JP2000106354A - 供給装置及び補充方法 - Google Patents

供給装置及び補充方法

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JP2000106354A JP10288677A JP28867798A JP2000106354A JP 2000106354 A JP2000106354 A JP 2000106354A JP 10288677 A JP10288677 A JP 10288677A JP 28867798 A JP28867798 A JP 28867798A JP 2000106354 A JP2000106354 A JP 2000106354A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 容器からの処理液の排出及び容器への処理液
の補充をタイマを使って自動的に行う場合には、例えば
容器から洗浄処理ユニットへ処理液を送るための配管が
詰まっていた場合、タイマがタイムアップしても容器内
には古い処理液が残っていて古い処理液と新しい処理液
が混ざってしまうような事態を生じる。 【解決手段】 第１のタンク３３から洗浄処理ユニット
（ＳＣＲ）へＮＨ4ＯＨを送るための配管が詰まってい
た場合には、補充タイマがタイムアップする前に最下限
センサ４４により液位が検知されないので、ＮＨ4ＯＨ
の補充が開始されることはなく、残ったＮＨ4ＯＨと新
しいＮＨ4ＯＨが第１のタンク３３内で混ざってしまう
ような事態を生じることはない。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウェ
ハを洗浄する洗浄装置へ洗浄液を供給する供給装置及び
このような供給装置における処理液の補充方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイスの製造プロセスでは、フ
ォトリソグラフィー技術が利用されている。フォトリソ
グラフィー技術においては、半導体ウェハ（以下、単に
「ウェハ」と呼ぶ。）の表面にレジストを塗布し、この
塗布レジストを所定パターンに露光処理し、さらに現像
処理する。これによりウェハ上に所定パターンのレジス
ト膜が形成され、さらに成膜及びエッチング処理するこ
とにより所定パターンの回路が形成される。
【０００３】従来から、これら一連のレジスト処理は、
例えばレジスト液塗布ユニットや現像処理ユニット、加
熱処理ユニット、洗浄処理ユニット等が一体化された塗
布現像処理システムを用いて行われている。
【０００４】上記の洗浄処理ユニットにおいては、例え
ばＮＨ4ＯＨとＨ2Ｏ2（処理液と呼ぶ。）とを混合した
洗浄液を使った液相洗浄が行われるが、これらの処理液
は時間の経過と共に劣化する。このため、このような洗
浄処理ユニットへ処理液を供給する供給装置では、処理
液が貯留用の容器内に所定時間以上使われずに貯留され
ていた場合に容器内から処理液を排出して新たな処理液
を補充することが行われている。
【０００５】ところで、このような供給装置において、
上記の容器からの処理液の排出及び容器への処理液の補
充を自動的に行う場合には、タイマを使って処理液の排
出を開始してから所定時間後に処理液の供給を開始する
ことが考えられる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに容器からの処理液の排出及び容器への処理液の補充
を自動的に行う場合には、例えば容器から洗浄処理ユニ
ットへ処理液を送るための配管が詰まっていた場合、タ
イマがタイムアップしても容器内には古い処理液が残っ
ていて古い処理液と新しい処理液が混ざってしまうよう
な事態を生じる、という課題がある。
【０００７】本発明は上記のような課題を解決するため
になされたもので、容器内の処理液の交換をより円滑に
行うことができる供給装置及び補充方法を提供すること
を目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、本発明の供給装置は、所定の処理を行う処理装置へ
処理液を供給する供給装置であって、前記処理装置へ供
給される処理液を貯留する容器と、前記容器内に貯留さ
れた処理液の、当該処理液を補充すべき第１の液位を検
知する第１のセンサと、前記第１の液位よりも更に下の
第２の液位を検知する第２のセンサと、前記第１のセン
サにより第１の液位が検知されたとき、前記容器内へ処
理液を補充する補充手段と、前記補充手段により処理液
が補充されたときに作動し、所定時間計時する第１のタ
イマと、前記第１のセンサにより第１の液位が検知され
ずに前記第１のタイマがタイムアップしたとき、前記容
器内の処理液の排出を開始する手段と、前記記容器内の
処理液の排出を開始したときに作動し、所定時間計時す
る第２のタイマと、前記第２のタイマがタイムアップす
る前に前記第２のセンサにより第２の液位が検知された
とき、前記容器内への処理液の補充を開始する手段とを
具備する。本発明では、例えば容器から洗浄処理ユニッ
トへ処理液を送るための配管が詰まっていた場合には、
第２のタイマがタイムアップする前に第２のセンサによ
り第２の液位が検知されないので、容器への新たな処理
液の補充が開始されることはなく、容器内に残った古い
処理液と新しい処理液が混ざってしまうような事態を生
じることはない。よって、容器内の処理液の交換をより
円滑に行うことができる。
【０００９】本発明の供給装置は、前記第２のタイマが
タイムアップしても前記第２のセンサにより第２の液位
が検知されないとき、所定の報知を行う報知手段をさら
に具備する。これにより、ユーザは配管の詰まり等の異
常が発生したことを知ることができる。
【００１０】本発明の供給装置は、所定の処理を行う処
理装置へ処理液を供給する供給装置であって、前記処理
装置へ供給される処理液を貯留する容器と、前記容器内
に貯留された処理液の、当該処理液を補充すべき第１の
液位を検知する第１のセンサと、前容器内に貯留された
処理液の、当該処理液の補充を停止すべき第２の液位を
