JP3568286B2 - 共焦点走査型光学顕微鏡及びこの顕微鏡を使用した測定方法 - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、観察試料の表面情報を測定するために使用される共焦点走査型光学顕微鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、点状光源によって観察試料の表面を点状に照明し、この照明された試料表面からの透過光または反射光を再び点状に集光してピンホール開口を有する検出器に結像させ、この検出器により結像の濃度情報を得る共焦点走査型光学顕微鏡があった。
【0003】
図8(a)は一般的な共焦点走査型光学顕微鏡の概略構成図である。同図において、点状光源91から出射された点状光は、ハーフミラー92を通過した後に収差が補正された対物レンズ93によって観察試料94の表面に点状結像される。
【0004】
そして、この点状照明の上記試料94による反射光は、再び対物レンズ93を通過した後に上記ハーフミラー92で反射されて集光する。この集光位置にはピンホール95が配設されており、このピンホール95を通過した上記反射光が光検出器96によって検出される。
【0005】
このような点状照明を観察試料94表面の測定領域全体にわたって行ない、その反射光の光検出器96による検出信号をラスタ走査等のように二次元走査することにより、観察試料94表面の二次元画像が得られるようになっている。
【0006】
ところで、観察試料94の表面は全体にわたって平坦とは限らず、例えば図8(a)中のLに示すように対物レンズ93の集光位置からずれた位置にある面も存在する。このような面Lから反射した反射光は、ピンホール95上に集光することはない。したがって、このような反射光はピンホール95を通過することができず、このため光検出器96で検出されない。すなわち、共焦点走査型光学顕微鏡では、対物レンズ93の集光位置つまり合焦位置に存在する試料面の光学像のみが測定できるものである。
【0007】
次に、例えば図8(b)に示すように高さの異なる複数の観測面A,B,Cを有する試料94′を共焦点走査型光学顕微鏡で観察する場合、観測面Aに合焦させたときには他の観測面B,Cの光学像は全く見えなくなる。このため、すべての観測面A,B,Cについての合焦画像を同時に観測することは不可能である。
【0008】
しかし、例えば観測面A,B,Cに対し順次合焦させてその合焦画像を順次画像メモリに格納し、これらの合焦画像を演算処理により合成することにより全観測面A,B,Cに合焦した観測画像を得ることができる。なお、この合焦観測画像の合成は、実際には各画素について明るさが最大となる値を保持させることによりなされる。
【0009】
以上説明した試料表面の観測方法については、例えば「THEORY ANDPRACTICE OF SCANNING OPTICAL MICROSCOPY」(126〜130頁)に開示されている。すなわち、試料面の一点に集束光を照射した状態で、まずその光軸方向(Z方向)に上記集束光を走査して、かかる走査中に輝度が最大となる位置(Z位置)を検出し保存する。次に、上記集束光をX方向に移動させることにより試料面の次の一点に上記集束光の初期照射点を位置させ、この状態で上記集束光をZ方向へ走査して、かかる走査中に輝度が最大となる位置(Z位置)を検出し保存する。
【0010】
以後同様に、集束光の初期照射点の位置をX方向及びY方向にステップ的に移動させるごとに集束光をZ方向へ走査し、これらの走査で検出された輝度の最大値をそれぞれ保存する。かくして、輝度変化に基づいて試料の表面情報が測定される。
【0011】
ところが、上記のような観測を行なう場合に、従来の共焦点走査型光学顕微鏡では次のような不具合が生じていた。
すなわち、光検出器により得られた検出信号は、信号レベルが最適値になるように可変利得増幅回路において増幅される。この場合、試料の観察もしくは測定範囲における反射率が一定ならば問題はない。しかし、試料の観察もしくは測定範囲内に反射率が異なる複数の部位が存在すると、正確な検出信号が得られなくなる。
【0012】
そこで、特願平7−35474号では、試料が高さによって反射率が大きく異なる観察面を持っている場合に、測定範囲の途中で信号レベルを変化させることで、反射率が異なる複数の部位でも観察可能としている。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記特願平7−35474号が想定している反射率が異なる複数の部位が存在する試料とは、例えば上記図8(b)で示したような段状形状の試料であり、A面がガラス面、B面が鏡面、…というように、信号レベルを変化させる位置をA面とB面の間、B面とC面の間の各垂直な部分とすることで対処している。
【0014】
したがって、例えばV字形の溝がある形状等のように、平面部と斜面部が連続している試料では、平面部と斜面部との境界で確実に信号レベルを変化させることができず、その境界部分では正確な観察、測定を行なうことができないという不具合がある。
【0015】
本発明は上記のような実情に鑑みてなされたもので、観察面の形状が連続的に変化すると共に、観察面の反射率が形状に依存して大きく異なるような観察試料であっても、形状が変化する境界部分を確実に検出し、その位置から信号レベルを適正な値に設定することで常に正確な形状測定を行なうことが可能な共焦点走査型光学顕微鏡及びこの顕微鏡を使用した測定方法を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明は、試料に対し集束光を照射する対物光学系と、上記集束光と上記試料とを相対的に二次元方向へ走査する二次元走査手段と、上記対物光学系の焦点位置と上記試料の位置とを相対的に光軸方向へ移動するZ軸移動手段と、上記集束光の上記試料による反射光を受光してその受光強度に応じた検出信号を出力する光検出手段と、この光検出手段から出力された検出信号の信号レベルを可変する利得可変手段とを備えた共焦点走査型光学顕微鏡において、上記光検出手段からの検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲にあるか否かを判断する判断手段と、この判断手段により検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲外であると判断した場合に上記利得可変手段の利得を可変制御して該信号レベルが予め設定された適正範囲内となるように調整する利得制御手段とを具備するようにしている。
【0017】
この結果、請求項1記載の発明によれば、上記光検出手段からの検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲にあるか否かを判断手段が随時判断している。そして、この判断手段により検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲外であると判断した場合に、利得制御手段が上記利得可変手段の利得を可変制御して、該信号レベルが予め設定された適正範囲内となるように調整することになる。したがって、観察面の形状が連続的に変化し、且つ観察面の反射率が形状に依存して大きく異なるような観察試料であっても、形状が変化する境界部分を確実に検出し、その位置から信号レベルを適正な値に設定することで常に正確な形状測定を行なうことが可能な共焦点走査型光学顕微鏡を実現できる。
【0018】
