JP3545084B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、半導体装置における電極形成方法に係り、特に、自己整合により高融点金属シリサイドを形成する半導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
LSIの高集積化に伴い、素子の微細化による短チャネル効果などが問題となっている。短チャネル効果を抑制するためには拡散層を浅くすることが有効であるが、一方で拡散層抵抗が増大するという問題が生ずる。
このため、拡散層深さを犠牲にすることなく拡散層を低抵抗化する技術として、ゲート電極上及びソース/ドレイン拡散層上を自己整合的にシリサイド化する方法が検討されている。
【0003】
自己整合によりシリサイド膜を形成する典型的な半導体装置の製造方法を図8及び図9を用いて説明する。
まず、シリコン基板10上に、LOCOS法などにより素子分離膜12を形成する。次いで、素子分離膜12により画定された素子領域上に、膜厚10nm程度のゲート酸化膜14を熱酸化により形成する。
【0004】
続いて、ゲート酸化膜14上に、膜厚150nm程度の多結晶シリコン膜16を化学気相成長(CVD:Chemical Vapor Deposition)法により堆積し、ボロン(B)又は燐(P)若しくは砒素(As)をイオン注入する。これにより、多結晶シリコン膜16にp型又はn型の不純物を導入する(図8(a))。
その後、通常のリソグラフィー技術及びエッチング技術により多結晶シリコン膜16をパターニングし、ゲート電極18を形成する(図8(b))。
【0005】
次いで、CVD法により膜厚150nm程度のシリコン酸化膜を堆積した後、ゲート電極18が露出するまで異方性エッチングを行い、ゲート電極18の側壁にサイドウォール20を形成する。
続いて、ゲート電極18及びサイドウォール20をマスクとして、B又はP若しくはAsをイオン注入し、ソース/ドレイン領域となる不純物拡散層22を形成する。
【0006】
その後、弗酸と水の混合液(HF:H2O=2:100)に60秒程度浸漬し、ゲート電極18、不純物拡散層22表面のシリコン酸化膜を除去する(図8(c))。
次いで、膜厚10nm程度のコバルト(Co)膜24と、膜厚30nm程度の窒化チタン(TiN)膜26を連続して成膜した後に550℃30秒程度の短時間アニール(RTA:Rapid Thermal Annealing)を行い、シリコンが露出した領域に選択的にコバルトシリサイド膜28を形成する(図8(d)、図9(a))。
【0007】
続いて、TiN膜26及び未反応のCo膜24を、アンモニア水と過酸化水素水との混合液、硫酸と過酸化水素水との混合液によって除去する。
その後、750℃30秒程度の熱処理を行い、形成したコバルトシリサイド膜28を低抵抗化する(図9(b))。
このようにして、ゲート電極18、不純物拡散層22上に、選択的にコバルトシリサイド膜28を形成していた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の半導体装置の製造方法では、コバルトシリサイド膜28は下地のシリコンとの反応により形成するので、不純物拡散層22上では、シリコン基板内部に入り込むようにして形成される。このため、不純物拡散層28の深さが0.1μm以下になった場合、コバルトシリサイド膜28が不純物拡散層22を突き抜けてしまうといった問題があった。
【0009】
また、コバルトシリサイド膜28が不純物拡散層22を突き抜けない場合であっても、図10に示すように、不純物拡散層22に逆バイアスを印加した際の接合リーク電流が増大するといった問題があった。
また、コバルトシリサイド膜28の突き抜け等を防止するために、堆積するCo膜24の膜厚を減少し、形成されるコバルトシリサイド膜28の膜厚を薄くすると、コバルトシリサイド膜28の抵抗が高くなってしまうといった問題があった。
【0010】
本発明の目的は、不純物拡散層22が0.1μm以下と浅くなった場合にも、接合リークを増加することなく低抵抗の高融点金属シリサイドを自己整合的に形成できる半導体装置の製造方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、不純物拡散層上に高融点金属膜を堆積する高融点金属膜堆積工程と、第1の温度で熱処理することにより、前記不純物拡散層上に高融点金属シリサイド膜を形成する第1の熱処理工程と、前記第1の熱処理工程において反応しなかった前記高融点金属膜を除去する高融点金属膜除去工程と、第1の温度より高い第2の温度で熱処理を行う第2の熱処理工程と、第2の温度より高い第3の温度で熱処理を行う第3の熱処理工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法によって達成される。
