JP3538782B2 - ヒドロキシアルキルグルコシドの製法 - Google Patents
ヒドロキシアルキルグルコシドの製法Info
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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Description
【０００１】本発明は、特殊なヒドロキシアルキルグル
コシドの製法に係る。
コシドの製法に係る。
【０００２】界面活性剤の分野では、過去数年間で顕著
な発展が見られる。世界の市場の大部分は非イオン性界
面活性剤、特にポリエトキシ化アルコール及びポリエト
キシ化アルキルフェノールで占められている。
な発展が見られる。世界の市場の大部分は非イオン性界
面活性剤、特にポリエトキシ化アルコール及びポリエト
キシ化アルキルフェノールで占められている。
【０００３】このような非イオン性界面活性剤は、良好
な洗浄性、各種の組成に関する柔軟性（イオン性界面活
性剤との適合性）及び低い製造コストのためかなりの重
要性を獲得している。
な洗浄性、各種の組成に関する柔軟性（イオン性界面活
性剤との適合性）及び低い製造コストのためかなりの重
要性を獲得している。
【０００４】これらの種類の非イオン性界面活性剤以外
に、最近では、ポリエトキシ基とは異なる親水基部分に
よって特徴づけられる新たな種類のものが開発されてい
る。これらの中でも、単糖及びオリゴ糖のエステルはコ
ストが低いこと及び固有の生物分解性を有することによ
り特に注目を集めている。
に、最近では、ポリエトキシ基とは異なる親水基部分に
よって特徴づけられる新たな種類のものが開発されてい
る。これらの中でも、単糖及びオリゴ糖のエステルはコ
ストが低いこと及び固有の生物分解性を有することによ
り特に注目を集めている。
【０００５】しかしながら、この種の長鎖エステル（た
とえばパルミチン酸から誘導されるもの）は、多くの処
方において要求されるpH８以上でのエステル基の安定性
が限られているため、実用性の点で満足できないもので
ある。
とえばパルミチン酸から誘導されるもの）は、多くの処
方において要求されるpH８以上でのエステル基の安定性
が限られているため、実用性の点で満足できないもので
ある。
【０００６】このような限定された化学安定性は、Enic
hem Augusta社名義のイタリー国特許出願MI−91A−0014
27号に開示された如く、エポキシドとヒドロキシアルキ
ルグルコシドとの反応によるエーテル結合の導入によっ
て解消される。
hem Augusta社名義のイタリー国特許出願MI−91A−0014
27号に開示された如く、エポキシドとヒドロキシアルキ
ルグルコシドとの反応によるエーテル結合の導入によっ
て解消される。
【０００７】発明者らは、新たな工程により前記製法の
簡略化を達成すると共に、同時に良好な収率を得ること
ができた。
簡略化を達成すると共に、同時に良好な収率を得ること
ができた。
【０００８】このように、本発明の目的は、一般式
（Ｉ） （式中、Ｒは−CH2−、−CH2−CH2−又は−CH2−CH(OH)
−であり；Ｒ1及びＲ2はそれぞれ炭素数１−18のアルキ
ル基であるか、Ｒ1又はＲ2は水素原子であってもよい
が、同時に水素原子であることはなく、（Ｒ1＋Ｒ2）の
炭素原子の合計は常に18個以下であり；Ｇは、通常「還
元糖」と称される単糖、代表的には式C6H12O6又はC5H10
O5で表されるヘキソース又はペントースからH2O １分子
が除去された残基であり、ｎは１−５の整数である）で
表されるヒドロキシアルキルグルコシドの製法におい
て、該製法は、（ａ）触媒の存在下、炭素数８−20のオ