請求項2記載の発明は、試料に対し集束光を照射する対物光学系と、上記集束光と上記試料とを相対的に二次元方向へ走査する二次元走査手段と、上記対物光学系の焦点位置と上記試料の位置とを相対的に光軸方向へ移動するZ軸移動手段と、上記集束光の上記試料による反射光を受光してその受光強度に応じた検出信号を出力する光検出手段と、この光検出手段から出力された検出信号の信号レベルを可変する利得可変手段とを備えた共焦点走査型光学顕微鏡を使用して上記試料の表面測定を行なうに際し、上記光検出手段からの検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲にあるか否かを判断する判断工程と、この判断工程により検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲外であると判断した場合に上記利得可変手段の利得を可変制御して該信号レベルが予め設定された適正範囲内となるように調整する利得制御工程とを有するようにしている。
【0019】
この結果、上記光検出手段からの検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲にあるか否かを判断工程で随時判断している。そして、この判断工程により検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲外であると判断した場合に、利得制御工程に移行して上記利得可変手段の利得を可変制御し、該信号レベルが予め設定された適正範囲内となるように調整することになる。したがって、観察面の形状が連続的に変化し、且つ観察面の反射率が形状に依存して大きく異なるような観察試料であっても、形状が変化する境界部分を確実に検出し、その位置から信号レベルを適正な値に設定することで常に正確な形状測定を行なうことができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照して本発明の実施の一形態を説明する。
図1は本発明の実施の一形態に係る共焦点走査型光学顕微鏡全体のシステム構成を示すものである。同図で、1は共焦点走査型光学顕微鏡本体であり、この顕微鏡本体1内の2が走査光の光源となるレーザ光源である。このレーザ光源2より発生されたスポット光としてのレーザ光は、ミラー3で全反射され、ハーフミラー4を介した後に2次元走査機構5に送られる。
【0021】
ここでレーザ光の強度は、レーザ光源2の電源であるレーザ電源ユニット26で調整することができると共に、レーザ光源2とミラー3との間に配置したNDフィルタ27を回転させて、レーザ光の透過量を変化させることでも調整することができる。
【0022】
NDフィルタ27は、その詳細な構成は後述するが、モータ28により回転駆動されてレーザ光の透過量を可変制御するものであり、モータ28はモータ駆動回路29からの駆動信号に従うものである。これらの調整は、コンピュータ17からの命令に対応して画像処理ユニット14に送出され、この画像処理ユニット14内のCPU30が上記レーザ電源ユニット26やモータ駆動回路29に制御信号を送出することで行なわれる。
【0023】
上記2次元走査機構5は、例えばX軸方向走査用のガルバノミラーとY軸方向走査用のガルバノミラーとを有しており、後述するXY走査制御ユニット16からの制御を受けて2つのガルバノミラーをX軸方向、Y軸方向に振ることでスポット光をテレビジョン方式におけるラスタ走査と同様にXY走査するもので、この2次元走査機構5により走査されたスポット光は、レボルバ6を介して対物レンズ7により微動ステージ9上に載置された試料8に照射される。
【0024】
すなわち、レボルバ6は、倍率の異なる複数の対物レンズ7を保持したものであり、微動ステージ9は試料8を保持するものである。そして、微動ステージ9は粗動ステージ10上に設けられる。
【0025】
レボルバ6に保持される複数の対物レンズ7のうち、所望の倍率を持つ者をレボルバ6の回転により切換えて顕微鏡の観察光路中に位置設定することで、この位置設定された対物レンズ7を介して2次元走査機構5からのスポット光を微動ステージ9上の試料8に2次元走査しながら照射することができる。
【0026】
この照射による反射光は対物レンズ7を通って2次元走査機構5に戻り、2次元走査機構5からハーフミラー4へと戻される。
ハーフミラー4は、2次元走査機構5に対するレーザ光源2の出射光路上に設けられ、2次元走査機構5を介して得られる試料8からの反射光を検出系に導くためのもので、ハーフミラー4で得られた試料8からの反射光は、レンズ11により集光され、所定の径に開口したピンホール板12を介して光検出器13に送られる。
【0027】
すなわち、光検出器13は、その受光面にレンズ11及びこのレンズ11の焦点位置にあるピンホール板12とを配するもので、このピンホール板12を介して得られる光をその光量に対応したアナログの電気信号(輝度信号)に変換し、画像処理ユニット14内のレベル判定回路31、CPU30からD/A変換回路37を介してオフセット値が設定されるオフセット調整回路32、及び同じくCPU30からD/A変換回路36を介してゲイン値が設定されるゲイン調整回路33を経て、A/D変換回路34でカウンタ回路38からのサンプリングクロックに同期してデジタルデータとされた後に画像メモリ14aへ送出される。
【0028】
この画像処理ユニット14は、2つの画像メモリ14a,14bを有しており、これら画像メモリ14a,14bはそれぞれ共に1フレーム分の記憶容量を有している。ここでは、1フレームの記憶容量を例えば512画素×512画素×8ビット(256階調/画素)とする。
【0029】
これら2つの画像メモリ14a,14bのうちの上記画像メモリ14aは、上記光検出器13で得られた反射光の輝度情報を、スポット光の現在のXY走査位置に対応した画素位置に8ビットデータとしてカウンタ回路38からの書込みタイミング信号に同期して記憶することで試料8の画像信号を記憶するものである。
【0030】
この画像メモリ14aへの記憶は、前回の同走査位置での輝度情報よりも今回の輝度情報の方が大きな値を有する(明るい)場合に、この走査位置の画像情報として更新保持することで、高さ位置の異なる画像を足し込むことができるようにしたものである。
【0031】
また、上記他方の画像メモリ14bは、スポット光の現在のXY走査位置に対応した画素位置にZ移動方向の情報、具体的にはZ移動回路15からレボルバ6が何回移動したかを数えた回数値をカウンタ回路38からの書込みタイミング信号に同期して記憶する。
【0032】
この場合に画像処理ユニット14は、上記画像メモリ14aで輝度情報を更新保持させた場合、すなわち、画像メモリ14aの画像データを参照して、前回のその位置での輝度情報よりも今回の輝度情報の方が大きい(明るい)場合に、画像メモリ14bに対して上記回数の値をデータとして更新させ、記憶保持させる機能を有するものである。
【0033】
画像メモリ14bにはこのようにして、各画素位置においてその画素位置で最大輝度を示す情報があるときのレボルバ移動回数値がZ走査方向の情報、すなわち高さ位置を示すこととなる情報として記憶される。
【0034】
上記Z移動回路15は、コンピュータ17または上記画像処理ユニット14に制御されて上記レボルバ6をその高さ方向、すなわち観察光路軸に沿ったZ軸方向に基準幅単位で移動させるべく制御を行なう回路であり、レボルバ6を基準幅単位で移動させる毎にその位置情報をカウントするカウント機能と、そのカウント値を上記画像メモリ14bへ送出する機能とを有している。
【0035】
しかるに、この画像処理ユニット14とZ移動回路15及び上記2次元走査機構5を制御するXY走査制御ユニット16を統括制御するものとしてコンピュータ17が設けられる。
【0036】
このコンピュータ17は、上記XY走査制御ユニット16、Z移動回路15及び画像処理ユニット14の統括制御の他に、画像データの保存、再生、編集等を行なうなど、全体の制御、処理の中枢を担うもので、必要な情報や画像等をモニタディスプレイ18により表示出力させる。
【0037】