【0012】
また、上記の半導体装置の製造方法において、前記第2の熱処理工程が終了した後に前記第2の温度から前記第3の温度まで昇温し、前記第3の熱処理工程を行うことが望ましい。
また、上記の半導体装置の製造方法において、前記高融点金属膜はコバルト膜であることが望ましい。
【0013】
また、上記の半導体装置の製造方法において、前記第1の熱処理工程では、525〜625℃の温度による短時間アニールを行い、前記第2の熱処理工程では、735℃以上の温度による短時間アニールを行うことが望ましい。
また、上記の半導体装置の製造方法において、前記第3の熱処理工程では、800℃以上の温度による短時間アニールを行うことが望ましい。
【0014】
また、上記の半導体装置の製造方法において、前記第1の熱処理工程では、400〜500℃の温度による炉アニールを行うことが望ましい。
また、上記の半導体装置の製造方法において、前記不純物拡散層の深さは0.1μm以下であってもよい。
【0015】
【作用】
本発明によれば、第1の熱処理により選択的に高融点金属シリサイド膜を形成して未反応の高融点金属を除去した後、第1の熱処理温度より高い温度による第2の熱処理と、第2の熱処理温度より高い温度による第3の熱処理を行うことにより、高融点金属シリサイド膜直下に形成したpn接合の逆方向リーク特性を改善したので、不純物拡散層が0.1μm以下と浅くなった場合にも拡散層抵抗を下げることができる。
【0016】
また、第2の熱処理工程が終了した後に第2の温度から第3の温度まで昇温し、第3の温度の熱処理工程を行ったので、高融点金属シリサイド膜直下に形成したpn接合の逆方向リーク特性が改善され、不純物拡散層が0.1μm以下と浅くなった場合にも拡散層抵抗を下げることができる。
また、上記の半導体装置の製造方法では、高融点金属膜としてコバルト膜を適用することができる。
【0017】
また、第1の熱処理工程において525〜625℃の温度による短時間アニールを行い、第2の熱処理工程において735℃以上の温度による短時間アニールを行えば、高融点金属シリサイド膜直下に形成したpn接合の逆方向リーク特性を改善することができる。
また、第3の熱処理工程において800℃以上の温度による短時間アニールを行えば、高融点金属シリサイド膜直下に形成したpn接合の逆方向リーク特性を改善することができる。
【0018】
また、第1の熱処理工程において400〜500℃の温度による炉アニールを行えば、高融点金属シリサイド膜直下に形成したpn接合の逆方向リーク特性を改善することができる。
【0019】
【実施例】
本発明の一実施例による半導体装置の製造方法について、図1乃至図9を用いて説明する。
図1はpn接合における逆方向リーク特性の測定方法を説明する図、図2及び図3はpn接合における逆方向リーク特性を示すグラフ及び熱処理温度プロファイルを示すグラフ、図4及び図5は本実施例における第1の熱処理の温度依存性を示すグラフ、図6は本実施例における第2の熱処理の温度依存性を示すグラフ、図7は本実施例における第3の熱処理の温度依存性を示すグラフ、図8及び図9は高融点金属シリサイド膜を自己整合で形成する半導体装置の製造方法を示す工程断面図である。
【0020】
前述したように、従来の半導体装置の製造方法では、550℃30秒間の第1の熱処理によりコバルトシリサイド膜28を形成した後に未反応のCo膜を除去し、750℃30秒間の第2の熱処理によりコバルトシリサイド膜28の低抵抗化を行っていた。しかし、不純物拡散層が約0.1μm以下と浅くなった場合、このようにして形成したコバルトシリサイド膜28直下のpn接合の逆方向I−V特性は、図10(a)に示すようにばらつきが非常に大きかった。
【0021】
本願発明者は、このようなI−V特性のばらつきを防止する方法として、第2の熱処理を二段階の温度で行うことが有効であることを見いだした。
始めに、本願発明者が行った逆方向リーク特性の測定方法を図1を用いて説明する。
