく妨げられずに続行される。円板戻し装置21は電動てこ機構22から成っており、この電動てこ機構はその駆動装置(図示せず)の回転時に90゜の揺動運動を行う。てこ機構22のてこの転回点は、てこが対象物20をマガジン11内に押し入れ、続いてリミットスイッチ23によって監視される初期位置に戻るように配置されている。
図6によれば、本発明を実施するために、ステッピングモータ3、角度測定システム4、送信器7及び18、受信器8及び19、枠9と固定接続された第3センサ24、てこ機構22及びリミットスイッチ23が制御コンピュータ25と図示のように結合されている。センサ類と制御コンピュータ25との間にはアナログディジタル変換器が接続されている。これらのうちアナログディジタル変換器は26で表わされている。
枠9と固定接続されハンドリング平面H−H及び基準平面E−Eに対し所定離間距離を有している第3センサ24に対してマガジン収納台2が位置決めされ、角度測定システムの計数器がゼロにされた後で、マガジン仕切り12及びその中に配置された円板状対象物13の割出しのために、マガジン11は、図示されていない防塵移送ボックスから底部とともに自動的に取り出されマガジン収納台2によって受け継がれる。その後で、好適にはデータ低減のために設定されたしきい値sw1及びsw2のうちのしきい値sw2を越えるまで、マガジン収納台2が降下される。すなわち、マガジン収納台は負のz方向に走行される。こうしてマガジン11によって基準平面E−Eに対するマガジン低部の離間距離が検出されている。積み重なるように配置されたマガジン仕切り12の方向でマガジン11が基準平面E−Eを通って動く場合には、マガジン仕切り12及び対象物13を写像として表わす振幅変調センサ出力信号Uが、図4のように移動距離の関数として受信器8で得られる。この信号は、アナログディジタル変換器26に供給され、制御コンピュータ25を用いて角度測定システム4の測定信号と結合され記憶される。対象物13をマガジン11から取り出すか又は空のマガジン仕切り12に配置するためには、求められた計数状態に基準平面E−Eと第1ハンドリング平面H−Hとの間の離間距離の値が加えられ、マガジンリフトを用いてマガジン11が適切なz位置に移動される。
円板状対象物13の移送時に周囲条件が許すならば、前記種類の特別な保護移送ボックスを用いなくてもよいのは当然である。この特別な場合にマガジン収納台2は、移送ボックスから移行することなく直接にマガジンを受け取る。

Claims (3)

  1. マガジン仕切り及びその中に配置された円板状対象物、特にウェーハ及びマスクの割出し装置であって、前記円板状対象物の加工のためにマガジン(11)が円板ハンドリング装置のマガジン収納台(2)を用いたマガジンリフトによって高さ測定できるように取出し及び供給のための第1ハンドリング平面(H−H)に対して調整自在であり、送信器(7)と受信器(8)とから成る光電センサを備えており、該光電センサが、その測定光束(10)によって前記円板状対象物(13)の位置 基準平面(E−E)に対し相対的に検出する装置のおいて、
    前記測定光束(10)が、マガジン仕切り(12)の位置を基準平面(E−E)の対し相対的に検出して、さらには該基準平面(E−E)が円板ハンドリグ装置内で第1ハンドリング平面(H−H)に対して固定されていることを特徴とする装置。
  2. 前記送信器(7)から送出される測定光束 (10)の中心光線基準平面(E−E)に配置され、そ 測定光束(10)がマガジン仕切り(12)を包含する対向壁(14,15)の間通過するように案内され、かつ、 その測定光束(10)が前記壁(14,15)のうちの一方の 壁の突出部(17)に向けられており、前記突出部(17) 前記マガジン(11)の内側へ向き、かつ、前記円板状 対象物(13)を支持するための仕切りを形成するととも 前記測定光束(10)をさえぎり、積み重なって配置されたマガジン仕切り(12)の方向に沿った高さ調整によってマガジン仕切りが順番に基準平面(E−E)と共通位置を占め、測定光束(10)の変調によって、前記マガジン仕切り(12)の像及びそのマガジン仕切り内に配置された円板状対象物(13)の像形成されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
  3. 前記マガジン(11)から突出している円板状対象物(20)を位置決めするために、第1ハンドリング平面(H−H)に対して平行な第2ハンドリング平面に円板戻し装置(21)が設けられており、その起動が第2センサのセンサ信号によって左右されており、該第2センサの測定光束が、円板状対象物(13、20)に対して平行に向けられており、かつ、マガジン(11)の高さ調節時にそのマガジンの取出し及び供給側に直接的に隣接されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の装置。
JP51956794A 1993-03-05 1994-03-03 マガジンの仕切り及びその中に配置された円板状対象物の割出し装置 Expired - Lifetime JP3585490B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4306957.6 1993-03-05
DE4306957A DE4306957C1 (de) 1993-03-05 1993-03-05 Einrichtung zur Indexierung von Magazinfächern eines Magazins und darin enthaltenen scheibenförmigen Objekten
PCT/EP1994/000620 WO1994020979A1 (de) 1993-03-05 1994-03-03 Einrichtung zur Indexierung von Magazinfächern eines Magazins und darin enthaltenen scheibenförmigen Objekten