さらに、試料8の測定を行なう際に、微動ステージ9に載せた試料8に対する大まかなピント合わせを行なうものとして、テレビ光学系が用意されている。これは、レーザ走査による共焦点画像でピント合わせを行なう場合に、焦点深度が極端に浅いためにやや使いづらい点を考慮して用いられるものである。
【0038】
すなわち、白色光源19で発生された光がレンズ20を介した後にハーフミラー21で全反射され、レンズ22を介して、2次元走査機構5とレボルバ6の間のレーザ光路に挿入されたミラー23で反射されて、レボルバ6を介して対物レンズ7により微動ステージ9上に載置支持された試料8に照射される。
【0039】
そして、この照射による反射光は対物レンズ7を通ってミラー23により反射され、レンズ22を介した後に上記ハーフミラー21を通過して、レンズ24によりテレビカメラ25上に結像する。
【0040】
このテレビカメラ25で撮影された試料画像は上記モニタディスプレイ18で表示されるもので、観察者はこのモニタディスプレイ18の画像を見ながら粗動ステージ10を動かしてピント合わせを行なう。このとき観察者は、試料8のおおよその形状と合焦位置とを知ることができる。
【0041】
次いで上記実施の一形態の動作として、レーザ光源2で発生されたレーザ光によって試料8の形状を測定する場合の詳細を説明する。
しかるに、試料8の形状を測定するにあたっては、試料8の形状に起因する反射率の差が大きくても、確実に信号をとらえることができるように、反射率の変化に応じて輝度信号のレベルを調整する必要がある。ここで、本発明が特徴とする、後述する形状変化に伴う反射率の変化を検出して輝度信号のレベルを適正範囲に設定する信号調整機能を用いるものである。
【0042】
なお、以下の説明では、試料8の形状として、図2に示すようなV字状の溝を有するものを用いることする。すなわちこの図2で示す試料8は、2つの平面部A,Aと、これら平面部A,Aに挟まれた一対の斜面部B,Bとを有している。
【0043】
動作当初には、まず、平面部Aと斜面部Bを画像化できるようにその信号レベルを調べる。走査に先立ってレーザ光源2の出力、NDフィルタ27の値、ゲイン調整回路33でのゲイン、オフセット調整回路32のオフセット値は予め設定されている値(デフォルト値)となっている。この状態でレーザ走査を開始し、合焦位置を平面部Aに合わせる。
【0044】
図3は試料8のX方向の輝度信号のレベルを表わすものである。図3(a)はデフォルト値での輝度信号のレベルを例示するものであり、ハッチングで示す範囲が予め設定された適正範囲である(以下同様)。この状態では、平面部A及び斜面部B共に輝度信号が適正範囲から外れ、特に斜面部Bは合焦位置にないために輝度信号がゼロレベルとなっていることがわかる。
【0045】
上記図3(a)に示したようなデフォルト値での輝度信号が得られた場合、観察者は平面部Aの輝度信号が適正範囲内となるように、ゲイン値の変更を行なう。ゲイン値の変更はコンピュータ17から画像処理ユニット14に対してメッセージが出される。
【0046】
画像処理ユニット14のCPU30は、命令された数値データをD/A変換回路36でアナログ値に変換させた後にゲイン調整回路33に与え、新しいゲイン値としてセットする。
【0047】
したがって、得られる輝度信号は新しいゲイン値により信号増幅されることとなる。図3(b)は新しいゲイン値αによる輝度信号を表わしたものであり、平面部Aが適正範囲内となっていることがわかる。
【0048】
次に、ゲイン調整回路33でのゲイン値をαとしたままZ移動回路15によりレボルバ6をZ方向に移動させ、合焦位置を試料8の斜面部Bに合わせる。この斜面部Bはレーザ光が斜め方向に反射されるため、光検出器13に戻ってくる量が平面部Aに比して極端に少なくなる。このため、ゲイン調整回路33でのゲイン値がαであっても、輝度信号のレベルが適正範囲内に入らない場合があり、これは斜面部Bの傾きに依存する。ここでは、傾きが急峻である場合も想定しており、例えば図3(c)に示すようなレベルの輝度信号が得られるものとする。このとき、平面部Aの輝度信号がゼロレベルとなっているのは、上記レボルバ6の移動により平面部Aが合焦位置から外れているためである。
【0049】
そこで、斜面部Bの輝度信号を適正範囲内とするために、上記αとは別のゲインβを上記と同様にしてゲイン調整回路33に設定する。ここでは「α<β」であり、図3(d)はゲインβを設定した場合に得られる輝度信号のレベルを表わしている。
【0050】
当然のことながら、ゲイン値をβとしたままで合焦位置を平面部Aに合わせると、図3(e)に示すように平面部Aの輝度信号のレベルが適正範囲を大きく上回って飽和レベルとなってしまい、測定に不都合を生じることとなる。このため、平面部Aと斜面部Bとの境界を確実に検出するとともに、ゲインをαからβへ、またはβからαへ切換えなければならない。
【0051】
上記のようにして平面部Aと斜面部Bの最適ゲイン値が得られたため、次に測定範囲の設定を行なう。
測定範囲の設定は、前述した如く試料8が合焦位置から外れると輝度信号がゼロレベルとなる現象を利用して行なわれるもので、その始めには、平面部Aが合焦位置にある位置からレボルバ6を上方向、すなわち対物レンズ7と試料8とが離れる方向に移動させる。
【0052】
すると、平面部Aも合焦位置から外れてくるために輝度信号が徐々に小さくなり、最後にゼロレベルとなる。この輝度信号がゼロレベルとなったときに、モニタディスプレイ18には試料8の画像は表示されず、真っ黒となる。したがって、観察者はこの位置が測定範囲の上限であると判別できる。
【0053】
下限位置の設定は、レボルバ6を下方向、すなわち対物レンズ7と試料8とが近付く方向に移動させ、斜面部Bの画像が消える位置を探せばよい。
測定範囲の設定が終了すると、この範囲をどのくらいの細かさ、すなわち分解能で測定するのかを決定する。測定範囲と分解能、移動回数の関係は以下のようになっている。すなわち、
測定範囲=分解能×移動回数
例えば、100[μm]の測定範囲を1[μm]の分解能で測定する場合は、レボルバ6をZ方向に100回移動させることになる。
【0054】
以上のようにして、測定に必要なパラメータが得られる。実際に測定を開始するためには、図4に示すようなパラメータを設定するソフトウェアを用意しておき、モニタディスプレイ18に表示される上記図4に示したような画面に従って上記パラメータの数値入力を行なう。なお、この数値入力は個々のパラメータの数値がわかった時点で個別に入力することも可能である。
【0055】
以上のようにパラメータの設定を終了すると、続いて測定が開始される。
すなわち測定の開始時には、コンピュータ17から画像処理ユニット14、Z移動回路15に対して測定開始の命令が出される。Z移動回路15は、測定範囲の上限に対物レンズ7が位置するようにレボルバ6をZ方向に移動させる。また画像処理ユニット14からは、XY走査駆動信号の基となる信号がカウンタ回路38から出されてXY走査制御ユニット16に与えられる。
【0056】
また、カウンタ回路38からは、上記XY走査制御ユニット16に対するXY走査に関する信号の他に、XY走査に同期して輝度信号をデジタル値に変換するための上述したA/D変換回路34に対するサンプリングクロック、画像メモリ14a,14bへの書込みタイミング信号、XYの走査が1回終了する毎にZ移動回路15に対するレボルバ6をパラメータで設定された分解能(基準単位量)で移動させるための信号等がそれぞれ出力される。
【0057】
図5で示すように、測定範囲の上限からゲイン値αでXY走査及びZ方向への移動が行なわれる。そして、何回かの移動が終了すると、対物レンズ7の合焦位置が試料8の平面部Aに一致する。この位置でのXY走査が終了すると、合焦位置は基準単位量移動して斜面部Bに移動する。
【0058】
対物レンズ7の合焦位置がゲイン値αのままで斜面部Bに移動すると、得られる輝度信号のレベルは、前述した図3(c)に示した如く適正範囲外となる。この現象がレベル判定回路31によって検出される。