素子分離膜12により画定された素子領域に不純物拡散層22が形成されたP型シリコン基板10上にCo膜24を堆積し(図1(a))、第1の熱処理により素子領域にコバルトシリサイド膜28を形成した(図1(b))。次いで、未反応のCo膜を除去して第2の熱処理及び第3の熱処理を行うことにより、その直下にpn接合が形成されたコバルトシリサイド膜28を素子領域に自己整合で形成した(図1(c))。
【0022】
このようにして形成したpn接合に逆バイアスを印加して逆方向リーク電流を測定し、リーク電流のばらつきを調査した(図1(d))。なお、接合面積が約180×880μm2のpn接合を用い、一条件につき60〜70チップづつ測定した。
図2(a)は、第1の熱処理として550℃30秒の短時間アニールを行い、第2の熱処理として750℃30秒の短時間アニールと800℃30秒の短時間アニールとを連続して行った場合(図2(b))の逆方向I−V特性である。図示するように、高電界側では若干ばらつきがあるが、第2の熱処理を二段階で行うことによりI−V特性のばらつきを減少することができる。
【0023】
図3(a)は、第1の熱処理として550℃30秒の短時間アニールを行い、第2の熱処理として750℃30秒の短時間アニールを行い、その後、第3の熱処理として800℃30秒の短時間アニールを行った場合(図3(b))の逆方向I−V特性である。図示するように、第2の熱処理の後に、第2の熱処理の温度より高い第3の熱処理を行った場合にも、I−V特性のばらつきを大幅に減少することができる。
【0024】
図10(b)は、第1の熱処理として550℃30秒の短時間アニールを行い、第2の熱処理として800℃30秒の短時間アニールを行った場合である。このように第2の熱処理を800℃に昇温するのみではI−V特性の改善はほとんどみられず、第2の熱処理を二段階で行うことの効果が大きいことが判る。
次に、第1の熱処理における最適な処理温度について説明する。
【0025】
図4及び図5は、第2の熱処理を二段階で行った場合の第1の熱処理の条件依存性を示した図である。図4(a)は第1の熱処理として450℃30分の炉アニール(FA:Furnace Annealing)を用いた場合、図4(b)は第1の熱処理として500℃30秒の短時間アニールを用いた場合、図5は第1の熱処理として650℃30秒の短時間アニールを用いた場合である。
【0026】
図示するように、I−V特性のばらつきは、第1の熱処理の温度を450℃、500℃、550℃(図2(a))と高くするにつれて小さくなる。しかし、第1の熱処理温度を650℃にまで上げると、LOCOS酸化膜のエッジ部でコバルトシリサイド膜の這い上がりが生じ、リーク電流が増加する。
従って、第1の熱処理は、特性のばらつきが小さくリーク電流が少なくなるように、525〜625℃程度の熱処理を行うことが望ましい。
【0027】
次に、第2の熱処理における最適な処理温度について説明する。
図6は、第1の熱処理として550℃30秒の短時間アニールを行い、第3の熱処理として800℃30秒の短時間アニールを行った場合の第2の熱処理の熱処理の条件依存性を示した図である。図6(a)は第2の熱処理として725℃30秒の短時間アールを行った場合、図6(b)は第2の熱処理として775℃30秒の短時間アニールを行った場合である。
【0028】
図示するように、第2の熱処理の温度を725℃より高い温度に設定することにより、I−V特性のばらつきを大幅に減少することができる。
次に、第3の熱処理における最適な処理温度について説明する。
図7は、第1の熱処理として550℃30秒の短時間アニールを行い、第2の熱処理として750℃30秒の短時間アニールを行った場合の第3の熱処理の熱処理の条件依存性を示した図である。図7(a)は第3の熱処理として825℃30秒の短時間アニールを行った場合、図7(b)は第3の熱処理として850℃30秒の短時間アニールを行った場合である。
【0029】
図示するように、第3の熱処理の温度に対する依存性はほとんどみられないが、第3の熱処理の温度を800℃以上に設定すれば、良好なI−V特性を得ることができる。
このように、第2の熱処理を二段階の温度により行うか、又は第2の熱処理の後に第3の熱処理を行うことにより、pn接合の逆方向I−V特性のばらつきやリーク電流を減少することができる。
【0030】
次に、本発明の一実施例による半導体装置の製造方法を図8及び図9を用いて説明する。
まず、p型シリコン基板10上に、LOCOS法などにより膜厚約250nmの素子分離膜12を形成する。次いで、素子分離膜12により画定された素子領域上に、膜厚10nm程度のゲート酸化膜14を熱酸化により形成する。
【0031】