検知する第２のセンサと、前記第１のセンサにより第１
の液位が検知されたとき、前記容器内への処理液の補充
を開始する手段と、前記処理液の補充が開始されたとき
に作動し、所定時間計時するタイマと、前記タイマがタ
イムアップしても前記第２のセンサにより第２の液位が
検知されないとき、前記処理液の補充を停止する手段と
を具備する。本発明では、例えば容器から洗浄処理ユニ
ットへ処理液を送るための配管に亀裂等による処理液の
漏れが生じた場合、タイマがタイムアップしても第２の
センサにより第２の液位が検知されないので、容器への
処理液の補充は停止される。よって、容器内の処理液の
交換をより円滑に行うことができる。
【００１１】本発明の供給装置は、前記タイマがタイム
アップしても前記第２のセンサにより第２の液位が検知
されないとき、所定の報知を行う報知手段をさらに具備
する。これにより、ユーザは配管の亀裂等の異常が発生
したことを知ることができる。
【００１２】本発明の供給装置は、前記容器内に処理液
を補充している最中に前記処理装置より処理液の供給の
要求があったとき、処理液の補充を一旦停止し、前記処
理装置への処理液の供給が停止した後に、処理液の補充
を再開すること特徴とする。これにより、処理装置に対
して処理液を円滑に供給することができる。
【００１３】本発明の供給装置は、前記処理液の供給を
停止している間、前記タイマによる計時を停止すること
特徴とする。これにより、より正確に処理液の劣化を計
時することができる。或いは、処理液をより正確な量補
充することができる。
【００１４】本発明の供給装置は、所定の処理を行う処
理装置へ処理液を供給する供給装置であって、前記処理
装置へ供給される処理液を貯留する容器と、前記容器内
に貯留された処理液の、当該処理液を補充すべき液位を
検知するセンサと、前記センサにより処理液を補充すべ
き液位が検知されたとき、前記容器内へ処理液を補充す
る補充手段と、前記補充手段により処理液が補充された
ときに作動し、所定時間計時するタイマと、前記センサ
により処理液を補充すべき液位が検知されずに前記タイ
マがタイムアップしたとき、この結果を保持する保持手
段と、前記処理装置より処理液の補充要求があって、か
つ、前記保持手段により上記の結果が保持されていると
きに、前記容器内の処理液を排出して新たな処理液を補
充する手段とを具備する。然るに、タイマにより容器内
の処理液の貯留時間を計測し、所定時間以上経過した場
合に、自動的に容器内の処理液の交換を行うときには、
次のような問題がある。即ち、例えば夏休みの期間のよ
うに処理液を使用しない期間が非常に長い場合には、上
記のような自動交換ではその休み期間中に何度も処理液
の交換が繰り返されることになる。例えば不使用時間が
４０時間経過した場合に容器内の処理液を交換するよう
にしたとき、夏休みの期間が例えば７日、即ち１６８時
間とすると、夏休みの間に４回程度容器内の処理液の交
換が繰り返されることになる。これに対して、本発明で
は、処理装置より処理要求があって初めて容器内の処理
液の交換を行うようにしているので、例えば上記の夏休
みの例でいうと、夏休み期間中にただの１回しか容器内
の処理液は交換されない。よって、処理液の無駄をなく
すことができる。
【００１５】本発明の供給装置は、前記処理装置へ少な
くとも２種類の処理液を混ぜて供給するため、少なくと
も２つの上記の容器を有することを特徴とする。これに
より、処理液の寿命を長くすることができる。
【００１６】本発明の補充方法は、処理液を貯留する容
器より所定の処理を行う処理装置へ処理液を供給する供
給装置における当該容器への処理液の補充方法であっ
て、（ａ）前記容器からの処理液の漏れを検知する工程
と、（ｂ）前記（ａ）工程の後に、前記容器内部に残存
する処理液が所定の時間以上経過している場合には処理
液を排出後に、所定の時間以上経過していない場合には
その判断後に、容器に処理液を補充する工程とを具備す
るものである。本発明では、容器内の処理液の自動交換
に先立ち、容器からの処理液の漏れを検知しているの
で、処理液の交換をより円滑に行うことができる。
【００１７】本発明の補充方法は、（ｃ）前記（ｂ）工
程の前に前記容器内に所定の量以上の処理液が残存する
か否かを検知する工程を更に具備するものである。これ
により、配管の詰まり等を検知することができる。
【００１８】本発明の補充方法は、（ｄ）前記（ａ）工
程において処理液の漏れを検知したか、あるいは、前記
（ｃ）工程において容器内の所定量以上の処理液の残存
を検知した際に、前記処理装置が容器から処理液を供給
されて処理中であるか否かを検知する工程を更に具備す
るものである。これにより、処理装置側の処理の中断を
避けることができる。
【００１９】本発明の補充方法は、前記処理装置が処理
中であった際に、処理液が容器から処理装置までの処理
液供給経路の間に残存するか否かを検知する工程を更に
具備するものである。これにより、処理液供給経路上に
残った古い処理液と新たに補充された処理液とが混ざる
ような事態を防止することができる。
【００２０】本発明の補充方法は、前記処理液供給経路
での処理液の残存量が所定の量以上であった際に、前記
処理装置では所定の処理工程あるいは時間までは被処理
体を処理した後に処理を停止させるものである。こらに
より、処理装置側で処理不良が発生するのを防止するこ
とができる。
【００２１】本発明の補充方法は、前記処理液供給経路
上に残存する処理液を気圧の付加により排出する工程を
具備し、前記処理液の漏れを検知したか、あるいは、前
記容器内の所定量以上の処理液の残存を検知した際に
は、前記処理液の排出は前記気圧の付加によらないもの
である。これにより、気圧の付加に基づく事故等の発生
を防止することができる。
【００２２】本発明の補充方法は、前記（ａ）工程にお
いて処理液の漏れを検知した場合、前記（ｃ）工程にお
いて容器内の所定量以上の処理液の残存を検知した場
合、あるいは前記処理装置側で処理中であった場合のう
ち少なくともいずれか一つに該当する際には、前記処理
液の容器への補充を行わないものである。これにより、