レフィンのエポキシドをジオール又はトリオールと反応
させて、グリコール−エーテル（II）を生成させる工
程；（ｂ）前記グリコール−エーテル（II）と、還元糖
又は加水分解によって還元糖を提供しうる化合物との、
又は前記還元糖から誘導されるメチル−、エチル−又は
ブチル−グルコシドとのグリコシデーション反応を行う
工程を包含し、前記工程（ｂ）の反応をKa値10-8−10-1
を有する強い有機酸及び弱い有機塩基でなる二元触媒の
存在下で行うことを特徴とするヒドロキシアルキルグル
コシドの製法にある。
（Ｉ） （式中、Ｒは−CH2−、−CH2−CH2−又は−CH2−CH(OH)
−であり；Ｒ1及びＲ2はそれぞれ炭素数１−18のアルキ
ル基であるか、Ｒ1又はＲ2は水素原子であってもよい
が、同時に水素原子であることはなく、（Ｒ1＋Ｒ2）の
炭素原子の合計は常に18個以下であり；Ｇは、通常「還
元糖」と称される単糖、代表的には式C6H12O6又はC5H10
O5で表されるヘキソース又はペントースからH2O １分子
が除去された残基であり、ｎは１−５の整数である）で
表されるヒドロキシアルキルグルコシドの製法におい
て、該製法は、（ａ）触媒の存在下、炭素数８−20のオ
レフィンのエポキシドをジオール又はトリオールと反応
させて、グリコール−エーテル（II）を生成させる工
程；（ｂ）前記グリコール−エーテル（II）と、還元糖
又は加水分解によって還元糖を提供しうる化合物との、
又は前記還元糖から誘導されるメチル−、エチル−又は
ブチル−グルコシドとのグリコシデーション反応を行う
工程を包含し、前記工程（ｂ）の反応をKa値10-8−10-1
を有する強い有機酸及び弱い有機塩基でなる二元触媒の
存在下で行うことを特徴とするヒドロキシアルキルグル
コシドの製法にある。
【０００９】還元糖に関して使用されるヘキソース又は
ペントースの例としては、グルコース、マンノース、ガ
ラクトース、アラビノース、キシロース、リボース等が
ある。
ペントースの例としては、グルコース、マンノース、ガ
ラクトース、アラビノース、キシロース、リボース等が
ある。
【００１０】さらに、加水分解して単糖を生成する高級
な糖又は置換された糖も使用される。これらの中には、
デンプン、マルトース、サッカロース、ラクトース、マ
ルトトリオース、メチル−、エチル−又はブチル−グル
コシド等がある。コストが低いこと及び入手が容易であ
ることから、単糖としてはグルコースが好適である。
な糖又は置換された糖も使用される。これらの中には、
デンプン、マルトース、サッカロース、ラクトース、マ
ルトトリオース、メチル−、エチル−又はブチル−グル
コシド等がある。コストが低いこと及び入手が容易であ
ることから、単糖としてはグルコースが好適である。
【００１１】本発明による方法を具体的に説明するた
め、下記の反応スキームを想定する（これに限定されな
い）。
め、下記の反応スキームを想定する（これに限定されな
い）。
【００１２】工程（ａ）
工程（ｂ）
（式中、Ｒ、Ｒ1及びＲ2は前記と同意義であり、Ｒ3は
Ｈ、CH3、エチル、ブチルである。）グリコール−エー
テル（II）の調製（工程（ａ））は公知である。たとえ
ば、米国特許第3,758,410号には酸性触媒の存在下にお
けるエポキシドとエチレングリコールとの反応が開示さ
れている。
Ｈ、CH3、エチル、ブチルである。）グリコール−エー
テル（II）の調製（工程（ａ））は公知である。たとえ
ば、米国特許第3,758,410号には酸性触媒の存在下にお
けるエポキシドとエチレングリコールとの反応が開示さ
れている。
【００１３】エポキシ環の開環は塩基性触媒によっても
達成される。たとえば、α−エポキシドの場合、P．E．