【0059】
すなわち、レベル判定回路31はコンパレータで構成されており、予め設定された基準信号レベルより、入力信号、ここでは輝度信号、のレベルが大きいか否かを判断する回路であり、このコンパレータを2つ使用して、一方を適正範囲の上限、他方を適正範囲の下限の検出に使用するものとする。当然のことながら、これら2つのコンパレータに使用する基準信号は上記CPU30によって自由に設定可能とするものである。
【0060】
このようにして、観察面の状態が変化したことはレベル判定回路31からCPU30へ伝えられるので、ここでCPU30はゲイン値をαからβに変更する。そして、斜面部Bでは、対物レンズ7の合焦位置が測定範囲の下限位置に到達するまでゲイン値βで画像の取込みが行なわれる。
【0061】
その後、対物レンズ7の合焦位置が測定範囲の下限位置に到達した時点で測定が終了する。
前述した如くレベル判定回路31は、輝度信号のレベルが適正範囲外となることを利用して、観察面の状態が変化したことを検出するようになっている。しかしながら、測定開始直後のZ軸方向での位置では平面部Aが対物レンズ7の合焦位置と離れており、この位置での輝度信号のレベルも適正範囲外となってしまうため、このままではこの位置でゲイン値をαからβに変更してしまうこととなる。
【0062】
このような誤動作を避けるためにレベル判定回路31には、一度適正範囲に入った後の輝度信号に対してレベル判定を開始するという条件を設けておく。
なお、上記実施の形態の動作ではゲイン値を変化させる場合について説明したが、上記図4で示したように、他にもオフセット位置、NDフィルタ値、レーザ出力値についても同様の動作を行なう。
【0063】
このうち、オフセット値は、図6(a)に示すように、輝度信号の全体のレベル、すなわち直流成分が大きく変化し、微小時間内での変化、すなわち交流成分が小さい場合で、交流成分のみを大きくしたい際などに有効である。
【0064】
これは例えば、図6(a)で示した状態のままゲイン値を大きくすると、直流成分の方が大きいために容易に飽和レベルとなってしまうので、オフセット値を変化させてこの直流成分を差引いて、その後にゲイン値を大きくするようにすれば、図6(b)に示すように交流成分のみを増幅することができるものである。
【0065】
また、試料8に照射されるレーザ光の光量が多ければ多い程、光検出器13に戻る反射光の光量も増えることとなる。例えば、図2に示した形状の試料8で、レーザ光の照射光量が多いためにゲイン値が最小であるにもかかわらず、斜面部Bの輝度信号のレベルが適正範囲に入ることも考えられる。
【0066】
このような状態では、対物レンズ7の合焦位置が平面部Aに来たときは平面部Aの輝度信号のレベルは飽和状態となっている。しかしながら、ゲイン値は最小であるので、それ以上小さくすることができなくなってしまう。
【0067】
NDフィルタ値及びレーザ出力値のパラメータはこのような状態のときに可変設定するべく使用するものとして用意されている。どちらも試料8に照射されるレーザ光の光量を調整する機能を持っており、この機能により、平面部Aでの光量を調整して、ゲインが最小値であっても、輝度信号のレベルを適正範囲内に入れることができるようになるものである。
【0068】
具体的には、レベル出力値は画像処理ユニット14のCPU30がレーザ電源ユニット26を直接制御して加減調整する。
また一方、NDフィルタ値は、図7(a)に示すような同一円周上にその透過率を連続的に変化するNDフィルタ27aや、図7(b)に示す如くそれぞれ異なった透過率の複数のNDフィルタ(図では「ND1」〜「ND5」のように示す)を同一円周上に配置して構成されているNDフィルタ27bを使用し、これをCPU30の制御によりモータ28で回転させてレーザ光路中に選択的に挿入することで、結果としてレーザ光量を変化させるものである。
【0069】
なお、上記実施の形態では、対物レンズ7と試料8の相対位置を変化させるためのZ軸方向の移動をレボルバ6を移動させることで行なったが、これとは反対に、レボルバ6の位置は固定とし、微動ステージ9もしくは粗動ステージ10をZ軸方向に移動させるものとしてもよい。
【0070】
さらに、輝度信号のゲイン値、オフセット、NDフィルタ値及びレーザ出力値の設定はすべて行なう必要はなく、必要なものだけを設定するようにしてもよく、装置構成もこれに対応して必要なもののみを選択して構成するようにしてもよい。
【0071】
また、試料8の形状についても、連続的に観察面の形状が変化していれば対応可能であり、上記図2で示した形状に限るものではないことは勿論であって、例えば形状の変化により反射率が大きく変化する部分が2か所以上あるものでも、図4、図5で示した領域の数をその数に応じて設定することで同様に対応することができる。
【0072】
【発明の効果】
以上に述べた如く本発明によれば、観察面の形状が連続的に変化し、且つ観察面の反射率が形状に依存して大きく異なるような観察試料であっても、形状が変化する境界部分を確実に検出し、その位置から信号レベルを適正な値に設定することで常に正確な形状測定を行なうことが可能な共焦点走査型光学顕微鏡及びこの顕微鏡を使用した測定方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の一形態に係る共焦点走査型光学顕微鏡全体のシステム構成を示す図。
【図2】図1の試料の形状を例示する図。
【図3】同実施の形態に係る輝度信号のレベルの変化を例示する図。
【図4】同実施の形態に係るパラメータ設定画面を例示する図。
【図5】同実施の形態に係る合焦動作を説明する図。
【図6】同実施の形態に係る輝度信号のオフセット値による変化を例示する図。
【図7】図1のNDフィルタの具体構成を例示する図。
【図8】一般的な共焦点走査型光学顕微鏡の概略構成図と試料の一例を示した図。
【符号の説明】
1…顕微鏡本体
2…レーザ光源
3,23…ミラー
4,21,92…ハーフミラー
5…2次元走査機構
6…レボルバ
7,93…対物レンズ
8,94…観察試料
9…微動ステージ
0…粗動ステージ
11,20,22,24…レンズ
12…ピンホール板
13,96…光検出器
14…画像処理ユニット
14a,14b…画像メモリ
15…Z移動回路
16…XY走査制御ユニット
17…コンピュータ
18…モニタディスプレイ
19…白色光源
25…テレビカメラ(TVC)
26…レーザ電源ユニット
27,27a,27b…NDフィルタ
28…モータ
29…モータ駆動回路
30…CPU
31…レベル判定回路
32…オフセット調整回路
33…ゲイン調整回路
34…A/D変換回路
36,37…D/A変換回路
38…カウンタ回路
91…点状光源
95…ピンホール
【発明の属する技術分野】
本発明は、観察試料の表面情報を測定するために使用される共焦点走査型光学顕微鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、点状光源によって観察試料の表面を点状に照明し、この照明された試料表面からの透過光または反射光を再び点状に集光してピンホール開口を有する検出器に結像させ、この検出器により結像の濃度情報を得る共焦点走査型光学顕微鏡があった。
【0003】
図8(a)は一般的な共焦点走査型光学顕微鏡の概略構成図である。同図において、点状光源91から出射された点状光は、ハーフミラー92を通過した後に収差が補正された対物レンズ93によって観察試料94の表面に点状結像される。
【0004】
そして、この点状照明の上記試料94による反射光は、再び対物レンズ93を通過した後に上記ハーフミラー92で反射されて集光する。この集光位置にはピンホール95が配設されており、このピンホール95を通過した上記反射光が光検出器96によって検出される。
【0005】
