JP3557354B2 - 供給装置及び補充方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体ウェハを洗浄する洗浄装置へ洗浄液を供給する供給装置及びこのような供給装置における処理液の補充方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体デバイスの製造プロセスでは、フォトリソグラフィー技術が利用されている。フォトリソグラフィー技術においては、半導体ウェハ(以下、単に「ウェハ」と呼ぶ。)の表面にレジストを塗布し、この塗布レジストを所定パターンに露光処理し、さらに現像処理する。これによりウェハ上に所定パターンのレジスト膜が形成され、さらに成膜及びエッチング処理することにより所定パターンの回路が形成される。
【0003】
従来から、これら一連のレジスト処理は、例えばレジスト液塗布ユニットや現像処理ユニット、加熱処理ユニット、洗浄処理ユニット等が一体化された塗布現像処理システムを用いて行われている。
【0004】
上記の洗浄処理ユニットにおいては、例えばNH4OHとH2O2(処理液と呼ぶ。)とを混合した洗浄液を使った液相洗浄が行われるが、これらの処理液は時間の経過と共に劣化する。このため、このような洗浄処理ユニットへ処理液を供給する供給装置では、処理液が貯留用の容器内に所定時間以上使われずに貯留されていた場合に容器内から処理液を排出して新たな処理液を補充することが行われている。
【0005】
ところで、このような供給装置において、上記の容器からの処理液の排出及び容器への処理液の補充を自動的に行う場合には、タイマを使って処理液の排出を開始してから所定時間後に処理液の供給を開始することが考えられる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このように容器からの処理液の排出及び容器への処理液の補充を自動的に行う場合には、例えば容器から洗浄処理ユニットへ処理液を送るための配管が詰まっていた場合、タイマがタイムアップしても容器内には古い処理液が残っていて古い処理液と新しい処理液が混ざってしまうような事態を生じる、という課題がある。
【0007】
本発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、容器内の処理液の交換をより円滑に行うことができる供給装置及び補充方法を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するため、本発明の供給装置は、所定の処理を行う処理装置へ処理液を供給する供給装置であって、前記処理装置へ供給される処理液を貯留する容器と、前記容器内に貯留された処理液の、当該処理液を補充すべき第1の液位を検知する第1のセンサと、前記第1の液位よりも更に下の第2の液位を検知する第2のセンサと、前記第1のセンサにより第1の液位が検知されたとき、前記容器内へ処理液を補充する補充手段と、前記補充手段により処理液が補充されたときに作動し、所定時間計時する第1のタイマと、前記第1のセンサにより第1の液位が検知されずに前記第1のタイマがタイムアップしたとき、前記容器内の処理液の排出を開始する手段と、前記記容器内の処理液の排出を開始したときに作動し、所定時間計時する第2のタイマと、前記第2のタイマがタイムアップする前に前記第2のセンサにより第2の液位が検知されたとき、前記容器内への処理液の補充を開始する手段とを具備する。本発明では、例えば容器から洗浄処理ユニットへ処理液を送るための配管が詰まっていた場合には、第2のタイマがタイムアップする前に第2のセンサにより第2の液位が検知されないので、容器への新たな処理液の補充が開始されることはなく、容器内に残った古い処理液と新しい処理液が混ざってしまうような事態を生じることはない。よって、容器内の処理液の交換をより円滑に行うことができる。
【0009】
本発明の供給装置は、前記第2のタイマがタイムアップしても前記第2のセンサにより第2の液位が検知されないとき、所定の報知を行う報知手段をさらに具備する。これにより、ユーザは配管の詰まり等の異常が発生したことを知ることができる。
【0012】
本発明の供給装置は、前記容器内に処理液を補充している最中に前記処理装置より処理液の供給の要求があったとき、処理液の補充を一旦停止し、前記処理装置への処理液の供給が停止した後に、処理液の補充を再開すること特徴とする。これにより、処理装置に対して処理液を円滑に供給することができる。
本発明の供給装置は、所定の処理を行う処理装置へ処理液を供給する供給装置であって、前記処理装置へ供給される処理液を貯留する容器と、前記容器内に貯留された処理液の、当該処理液を補充すべき第1の液位を検知する第1のセンサと、前記容器内に貯留された処理液の、当該処理液の補充を停止すべき第2の液位を検知する第2のセンサと、前記第1のセンサにより第1の液位が検知されたとき、前記容器内への処理液の補充を開始する手段と、前記処理液の補充が開始されたときに作動し、所定時間計時するタイマと、前記タイマがタイムアップしても前記第2のセンサにより第2の液位が検知されないとき、前記処理液の補充を停止する手段とを具備し、前記容器内に処理液を補充している最中に前記処理装置より処理液の供給の要求があったとき、処理液の補充を一旦停止し、前記処理装置への処理液の供給が停止した後に、処理液の補充を再開すること特徴とする。本発明では、例えば容器から洗浄処理ユニットへ処理液を送るための配管に亀裂等による処理液の漏れが生じた場合、タイマがタイムアップしても第2のセンサにより第2の液位が検知されないので、容器への処理液の補充は停止される。よって、容器内の処理液の交換をより円滑に行うことができる。