Parker及びN．S．IsaacによるChem Rev.，1959，59，73
7の開示によれば末端炭素原子への求核攻撃による生成
物が絶対的に生成されなければならない。
達成される。たとえば、α−エポキシドの場合、P．E．
Parker及びN．S．IsaacによるChem Rev.，1959，59，73
7の開示によれば末端炭素原子への求核攻撃による生成
物が絶対的に生成されなければならない。
【００１４】一方、工程（ｂ）では、グリコシデーショ
ン反応に関して、通常、望ましくない反応が生ずるため
問題がある。
ン反応に関して、通常、望ましくない反応が生ずるため
問題がある。
【００１５】たとえば、米国特許第4,950,743号には、
かかる望ましくない反応の１つがポリグルコース又はポ
リヒドロキシメチルフルフラールの生成であることが報
告されている。
かかる望ましくない反応の１つがポリグルコース又はポ
リヒドロキシメチルフルフラールの生成であることが報
告されている。
【００１６】最終生成物中に存在する場合、前者の副生
物は界面活性剤溶液を過剰に発泡させ、後者の副生物は
望ましくない黄色−褐色の着色を生ずる。
物は界面活性剤溶液を過剰に発泡させ、後者の副生物は
望ましくない黄色−褐色の着色を生ずる。
【００１７】反応の経済性に関して、ポリグルコースの
生成は所望生成物の収量の損失を意味する。
生成は所望生成物の収量の損失を意味する。
【００１８】特許の多くはポリグルコースの生成を抑制
するとの特殊な目的の達成を目標とするものである。た
とえば、WO特許第90／07516号は、この問題の解消に好
適な高い新油性を有する触媒の使用を開示している。
するとの特殊な目的の達成を目標とするものである。た
とえば、WO特許第90／07516号は、この問題の解消に好
適な高い新油性を有する触媒の使用を開示している。
【００１９】しかしながら、この場合にも、従来の酸を
使用する場合と比較して低減するが、ポリグルコースの
生成が完全には抑制されない。
使用する場合と比較して低減するが、ポリグルコースの
生成が完全には抑制されない。
【００２０】従って、本発明の第１の目的は、ポリグル
コースの如き副生物を含有しないグリコシデーション生
成物を得ることにあり、これに関連して、発明者らは、
工程（ｂ）で使用する前記触媒系が上述の従来技術の欠
点を解消することを可能にするとの知見を得た。
コースの如き副生物を含有しないグリコシデーション生
成物を得ることにあり、これに関連して、発明者らは、
工程（ｂ）で使用する前記触媒系が上述の従来技術の欠
点を解消することを可能にするとの知見を得た。
【００２１】従って、グリコシデーション反応（工程
（ｂ））は、Ka値10-8−10-1を有する強い有機酸及び弱
い有機塩基でなる二元触媒の存在下で行われる。
（ｂ））は、Ka値10-8−10-1を有する強い有機酸及び弱
い有機塩基でなる二元触媒の存在下で行われる。
【００２２】強い有機酸の例としては、ベンゼン−又は
アルキルベンゼンスルホン酸、ナフタレン−又はアルキ
ルナフタレンスルホン酸、第１級、第２級又は第３級ア
ルキルスルホン酸、モノアルキルスルフェート、モノ−
及びジアルキルホスフェート、アルキル−、アリール−
又はアルキルアリールジスルホン酸（いずれの脂肪族鎖
も炭素原子１−20個を含有するものであり、スルホン基
は陽イオン交換樹脂を含有する）がある。
アルキルベンゼンスルホン酸、ナフタレン−又はアルキ
ルナフタレンスルホン酸、第１級、第２級又は第３級ア
ルキルスルホン酸、モノアルキルスルフェート、モノ−
及びジアルキルホスフェート、アルキル−、アリール−
又はアルキルアリールジスルホン酸（いずれの脂肪族鎖
も炭素原子１−20個を含有するものであり、スルホン基