このような点状照明を観察試料94表面の測定領域全体にわたって行ない、その反射光の光検出器96による検出信号をラスタ走査等のように二次元走査することにより、観察試料94表面の二次元画像が得られるようになっている。
【0006】
ところで、観察試料94の表面は全体にわたって平坦とは限らず、例えば図8(a)中のLに示すように対物レンズ93の集光位置からずれた位置にある面も存在する。このような面Lから反射した反射光は、ピンホール95上に集光することはない。したがって、このような反射光はピンホール95を通過することができず、このため光検出器96で検出されない。すなわち、共焦点走査型光学顕微鏡では、対物レンズ93の集光位置つまり合焦位置に存在する試料面の光学像のみが測定できるものである。
【0007】
次に、例えば図8(b)に示すように高さの異なる複数の観測面A,B,Cを有する試料94′を共焦点走査型光学顕微鏡で観察する場合、観測面Aに合焦させたときには他の観測面B,Cの光学像は全く見えなくなる。このため、すべての観測面A,B,Cについての合焦画像を同時に観測することは不可能である。
【0008】
しかし、例えば観測面A,B,Cに対し順次合焦させてその合焦画像を順次画像メモリに格納し、これらの合焦画像を演算処理により合成することにより全観測面A,B,Cに合焦した観測画像を得ることができる。なお、この合焦観測画像の合成は、実際には各画素について明るさが最大となる値を保持させることによりなされる。
【0009】
以上説明した試料表面の観測方法については、例えば「THEORY ANDPRACTICE OF SCANNING OPTICAL MICROSCOPY」(126〜130頁)に開示されている。すなわち、試料面の一点に集束光を照射した状態で、まずその光軸方向(Z方向)に上記集束光を走査して、かかる走査中に輝度が最大となる位置(Z位置)を検出し保存する。次に、上記集束光をX方向に移動させることにより試料面の次の一点に上記集束光の初期照射点を位置させ、この状態で上記集束光をZ方向へ走査して、かかる走査中に輝度が最大となる位置(Z位置)を検出し保存する。
【0010】
以後同様に、集束光の初期照射点の位置をX方向及びY方向にステップ的に移動させるごとに集束光をZ方向へ走査し、これらの走査で検出された輝度の最大値をそれぞれ保存する。かくして、輝度変化に基づいて試料の表面情報が測定される。
【0011】
ところが、上記のような観測を行なう場合に、従来の共焦点走査型光学顕微鏡では次のような不具合が生じていた。
すなわち、光検出器により得られた検出信号は、信号レベルが最適値になるように可変利得増幅回路において増幅される。この場合、試料の観察もしくは測定範囲における反射率が一定ならば問題はない。しかし、試料の観察もしくは測定範囲内に反射率が異なる複数の部位が存在すると、正確な検出信号が得られなくなる。
【0012】
そこで、特願平7−35474号では、試料が高さによって反射率が大きく異なる観察面を持っている場合に、測定範囲の途中で信号レベルを変化させることで、反射率が異なる複数の部位でも観察可能としている。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記特願平7−35474号が想定している反射率が異なる複数の部位が存在する試料とは、例えば上記図8(b)で示したような段状形状の試料であり、A面がガラス面、B面が鏡面、…というように、信号レベルを変化させる位置をA面とB面の間、B面とC面の間の各垂直な部分とすることで対処している。
【0014】
したがって、例えばV字形の溝がある形状等のように、平面部と斜面部が連続している試料では、平面部と斜面部との境界で確実に信号レベルを変化させることができず、その境界部分では正確な観察、測定を行なうことができないという不具合がある。
【0015】
本発明は上記のような実情に鑑みてなされたもので、観察面の形状が連続的に変化すると共に、観察面の反射率が形状に依存して大きく異なるような観察試料であっても、形状が変化する境界部分を確実に検出し、その位置から信号レベルを適正な値に設定することで常に正確な形状測定を行なうことが可能な共焦点走査型光学顕微鏡及びこの顕微鏡を使用した測定方法を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明は、試料に対し集束光を照射する対物光学系と、上記集束光と上記試料とを相対的に二次元方向へ走査する二次元走査手段と、上記対物光学系の焦点位置と上記試料の位置とを相対的に光軸方向へ移動するZ軸移動手段と、上記集束光の上記試料による反射光を受光してその受光強度に応じた検出信号を出力する光検出手段と、この光検出手段から出力された検出信号の信号レベルを可変する利得可変手段とを備えた共焦点走査型光学顕微鏡において、上記光検出手段からの検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲にあるか否かを判断する判断手段と、この判断手段により検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲外であると判断した場合に上記利得可変手段の利得を可変制御して該信号レベルが予め設定された適正範囲内となるように調整する利得制御手段とを具備するようにしている。
【0017】
この結果、請求項1記載の発明によれば、上記光検出手段からの検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲にあるか否かを判断手段が随時判断している。そして、この判断手段により検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲外であると判断した場合に、利得制御手段が上記利得可変手段の利得を可変制御して、該信号レベルが予め設定された適正範囲内となるように調整することになる。したがって、観察面の形状が連続的に変化し、且つ観察面の反射率が形状に依存して大きく異なるような観察試料であっても、形状が変化する境界部分を確実に検出し、その位置から信号レベルを適正な値に設定することで常に正確な形状測定を行なうことが可能な共焦点走査型光学顕微鏡を実現できる。
【0018】
請求項2記載の発明は、試料に対し集束光を照射する対物光学系と、上記集束光と上記試料とを相対的に二次元方向へ走査する二次元走査手段と、上記対物光学系の焦点位置と上記試料の位置とを相対的に光軸方向へ移動するZ軸移動手段と、上記集束光の上記試料による反射光を受光してその受光強度に応じた検出信号を出力する光検出手段と、この光検出手段から出力された検出信号の信号レベルを可変する利得可変手段とを備えた共焦点走査型光学顕微鏡を使用して上記試料の表面測定を行なうに際し、上記光検出手段からの検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲にあるか否かを判断する判断工程と、この判断工程により検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲外であると判断した場合に上記利得可変手段の利得を可変制御して該信号レベルが予め設定された適正範囲内となるように調整する利得制御工程とを有するようにしている。
【0019】
この結果、上記光検出手段からの検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲にあるか否かを判断工程で随時判断している。そして、この判断工程により検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲外であると判断した場合に、利得制御工程に移行して上記利得可変手段の利得を可変制御し、該信号レベルが予め設定された適正範囲内となるように調整することになる。したがって、観察面の形状が連続的に変化し、且つ観察面の反射率が形状に依存して大きく異なるような観察試料であっても、形状が変化する境界部分を確実に検出し、その位置から信号レベルを適正な値に設定することで常に正確な形状測定を行なうことができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照して本発明の実施の一形態を説明する。