【0013】
本発明の供給装置は、前記処理液の供給を停止している間、前記タイマによる計時を停止すること特徴とする。これにより、より正確に処理液の劣化を計時することができる。或いは、処理液をより正確な量補充することができる。
【0014】
本発明の供給装置は、所定の処理を行う処理装置へ処理液を供給する供給装置であって、前記処理装置へ供給される処理液を貯留する容器と、前記容器内に貯留された処理液の、当該処理液を補充すべき液位を検知するセンサと、前記センサにより処理液を補充すべき液位が検知されたとき、前記容器内へ処理液を補充する補充手段と、前記補充手段により処理液が補充されたときに作動し、所定時間計時するタイマと、前記センサにより処理液を補充すべき液位が検知されずに前記タイマがタイムアップしたとき、この結果を保持する保持手段と、前記処理装置より処理液の補充要求があって、かつ、前記保持手段により上記の結果が保持されているときに、前記容器内の処理液を排出して新たな処理液を補充する手段とを具備する。然るに、タイマにより容器内の処理液の貯留時間を計測し、所定時間以上経過した場合に、自動的に容器内の処理液の交換を行うときには、次のような問題がある。即ち、例えば夏休みの期間のように処理液を使用しない期間が非常に長い場合には、上記のような自動交換ではその休み期間中に何度も処理液の交換が繰り返されることになる。例えば不使用時間が40時間経過した場合に容器内の処理液を交換するようにしたとき、夏休みの期間が例えば7日、即ち168時間とすると、夏休みの間に4回程度容器内の処理液の交換が繰り返されることになる。これに対して、本発明では、処理装置より処理要求があって初めて容器内の処理液の交換を行うようにしているので、例えば上記の夏休みの例でいうと、夏休み期間中にただの1回しか容器内の処理液は交換されない。よって、処理液の無駄をなくすことができる。
【0015】
本発明の供給装置は、前記処理装置へ少なくとも2種類の処理液を混ぜて供給するため、少なくとも2つの上記の容器を有することを特徴とする。これにより、処理液の寿命を長くすることができる。
【0016】
本発明の補充方法は、処理液を貯留する容器より所定の処理を行う処理装置へ処理液を供給する供給装置における当該容器への処理液の補充方法であって、(a)前記容器からの処理液の漏れを検知する工程と、(b)前記(a)工程の後に、前記容器内部に残存する処理液が所定の時間以上経過している場合には処理液を排出後に、所定の時間以上経過していない場合にはその判断後に、容器に処理液を補充する工程と、(c)前記(b)工程の前に前記容器内に所定の量以上の処理液が残存するか否かを検知する工程とを具備する。本発明では、容器内の処理液の自動交換に先立ち、容器からの処理液の漏れを検知しているので、処理液の交換をより円滑に行うことができる。また、配管の詰まり等を検知することができる。
【0018】
本発明の補充方法は、(d)前記(a)工程において処理液の漏れを検知したか、あるいは、前記(c)工程において容器内の所定量以上の処理液の残存を検知した際に、前記処理装置が容器から処理液を供給されて処理中であるか否かを検知する工程を更に具備するものである。これにより、処理装置側の処理の中断を避けることができる。
【0019】
本発明の補充方法は、前記処理装置が処理中であった際に、処理液が容器から処理装置までの処理液供給経路の間に残存するか否かを検知する工程を更に具備するものである。これにより、処理液供給経路上に残った古い処理液と新たに補充された処理液とが混ざるような事態を防止することができる。
【0020】
本発明の補充方法は、前記処理液供給経路での処理液の残存量が所定の量以上であった際に、前記処理装置では所定の処理工程あるいは時間までは被処理体を処理した後に処理を停止させるものである。こらにより、処理装置側で処理不良が発生するのを防止することができる。
【0021】
本発明の補充方法は、前記処理液供給経路上に残存する処理液を気圧の付加により排出する工程を具備し、前記処理液の漏れを検知したか、あるいは、前記容器内の所定量以上の処理液の残存を検知した際には、前記処理液の排出は前記気圧の付加によらないものである。これにより、気圧の付加に基づく事故等の発生を防止することができる。
【0022】
本発明の補充方法は、前記(a)工程において処理液の漏れを検知した場合、前記(c)工程において容器内の所定量以上の処理液の残存を検知した場合、あるいは前記処理装置側で処理中であった場合のうち少なくともいずれか一つに該当する際には、前記処理液の容器への補充を行わないものである。これにより、古い処理液と新たに補充された処理液とが混ざるような事態を防止することができる。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る塗布現像処理システムの平面図、図2は図1に示した塗布現像処理システムの正面図、図3は図1に示した塗布現像システムの背面図である。
【0024】