は陽イオン交換樹脂を含有する）がある。
【００２３】弱い有機塩基の例としては、ピロリジン、
ピコリン、ルチジン、コリジン、キノリン、イソキノリ
ン、キナルジン、ピラジン、プテリジン、テトラメチル
尿素等がある。
ピコリン、ルチジン、コリジン、キノリン、イソキノリ
ン、キナルジン、ピラジン、プテリジン、テトラメチル
尿素等がある。
【００２４】触媒は、等量の前記酸及び塩基を混合する
ことにより別個に又は「その場で」容易に調製される。
ことにより別個に又は「その場で」容易に調製される。
【００２５】好適な触媒は、ピリジンとアルキルベンゼ
ンスルホン酸又は第２級アルキルスルホン酸（たとえば
特開平３−275663号の開示に従って調製される）との塩
である。
ンスルホン酸又は第２級アルキルスルホン酸（たとえば
特開平３−275663号の開示に従って調製される）との塩
である。
【００２６】中でも、ピリジンと炭素原子14−17個を含
有する第２級アルキルスルホン酸（SASA）との塩が好適
である。
有する第２級アルキルスルホン酸（SASA）との塩が好適
である。
【００２７】触媒は還元糖又は上述の等価物（すなわ
ち、加水分解して還元糖を放出する化合物）１モル当たり
0.001−0.1モル、好ましくは0.01−0.05モルの範囲内の量で
使用される。
ち、加水分解して還元糖を放出する化合物）１モル当たり
0.001−0.1モル、好ましくは0.01−0.05モルの範囲内の量で
使用される。
【００２８】この触媒の特異な性質は、後述の実施例８
に開示する比較テスト（ｐ−トルエンスルホン酸の如き
一般的な酸の存在下でグリコシデーション反応が行われ
る）によって明らかになるであろう。
に開示する比較テスト（ｐ−トルエンスルホン酸の如き
一般的な酸の存在下でグリコシデーション反応が行われ
る）によって明らかになるであろう。
【００２９】実施例７のテストのものと同じ条件（温
度、圧力及び反応系の撹拌速度）下で操作し、化学量論
量の水が留去された時点で上述の両反応を停止させる
際、実施例８ではかなりの量のポリグルコースが生成さ
れるが、実施例７の触媒を使用する場合には、グルコー
スが主に存在し、つづいて回収、再使用される。
度、圧力及び反応系の撹拌速度）下で操作し、化学量論
量の水が留去された時点で上述の両反応を停止させる
際、実施例８ではかなりの量のポリグルコースが生成さ
れるが、実施例７の触媒を使用する場合には、グルコー
スが主に存在し、つづいて回収、再使用される。
【００３０】従って、最終生成物は全くポリグルコース
を含有しておらず、この点は従来技術と比べて本発明の
代表的な特徴である。
を含有しておらず、この点は従来技術と比べて本発明の
代表的な特徴である。
【００３１】上述の触媒を使用する場合には、反応速度
の制御も容易であり、高いヒドロキシアルキル−モノグ
ルコシドレベルを有する一般式（Ｉ）の生成物（たとえ
ば、上記一般式（Ｉ）においてｎ＝１の生成物70％以上
を含有する混合物）を容易に得ることができる。
の制御も容易であり、高いヒドロキシアルキル−モノグ
ルコシドレベルを有する一般式（Ｉ）の生成物（たとえ
ば、上記一般式（Ｉ）においてｎ＝１の生成物70％以上
を含有する混合物）を容易に得ることができる。
【００３２】さらに、上述の二元触媒を使用することに
より、反応終了時、たとえばｐ−トルエンスルホン酸の
如き従来の酸性触媒を使用して得られる相当の生成物よ
りも着色の程度の少ない生成物が得られる。
より、反応終了時、たとえばｐ−トルエンスルホン酸の
如き従来の酸性触媒を使用して得られる相当の生成物よ
りも着色の程度の少ない生成物が得られる。
【００３３】しかしながら、過剰のグリコール−エーテ
ル（II）を除去するために蒸留を利用する場合（温度19