図1は本発明の実施の一形態に係る共焦点走査型光学顕微鏡全体のシステム構成を示すものである。同図で、1は共焦点走査型光学顕微鏡本体であり、この顕微鏡本体1内の2が走査光の光源となるレーザ光源である。このレーザ光源2より発生されたスポット光としてのレーザ光は、ミラー3で全反射され、ハーフミラー4を介した後に2次元走査機構5に送られる。
【0021】
ここでレーザ光の強度は、レーザ光源2の電源であるレーザ電源ユニット26で調整することができると共に、レーザ光源2とミラー3との間に配置したNDフィルタ27を回転させて、レーザ光の透過量を変化させることでも調整することができる。
【0022】
NDフィルタ27は、その詳細な構成は後述するが、モータ28により回転駆動されてレーザ光の透過量を可変制御するものであり、モータ28はモータ駆動回路29からの駆動信号に従うものである。これらの調整は、コンピュータ17からの命令に対応して画像処理ユニット14に送出され、この画像処理ユニット14内のCPU30が上記レーザ電源ユニット26やモータ駆動回路29に制御信号を送出することで行なわれる。
【0023】
上記2次元走査機構5は、例えばX軸方向走査用のガルバノミラーとY軸方向走査用のガルバノミラーとを有しており、後述するXY走査制御ユニット16からの制御を受けて2つのガルバノミラーをX軸方向、Y軸方向に振ることでスポット光をテレビジョン方式におけるラスタ走査と同様にXY走査するもので、この2次元走査機構5により走査されたスポット光は、レボルバ6を介して対物レンズ7により微動ステージ9上に載置された試料8に照射される。
【0024】
すなわち、レボルバ6は、倍率の異なる複数の対物レンズ7を保持したものであり、微動ステージ9は試料8を保持するものである。そして、微動ステージ9は粗動ステージ10上に設けられる。
【0025】
レボルバ6に保持される複数の対物レンズ7のうち、所望の倍率を持つ者をレボルバ6の回転により切換えて顕微鏡の観察光路中に位置設定することで、この位置設定された対物レンズ7を介して2次元走査機構5からのスポット光を微動ステージ9上の試料8に2次元走査しながら照射することができる。
【0026】
この照射による反射光は対物レンズ7を通って2次元走査機構5に戻り、2次元走査機構5からハーフミラー4へと戻される。
ハーフミラー4は、2次元走査機構5に対するレーザ光源2の出射光路上に設けられ、2次元走査機構5を介して得られる試料8からの反射光を検出系に導くためのもので、ハーフミラー4で得られた試料8からの反射光は、レンズ11により集光され、所定の径に開口したピンホール板12を介して光検出器13に送られる。
【0027】
すなわち、光検出器13は、その受光面にレンズ11及びこのレンズ11の焦点位置にあるピンホール板12とを配するもので、このピンホール板12を介して得られる光をその光量に対応したアナログの電気信号(輝度信号)に変換し、画像処理ユニット14内のレベル判定回路31、CPU30からD/A変換回路37を介してオフセット値が設定されるオフセット調整回路32、及び同じくCPU30からD/A変換回路36を介してゲイン値が設定されるゲイン調整回路33を経て、A/D変換回路34でカウンタ回路38からのサンプリングクロックに同期してデジタルデータとされた後に画像メモリ14aへ送出される。
【0028】
この画像処理ユニット14は、2つの画像メモリ14a,14bを有しており、これら画像メモリ14a,14bはそれぞれ共に1フレーム分の記憶容量を有している。ここでは、1フレームの記憶容量を例えば512画素×512画素×8ビット(256階調/画素)とする。
【0029】
これら2つの画像メモリ14a,14bのうちの上記画像メモリ14aは、上記光検出器13で得られた反射光の輝度情報を、スポット光の現在のXY走査位置に対応した画素位置に8ビットデータとしてカウンタ回路38からの書込みタイミング信号に同期して記憶することで試料8の画像信号を記憶するものである。
【0030】
この画像メモリ14aへの記憶は、前回の同走査位置での輝度情報よりも今回の輝度情報の方が大きな値を有する(明るい)場合に、この走査位置の画像情報として更新保持することで、高さ位置の異なる画像を足し込むことができるようにしたものである。
【0031】
また、上記他方の画像メモリ14bは、スポット光の現在のXY走査位置に対応した画素位置にZ移動方向の情報、具体的にはZ移動回路15からレボルバ6が何回移動したかを数えた回数値をカウンタ回路38からの書込みタイミング信号に同期して記憶する。
【0032】
この場合に画像処理ユニット14は、上記画像メモリ14aで輝度情報を更新保持させた場合、すなわち、画像メモリ14aの画像データを参照して、前回のその位置での輝度情報よりも今回の輝度情報の方が大きい(明るい)場合に、画像メモリ14bに対して上記回数の値をデータとして更新させ、記憶保持させる機能を有するものである。
【0033】
画像メモリ14bにはこのようにして、各画素位置においてその画素位置で最大輝度を示す情報があるときのレボルバ移動回数値がZ走査方向の情報、すなわち高さ位置を示すこととなる情報として記憶される。
【0034】
上記Z移動回路15は、コンピュータ17または上記画像処理ユニット14に制御されて上記レボルバ6をその高さ方向、すなわち観察光路軸に沿ったZ軸方向に基準幅単位で移動させるべく制御を行なう回路であり、レボルバ6を基準幅単位で移動させる毎にその位置情報をカウントするカウント機能と、そのカウント値を上記画像メモリ14bへ送出する機能とを有している。
【0035】
しかるに、この画像処理ユニット14とZ移動回路15及び上記2次元走査機構5を制御するXY走査制御ユニット16を統括制御するものとしてコンピュータ17が設けられる。
【0036】
このコンピュータ17は、上記XY走査制御ユニット16、Z移動回路15及び画像処理ユニット14の統括制御の他に、画像データの保存、再生、編集等を行なうなど、全体の制御、処理の中枢を担うもので、必要な情報や画像等をモニタディスプレイ18により表示出力させる。
【0037】
さらに、試料8の測定を行なう際に、微動ステージ9に載せた試料8に対する大まかなピント合わせを行なうものとして、テレビ光学系が用意されている。これは、レーザ走査による共焦点画像でピント合わせを行なう場合に、焦点深度が極端に浅いためにやや使いづらい点を考慮して用いられるものである。
【0038】
すなわち、白色光源19で発生された光がレンズ20を介した後にハーフミラー21で全反射され、レンズ22を介して、2次元走査機構5とレボルバ6の間のレーザ光路に挿入されたミラー23で反射されて、レボルバ6を介して対物レンズ7により微動ステージ9上に載置支持された試料8に照射される。
【0039】
そして、この照射による反射光は対物レンズ7を通ってミラー23により反射され、レンズ22を介した後に上記ハーフミラー21を通過して、レンズ24によりテレビカメラ25上に結像する。
【0040】
このテレビカメラ25で撮影された試料画像は上記モニタディスプレイ18で表示されるもので、観察者はこのモニタディスプレイ18の画像を見ながら粗動ステージ10を動かしてピント合わせを行なう。このとき観察者は、試料8のおおよその形状と合焦位置とを知ることができる。
【0041】
次いで上記実施の一形態の動作として、レーザ光源2で発生されたレーザ光によって試料8の形状を測定する場合の詳細を説明する。