図1乃至図3に示すように、この塗布現像処理システム1は、カセットステーション10、処理ステーション11及びインターフェイス部12を一体に接続した構成を有している。カセットステーション10では、ウエハWがカセットC単位で複数枚、例えば25枚単位で、外部から塗布現像処理システム1に搬入され、また塗布現像処理システム1から外部に搬出される。また、カセットCに対してウエハWが搬出・搬入される。処理ステーション11では、塗布現像処理工程の中で1枚ずつウエハWに所定の処理を施す枚葉式の各種処理ユニットが所定位置に多段に配置されている。インターフェイス部12では、この塗布現像処理システム1に隣接して設けられる露光装置13との間でウエハWが受け渡される。
【0025】
カセットステーション10では、図1に示すように、カセット載置台20上の位置決め突起20aの位置に複数個、例えば4個のカセットCが、それぞれのウエハW出入口を処理ステーション11側に向けてX方向(図1中の上下方向)一列に載置される。このカセットC配列方向(X方向)及びカセットC内に収容されたウエハWのウエハW配列方向(Z方向;垂直方向)に移動可能なウエハ搬送体21が、搬送路21aに沿って移動自在であり、各カセットCに選択的にアクセスする。
【0026】
ウエハ搬送体21は、θ方向に回転自在に構成されており、後述するように処理ステーション11側の第3の処理ユニット群G3における多段ユニット部に属するアライメントユニット(ALIM)及びエクステンションユニット(EXT)にもアクセスできるようになっている。
【0027】
処理ステーション11では、図1に示すように、その中心部には垂直搬送型の搬送装置22が設けられ、その周りに各種処理ユニットが1組または複数の組に亙って多段集積配置されて処理ユニット群を構成している。かかる塗布現像処理システム1においては、5つの処理ユニット群G1、G2、G3、G4、G5が配置可能な構成であり、第1及び第2の処理ユニット群G1、G2はシステム正面側に配置され、第3の処理ユニット群G3はカセットステーション10に隣接して配置され、第4の処理ユニット群G4はインターフェイス部12に隣接して配置され、さらに破線で示した第5の処理ユニット群G5を背面側に配置することが可能となっている。搬送装置22は、θ方向に回転自在でZ方向に移動可能に構成されており、各処理ユニットとの間でウエハWの受け渡しが可能とされている。
【0028】
第1の処理ユニット群G1では、図2に示すように、カップCP内でウエハWをスピンチャックに載せて所定の処理を行う2台のスピンナ型処理ユニット、例えばレジスト液塗布ユニット(COT)及び洗浄処理ユニット(SCR)が下から順に2段に重ねられている。第2の処理ユニット群G2においては、2台のスピンナ型処理ユニット、例えばレジスト液塗布ユニット(COT)及び現像処理ユニット(DEV)が下から順に2段に重ねられている。
【0029】
図2に示すように、この塗布現像処理システム1の上部には、例えばULPAフィルタなどの高性能フィルタ23が、前記3つのゾーン(カセットステーション10、処理ステーション11、インターフェイス部12)毎に設けられている。この高性能フィルタ23の上流側から供給された空気は、当該高性能フィルタ23を通過する際に、パーティクルや有機成分が捕集、除去される。したがって、この高性能フィルタ23を介して、上記のカセット載置台20、ウエハ搬送体21の搬送路21a、第1〜第2の処理ユニット群G1、G2、後述する第3〜第5の処理ユニット群G3、G4、G5及びインターフェイス部12には、上方からの清浄な空気のダウンフローが、同図の実線矢印または点線矢印の方向に供給されている。
【0030】
第3の処理ユニット群G3では、図3に示すように、ウエハWを載置台に載せて所定の処理を行うオーブン型の処理ユニット、例えば冷却処理を行うクーリングユニット(COL)、レジストの定着性を高めるためのいわゆる疎水化処理を行うアドヒージョンユニット(AD)、位置合わせを行うアライメントユニット(ALIM)、エクステンションユニット(EXT)、露光処理前の加熱処理を行うプリベーキングユニット(PREBAKE)及びポストベーキングユニット(POBAKE)が下から順に、例えば8段に重ねられている。
【0031】
同様に、第4の処理ユニット群G4では、図3に示すように、ウエハWを載置台に載せて所定の処理を行うオーブン型の処理ユニット、例えば冷却処理を行うクーリングユニット(COL)、冷却処理も兼ねたエクステンション・クーリングユニット(EXTCOL)、エクステンションユニット(EXT)、アドヒージョンユニット(AD)、プリベーキングユニット(PREBAKE)及びポストベーキングユニット(POBAKE)が下から順に、例えば8段に重ねられている。
【0032】
このように処理温度の低いクーリングユニット(COL)やエクステンション・クーリングユニット(EXTCOL)を下段に配置し、処理温度の高いプリベーキングユニット(PREBAKE)、ポストベーキングユニット(POBAKE)及びアドヒージョンユニット(AD)を上段に配置することで、ユニット間の熱的な相互干渉を少なくすることができる。
【0033】
インターフェイス部12では、図1に示すように、奥行き方向(X方向)については、上記処理ステーション11と同じ寸法を有するが、幅方向についてはより小さなサイズに設定されている。図1及び図2に示すように、このインターフェイス部12の正面側には、可搬性のピックアップカセットCRと、定置型のバッファカセットBRが2段に配置され、他方背面部には周辺露光装置24が配設されている。
【0034】