0−200℃、減圧0.2−0.5mmHgが必要である）、特に蒸留
時間が１−２時間を越えると褐色に着色した生成物が得
られる。
ル（II）を除去するために蒸留を利用する場合（温度19
0−200℃、減圧0.2−0.5mmHgが必要である）、特に蒸留
時間が１−２時間を越えると褐色に着色した生成物が得
られる。
【００３４】しかし、かかる着色は、科学文献から公知
の多くの反応体［たとえばH2O2（米国特許第3,450,690
号）、過ホウ酸ナトリウム（米国特許第3,839,318号）
又は他の同等の漂白剤（たとえば、次亜塩素酸アルカ
リ、アルカリペルスルフェート等）］を使用することに
よって界面活性剤水溶液が容易に許容範囲の色に調節さ
れるため問題とはならない。
の多くの反応体［たとえばH2O2（米国特許第3,450,690
号）、過ホウ酸ナトリウム（米国特許第3,839,318号）
又は他の同等の漂白剤（たとえば、次亜塩素酸アルカ
リ、アルカリペルスルフェート等）］を使用することに
よって界面活性剤水溶液が容易に許容範囲の色に調節さ
れるため問題とはならない。
【００３５】本発明による方法の工程（ａ）では、ジオ
ールをエポキシド（III）の化学量論量と同じ又はそれ
より大の量、すなわちエポキシド（III）１モル当たり１
−15モルの量で使用し、一方、工程（ｂ）では、グリコー
ル−エーテル（II）を還元糖の化学量論量と同じ又はそ
れより大の量（詳細については後述する）で使用する。
ールをエポキシド（III）の化学量論量と同じ又はそれ
より大の量、すなわちエポキシド（III）１モル当たり１
−15モルの量で使用し、一方、工程（ｂ）では、グリコー
ル−エーテル（II）を還元糖の化学量論量と同じ又はそ
れより大の量（詳細については後述する）で使用する。
【００３６】さらに、本発明の方法の工程（ａ）におい
てジオールは溶媒（すなわち反応混合物の液状媒体）と
しても機能する。工程（ｂ）では、溶媒の機能はグリコ
ール−エーテル（II）によって達成される。
てジオールは溶媒（すなわち反応混合物の液状媒体）と
しても機能する。工程（ｂ）では、溶媒の機能はグリコ
ール−エーテル（II）によって達成される。
【００３７】工程（ａ）における反応体としては、一般
に、一般式（III）においてＲ1及びＲ2が前記と同意義
であるエポキシドの混合物を使用する。これらの混合物
自体は、たとえば英国特許第2,055,821号及び米国特許
第4,595,671号に開示された方法に従って、直鎖状オレ
フィンの相当する混合物を過酸化水素と反応させること
によって得られる。
に、一般式（III）においてＲ1及びＲ2が前記と同意義
であるエポキシドの混合物を使用する。これらの混合物
自体は、たとえば英国特許第2,055,821号及び米国特許
第4,595,671号に開示された方法に従って、直鎖状オレ
フィンの相当する混合物を過酸化水素と反応させること
によって得られる。
【００３８】グリコシデーション反応（工程（ｂ））で
は還元糖又は上述の等価物：グリコール−エーテル（I
I）のモル比は１：２−１：10、好ましくは１：３−
１：６の範囲内である。
は還元糖又は上述の等価物：グリコール−エーテル（I
I）のモル比は１：２−１：10、好ましくは１：３−
１：６の範囲内である。
【００３９】かかるモル比の値の選択により、一般式
（Ｉ）で表される最終生成物の特性を制御することが可
能となる。高度の重合度（ｎ）を有する生成物が望まれ
る場合には、１：２の如きモル比を使用し、一方、主と
してヒドロキシアルキル−モノグリコシド（ｎ＝１）を
含有する生成物が望まれる場合には、１：６の如きモル
比を使用する。
（Ｉ）で表される最終生成物の特性を制御することが可