古い処理液と新たに補充された処理液とが混ざるような
事態を防止することができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。図１は本発明の一実施形態に係る塗
布現像処理システムの平面図、図２は図１に示した塗布
現像処理システムの正面図、図３は図１に示した塗布現
像システムの背面図である。
【００２４】図１乃至図３に示すように、この塗布現像
処理システム１は、カセットステーション１０、処理ス
テーション１１及びインターフェイス部１２を一体に接
続した構成を有している。カセットステーション１０で
は、ウエハＷがカセットＣ単位で複数枚、例えば２５枚
単位で、外部から塗布現像処理システム１に搬入され、
また塗布現像処理システム１から外部に搬出される。ま
た、カセットＣに対してウエハＷが搬出・搬入される。
処理ステーション１１では、塗布現像処理工程の中で１
枚ずつウエハＷに所定の処理を施す枚葉式の各種処理ユ
ニットが所定位置に多段に配置されている。インターフ
ェイス部１２では、この塗布現像処理システム１に隣接
して設けられる露光装置１３との間でウエハＷが受け渡
される。
【００２５】カセットステーション１０では、図１に示
すように、カセット載置台２０上の位置決め突起２０ａ
の位置に複数個、例えば４個のカセットＣが、それぞれ
のウエハＷ出入口を処理ステーション１１側に向けてＸ
方向（図１中の上下方向）一列に載置される。このカセ
ットＣ配列方向（Ｘ方向）及びカセットＣ内に収容され
たウエハＷのウエハＷ配列方向（Ｚ方向；垂直方向）に
移動可能なウエハ搬送体２１が、搬送路２１ａに沿って
移動自在であり、各カセットＣに選択的にアクセスす
る。
【００２６】ウエハ搬送体２１は、θ方向に回転自在に
構成されており、後述するように処理ステーション１１
側の第３の処理ユニット群Ｇ３における多段ユニット部
に属するアライメントユニット（ＡＬＩＭ）及びエクス
テンションユニット（ＥＸＴ）にもアクセスできるよう
になっている。
【００２７】処理ステーション１１では、図１に示すよ
うに、その中心部には垂直搬送型の搬送装置２２が設け
られ、その周りに各種処理ユニットが１組または複数の
組に亙って多段集積配置されて処理ユニット群を構成し
ている。かかる塗布現像処理システム１においては、５
つの処理ユニット群Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４、Ｇ５が配
置可能な構成であり、第１及び第２の処理ユニット群Ｇ
１、Ｇ２はシステム正面側に配置され、第３の処理ユニ
ット群Ｇ３はカセットステーション１０に隣接して配置
され、第４の処理ユニット群Ｇ４はインターフェイス部
１２に隣接して配置され、さらに破線で示した第５の処
理ユニット群Ｇ５を背面側に配置することが可能となっ
ている。搬送装置２２は、θ方向に回転自在でＺ方向に
移動可能に構成されており、各処理ユニットとの間でウ
エハＷの受け渡しが可能とされている。
【００２８】第１の処理ユニット群Ｇ１では、図２に示
すように、カップＣＰ内でウエハＷをスピンチャックに
載せて所定の処理を行う２台のスピンナ型処理ユニッ
ト、例えばレジスト液塗布ユニット（ＣＯＴ）及び洗浄
処理ユニット（ＳＣＲ）が下から順に２段に重ねられて
いる。第２の処理ユニット群Ｇ２においては、２台のス
ピンナ型処理ユニット、例えばレジスト液塗布ユニット
（ＣＯＴ）及び現像処理ユニット（ＤＥＶ）が下から順
に２段に重ねられている。
【００２９】図２に示すように、この塗布現像処理シス
テム１の上部には、例えばＵＬＰＡフィルタなどの高性
能フィルタ２３が、前記３つのゾーン（カセットステー
ション１０、処理ステーション１１、インターフェイス
部１２）毎に設けられている。この高性能フィルタ２３
の上流側から供給された空気は、当該高性能フィルタ２
３を通過する際に、パーティクルや有機成分が捕集、除
去される。したがって、この高性能フィルタ２３を介し
て、上記のカセット載置台２０、ウエハ搬送体２１の搬
送路２１ａ、第１〜第２の処理ユニット群Ｇ１、Ｇ２、
後述する第３〜第５の処理ユニット群Ｇ３、Ｇ４、Ｇ５
及びインターフェイス部１２には、上方からの清浄な空
気のダウンフローが、同図の実線矢印または点線矢印の
方向に供給されている。
【００３０】第３の処理ユニット群Ｇ３では、図３に示
すように、ウエハＷを載置台に載せて所定の処理を行う
オーブン型の処理ユニット、例えば冷却処理を行うクー
リングユニット（ＣＯＬ）、レジストの定着性を高める
ためのいわゆる疎水化処理を行うアドヒージョンユニッ
ト（ＡＤ）、位置合わせを行うアライメントユニット
（ＡＬＩＭ）、エクステンションユニット（ＥＸＴ）、
露光処理前の加熱処理を行うプリベーキングユニット
（ＰＲＥＢＡＫＥ）及びポストベーキングユニット（Ｐ
ＯＢＡＫＥ）が下から順に、例えば８段に重ねられてい
る。
【００３１】同様に、第４の処理ユニット群Ｇ４では、
図３に示すように、ウエハＷを載置台に載せて所定の処
理を行うオーブン型の処理ユニット、例えば冷却処理を
行うクーリングユニット（ＣＯＬ）、冷却処理も兼ねた
エクステンション・クーリングユニット（ＥＸＴＣＯ
Ｌ）、エクステンションユニット（ＥＸＴ）、アドヒー
ジョンユニット（ＡＤ）、プリベーキングユニット（Ｐ
ＲＥＢＡＫＥ）及びポストベーキングユニット（ＰＯＢ
ＡＫＥ）が下から順に、例えば８段に重ねられている。
【００３２】このように処理温度の低いクーリングユニ
ット（ＣＯＬ）やエクステンション・クーリングユニッ
ト（ＥＸＴＣＯＬ）を下段に配置し、処理温度の高いプ
リベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）、ポストベー
キングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）及びアドヒージョンユ
ニット（ＡＤ）を上段に配置することで、ユニット間の
熱的な相互干渉を少なくすることができる。
【００３３】インターフェイス部１２では、図１に示す
ように、奥行き方向（Ｘ方向）については、上記処理ス