インターフェイス部12の中央部には、ウエハ搬送体25が設けられている。ウエハ搬送体25は、X方向、Z方向(垂直方向)に移動して両カセットCR、BR及び周辺露光装置24にアクセスできるようになっている。ウエハ搬送体25は、θ方向にも回転自在となるように構成されており、処理ステーション11側の第4の処理ユニット群G4に属するエクステンションユニット(EXT)や、さらには隣接する露光装置13側のウエハ受け渡し台(図示せず)にもアクセスできるようになっている。
【0035】
図4は上記の洗浄処理ユニット(SCR)における供給系の構成を示す図である。
図4に示すように、洗浄処理ユニット(SCR)のカップCP内のほぼ中央には、ウエハWを保持しつつ回転するスピンチャック31が配置されている。
【0036】
スピンチャック31の上方には、スピンチャック31により保持されたウエハW上のほぼ中心に向けて洗浄液を供給するための洗浄液供給ノズル32が配置されている。この洗浄液供給ノズル32は、図示を省略したアームの先端に取り付けられており、ウエハの受け渡し時にはこのアームが回動することで洗浄液供給ノズル32がカップCPの外側に退避するようになっている。
【0037】
第1のタンク33には、NH4OHが貯留され、第2のタンク34には、H2O2が貯留される。第1のタンク33に貯留されたNH4OHがユニットポンプ35及びバルプ36を介してミキサ37に供給され、同様に第2のタンク34に貯留されたH2O2がユニットポンプ38及びバルプ39を介してこのミキサ37に供給される。ミキサ37では、NH4OHとH2O2とが混合され、この混合された洗浄液がミキサ37から洗浄液供給ノズル32へ供給されるようになっている。
【0038】
第1のタンク33の側面には、分岐管40が配置されている。分岐管40の一端は、第1のタンク33のほぼ最上部に接続され、分岐管40の他端は、第1のタンク33のほぼ最下部に接続されている。従って、分岐管40内の液位は、第1のタンク33内の液位と一致するようになっている。
【0039】
分岐管40には、上から順に4つのセンサ41〜44(最上限センサ41、上限センサ42、下限センサ43、最下限センサ44)が配置されている。各センサ41〜44は、分岐管40内(第1のタンク33内)の液位を、例えば静電容量を計測することで非接触式に検知するものである。
【0040】
ここで、下限センサ43は、第1のタンク33内に貯留されたNH4OHの、当該NH4OHを補充すべき液位を検知するものであり、当該液位に対応する位置に配置されている。上限センサ42は、第1のタンク33内に貯留されたNH4OHの、当該NH4OHの補充を停止すべき液位を検知するものであり、当該液位に対応する位置に配置されている。最上限センサ41は、上限センサ42の予備センサである。また、同様に、最下限センサ44は、下限センサ43の予備センサである。なお、最上限センサ41と上限センサ42との間隔及び下限センサ43と最下限センサ44との間隔は、それぞれ例えば洗浄処理ユニット(SCR)におけるウエハW1枚分の洗浄処理に必要なNH4OH量に相当する。
【0041】
また、第1のタンク33には、工場側のNH4OH供給ライン45からNH4OHが供給され、また工場側のN2供給ライン46からN2が供給されるようになっている。なお、NH4OHは第1のタンク33の底部付近から供給され、N2は第1のタンク33の上部から供給されるようになっている。また、第1のタンク33の上部には、排出用のドレインライン50が接続されている。
【0042】
NH4OH供給ライン45と第1のタンク33との間には、NH4OH補充用エアーオペレーティングバルブ47が介挿されている。そして、NH4OH補充用ソレノイド49を介して工場側のエアー供給ライン48からNH4OH補充用エアーオペレーティングバルブ47へオン・オフ切り換え用のエアーが供給されるようになっている。
【0043】
N2供給ライン46と第1のタンク33との間には、NH4OH加圧用エアーオペレーティングバルブ51が介挿され、ドレインライン50上には、NH4OH大気開放用エアーオペレーティングバルブ52が介挿されている。そして、NH4OH加圧用ソレノイド53を介して工場側のエアー供給ライン48からNH4OH加圧用エアーオペレーティングバルブ51及びNH4OH大気開放用エアーオペレーティングバルブ52へオン・オフ切り換え用のエアーが供給されるようになっている。
【0044】
第2のタンク34に関しても第1のタンク33と同様に構成されている。即ち、第2のタンク34の側面には、分岐管54が配置されている。分岐管54の一端は、第2のタンク34のほぼ最上部に接続され、分岐管54の他端は、第2のタンク34のほぼ最下部に接続されている。従って、分岐管54内の液位は、第2のタンク34内の液位と一致するようになっている。
【0045】
分岐管54には、上から順に4つのセンサ55〜58(最上限センサ55、上限センサ56、下限センサ57、最下限センサ58)が配置されている。各センサ55〜58は、分岐管54内(第2のタンク34内)の液位を、例えば静電容量を計測することで非接触式に検知するものである。
【0046】