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07506940A JPH07506940A (ja) 1995-07-27
JP3585490B2 true JP3585490B2 (ja) 2004-11-04

Family

ID=6482045

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP51956794A Expired - Lifetime JP3585490B2 (ja) 1993-03-05 1994-03-03 マガジンの仕切り及びその中に配置された円板状対象物の割出し装置

Country Status (9)

Country Link
US (1) US5605428A (ja)
EP (1) EP0639293B1 (ja)
JP (1) JP3585490B2 (ja)
KR (1) KR0156481B1 (ja)
AT (1) ATE175053T1 (ja)
DE (1) DE4306957C1 (ja)
SG (1) SG46592A1 (ja)
TW (1) TW347571B (ja)
WO (1) WO1994020979A1 (ja)

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4425208C2 (de) * 1994-07-16 1996-05-09 Jenoptik Technologie Gmbh Einrichtung zur Kopplung von Be- und Entladegeräten mit Halbleiterbearbeitungsmaschinen
EP0735573B1 (de) 1995-03-28 2004-09-08 BROOKS Automation GmbH Be- und Entladestation für Halbleiterbearbeitungsanlagen
DE19535871C2 (de) * 1995-09-27 2000-02-10 Jenoptik Jena Gmbh Indexer für Magazinfächer eines Magazins und darin enthaltene scheibenförmige Objekte
DE19537734C2 (de) * 1995-10-10 1999-09-09 Apt Sauer & Dietz Gmbh Vorrichtung zur Aufnahme, Halterung und Positionierung eines Wafers zum Zwecke einer elektronischen Qualitätsprüfung
JP3287768B2 (ja) * 1996-05-24 2002-06-04 株式会社新川 マガジン用エレベータ装置の上下動作データ設定方法
TW344847B (en) * 1996-08-29 1998-11-11 Tokyo Electron Co Ltd Substrate treatment system, substrate transfer system, and substrate transfer method
US6082949A (en) * 1996-10-11 2000-07-04 Asyst Technologies, Inc. Load port opener
US5829942A (en) * 1997-02-10 1998-11-03 Automation Technologies Industries Apparatus for loading and unloading circuit boards along a conveyor system
US6390754B2 (en) * 1997-05-21 2002-05-21 Tokyo Electron Limited Wafer processing apparatus, method of operating the same and wafer detecting system
DE19728478C2 (de) * 1997-07-03 2003-08-21 Brooks Pri Automation Germany Verfahren zur optoelektronischen Erkennung von scheibenförmigen Objekten unter Nutzung derer Stirnseiten
US6213853B1 (en) * 1997-09-10 2001-04-10 Speedfam-Ipec Corporation Integral machine for polishing, cleaning, rinsing and drying workpieces
DE19752510B4 (de) * 1997-11-27 2005-11-24 Brooks Automation (Germany) Gmbh Einrichtung und Verfahren zur Erkennung und Unterscheidung geometrisch verschiedener Arten von fächerbildenden Auflagen in Kassetten und darauf abgelegten scheibenförmigen Objekten
DE19813684C2 (de) * 1998-03-27 2001-08-16 Brooks Automation Gmbh Einrichtung zur Aufnahme von Transportbehältern an einer Be- und Entladestation
DE19853446C2 (de) * 1998-11-19 2002-08-08 Infineon Technologies Ag Vorrichtung und Verfahren zur Waferfehlpositionierungserkennung sowie Waferbearbeitungsvorrichtung
TW469483B (en) * 1999-04-19 2001-12-21 Applied Materials Inc Method and apparatus for aligning a cassette
US6763281B2 (en) 1999-04-19 2004-07-13 Applied Materials, Inc Apparatus for alignment of automated workpiece handling systems
US6135698A (en) * 1999-04-30 2000-10-24 Asyst Technologies, Inc. Universal tool interface and/or workpiece transfer apparatus for SMIF and open pod applications
DE19958082A1 (de) * 1999-12-02 2001-06-07 Logitex Reinstmedientechnik Gm Überwachungssystem für eine Transportvorrichtung von Flachteilen, insbesondere Wafer-Scheiben
US6856863B1 (en) * 2000-07-27 2005-02-15 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for automatic calibration of robots
CN1191215C (zh) * 2000-08-18 2005-03-02 三菱化学株式会社 生产苯乙烯的方法
DE10143722C2 (de) * 2001-08-31 2003-07-03 Infineon Technologies Ag Verfahren und Vorrichtung zur Sortierung von Wafern
TWI258831B (en) * 2001-12-31 2006-07-21 Applied Materials Inc Cassette and workpiece handler characterization tool
JP4118592B2 (ja) * 2002-04-22 2008-07-16 富士通株式会社 ロードポート及び半導体製造装置
US6869263B2 (en) 2002-07-22 2005-03-22 Brooks Automation, Inc. Substrate loading and unloading station with buffer
US7677859B2 (en) 2002-07-22 2010-03-16 Brooks Automation, Inc. Substrate loading and uploading station with buffer
US7572092B2 (en) * 2002-10-07 2009-08-11 Brooks Automation, Inc. Substrate alignment system
DE10250353B4 (de) * 2002-10-25 2008-04-30 Brooks Automation (Germany) Gmbh Einrichtung zur Detektion von übereinander mit einem bestimmten Abstand angeordneten Substraten
US6984839B2 (en) * 2002-11-22 2006-01-10 Tdk Corporation Wafer processing apparatus capable of mapping wafers
US20050012938A1 (en) * 2003-07-18 2005-01-20 Jun-Ming Chen Apparatus and method for detecting wafer position
CN111867298A (zh) * 2020-08-12 2020-10-30 福建江夏学院 一种建筑物内部缺陷无损检测仪