テーション１１と同じ寸法を有するが、幅方向について
はより小さなサイズに設定されている。図１及び図２に
示すように、このインターフェイス部１２の正面側に
は、可搬性のピックアップカセットＣＲと、定置型のバ
ッファカセットＢＲが２段に配置され、他方背面部には
周辺露光装置２４が配設されている。
【００３４】インターフェイス部１２の中央部には、ウ
エハ搬送体２５が設けられている。ウエハ搬送体２５
は、Ｘ方向、Ｚ方向（垂直方向）に移動して両カセット
ＣＲ、ＢＲ及び周辺露光装置２４にアクセスできるよう
になっている。ウエハ搬送体２５は、θ方向にも回転自
在となるように構成されており、処理ステーション１１
側の第４の処理ユニット群Ｇ４に属するエクステンショ
ンユニット（ＥＸＴ）や、さらには隣接する露光装置１
３側のウエハ受け渡し台（図示せず）にもアクセスでき
るようになっている。
【００３５】図４は上記の洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）
における供給系の構成を示す図である。図４に示すよう
に、洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）のカップＣＰ内のほぼ
中央には、ウエハＷを保持しつつ回転するスピンチャッ
ク３１が配置されている。
【００３６】スピンチャック３１の上方には、スピンチ
ャック３１により保持されたウエハＷ上のほぼ中心に向
けて洗浄液を供給するための洗浄液供給ノズル３２が配
置されている。この洗浄液供給ノズル３２は、図示を省
略したアームの先端に取り付けられており、ウエハの受
け渡し時にはこのアームが回動することで洗浄液供給ノ
ズル３２がカップＣＰの外側に退避するようになってい
る。
【００３７】第１のタンク３３には、ＮＨ4ＯＨが貯留
され、第２のタンク３４には、Ｈ2Ｏ2が貯留される。第
１のタンク３３に貯留されたＮＨ4ＯＨがユニットポン
プ３５及びバルプ３６を介してミキサ３７に供給され、
同様に第２のタンク３４に貯留されたＨ2Ｏ2がユニット
ポンプ３８及びバルプ３９を介してこのミキサ３７に供
給される。ミキサ３７では、ＮＨ4ＯＨとＨ2Ｏ2とが混
合され、この混合された洗浄液がミキサ３７から洗浄液
供給ノズル３２へ供給されるようになっている。
【００３８】第１のタンク３３の側面には、分岐管４０
が配置されている。分岐管４０の一端は、第１のタンク
３３のほぼ最上部に接続され、分岐管４０の他端は、第
１のタンク３３のほぼ最下部に接続されている。従っ
て、分岐管４０内の液位は、第１のタンク３３内の液位
と一致するようになっている。
【００３９】分岐管４０には、上から順に４つのセンサ
４１〜４４（最上限センサ４１、上限センサ４２、下限
センサ４３、最下限センサ４４）が配置されている。各
センサ４１〜４４は、分岐管４０内（第１のタンク３３
内）の液位を、例えば静電容量を計測することで非接触
式に検知するものである。
【００４０】ここで、下限センサ４３は、第１のタンク
３３内に貯留されたＮＨ4ＯＨの、当該ＮＨ4ＯＨを補充
すべき液位を検知するものであり、当該液位に対応する
位置に配置されている。上限センサ４２は、第１のタン
ク３３内に貯留されたＮＨ4ＯＨの、当該ＮＨ4ＯＨの補
充を停止すべき液位を検知するものであり、当該液位に
対応する位置に配置されている。最上限センサ４１は、
上限センサ４２の予備センサである。また、同様に、最
下限センサ４４は、下限センサ４３の予備センサであ
る。なお、最上限センサ４１と上限センサ４２との間隔
及び下限センサ４３と最下限センサ４４との間隔は、そ
れぞれ例えば洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）におけるウエ
ハＷ１枚分の洗浄処理に必要なＮＨ4ＯＨ量に相当す
る。
【００４１】また、第１のタンク３３には、工場側のＮ
Ｈ4ＯＨ供給ライン４５からＮＨ4ＯＨが供給され、また
工場側のＮ2供給ライン４６からＮ2が供給されるように
なっている。なお、ＮＨ4ＯＨは第１のタンク３３の底
部付近から供給され、Ｎ2は第１のタンク３３の上部か
ら供給されるようになっている。また、第１のタンク３
３の上部には、排出用のドレインライン５０が接続され
ている。
【００４２】ＮＨ4ＯＨ供給ライン４５と第１のタンク
３３との間には、ＮＨ4ＯＨ補充用エアーオペレーティ
ングバルブ４７が介挿されている。そして、ＮＨ4ＯＨ
補充用ソレノイド４９を介して工場側のエアー供給ライ
ン４８からＮＨ4ＯＨ補充用エアーオペレーティングバ
ルブ４７へオン・オフ切り換え用のエアーが供給される
ようになっている。
【００４３】Ｎ2供給ライン４６と第１のタンク３３と
の間には、ＮＨ4ＯＨ加圧用エアーオペレーティングバ
ルブ５１が介挿され、ドレインライン５０上には、ＮＨ
4ＯＨ大気開放用エアーオペレーティングバルブ５２が
介挿されている。そして、ＮＨ4ＯＨ加圧用ソレノイド
５３を介して工場側のエアー供給ライン４８からＮＨ4
ＯＨ加圧用エアーオペレーティングバルブ５１及びＮＨ
4ＯＨ大気開放用エアーオペレーティングバルブ５２へ
オン・オフ切り換え用のエアーが供給されるようになっ
ている。
【００４４】第２のタンク３４に関しても第１のタンク
３３と同様に構成されている。即ち、第２のタンク３４
の側面には、分岐管５４が配置されている。分岐管５４
の一端は、第２のタンク３４のほぼ最上部に接続され、
分岐管５４の他端は、第２のタンク３４のほぼ最下部に
接続されている。従って、分岐管５４内の液位は、第２
のタンク３４内の液位と一致するようになっている。
【００４５】分岐管５４には、上から順に４つのセンサ
５５〜５８（最上限センサ５５、上限センサ５６、下限
センサ５７、最下限センサ５８）が配置されている。各
センサ５５〜５８は、分岐管５４内（第２のタンク３４
内）の液位を、例えば静電容量を計測することで非接触
式に検知するものである。
【００４６】ここで、下限センサ５７は、第２のタンク
３４内に貯留されたＨ2Ｏ2の、当該Ｈ2Ｏ2を補充すべき
液位を検知するものであり、当該液位に対応する位置に