ここで、下限センサ57は、第2のタンク34内に貯留されたH2O2の、当該H2O2を補充すべき液位を検知するものであり、当該液位に対応する位置に配置されている。上から上限センサ56は、第2のタンク34内に貯留されたH2O2の、当該H2O2の補充を停止すべき液位を検知するものであり、当該液位に対応する位置に配置されている。最上限センサ55は、上限センサ56の予備センサである。また、同様に、最下限センサ58は、下限センサ57の予備センサである。なお、最上限センサ55と上限センサ56との間隔及び下限センサ57と最下限センサ58との間隔は、それぞれ例えば洗浄処理ユニット(SCR)におけるウエハW10枚分以上の洗浄処理に必要なH2O2量に相当する。
【0047】
また、第2のタンク34には、工場側のH2O2供給ライン59からH2O2が供給され、また工場側のN2供給ライン46からN2が供給されるようになっている。なお、H2O2は第2のタンク34の底部付近から供給され、N2は第2のタンク34の上部から供給されるようになっている。また、第2のタンク34の上部には、排出用のドレインライン60が接続されている。
【0048】
H2O2供給ライン59と第2のタンク34との間には、H2O2補充用エアーオペレーティングバルブ61が介挿されている。そして、H2O2補充用ソレノイド62を介して工場側のエアー供給ライン48からH2O2補充用エアーオペレーティングバルブ61へオン・オフ切り換え用のエアーが供給されるようになっている。
【0049】
N2供給ライン46と第2のタンク34との間には、H2O2加圧用エアーオペレーティングバルブ63が介挿され、ドレインライン60上には、H2O2大気開放用エアーオペレーティングバルブ64が介挿されている。そして、H2O2加圧用ソレノイド65を介して工場側のエアー供給ライン48からH2O2H加圧用エアーオペレーティングバルブ63及びH2O2大気開放用エアーオペレーティングバルブ64へオン・オフ切り換え用のエアーが供給されるようになっている。
【0050】
図5は上記の供給系における制御系の構成を示すブロック図である。
図5において、符号71は洗浄処理ユニット(SCR)及び洗浄処理ユニット(SCR)への供給系を統括的に制御する制御部である。この制御部71には、上述した洗浄処理ユニット(SCR)側、最上限センサ41、上限センサ42、下限センサ43、最下限センサ44、NH4OH補充用ソレノイド49、NH4OH加圧用ソレノイド53、最上限センサ55、上限センサ56、下限センサ57、最下限センサ58、H2O2補充用ソレノイド62及びH2O2加圧用ソレノイド65の他、漏水センサ72、73、停止スイッチ74が接続されている。更に、制御部71には、CSS(端子台またはコネクタ)75、76と接続されており、CSS75、76から異常信号を受け取ると、本システムの動作を停止するようになっている。なお、制御部71は、この塗布現像処理システム全体を統括的に制御するための主制御部(図示を省略)に接続されている。また、制御部71は、各種のタイマ機能を有する。
【0051】
漏水センサ72は、第1のタンク33に関する漏水を検知ためのセンサであり、例えば第1のタンク33の周囲やその配管の近くに配置されている。また、漏水センサ73は、第2のタンク34に関する漏水を検知するためのセンサであり、例えば第1のタンク33の周囲やその配管の近くに配置されている。停止スイッチ74は、この供給系における動作を停止させるためのスイッチである。
【0052】
制御部71から洗浄処理ユニット(SCR)へは、バルブ36に対してNH4OHを排出させるための信号(NH4OH DRAIN)、バルブ39に対してH2O2を排出させるための信号(H2O2 DRAIN)、第1のタンク33にエラーが発生したことを知らせる信号(TANK1 ERROR)、第2のタンク34にエラーが発生したことを知らせる信号(TANK2 ERROR)、供給側でNH4OHやH2O2の補充や排出をしている最中であることを知らせる信号(BUSY)が送られるようになっている。また、洗浄処理ユニット(SCR)から制御部71へは、現在洗浄処理ユニット(SCR)が処理中であることを知らせる信号(PROCESSING)が送られるようになっている。
【0053】
次にこのように構成された供給系の動作について図6に示すフローチャートに基づき説明する。なお、供給系では、第1のタンク33側及び第2のタンク34側でそれぞれ別個に以下の動作が行われるが、以下の説明では第1のタンク33側についてのみ説明する。
【0054】
まず、制御部71では、システムのイニシャライズを行った(ステップ601)後、漏水センサ72により漏水が検知されていないかを確認し(ステップ602)、更に最上限センサ41及び最下限センサ44により第1のタンク33内の液位が検知されていないかを確認する(ステップ603,604)。そして、漏水センサ72により漏水が検知された場合や最上限センサ41または最下限センサ44により第1のタンク33内の液位が検知された場合にはアラーム表示を行い(ステップ605)、異常の発生をユーザに知らせる。
【0055】
一方、このような異常が発生していない場合には、下限センサ43により第1のタンク33内の液位が検知されたかを確認している(ステップ606)。そして、下限センサ43により第1のタンク33内の液位が検知された場合には、NH4OH補充用ソレノイド49を介してNH4OH補充用エアーオペレーティングバルブ47を開いてNH4OH供給ライン45から第1のタンク33へNH4OHの補充を開始する(ステップ607)。これと共に、制御部71におけるライフタイマを再設定し(ステップ608)、更に制御部71における補充用タイマをスタートする(ステップ609)。
【0056】