能となる。高度の重合度（ｎ）を有する生成物が望まれ
る場合には、１：２の如きモル比を使用し、一方、主と
してヒドロキシアルキル−モノグリコシド（ｎ＝１）を
含有する生成物が望まれる場合には、１：６の如きモル
比を使用する。
【００４０】反応温度は90−130℃であり、好適な範囲
は110−120℃である。
は110−120℃である。
【００４１】工程（ｂ）の縮合の間にＲ3−OH（ここで
Ｒ3は前記と同意義である）が生成するが、これを窒素
の如き不活性なガス流と共に、又は反応が減圧下で行わ
れる場合には蒸留によって除去する。
Ｒ3は前記と同意義である）が生成するが、これを窒素
の如き不活性なガス流と共に、又は反応が減圧下で行わ
れる場合には蒸留によって除去する。
【００４２】多量のヒドロキシアルキル−モノグリコシ
ド（一般式（Ｉ）においてｎ＝１）を得るためには、炭
水化物の変化が完了しないうちに反応を停止させる。
ド（一般式（Ｉ）においてｎ＝１）を得るためには、炭
水化物の変化が完了しないうちに反応を停止させる。
【００４３】この場合、未反応の炭水化物をさらに容易
に回収するためには、反応系を炭水化物が不溶の溶媒
（たとえばヘキサン又はヘプタン）で希釈することが望
ましい。
に回収するためには、反応系を炭水化物が不溶の溶媒
（たとえばヘキサン又はヘプタン）で希釈することが望
ましい。
【００４４】このように希釈することは反応混合物を液
状物とするため、従って濾過により炭水化物を容易に分
離できる点で有利である。
状物とするため、従って濾過により炭水化物を容易に分
離できる点で有利である。
【００４５】上記希釈剤の使用は触媒を部分的に沈殿さ
せることになり、つづいて（部分的に）再循環される。
せることになり、つづいて（部分的に）再循環される。
【００４６】濾液の溶液を、使用した触媒１モル当たり少
なくとも１モルの強塩基と混合する。ここで、「強塩基」
は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物及び
アルカリ金属アルコキシドを意味する。好適な塩基は、
水酸化ナトリウム及びナトリウムメトキシドである。
なくとも１モルの強塩基と混合する。ここで、「強塩基」
は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物及び
アルカリ金属アルコキシドを意味する。好適な塩基は、
水酸化ナトリウム及びナトリウムメトキシドである。
【００４７】得られた混合物から希釈溶媒を減圧（30−
150mmHg）下、回転エバポレーター内において浴温度30
−100℃で回収する。
150mmHg）下、回転エバポレーター内において浴温度30
−100℃で回収する。
【００４８】ついで、一般式（II）の未反応グリコール
−エーテルを減圧（0.1−0.5mmHg）下、浴温度190−200
℃で留去する。
−エーテルを減圧（0.1−0.5mmHg）下、浴温度190−200
℃で留去する。
【００４９】かかる蒸留は一般的な装置又は好ましくは
薄膜エバポレーターを使用して行われる。
薄膜エバポレーターを使用して行われる。
【００５０】上記蒸留からの残渣を水に溶解させ（たと
えば50％（重量／重量）の溶液を得るために残渣と同じ
容量の水を使用する）、上述の如き公知の方法によって
脱色する。
えば50％（重量／重量）の溶液を得るために残渣と同じ
容量の水を使用する）、上述の如き公知の方法によって
脱色する。
【００５１】水溶液中になお存在する新油性成分（蒸留
工程の間に完全に除去されなかった一般式（II）の反応
体及び／又はその減成による生成物でなる）を溶媒抽出
によって除去する。
工程の間に完全に除去されなかった一般式（II）の反応