配置されている。上から上限センサ５６は、第２のタン
ク３４内に貯留されたＨ2Ｏ2の、当該Ｈ2Ｏ2の補充を停
止すべき液位を検知するものであり、当該液位に対応す
る位置に配置されている。最上限センサ５５は、上限セ
ンサ５６の予備センサである。また、同様に、最下限セ
ンサ５８は、下限センサ５７の予備センサである。な
お、最上限センサ５５と上限センサ５６との間隔及び下
限センサ５７と最下限センサ５８との間隔は、それぞれ
例えば洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）におけるウエハＷ１
０枚分以上の洗浄処理に必要なＨ2Ｏ2量に相当する。
【００４７】また、第２のタンク３４には、工場側のＨ
2Ｏ2供給ライン５９からＨ2Ｏ2が供給され、また工場側
のＮ2供給ライン４６からＮ2が供給されるようになって
いる。なお、Ｈ2Ｏ2は第２のタンク３４の底部付近から
供給され、Ｎ2は第２のタンク３４の上部から供給され
るようになっている。また、第２のタンク３４の上部に
は、排出用のドレインライン６０が接続されている。
【００４８】Ｈ2Ｏ2供給ライン５９と第２のタンク３４
との間には、Ｈ2Ｏ2補充用エアーオペレーティングバル
ブ６１が介挿されている。そして、Ｈ2Ｏ2補充用ソレノ
イド６２を介して工場側のエアー供給ライン４８からＨ
2Ｏ2補充用エアーオペレーティングバルブ６１へオン・
オフ切り換え用のエアーが供給されるようになってい
る。
【００４９】Ｎ2供給ライン４６と第２のタンク３４と
の間には、Ｈ2Ｏ2加圧用エアーオペレーティングバルブ
６３が介挿され、ドレインライン６０上には、Ｈ2Ｏ2大
気開放用エアーオペレーティングバルブ６４が介挿され
ている。そして、Ｈ2Ｏ2加圧用ソレノイド６５を介して
工場側のエアー供給ライン４８からＨ2Ｏ2Ｈ加圧用エア
ーオペレーティングバルブ６３及びＨ2Ｏ2大気開放用エ
アーオペレーティングバルブ６４へオン・オフ切り換え
用のエアーが供給されるようになっている。
【００５０】図５は上記の供給系における制御系の構成
を示すブロック図である。図５において、符号７１は洗
浄処理ユニット（ＳＣＲ）及び洗浄処理ユニット（ＳＣ
Ｒ）への供給系を統括的に制御する制御部である。この
制御部７１には、上述した洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）
側、最上限センサ４１、上限センサ４２、下限センサ４
３、最下限センサ４４、ＮＨ4ＯＨ補充用ソレノイド４
９、ＮＨ4ＯＨ加圧用ソレノイド５３、最上限センサ５
５、上限センサ５６、下限センサ５７、最下限センサ５
８、Ｈ2Ｏ2補充用ソレノイド６２及びＨ2Ｏ2加圧用ソレ
ノイド６５の他、漏水センサ７２、７３、停止スイッチ
７４が接続されている。更に、制御部７１には、ＣＳＳ
（端子台またはコネクタ）７５、７６と接続されてお
り、ＣＳＳ７５、７６から異常信号を受け取ると、本シ
ステムの動作を停止するようになっている。なお、制御
部７１は、この塗布現像処理システム全体を統括的に制
御するための主制御部（図示を省略）に接続されてい
る。また、制御部７１は、各種のタイマ機能を有する。
【００５１】漏水センサ７２は、第１のタンク３３に関
する漏水を検知ためのセンサであり、例えば第１のタン
ク３３の周囲やその配管の近くに配置されている。ま
た、漏水センサ７３は、第２のタンク３４に関する漏水
を検知するためのセンサであり、例えば第１のタンク３
３の周囲やその配管の近くに配置されている。停止スイ
ッチ７４は、この供給系における動作を停止させるため
のスイッチである。
【００５２】制御部７１から洗浄処理ユニット（ＳＣ
Ｒ）へは、バルブ３６に対してＮＨ4ＯＨを排出させる
ための信号（ＮＨ4ＯＨ ＤＲＡＩＮ）、バルブ３９に
対してＨ2Ｏ2を排出させるための信号（Ｈ2Ｏ2 ＤＲＡ
ＩＮ）、第１のタンク３３にエラーが発生したことを知
らせる信号（ＴＡＮＫ１ ＥＲＲＯＲ）、第２のタンク
３４にエラーが発生したことを知らせる信号（ＴＡＮＫ
２ ＥＲＲＯＲ）、供給側でＮＨ4ＯＨやＨ2Ｏ2の補充
や排出をしている最中であることを知らせる信号（ＢＵ
ＳＹ）が送られるようになっている。また、洗浄処理ユ
ニット（ＳＣＲ）から制御部７１へは、現在洗浄処理ユ
ニット（ＳＣＲ）が処理中であることを知らせる信号
（ＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ）が送られるようになってい
る。
【００５３】次にこのように構成された供給系の動作に
ついて図６に示すフローチャートに基づき説明する。な
お、供給系では、第１のタンク３３側及び第２のタンク
３４側でそれぞれ別個に以下の動作が行われるが、以下
の説明では第１のタンク３３側についてのみ説明する。
【００５４】まず、制御部７１では、システムのイニシ
ャライズを行った（ステップ６０１）後、漏水センサ７
２により漏水が検知されていないかを確認し（ステップ
６０２）、更に最上限センサ４１及び最下限センサ４４
により第１のタンク３３内の液位が検知されていないか
を確認する（ステップ６０３，６０４）。そして、漏水
センサ７２により漏水が検知された場合や最上限センサ
４１または最下限センサ４４により第１のタンク３３内
の液位が検知された場合にはアラーム表示を行い（ステ
ップ６０５）、異常の発生をユーザに知らせる。
【００５５】一方、このような異常が発生していない場
合には、下限センサ４３により第１のタンク３３内の液
位が検知されたかを確認している（ステップ６０６）。
そして、下限センサ４３により第１のタンク３３内の液
位が検知された場合には、ＮＨ4ＯＨ補充用ソレノイド
４９を介してＮＨ4ＯＨ補充用エアーオペレーティング
バルブ４７を開いてＮＨ4ＯＨ供給ライン４５から第１
のタンク３３へＮＨ4ＯＨの補充を開始する（ステップ
６０７）。これと共に、制御部７１におけるライフタイ
マを再設定し（ステップ６０８）、更に制御部７１にお
ける補充用タイマをスタートする（ステップ６０９）。
【００５６】ライフタイマには、ＮＨ4ＯＨを有効に使
うことができる時間が設定される。ＮＨ4ＯＨの例でい