ライフタイマには、NH4OHを有効に使うことができる時間が設定される。NH4OHの例でいうと、例えば40時間程度に設定される。しかし、このような時間はユーザが任意に設定することができる。また、補充用タイマには、第1のタンク33へNH4OHを補充するのに要する時間が設定される。この時間もユーザが任意に設定することができる。例えば、0〜999秒の間に設定することができるが、0秒に設定すると補充タイマによる監視はなくなる。
【0057】
上記のような補充が開始された後、上限センサ42により第1のタンク33内の液位が検知されたかを確認している(ステップ610)。そして、上限センサ42により第1のタンク33内の液位が検知されると、補充を停止する(ステップ611)。また、上限センサ42により第1のタンク33内の液位が検知される前に補充用タイマがタイムアウトしたとき(ステップ612)には、アラームを表示し(ステップ605)、その後補充を停止する(ステップ611)。これにより、ユーザは例えば配管に亀裂等が発生したことを知ることができる。
【0058】
ここで、後述する排出後の供給直後の場合には(ステップ613)、バルブ36を排出状態に設定して排出を開始する(ステップ614)と共に、制御部71におけるパージタイマをスタートする(ステップ615)。このパージタイマには、第1のタンク33からバルブ36を介して排出後にこの経路に残存する不要なNH4OHを排出するのに必要な時間が設定される。そして、パージタイマがタイムアウトすると(ステップ616)、バルブ36からの排出を停止する(ステップ617)。以上の処理が終了すると、ステップ602に戻り同様の処理を繰り返す。
【0059】
ここで、上述したステップ606において、下限センサ43により第1のタンク33内の液位が検知されずに、ライフタイマがタイムアウトしたとき(ステップ618)、即ち第1のタンク33に貯留されたNH4OHが有効時間(この例でいうと、例えば補充されてから40時間)を過ぎたとき、バルブ36を排出状態に設定して排出を開始する(ステップ619)と共に、制御部71における補充用タイマをスタートする(ステップ620)。そして、補充用タイマがタイムアウトする(ステップ621)前に、最下限センサ44が第1のタンク33内の液位を検知した(ステップ622)ときには、排出用タイマ(例えば補充タイマと同じ時間に設定されている。)をスタートし(ステップ623)、補充用タイマがタイムアウトしたら(ステップ624)、ステップ607における補充を開始する。
【0060】
上述したステップ621において、最下限センサ44が第1のタンク33内の液位を検知することなく(ステップ622)、補充用タイマがタイムアウトしたとき、ステップ605によるアラーム表示が行われる。これにより、ユーザは例えば配管に詰まり等が発生したことを知ることができる。
【0061】
図7〜図13は各種の状態での上記センサ等の動作を示すタイミングチャートである。
図7は通常の補充動作のタイミングチャートである。即ち、下限センサ43により液位が検知されると(同図▲1▼)、補充を開始し(同図▲2▼)、上限センサ42により液位が検知されると(同図▲3▼)、補充を停止する(同図▲4▼)。下限センサ43により液位が検知されたときに洗浄処理ユニット(SCR)により洗浄処理が行われているときには(同図▲5▼)、その処理の終了を待って、補充を開始する(同図▲6▼)。なお、▲2▼、▲6▼のタイミングでライフタイマがリセットされる。
【0062】
図8は通常の排出(ライフタイマのタイムアップ)から補充までの動作のタイミングチャートである。即ち、ライフタイマがタイムアップし(同図▲1▼)、このとき、ここでは洗浄処理ユニット(SCR)による処理が行われているので、この処理の終了を持って、排出を開始する(同図▲2▼)。補充タイマのタイムアップする前に(t1)最下限センサ44が液位を検知すると(同図▲3▼)、排出タイマをスタートして、更にt2の間、排出を続行する。排出タイマがタイムアウトすると(同図▲4▼)、補充を開始する。補充が終了すると(同図▲5▼)、t3の間パージを行う。
【0063】
図9は補充時のタイムオーバ異常動作のタイミングチャートである。即ち、下限センサ43により液位が検知されると(同図▲1▼)、補充を開始し(同図▲2▼)、補充タイマがタイムアップしても上限センサ42により液位が検知されないときには、タンク異常を洗浄処理ユニット(SCR)側に伝える(同図▲3▼)。所定時間経過後にリセットする(同図▲4▼)。
【0064】
図10は通常の排出時のタイムオーバ異常動作のタイミングチャートである。即ち、ライフタイマがタイムアップし(同図▲1▼)、このとき、ここでは洗浄処理ユニット(SCR)による処理が行われているので、この処理の終了を持って、排出を開始する(同図▲2▼)。補充タイマのタイムアップしても(t)最下限センサ44が液位を検知しないとき(同図▲3▼)、タンク異常を洗浄処理ユニット(SCR)側に伝える(同図▲4▼)。所定時間経過後にリセットする(同図▲5▼)。
【0065】
図11はセンサ異常時の動作のタイミングチャートである。即ち、下限センサ43が液を検知していないのに最上限センサ41が液を検知したときに(同図▲1▼)、下限センサ43が液を検知したに最下限センサ44が液を検知しないとき(同図▲2▼)、下限センサ43が液を検知しないのに上限センサ42が液を検知したとき(同図▲3▼)等、センサ間で矛盾が生じた時、タンク異常を洗浄処理ユニット(SCR)側に伝える(同図▲4▼)。所定時間経過後にリセットする(同図▲5▼)。