体及び／又はその減成による生成物でなる）を溶媒抽出
によって除去する。
【００５２】かかる目的に好適な溶媒はエチルエーテル
及び酢酸エチル又は酢酸プロピルである。特に好適な溶
媒は酢酸プロピルである。
及び酢酸エチル又は酢酸プロピルである。特に好適な溶
媒は酢酸プロピルである。
【００５３】以下の実施例は本発明を単に説明するため
に例示するものであって、本発明を限定するものではな
い。
に例示するものであって、本発明を限定するものではな
い。
【００５４】
【実施例１】Ｃ11-12エポキシドのエチレングリコールによる開環
Ｃ11-12エポキシド（エポキシド含量95％）900ｇ及びエ
チレングリコール 3000ｇの混合物を80℃に加熱した。
チレングリコール 3000ｇの混合物を80℃に加熱した。
【００５５】エーテル錯化BF3 1.25ccを添加し、反応混
合物を１時間撹拌し、薄層クロマトグラフィー（溶離
剤：石油エーテル／エチルエーテル＝２／１）によって
エポキシドの消失を確認した。
合物を１時間撹拌し、薄層クロマトグラフィー（溶離
剤：石油エーテル／エチルエーテル＝２／１）によって
エポキシドの消失を確認した。
【００５６】反応混合物を50％水溶液５ｇでアルカリ化
し、減圧下で蒸留した。過剰のエチレングリコールを回
収した後、沸点135−160℃／0.2mmHgを有する無色の生
成物1022ｇを集めた。
し、減圧下で蒸留した。過剰のエチレングリコールを回
収した後、沸点135−160℃／0.2mmHgを有する無色の生
成物1022ｇを集めた。
【００５７】得られた生成物は一般式（IV）で表され
る。 （式中、Ｒ1及びＲ2はいずれも直鎖状アルキル基であっ
て、Ｈではなく、（Ｒ1＋Ｒ2）の炭素数は９−10であ
る。）エポキシドに対する収率は91％である。
る。 （式中、Ｒ1及びＲ2はいずれも直鎖状アルキル基であっ
て、Ｈではなく、（Ｒ1＋Ｒ2）の炭素数は９−10であ
る。）エポキシドに対する収率は91％である。
【００５８】
【実施例２】生成物（IV）とグルコースとの反応
グリコール−エーテル（IV）100ｇ及び無水のグルコー
ス 18ｇを、撹拌機、温度計、蒸留ヘッド及び窒素注入
用の浸漬チューブを具備するフラスコ（250cc）に充填
した。
ス 18ｇを、撹拌機、温度計、蒸留ヘッド及び窒素注入
用の浸漬チューブを具備するフラスコ（250cc）に充填
した。
【００５９】反応混合物を窒素流下119−120℃に加熱
し、ピリジニウムｐ−トルエンスルホン酸（Py・p−TS
A）0.3ｇを添加した。
し、ピリジニウムｐ−トルエンスルホン酸（Py・p−TS
A）0.3ｇを添加した。
【００６０】反応混合物の加熱を窒素流下で６時間続
け、生成と同時に水を連続的に除去した。
け、生成と同時に水を連続的に除去した。
【００６１】反応が完了した後、反応混合物をヘプタン
100ccで希釈し、濾過した。沈殿物は、ヘプタンでの洗
浄及び乾燥後、重量2.75ｇを有し、主としてグルコース
でなるものであった。
100ccで希釈し、濾過した。沈殿物は、ヘプタンでの洗
浄及び乾燥後、重量2.75ｇを有し、主としてグルコース
でなるものであった。
【００６２】一方、濾液（溶液）をCH3ONa 65mgを混合
し、得られた混合物を蒸留した。初めにRotavapor内に
おいて20mmHg、50−100℃でヘプタンを回収し、ついで
0.1mmHg、油浴で190℃に加熱することによってグリコー
ル−エーテル（IV）82.5ｇを回収した。
し、得られた混合物を蒸留した。初めにRotavapor内に
おいて20mmHg、50−100℃でヘプタンを回収し、ついで
0.1mmHg、油浴で190℃に加熱することによってグリコー
ル−エーテル（IV）82.5ｇを回収した。