うと、例えば４０時間程度に設定される。しかし、この
ような時間はユーザが任意に設定することができる。ま
た、補充用タイマには、第１のタンク３３へＮＨ4ＯＨ
を補充するのに要する時間が設定される。この時間もユ
ーザが任意に設定することができる。例えば、０〜９９
９秒の間に設定することができるが、０秒に設定すると
補充タイマによる監視はなくなる。
【００５７】上記のような補充が開始された後、上限セ
ンサ４２により第１のタンク３３内の液位が検知された
かを確認している（ステップ６１０）。そして、上限セ
ンサ４２により第１のタンク３３内の液位が検知される
と、補充を停止する（ステップ６１１）。また、上限セ
ンサ４２により第１のタンク３３内の液位が検知される
前に補充用タイマがタイムアウトしたとき（ステップ６
１２）には、アラームを表示し（ステップ６０５）、そ
の後補充を停止する（ステップ６１１）。これにより、
ユーザは例えば配管に亀裂等が発生したことを知ること
ができる。
【００５８】ここで、後述する排出後の供給直後の場合
には（ステップ６１３）、バルブ３６を排出状態に設定
して排出を開始する（ステップ６１４）と共に、制御部
７１におけるパージタイマをスタートする（ステップ６
１５）。このパージタイマには、第１のタンク３３から
バルブ３６を介して排出後にこの経路に残存する不要な
ＮＨ4ＯＨを排出するのに必要な時間が設定される。そ
して、パージタイマがタイムアウトすると（ステップ６
１６）、バルブ３６からの排出を停止する（ステップ６
１７）。以上の処理が終了すると、ステップ６０２に戻
り同様の処理を繰り返す。
【００５９】ここで、上述したステップ６０６におい
て、下限センサ４３により第１のタンク３３内の液位が
検知されずに、ライフタイマがタイムアウトしたとき
（ステップ６１８）、即ち第１のタンク３３に貯留され
たＮＨ4ＯＨが有効時間（この例でいうと、例えば補充
されてから４０時間）を過ぎたとき、、バルブ３６を排
出状態に設定して排出を開始する（ステップ６１９）と
共に、制御部７１における補充用タイマをスタートする
（ステップ６２０）。そして、補充用タイマがタイムア
ウトする（ステップ６２１）前に、最下限センサ４４が
第１のタンク３３内の液位を検知した（ステップ６２
２）には、排出用タイマ（例えば補充タイマと同じ時間
に設定されている。）をスタートし（ステップ６２
３）、補充用タイマがタイムアウトしたら（ステップ６
２４）、ステップ６０７における補充を開始する。
【００６０】上述したステップ６２１において、最下限
センサ４４が第１のタンク３３内の液位を検知すること
なく（ステップ６２２）、補充用タイマがタイムアウト
したとき、ステップ６０５によるアラーム表示が行われ
る。これにより、ユーザは例えば配管に詰まり等が発生
したことを知ることができる。
【００６１】図７〜図１３は各種の状態での上記センサ
等の動作を示すタイミングチャートである。図７は通常
の補充動作のタイミングチャートである。即ち、下限セ
ンサ４３により液位が検知されると（同図）、補充を
開始し（同図）、上限センサ４２により液位が検知さ
れると（同図）、補充を停止する（同図）。下限セ
ンサ４３により液位が検知されたときに洗浄処理ユニッ
ト（ＳＣＲ）により洗浄処理が行われているときには
（同図）、その処理の終了を待って、補充を開始する
（同図）。なお、、のタイミングでライフタイマ
がリセットされる。
【００６２】図８は通常の排出（ライフタイマのタイム
アップ）から補充までの動作のタイミングチャートであ
る。即ち、ライフタイマがタイムアップし（同図）、
このとき、ここでは洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）による
処理が行われているので、この処理の終了を持って、排
出を開始する（同図）。補充タイマのタイムアップす
る前に（ｔ１）最下限センサ４４が液位を検知すると
（同図）、排出タイマをスタートして、更にｔ２の
間、排出を続行する。排出タイマがタイムアウトすると
（同図）、補充を開始する。補充が終了すると（同図
）、ｔ３の間パージを行う。
【００６３】図９は補充時のタイムオーバ異常動作のタ
イミングチャートである。即ち、下限センサ４３により
液位が検知されると（同図）、補充を開始し（同図
）、補充タイマがタイムアップしても上限センサ４２
により液位が検知されないときには、タンク異常を洗浄
処理ユニット（ＳＣＲ）側に伝える（同図）。所定時
間経過後にリセットする（同図）。
【００６４】図１０は通常の排出時のタイムオーバ異常
動作のタイミングチャートである。即ち、ライフタイマ
がタイムアップし（同図）、このとき、ここでは洗浄
処理ユニット（ＳＣＲ）による処理が行われているの
で、この処理の終了を持って、排出を開始する（同図
）。補充タイマのタイムアップしても（ｔ）最下限セ
ンサ４４が液位を検知しないとき（同図）、タンク異
常を洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）側に伝える（同図
）。所定時間経過後にリセットする（同図）。
【００６５】図１１はセンサ異常時の動作のタイミング
チャートである。即ち、下限センサ４３が液を検知して
いないのに最上限センサ４１が液を検知したときに（同
図）、下限センサ４３が液を検知したに最下限センサ
４４が液を検知しないとき（同図）、下限センサ４３
が液を検知しないのに上限センサ４２が液を検知したと
き（同図）等、センサ間で矛盾が生じた時、タンク異
常を洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）側に伝える（同図
）。所定時間経過後にリセットする（同図）。
【００６６】図１２はエンプティー、オーバーフロー時
の動作のタイミングチャートである。即ち、最上限セン
サ４１が液を検知したときに（同図）、最下限センサ
４４が液を検知しないとき（同図）、タンク異常を洗
浄処理ユニット（ＳＣＲ）側に伝える（同図）。所定
時間経過後にリセットする（同図）。
【００６７】図１３は停止スイッチ入力時の動作のタイ