しかるに、試料8の形状を測定するにあたっては、試料8の形状に起因する反射率の差が大きくても、確実に信号をとらえることができるように、反射率の変化に応じて輝度信号のレベルを調整する必要がある。ここで、本発明が特徴とする、後述する形状変化に伴う反射率の変化を検出して輝度信号のレベルを適正範囲に設定する信号調整機能を用いるものである。
【0042】
なお、以下の説明では、試料8の形状として、図2に示すようなV字状の溝を有するものを用いることする。すなわちこの図2で示す試料8は、2つの平面部A,Aと、これら平面部A,Aに挟まれた一対の斜面部B,Bとを有している。
【0043】
動作当初には、まず、平面部Aと斜面部Bを画像化できるようにその信号レベルを調べる。走査に先立ってレーザ光源2の出力、NDフィルタ27の値、ゲイン調整回路33でのゲイン、オフセット調整回路32のオフセット値は予め設定されている値(デフォルト値)となっている。この状態でレーザ走査を開始し、合焦位置を平面部Aに合わせる。
【0044】
図3は試料8のX方向の輝度信号のレベルを表わすものである。図3(a)はデフォルト値での輝度信号のレベルを例示するものであり、ハッチングで示す範囲が予め設定された適正範囲である(以下同様)。この状態では、平面部A及び斜面部B共に輝度信号が適正範囲から外れ、特に斜面部Bは合焦位置にないために輝度信号がゼロレベルとなっていることがわかる。
【0045】
上記図3(a)に示したようなデフォルト値での輝度信号が得られた場合、観察者は平面部Aの輝度信号が適正範囲内となるように、ゲイン値の変更を行なう。ゲイン値の変更はコンピュータ17から画像処理ユニット14に対してメッセージが出される。
【0046】
画像処理ユニット14のCPU30は、命令された数値データをD/A変換回路36でアナログ値に変換させた後にゲイン調整回路33に与え、新しいゲイン値としてセットする。
【0047】
したがって、得られる輝度信号は新しいゲイン値により信号増幅されることとなる。図3(b)は新しいゲイン値αによる輝度信号を表わしたものであり、平面部Aが適正範囲内となっていることがわかる。
【0048】
次に、ゲイン調整回路33でのゲイン値をαとしたままZ移動回路15によりレボルバ6をZ方向に移動させ、合焦位置を試料8の斜面部Bに合わせる。この斜面部Bはレーザ光が斜め方向に反射されるため、光検出器13に戻ってくる量が平面部Aに比して極端に少なくなる。このため、ゲイン調整回路33でのゲイン値がαであっても、輝度信号のレベルが適正範囲内に入らない場合があり、これは斜面部Bの傾きに依存する。ここでは、傾きが急峻である場合も想定しており、例えば図3(c)に示すようなレベルの輝度信号が得られるものとする。このとき、平面部Aの輝度信号がゼロレベルとなっているのは、上記レボルバ6の移動により平面部Aが合焦位置から外れているためである。
【0049】
そこで、斜面部Bの輝度信号を適正範囲内とするために、上記αとは別のゲインβを上記と同様にしてゲイン調整回路33に設定する。ここでは「α<β」であり、図3(d)はゲインβを設定した場合に得られる輝度信号のレベルを表わしている。
【0050】
当然のことながら、ゲイン値をβとしたままで合焦位置を平面部Aに合わせると、図3(e)に示すように平面部Aの輝度信号のレベルが適正範囲を大きく上回って飽和レベルとなってしまい、測定に不都合を生じることとなる。このため、平面部Aと斜面部Bとの境界を確実に検出するとともに、ゲインをαからβへ、またはβからαへ切換えなければならない。
【0051】
上記のようにして平面部Aと斜面部Bの最適ゲイン値が得られたため、次に測定範囲の設定を行なう。
測定範囲の設定は、前述した如く試料8が合焦位置から外れると輝度信号がゼロレベルとなる現象を利用して行なわれるもので、その始めには、平面部Aが合焦位置にある位置からレボルバ6を上方向、すなわち対物レンズ7と試料8とが離れる方向に移動させる。
【0052】
すると、平面部Aも合焦位置から外れてくるために輝度信号が徐々に小さくなり、最後にゼロレベルとなる。この輝度信号がゼロレベルとなったときに、モニタディスプレイ18には試料8の画像は表示されず、真っ黒となる。したがって、観察者はこの位置が測定範囲の上限であると判別できる。
【0053】
下限位置の設定は、レボルバ6を下方向、すなわち対物レンズ7と試料8とが近付く方向に移動させ、斜面部Bの画像が消える位置を探せばよい。
測定範囲の設定が終了すると、この範囲をどのくらいの細かさ、すなわち分解能で測定するのかを決定する。測定範囲と分解能、移動回数の関係は以下のようになっている。すなわち、
測定範囲=分解能×移動回数
例えば、100[μm]の測定範囲を1[μm]の分解能で測定する場合は、レボルバ6をZ方向に100回移動させることになる。
【0054】
以上のようにして、測定に必要なパラメータが得られる。実際に測定を開始するためには、図4に示すようなパラメータを設定するソフトウェアを用意しておき、モニタディスプレイ18に表示される上記図4に示したような画面に従って上記パラメータの数値入力を行なう。なお、この数値入力は個々のパラメータの数値がわかった時点で個別に入力することも可能である。
【0055】
以上のようにパラメータの設定を終了すると、続いて測定が開始される。
すなわち測定の開始時には、コンピュータ17から画像処理ユニット14、Z移動回路15に対して測定開始の命令が出される。Z移動回路15は、測定範囲の上限に対物レンズ7が位置するようにレボルバ6をZ方向に移動させる。また画像処理ユニット14からは、XY走査駆動信号の基となる信号がカウンタ回路38から出されてXY走査制御ユニット16に与えられる。
【0056】
また、カウンタ回路38からは、上記XY走査制御ユニット16に対するXY走査に関する信号の他に、XY走査に同期して輝度信号をデジタル値に変換するための上述したA/D変換回路34に対するサンプリングクロック、画像メモリ14a,14bへの書込みタイミング信号、XYの走査が1回終了する毎にZ移動回路15に対するレボルバ6をパラメータで設定された分解能(基準単位量)で移動させるための信号等がそれぞれ出力される。
【0057】
図5で示すように、測定範囲の上限からゲイン値αでXY走査及びZ方向への移動が行なわれる。そして、何回かの移動が終了すると、対物レンズ7の合焦位置が試料8の平面部Aに一致する。この位置でのXY走査が終了すると、合焦位置は基準単位量移動して斜面部Bに移動する。
【0058】
対物レンズ7の合焦位置がゲイン値αのままで斜面部Bに移動すると、得られる輝度信号のレベルは、前述した図3(c)に示した如く適正範囲外となる。この現象がレベル判定回路31によって検出される。
【0059】
すなわち、レベル判定回路31はコンパレータで構成されており、予め設定された基準信号レベルより、入力信号、ここでは輝度信号、のレベルが大きいか否かを判断する回路であり、このコンパレータを2つ使用して、一方を適正範囲の上限、他方を適正範囲の下限の検出に使用するものとする。当然のことながら、これら2つのコンパレータに使用する基準信号は上記CPU30によって自由に設定可能とするものである。
【0060】
このようにして、観察面の状態が変化したことはレベル判定回路31からCPU30へ伝えられるので、ここでCPU30はゲイン値をαからβに変更する。そして、斜面部Bでは、対物レンズ7の合焦位置が測定範囲の下限位置に到達するまでゲイン値βで画像の取込みが行なわれる。
【0061】
その後、対物レンズ7の合焦位置が測定範囲の下限位置に到達した時点で測定が終了する。
前述した如くレベル判定回路31は、輝度信号のレベルが適正範囲外となることを利用して、観察面の状態が変化したことを検出するようになっている。しかしながら、測定開始直後のZ軸方向での位置では平面部Aが対物レンズ7の合焦位置と離れており、この位置での輝度信号のレベルも適正範囲外となってしまうため、このままではこの位置でゲイン値をαからβに変更してしまうこととなる。