【0066】
図12はエンプティー、オーバーフロー時の動作のタイミングチャートである。即ち、最上限センサ41が液を検知したときに(同図▲1▼)、最下限センサ44が液を検知しないとき(同図▲2▼)、タンク異常を洗浄処理ユニット(SCR)側に伝える(同図▲3▼)。所定時間経過後にリセットする(同図▲4▼)。
【0067】
図13は停止スイッチ入力時の動作のタイミングチャートである。即ち、停止スイッチ74がユーザから入力されると(同図▲1▼)、各部の動作を停止し(同図▲2▼)、タンク異常を洗浄処理ユニット(SCR)側に伝える(同図▲3▼)。所定時間経過後にリセットする(同図▲4▼)。
【0068】
以上のように、この実施の形態によれば、例えば第1のタンク33から洗浄処理ユニット(SCR)へNH4OHを送るための配管が詰まっていた場合には、補充タイマがタイムアップする前に最下限センサ44により液位が検知されないので、NH4OHの補充が開始されることはなく、残ったNH4OHと新しいNH4OHが第1のタンク33内で混ざってしまうような事態を生じることはない。
【0069】
また、例えば第1のタンク33から洗浄処理ユニット(SCR)へNH4OHを送るための配管に亀裂等による処理液の漏れが生じた場合、補充用タイマがタイムアップしても上限センサ42により液位が検知されないので、第1のタンク33へのNH4OHの補充は停止される。
【0070】
なお、本発明は上述した実施の形態には限定されない。
例えば、上記実施の形態では、第1のタンク33の動作についてのみ説明したが、第2のタンク34についても同様に動作する。
【0071】
また、上述した実施の形態では、ライフタイマがタイムアップしたときにすぐに処理液を交換するものであったが、ライフタイマがタイムアップしたときにこのことを記憶手段に保持しておき、或いはフラグを立て、洗浄処理ユニット側からより処理要求があったときにこの記憶手段やフラグの内容をみて、初めてタンク内の処理液の交換を行うようにしてもよい。これにより例えば夏休みようにシステムを長時間止めるような場合であっても、当該夏休み期間中にただの1回しかタンク内の処理液は交換されない。よって、処理液の無駄をなくすことができる。
また、被処理体としてはウェハWばかりでなく、他の被処理体、例えばLCD基板等にも本発明を当然適用できる。
【0072】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、例えば容器から洗浄処理ユニットへ処理液を送るための配管が詰まっていた場合には、容器への新たな処理液の補充が開始されることはなく、容器内に残った古い処理液と新しい処理液が混ざってしまうような事態を生じることはない。また、本発明によれば、例えば容器から洗浄処理ユニットへ処理液を送るための配管に亀裂等による処理液の漏れが生じた場合、容器への処理液の補充は停止される。よって、容器内の処理液の交換をより円滑に行うことができる。
【0073】
本発明によれば、報知手段によりユーザは配管の詰まりや亀裂等の異常が発生したことを知ることができる。
【0074】
本発明によれば、処理装置より処理要求があって初めて容器内の処理液の交換を行うようにしているので、例えば夏休み期間中にただの1回しか容器内の処理液は交換されない。よって、処理液の無駄をなくすことができる。
【0075】
本発明によれば、容器内の処理液の自動交換に先立ち、容器からの処理液の漏れを検知しているので、処理液の交換をより円滑に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る塗布現像処理システムの平面図である。
【図2】図1に示した塗布現像処理システムの正面図である。
【図3】図1に示した塗布現像処理システムの背面図である。
【図4】図2に示した洗浄処理ユニット(SCR)における供給系の構成を示す図である。
【図5】図4に示した供給系における制御系の構成を示すブロック図である。
【図6】図5に示した供給系の動作を示すフローチャートである。
【図7】本発明の実施形態に係る通常の補充動作のタイミングチャートである。
【図8】本発明の実施形態に係る通常の排出(ライフタイマのタイムアップ)から補充までの動作のタイミングチャートである。
【図9】本発明の実施形態に係る補充時のタイムオーバ異常動作のタイミングチャートである。
【図10】本発明の実施形態に係る通常の排出時のタイムオーバ異常動作のタイミングチャートである。
【図11】本発明の実施形態に係るセンサ異常時の動作のタイミングチャートである。
【図12】本発明の実施形態に係るエンプティー、オーバーフロー時の動作のタイミングチャートである。
【図13】本発明の実施形態に係る停止スイッチ入力時の動作のタイミングチャートである。
【符号の説明】
33 第1のタンク
34 第2のタンク
41、55 最上限センサ
42、56 上限センサ
43、57 下限センサ
44、58 最下限センサ
71 制御部
SCR 洗浄処理ユニット
Claims (13)
- 所定の処理を行う処理装置へ処理液を供給する供給装置であって、
前記処理装置へ供給される処理液を貯留する容器と、
前記容器内に貯留された処理液の、当該処理液を補充すべき第1の液位を検知する第1のセンサと、
前記第1の液位よりも更に下の第2の液位を検知する第2のセンサと、