続いて、ゲート酸化膜14上に、膜厚150nm程度の多結晶シリコン膜16をCVD法により堆積し、B又はP若しくはAsをイオン注入する。これにより、多結晶シリコン膜16にp型又はn型の不純物を導入する(図8(a))。
その後、通常のリソグラフィー技術及びエッチング技術により多結晶シリコン膜16をパターニングし、ゲート長0.25μmのゲート電極18を形成する(図8(b))。
【0032】
次いで、CVD法により膜厚150nm程度のシリコン酸化膜を堆積した後、ゲート電極18が露出するまで異方性エッチングを行い、ゲート電極18の側壁にサイドウォール20を形成する。
膜厚約5nmのシリコン酸化膜を熱酸化により形成した後、ゲート電極18及びサイドウォール20をマスクとして、Asイオンを加速電圧25keV、注入量2×1015cm−2の条件でイオン注入し、ソース/ドレイン領域となる不純物拡散層22を形成する(図8(c))。
【0033】
続いて、850℃10分程度の熱処理を行い、注入したAsの拡散と活性化を行う。
その後、弗酸と水の混合液(HF:H2O=2:100)に60秒程度浸漬し、ゲート電極18、不純物拡散層22表面のシリコン酸化膜を除去する。
次いで、膜厚10nm程度のCo膜24と、膜厚30nm程度のTiN膜26を連続して成膜する。なお、Co膜24及びTiN膜26はともにスパッタ法により堆積し、Co膜成膜時には、圧力を0.1Pa、アルゴン流量を100sccm、ターゲットに印加するRFパワーを3.7W/cm2とし、TiN膜成膜時には、圧力を0.1Pa、アルゴン流量を50sccm、窒素流量を50sccm、ターゲットに印加するRFパワーを3.7W/cm2とした(図8(d))。
【0034】
このようにしてCo膜24及びTiN膜26の積層膜を形成した後、第1の熱処理として550℃30秒の短時間アニールを行い、シリコンが露出した領域に選択的にコバルトシリサイド膜28を形成する(図9(a))。
続いて、70℃に加熱したアンモニア水と過酸化水素水との混合液中に浸漬してTiN膜26を除去し、硫酸と過酸化水素水との混合液中に浸漬して未反応のCo膜24を除去する。これにより、ゲート電極18上、不純物拡散層22上に選択的にコバルトシリサイド膜を残す。
【0035】
その後、第2の熱処理として750℃30秒の短時間アニールを、第3の熱処理として800℃30秒の短時間アニールを行い、第1の熱処理により形成したコバルトシリサイド膜28を低抵抗化する(図9(b))。
次いで、CVD法により膜厚約700nmのシリコン酸化膜を堆積し、層間絶縁膜30を形成する。
【0036】
続いて、通常のリソグラフィー技術及びエッチング技術によりコンタクトホール32を形成する。
その後、膜厚約20nmのチタン(Ti)膜、TiN膜、アルミ(Al)膜との積層膜により構成される配線層34を形成する(図9(c))。
このようにしてMOS型のトランジスタを形成することにより、不純物拡散層22が浅くなった場合にも、拡散層抵抗を高くすることなくpn接合の信頼性を確保することができる。
【0037】
このように、本実施例によれば、第1の熱処理により選択的にコバルトシリサイド膜を形成して未反応のコバルトを除去した後、第1の熱処理温度より高い温度による第2の熱処理と、第2の熱処理温度より高い温度による第3の熱処理を行ったので、不純物拡散層が0.1μm以下と浅くなった場合にも、良好なリーク特性を得ることができる。
【0038】
これにより低抵抗のコバルトシリサイド膜を形成することができるので、拡散層抵抗に起因する信号伝達の遅延等を抑えることができる。
なお、上記実施例では、第1の熱処理には短時間アニールを用いたが、炉アニールを用いてコバルトシリサイド膜を形成してもよい。この場合、熱処理温度は400〜500℃程度の温度範囲に設定することが望ましい。
【0039】
また、上記実施例ではCo膜とTiN膜を積層した状態で第1の熱処理を行い、コバルトシリサイド膜を形成したが、Co膜を堆積した直後に第1の熱処理を行ってコバルトシリサイド膜を形成してもよい。
【0040】
【発明の効果】
以上の通り、本発明によれば、第1の熱処理により選択的に高融点金属シリサイド膜を形成して未反応の高融点金属を除去した後、第1の熱処理温度より高い温度による第2の熱処理と、第2の熱処理温度より高い温度による第3の熱処理を行うことにより、高融点金属シリサイド膜直下に形成したpn接合の逆方向リーク特性を改善したので、不純物拡散層が0.1μm以下と浅くなった場合にも拡散層抵抗を下げることができる。