【0062】
このような誤動作を避けるためにレベル判定回路31には、一度適正範囲に入った後の輝度信号に対してレベル判定を開始するという条件を設けておく。
なお、上記実施の形態の動作ではゲイン値を変化させる場合について説明したが、上記図4で示したように、他にもオフセット位置、NDフィルタ値、レーザ出力値についても同様の動作を行なう。
【0063】
このうち、オフセット値は、図6(a)に示すように、輝度信号の全体のレベル、すなわち直流成分が大きく変化し、微小時間内での変化、すなわち交流成分が小さい場合で、交流成分のみを大きくしたい際などに有効である。
【0064】
これは例えば、図6(a)で示した状態のままゲイン値を大きくすると、直流成分の方が大きいために容易に飽和レベルとなってしまうので、オフセット値を変化させてこの直流成分を差引いて、その後にゲイン値を大きくするようにすれば、図6(b)に示すように交流成分のみを増幅することができるものである。
【0065】
また、試料8に照射されるレーザ光の光量が多ければ多い程、光検出器13に戻る反射光の光量も増えることとなる。例えば、図2に示した形状の試料8で、レーザ光の照射光量が多いためにゲイン値が最小であるにもかかわらず、斜面部Bの輝度信号のレベルが適正範囲に入ることも考えられる。
【0066】
このような状態では、対物レンズ7の合焦位置が平面部Aに来たときは平面部Aの輝度信号のレベルは飽和状態となっている。しかしながら、ゲイン値は最小であるので、それ以上小さくすることができなくなってしまう。
【0067】
NDフィルタ値及びレーザ出力値のパラメータはこのような状態のときに可変設定するべく使用するものとして用意されている。どちらも試料8に照射されるレーザ光の光量を調整する機能を持っており、この機能により、平面部Aでの光量を調整して、ゲインが最小値であっても、輝度信号のレベルを適正範囲内に入れることができるようになるものである。
【0068】
具体的には、レベル出力値は画像処理ユニット14のCPU30がレーザ電源ユニット26を直接制御して加減調整する。
また一方、NDフィルタ値は、図7(a)に示すような同一円周上にその透過率を連続的に変化するNDフィルタ27aや、図7(b)に示す如くそれぞれ異なった透過率の複数のNDフィルタ(図では「ND1」〜「ND5」のように示す)を同一円周上に配置して構成されているNDフィルタ27bを使用し、これをCPU30の制御によりモータ28で回転させてレーザ光路中に選択的に挿入することで、結果としてレーザ光量を変化させるものである。
【0069】
なお、上記実施の形態では、対物レンズ7と試料8の相対位置を変化させるためのZ軸方向の移動をレボルバ6を移動させることで行なったが、これとは反対に、レボルバ6の位置は固定とし、微動ステージ9もしくは粗動ステージ10をZ軸方向に移動させるものとしてもよい。
【0070】
さらに、輝度信号のゲイン値、オフセット、NDフィルタ値及びレーザ出力値の設定はすべて行なう必要はなく、必要なものだけを設定するようにしてもよく、装置構成もこれに対応して必要なもののみを選択して構成するようにしてもよい。
【0071】
また、試料8の形状についても、連続的に観察面の形状が変化していれば対応可能であり、上記図2で示した形状に限るものではないことは勿論であって、例えば形状の変化により反射率が大きく変化する部分が2か所以上あるものでも、図4、図5で示した領域の数をその数に応じて設定することで同様に対応することができる。
【0072】
【発明の効果】
以上に述べた如く本発明によれば、観察面の形状が連続的に変化し、且つ観察面の反射率が形状に依存して大きく異なるような観察試料であっても、形状が変化する境界部分を確実に検出し、その位置から信号レベルを適正な値に設定することで常に正確な形状測定を行なうことが可能な共焦点走査型光学顕微鏡及びこの顕微鏡を使用した測定方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の一形態に係る共焦点走査型光学顕微鏡全体のシステム構成を示す図。
【図2】図1の試料の形状を例示する図。
【図3】同実施の形態に係る輝度信号のレベルの変化を例示する図。
【図4】同実施の形態に係るパラメータ設定画面を例示する図。
【図5】同実施の形態に係る合焦動作を説明する図。
【図6】同実施の形態に係る輝度信号のオフセット値による変化を例示する図。
【図7】図1のNDフィルタの具体構成を例示する図。
【図8】一般的な共焦点走査型光学顕微鏡の概略構成図と試料の一例を示した図。
【符号の説明】
1…顕微鏡本体
2…レーザ光源
3,23…ミラー
4,21,92…ハーフミラー
5…2次元走査機構
6…レボルバ
7,93…対物レンズ
8,94…観察試料
9…微動ステージ
0…粗動ステージ
11,20,22,24…レンズ
12…ピンホール板
13,96…光検出器
14…画像処理ユニット
14a,14b…画像メモリ
15…Z移動回路
16…XY走査制御ユニット
17…コンピュータ
18…モニタディスプレイ
19…白色光源
25…テレビカメラ(TVC)
26…レーザ電源ユニット
27,27a,27b…NDフィルタ
28…モータ
29…モータ駆動回路
30…CPU
31…レベル判定回路
32…オフセット調整回路
33…ゲイン調整回路
34…A/D変換回路
36,37…D/A変換回路
38…カウンタ回路
91…点状光源
95…ピンホール
Claims (3)
- 試料に対し集束光を照射する対物光学系と、上記集束光と上記試料とを相対的に二次元方向へ走査する二次元走査手段と、上記対物光学系の焦点位置と上記試料の位置とを相対的に光軸方向へ移動するZ軸移動手段と、上記集束光の上記試料による反射光を受光してその受光強度に応じた検出信号を出力する光検出手段と、この光検出手段から出力された検出信号の信号レベルを可変する利得可変手段とを備えた共焦点走査型光学顕微鏡において、上記光検出手段からの検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲にあるか否かを判断する判断手段と、この判断手段により検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲外であると判断した場合に上記利得可変手段の利得を可変制御して該信号レベルが予め設定された適正範囲内となるように調整する利得制御手段とを具備したことを特徴とする共焦点走査型光学顕微鏡。
- 試料に対し集束光を照射する対物光学系と、上記集束光と上記試料とを相対的に二次元方向へ走査する二次元走査手段と、上記対物光学系の焦点位置と上記試料の位置とを相対的に光軸方向へ移動するZ軸移動手段と、上記集束光の上記試料による反射光を受光してその受光強度に応じた検出信号を出力する光検出手段と、この光検出手段から出力された検出信号の信号レベルを可変する利得可変手段とを備えた共焦点走査型光学顕微鏡を使用して上記試料の表面測定を行なうに際し、上記光検出手段からの検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲にあるか否かを判断する判断工程と、この判断工程により検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲外であると判断した場合に上記利得可変手段の利得を可変制御して該信号レベルが予め設定された適正範囲内となるように調整する利得制御工程とを有したことを特徴とする共焦点走査型光学顕微鏡を使用した測定方法。
- 前記利得制御工程は、前記判断工程により検出信号の信号レベルが予め設定された適正範囲外であると判断した場合に、予め設定された利得値に変更することを特徴とする請求項2記載の共焦点走査型光学顕微鏡を使用した測定方法。
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