前記第1のセンサにより第1の液位が検知されたとき、前記容器内へ処理液を補充する補充手段と、
前記補充手段により処理液が補充されたときに作動し、所定時間計時する第1のタイマと、
前記第1のセンサにより第1の液位が検知されずに前記第1のタイマがタイムアップしたとき、前記容器内の処理液の排出を開始する手段と、
前記記容器内の処理液の排出を開始したときに作動し、所定時間計時する第2のタイマと、
前記第2のタイマがタイムアップする前に前記第2のセンサにより第2の液位が検知されたとき、前記容器内への処理液の補充を開始する手段と
を具備することを特徴とする供給装置。 - 請求項1記載の供給装置であって、
前記第2のタイマがタイムアップしても前記第2のセンサにより第2の液位が検知されないとき、所定の報知を行う報知手段をさらに具備することを特徴とする供給装置。 - 請求項1または請求項2記載の供給装置であって、
前記容器内に処理液を補充している最中に前記処理装置より処理液の供給の要求があったとき、処理液の補充を一旦停止し、前記処理装置への処理液の供給が停止した後に、処理液の補充を再開すること特徴とする供給装置。 - 所定の処理を行う処理装置へ処理液を供給する供給装置であって、
前記処理装置へ供給される処理液を貯留する容器と、
前記容器内に貯留された処理液の、当該処理液を補充すべき第1の液位を検知する第1のセンサと、
前記容器内に貯留された処理液の、当該処理液の補充を停止すべき第2の液位を検知する第2のセンサと、
前記第1のセンサにより第1の液位が検知されたとき、前記容器内への処理液の補充を開始する手段と、
前記処理液の補充が開始されたときに作動し、所定時間計時するタイマと、
前記タイマがタイムアップしても前記第2のセンサにより第2の液位が検知されないとき、前記処理液の補充を停止する手段とを具備し、
前記容器内に処理液を補充している最中に前記処理装置より処理液の供給の要求があったとき、処理液の補充を一旦停止し、前記処理装置への処理液の供給が停止した後に、処理液の補充を再開すること特徴とする供給装置。 - 請求項3または請求項4記載の供給装置であって、
前記処理液の供給を停止している間、前記タイマによる計時を停止すること特徴とする供給装置。 - 所定の処理を行う処理装置へ処理液を供給する供給装置であって、
前記処理装置へ供給される処理液を貯留する容器と、
前記容器内に貯留された処理液の、当該処理液を補充すべき液位を検知するセンサと、
前記センサにより処理液を補充すべき液位が検知されたとき、前記容器内へ処理液を補充する補充手段と、
前記補充手段により処理液が補充されたときに作動し、所定時間計時するタイマと、
前記センサにより処理液を補充すべき液位が検知されずに前記タイマがタイムアップしたとき、この結果を保持する保持手段と、
前記処理装置より処理液の補充要求があって、かつ、前記保持手段により上記の結果が保持されているときに、前記容器内の処理液を排出して新たな処理液を補充する手段と
を具備することを特徴とする供給装置。 - 請求項1から請求項6のうちいずれか1項記載の供給装置であって、
前記処理装置へ少なくとも2種類の処理液を混ぜて供給するため、少なくとも2つの上記の容器を有することを特徴とする供給装置。 - 処理液を貯留する容器より所定の処理を行う処理装置へ処理液を供給する供給装置における当該容器への処理液の補充方法であって、
(a)前記容器からの処理液の漏れを検知する工程と、
(b)前記(a)工程の後に、前記容器内部に残存する処理液が所定の時間以上経過している場合には処理液を排出後に、所定の時間以上経過していない場合にはその判断後に、容器に処理液を補充する工程と、
(c)前記(b)工程の前に前記容器内に所定の量以上の処理液が残存するか否かを検知する工程と
を具備することを特徴とする補充方法。 - 請求項8記載の補充方法であって、
(d)前記(a)工程において処理液の漏れを検知したか、あるいは、前記(c)工程において容器内の所定量以上の処理液の残存を検知した際に、前記処理装置が容器から処理液を供給されて処理中であるか否かを検知する工程を更に具備することを特徴とする補充方法。 - 請求項9記載の補充方法であって、
前記処理装置が処理中であった際に、処理液が容器から処理装置までの処理液供給経路の間に残存するか否かを検知する工程を更に具備することを特徴とする補充方法。 - 請求項10記載の補充方法であって、
前記処理液供給経路での処理液の残存量が所定の量以上であった際に、前記処理装置では所定の処理工程あるいは時間までは被処理体を処理した後に処理を停止させることを特徴とする補充方法。 - 請求項9から請求項11のうちいずれか1項記載の補充方法であって、
前記処理液供給経路上に残存する処理液を気圧の付加により排出する工程を具備し、
前記処理液の漏れを検知したか、あるいは、前記容器内の所定量以上の処理液の残存を検知した際には、前記処理液の排出は前記気圧の付加によらないことを特徴とする補充方法。 - 請求項8から請求項12のうちいずれか1項記載の補充方法であって、
前記(a)工程において処理液の漏れを検知した場合、前記(c)工程において容器内の所定量以上の処理液の残存を検知した場合、あるいは前記処理装置側で処理中であった場合のうち少なくともいずれか一つに該当する際には、前記処理液の容器への補充を行わないことを特徴とする補充方法。
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