ミングチャートである。即ち、停止スイッチ７４がユー
ザから入力されると（同図）、各部の動作を停止し
（同図）、タンク異常を洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）
側に伝える（同図）。所定時間経過後にリセットする
（同図）。
【００６８】以上のように、この実施の形態によれば、
例えば第１のタンク３３から洗浄処理ユニット（ＳＣ
Ｒ）へＮＨ4ＯＨを送るための配管が詰まっていた場合
には、補充タイマがタイムアップする前に最下限センサ
４４により液位が検知されないので、ＮＨ4ＯＨの補充
が開始されることはなく、残ったＮＨ4ＯＨと新しいＮ
Ｈ4ＯＨが第１のタンク３３内で混ざってしまうような
事態を生じることはない。
【００６９】また、例えば第１のタンク３３から洗浄処
理ユニット（ＳＣＲ）へＮＨ4ＯＨを送るための配管に
亀裂等による処理液の漏れが生じた場合、補充用タイマ
がタイムアップしても上限センサ４２により液位が検知
されないので、第１のタンク３３へのＮＨ4ＯＨの補充
は停止される。
【００７０】なお、本発明は上述した実施の形態には限
定されない。例えば、上記実施の形態では、第１のタン
ク３３の動作についてのみ説明したが、第２のタンク３
４についても同様に動作する。
【００７１】また、上述した実施の形態では、ライフタ
イマがタイムアップしたときにすぐに処理液を交換する
ものであったが、ライフタイマがタイムアップしたとき
にこのことを記憶手段に保持しておき、或いはフラグを
立て、洗浄処理ユニット側からより処理要求があったと
きにこの記憶手段やフラグの内容をみて、初めてタンク
内の処理液の交換を行うようにしてもよい。これにより
例えば夏休みようにシステムを長時間止めるような場合
であっても、当該夏休み期間中にただの１回しかタンク
内の処理液は交換されない。よって、処理液の無駄をな
くすことができる。また、被処理体としてはウェハＷば
かりでなく、他の被処理体、例えばＬＣＤ基板等にも本
発明を当然適用できる。
【００７２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
例えば容器から洗浄処理ユニットへ処理液を送るための
配管が詰まっていた場合には、容器への新たな処理液の
補充が開始されることはなく、容器内に残った古い処理
液と新しい処理液が混ざってしまうような事態を生じる
ことはない。また、本発明によれば、例えば容器から洗
浄処理ユニットへ処理液を送るための配管に亀裂等によ
る処理液の漏れが生じた場合、容器への処理液の補充は
停止される。よって、容器内の処理液の交換をより円滑
に行うことができる。
【００７３】本発明によれば、報知手段によりユーザは
配管の詰まりや亀裂等の異常が発生したことを知ること
ができる。
【００７４】本発明によれば、処理装置より処理要求が
あって初めて容器内の処理液の交換を行うようにしてい
るので、例えば夏休み期間中にただの１回しか容器内の
処理液は交換されない。よって、処理液の無駄をなくす
ことができる。
【００７５】本発明によれば、容器内の処理液の自動交
換に先立ち、容器からの処理液の漏れを検知しているの
で、処理液の交換をより円滑に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の一実施形態に係る塗布現像処理シス
テムの平面図である。
【図２】 図１に示した塗布現像処理システムの正面図
である。
【図３】 図１に示した塗布現像処理システムの背面図
である。
【図４】 図２に示した洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）に
おける供給系の構成を示す図である。
【図５】 図４に示した供給系における制御系の構成を
示すブロック図である。
【図６】 図５に示した供給系の動作を示すフローチャ
ートである。
【図７】 本発明の実施形態に係る通常の補充動作のタ
イミングチャートである。
【図８】 本発明の実施形態に係る通常の排出（ライフ
タイマのタイムアップ）から補充までの動作のタイミン
グチャートである。
【図９】 本発明の実施形態に係る補充時のタイムオー
バ異常動作のタイミングチャートである。
【図１０】 本発明の実施形態に係る通常の排出時のタ
イムオーバ異常動作のタイミングチャートである。
【図１１】 本発明の実施形態に係るセンサ異常時の動
作のタイミングチャートである。
【図１２】 本発明の実施形態に係るエンプティー、オ
ーバーフロー時の動作のタイミングチャートである。
【図１３】 本発明の実施形態に係る停止スイッチ入力
時の動作のタイミングチャートである。
【符号の説明】
３３ 第１のタンク ３４ 第２のタンク ４１、５５ 最上限センサ ４２、５６ 上限センサ ４３、５７ 下限センサ ４４、５８ 最下限センサ ７１ 制御部 ＳＣＲ 洗浄処理ユニット

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 所定の処理を行う処理装置へ処理液を供
    給する供給装置であって、 前記処理装置へ供給される処理液を貯留する容器と、 前記容器内に貯留された処理液の、当該処理液を補充す
    べき第１の液位を検知する第１のセンサと、 前記第１の液位よりも更に下の第２の液位を検知する第
    ２のセンサと、 前記第１のセンサにより第１の液位が検知されたとき、
    前記容器内へ処理液を補充する補充手段と、 前記補充手段により処理液が補充されたときに作動し、
    所定時間計時する第１のタイマと、 前記第１のセンサにより第１の液位が検知されずに前記
    第１のタイマがタイムアップしたとき、前記容器内の処
    理液の排出を開始する手段と、 前記記容器内の処理液の排出を開始したときに作動し、
    所定時間計時する第２のタイマと、 前記第２のタイマがタイムアップする前に前記第２のセ
    ンサにより第２の液位が検知されたとき、前記容器内へ
    の処理液の補充を開始する手段とを具備することを特徴
    とする供給装置。