【0041】
また、第2の熱処理工程が終了した後に第2の温度から第3の温度まで昇温し、第3の温度の熱処理工程を行ったので、高融点金属シリサイド膜直下に形成したpn接合の逆方向リーク特性が改善され、不純物拡散層が0.1μm以下と浅くなった場合にも拡散層抵抗を下げることができる。
また、上記の半導体装置の製造方法では、高融点金属膜としてコバルト膜を適用することができる。
【0042】
また、第1の熱処理工程において525〜625℃の温度による短時間アニールを行い、第2の熱処理工程において735℃以上の温度による短時間アニールを行えば、高融点金属シリサイド膜直下に形成したpn接合の逆方向リーク特性を改善することができる。
また、第3の熱処理工程において800℃以上の温度による短時間アニールを行えば、高融点金属シリサイド膜直下に形成したpn接合の逆方向リーク特性を改善することができる。
【0043】
また、第1の熱処理工程において400〜500℃の温度による炉アニールを行えば、高融点金属シリサイド膜直下に形成したpn接合の逆方向リーク特性を改善することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】pn接合における逆方向リーク特性の測定方法を説明する図である。
【図2】本発明により形成したpn接合の逆方向リーク特性を示すグラフ及び熱処理温度プロファイルを示すグラフ(その1)である。
【図3】本発明により形成したpn接合の逆方向リーク特性を示すグラフ及び熱処理温度プロファイルを示すグラフ(その2)である。
【図4】本発明における第1の熱処理の温度依存性を示すグラフ(その1)である。
【図5】本発明における第1の熱処理の温度依存性を示すグラフ(その2)である。
【図6】本発明における第2の熱処理の温度依存性を示すグラフである。
【図7】本発明における第3の熱処理の温度依存性を示すグラフである。
【図8】高融点金属シリサイド膜を自己整合で形成する半導体装置の製造方法を示す工程断面図(その1)である。
【図9】高融点金属シリサイド膜を自己整合で形成する半導体装置の製造方法を示す工程断面図(その2)である。
【図10】従来の半導体装置の製造方法により形成したpn接合における逆方向リーク特性を示すグラフである。
【符号の説明】
10…シリコン基板
12…素子分離膜
14…ゲート酸化膜
16…多結晶シリコン膜
18…ゲート電極
20…サイドウォール
22…不純物拡散層
24…Co膜
26…TiN膜
28…コバルトシリサイド膜
30…層間絶縁膜
32…コンタクトホール
34…配線層
Claims (5)
- 不純物拡散層上に高融点金属膜を堆積する高融点金属膜堆積工程と、
第1の温度で熱処理することにより、前記不純物拡散層上に高融点金属シリサイド膜を形成する第1の熱処理工程と、
前記第1の熱処理工程において反応しなかった前記高融点金属膜を除去する高融点金属膜除去工程と、
第1の温度より高い第2の温度で熱処理を行う第2の熱処理工程と、
第2の温度より高い第3の温度で熱処理を行う第3の熱処理工程と
を有する半導体装置の製造方法であって、
前記第1の熱処理工程では、525〜625℃の温度による短時間アニールを行い、
前記第2の熱処理工程では、735℃以上の温度による短時間アニールを行う
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1記載の半導体装置の製造方法において、
前記第2の熱処理工程が終了した後に前記第2の温度から前記第3の温度まで昇温し、前記第3の熱処理工程を行う
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1又は2記載の半導体装置の製造方法において、
前記高融点金属膜はコバルト膜である
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置の製造方法において、
前記第3の熱処理工程では、800℃以上の温度による短時間アニールを行う
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1乃至4のいずれかに記載の半導体装置の製造方法において、
前記不純物拡散層の深さが0.1μm以下である
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
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