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3902615A (en) * 1973-03-12 1975-09-02 Computervision Corp Automatic wafer loading and pre-alignment system
US4458152A (en) * 1982-05-10 1984-07-03 Siltec Corporation Precision specular proximity detector and article handing apparatus employing same
JPS61273441A (ja) * 1985-05-23 1986-12-03 Canon Inc ウエハ搬送装置
JPH0611069B2 (ja) * 1985-11-05 1994-02-09 キヤノン株式会社 ウエハ整列装置
JPH07115773B2 (ja) * 1986-01-29 1995-12-13 株式会社ニコン 基板搬送装置
US4765793A (en) * 1986-02-03 1988-08-23 Proconics International, Inc. Apparatus for aligning circular objects
US4895486A (en) * 1987-05-15 1990-01-23 Roboptek, Inc. Wafer monitoring device
US4954721A (en) * 1988-03-30 1990-09-04 Tel Sagami Limited Apparatus for detecting an array of wafers
US5003188A (en) * 1988-11-18 1991-03-26 Tokyo Aircraft Instrument Co., Ltd. Semiconductor waxer detection system
FR2644237B1 (fr) * 1989-03-07 1991-06-14 Doeuvre Jean Pierre Appareil automatique de controle dimensionnel de nacelles porte-plaquettes
US5044752A (en) * 1989-06-30 1991-09-03 General Signal Corporation Apparatus and process for positioning wafers in receiving devices
WO1992005920A1 (en) * 1990-09-27 1992-04-16 Genmark Automation Scanning end effector assembly
US5291025A (en) * 1992-11-30 1994-03-01 Advanced Micro Devices, Inc. In-line non-contact wafer boat inspection apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
WO1994020979A1 (de) 1994-09-15
KR0156481B1 (ko) 1998-12-01
EP0639293A1 (de) 1995-02-22
KR950701453A (ko) 1995-03-23
ATE175053T1 (de) 1999-01-15
SG46592A1 (en) 1998-02-20
JPH07506940A (ja) 1995-07-27
DE4306957C1 (de) 1994-06-01
EP0639293B1 (de) 1998-12-23
TW347571B (en) 1998-12-11
US5605428A (en) 1997-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3585490B2 (ja) マガジンの仕切り及びその中に配置された円板状対象物の割出し装置
US5980194A (en) Wafer position error detection and correction system
US4895486A (en) Wafer monitoring device
US5740062A (en) Wafer positioning system
US6419439B2 (en) Indexer for magazine shelves of a magazine and wafer-shaped objects contained therein
EP0095371B1 (en) Missing or broken wafer sensor
WO2010039702A1 (en) Systems and methods for receiving shipment parcels
US4757355A (en) Mask storing mechanism
US5642978A (en) Device for handling disk-shaped objects in a handling plane of a local clean room
EP0844531A2 (en) Master plate transporting system
JPH07503584A (ja) 局所クリーンルームの操作面においてディスク状の物体を操作するための装置
US20010042819A1 (en) Device and method for detecting and distinguishing shelf-forming supports in cassettes and disk-shaped objects deposited thereon
JPH1116989A (ja) 反応器
EP0814372B1 (en) Loading and unloading device for X-ray film cassettes
US6681148B2 (en) Monitoring system for a conveying device for flat articles, especially wafers
JPH02198926A (ja) カセット内のウェハ取出し制御方式
KR20000043522A (ko) 웨이퍼 카운터 장치가 일체로 설치된 웨이퍼 카세트 이송장치
JPH07118502B2 (ja) カセット内ウェハのハンドリング方法および装置
JPS61228639A (ja) ウエハ処理装置
JPS62102538A (ja) マスクまたはレチクル基板の搬送装置
JPH10270526A (ja) 基板収納容器および基板搬送装置
JPH10321706A (ja) キャリア載置機構
KR960001467Y1 (ko) 자동 웨이퍼 이송 시스템의 디스크 검출 회로
JP2891580B2 (ja) 基板の厚さ判別機構
Armstrong et al. Automatic Wafer Handling for a Mechanically Scanned Ion Implanter

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040713

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040804

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080813

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090813

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090813

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100813

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110813

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110813

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120813

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120813

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130813

Year of fee payment: 9

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term