  2. 【請求項２】 請求項１記載の供給装置であって、 前記第２のタイマがタイムアップしても前記第２のセン
    サにより第２の液位が検知されないとき、所定の報知を
    行う報知手段をさらに具備することを特徴とする供給装
    置。
  3. 【請求項３】 所定の処理を行う処理装置へ処理液を供
    給する供給装置であって、 前記処理装置へ供給される処理液を貯留する容器と、 前記容器内に貯留された処理液の、当該処理液を補充す
    べき第１の液位を検知する第１のセンサと、 前記容器内に貯留された処理液の、当該処理液の補充を
    停止すべき第２の液位を検知する第２のセンサと、 前記第１のセンサにより第１の液位が検知されたとき、
    前記容器内への処理液の補充を開始する手段と、 前記処理液の補充が開始されたときに作動し、所定時間
    計時するタイマと、 前記タイマがタイムアップしても前記第２のセンサによ
    り第２の液位が検知されないとき、前記処理液の補充を
    停止する手段とを具備することを特徴とする供給装置。
  4. 【請求項４】 請求項３記載の供給装置であって、 前記タイマがタイムアップしても前記第２のセンサによ
    り第２の液位が検知されないとき、所定の報知を行う報
    知手段をさらに具備することを特徴とする供給装置。
  5. 【請求項５】 請求項１から請求項４のうちいずれか１
    項記載の供給装置であって、 前記容器内に処理液を補充している最中に前記処理装置
    より処理液の供給の要求があったとき、処理液の補充を
    一旦停止し、前記処理装置への処理液の供給が停止した
    後に、処理液の補充を再開すること特徴とする供給装
    置。
  6. 【請求項６】 請求項５記載の供給装置であって、 前記処理液の供給を停止している間、前記タイマによる
    計時を停止すること特徴とする供給装置。
  7. 【請求項７】 所定の処理を行う処理装置へ処理液を供
    給する供給装置であって、 前記処理装置へ供給される処理液を貯留する容器と、 前記容器内に貯留された処理液の、当該処理液を補充す
    べき液位を検知するセンサと、 前記センサにより処理液を補充すべき液位が検知された
    とき、前記容器内へ処理液を補充する補充手段と、 前記補充手段により処理液が補充されたときに作動し、
    所定時間計時するタイマと、 前記センサにより処理液を補充すべき液位が検知されず
    に前記タイマがタイムアップしたとき、この結果を保持
    する保持手段と、 前記処理装置より処理液の補充要求があって、かつ、前
    記保持手段により上記の結果が保持されているときに、
    前記容器内の処理液を排出して新たな処理液を補充する
    手段とを具備することを特徴とする供給装置。
  8. 【請求項８】 請求項１から請求項７のうちいずれか１
    項記載の供給装置であって、 前記処理装置へ少なくとも２種類の処理液を混ぜて供給
    するため、少なくとも２つの上記の容器を有することを
    特徴とする供給装置。
  9. 【請求項９】 処理液を貯留する容器より所定の処理を
    行う処理装置へ処理液を供給する供給装置における当該
    容器への処理液の補充方法であって、 （ａ）前記容器からの処理液の漏れを検知する工程と、 （ｂ）前記（ａ）工程の後に、前記容器内部に残存する
    処理液が所定の時間以上経過している場合には処理液を
    排出後に、所定の時間以上経過していない場合にはその
    判断後に、容器に処理液を補充する工程とを具備するこ
    とを特徴とする補充方法。
  10. 【請求項１０】 請求項９記載の補充方法であって、 （ｃ）前記（ｂ）工程の前に前記容器内に所定の量以上
    の処理液が残存するか否かを検知する工程を更に具備す
    ることを特徴とする補充方法。
  11. 【請求項１１】 請求項９または請求項１０記載の補充
    方法であって、 （ｄ）前記（ａ）工程において処理液の漏れを検知した
    か、あるいは、前記（ｃ）工程において容器内の所定量
    以上の処理液の残存を検知した際に、前記処理装置が容
    器から処理液を供給されて処理中であるか否かを検知す
    る工程を更に具備することを特徴とする補充方法。
  12. 【請求項１２】 請求項１１記載の補充方法であって、 前記処理装置が処理中であった際に、処理液が容器から
    処理装置までの処理液供給経路の間に残存するか否かを
    検知する工程を更に具備することを特徴とする補充方
    法。
  13. 【請求項１３】 請求項１２記載の補充方法であって、 前記処理液供給経路での処理液の残存量が所定の量以上
    であった際に、前記処理装置では所定の処理工程あるい
    は時間までは被処理体を処理した後に処理を停止させる
    ことを特徴とする補充方法。
  14. 【請求項１４】 請求項１１から請求項１３のうちいず
    れか１項記載の補充方法であって、 前記処理液供給経路上に残存する処理液を気圧の付加に
    より排出する工程を具備し、 前記処理液の漏れを検知したか、あるいは、前記容器内
    の所定量以上の処理液の残存を検知した際には、前記処
    理液の排出は前記気圧の付加によらないことを特徴とす
    る補充方法。
  15. 【請求項１５】 請求項９から請求項１４のうちいずれ
    か１項記載の補充方法であって、 前記（ａ）工程において処理液の漏れを検知した場合、
    前記（ｃ）工程において容器内の所定量以上の処理液の
    残存を検知した場合、あるいは前記処理装置側で処理中
    であった場合のうち少なくともいずれか一つに該当する
    際には、前記処理液の容器への補充を行わないことを特
    徴とする補充方法。
JP28867798A 1998-09-28 1998-09-28 供給装置及び補充方法 Expired - Lifetime JP3557354B2 (ja)

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