【００６３】蒸留残渣を水50ccに溶解し、ついでデンプ
ン−ヨード試験紙との反応が陽性となるまで20−30℃に
おいて次亜塩素酸ナトリウム溶液で処理した。
ン−ヨード試験紙との反応が陽性となるまで20−30℃に
おいて次亜塩素酸ナトリウム溶液で処理した。
【００６４】溶液を酢酸エチル 100ccで抽出し、減圧下
での蒸発によって、界面活性剤を含有する水相から、固
状、ガラス状のわずかに黄色に着色した生成物28ｇを得
た。
での蒸発によって、界面活性剤を含有する水相から、固
状、ガラス状のわずかに黄色に着色した生成物28ｇを得
た。
【００６５】別ルートに従い生成物は50−60％に濃縮さ
れる。
れる。
【００６６】50％（ｗ／ｗ）水溶液は470nmにおいて吸
光度0.12（Ｅ470＝0.24）を示す。
光度0.12（Ｅ470＝0.24）を示す。
【００６７】予めシラン化した後、HPLC（高圧液クロマ
トグラフィー）及びGC（ガスクロマトグラフィー）で分
析したところ、該生成物が次の組成を有することが確認
された。
トグラフィー）及びGC（ガスクロマトグラフィー）で分
析したところ、該生成物が次の組成を有することが確認
された。
【００６８】
ヒドロキシアルキル−モノグルコシド 70−72％
ヒドロキシアルキル−ジグルコシド 16−18％
ヒドロキシアルキル−トリグルコシド ４−５％
ヒドロキシアルキル−テトラグルコシド 1.5％
ヒドロキシアルキル−ペンタグルコシド 0.5％
グルコース 0.1％より小
ポリグルコース なし
グリコール−エーテル（IV） １％より小
【実施例３】Ｃ11-12エポキシドのグリセリンによる開環
グリセリン 410ｇとＣ11-12エポキシド（エポキシド 95
％を含有する）105ｇとの混合物を90℃に加熱した。
％を含有する）105ｇとの混合物を90℃に加熱した。
【００６９】エーテル錯化BF3 0.5ccを添加し、ついで
反応混合物を１時間撹拌した。
反応混合物を１時間撹拌した。
【００７０】反応混合物を冷却し、実質的にグリセリン
でなる下層を分離し、上層を石油エーテルで希釈し、初
めに５％NaHCO3溶液で、ついでH2Oで中性となるまで洗
浄した。
でなる下層を分離し、上層を石油エーテルで希釈し、初
めに５％NaHCO3溶液で、ついでH2Oで中性となるまで洗
浄した。
【００７１】溶媒を蒸発させることによって粗生成物
（Ｖ）136.5ｇを濃厚かつほぼ無色の油状物として得
た。該生成物はつづくグルコースとの反応にそのままで
使用される。
（Ｖ）136.5ｇを濃厚かつほぼ無色の油状物として得
た。該生成物はつづくグルコースとの反応にそのままで
使用される。
【００７２】別ルートに従って、減圧（0.1mmHg）下、1
70−190℃での蒸留によって生成物（Ｖ）を精製した。
70−190℃での蒸留によって生成物（Ｖ）を精製した。
【００７３】得られた生成物は一般式（Ｖ）を有する。
（式中、Ｒ1及びＲ2はいずれも直鎖状アルキル基であっ
て、Ｈではなく、（Ｒ1＋Ｒ2）の炭素数は９−10であ
る。）
て、Ｈではなく、（Ｒ1＋Ｒ2）の炭素数は９−10であ
る。）
【実施例４】生成物（Ｖ）とグルコースとの反応
前記実施例３で得られた粗製トリオール（Ｖ）95ｇ及び
無水のグルコース 18ｇを実施例２のものと同一の反応
器に導入した。
無水のグルコース 18ｇを実施例２のものと同一の反応
器に導入した。
【００７４】窒素流下、反応混合物を119−120℃に加熱
し、ついでPy・p−TSA 0.3ｇを添加した。
し、ついでPy・p−TSA 0.3ｇを添加した。
【００７５】Ｎ2流下で反応混合物の加熱を６時間続
け、その間に生成と同時に水を連続的に除去した。
け、その間に生成と同時に水を連続的に除去した。
【００７６】終了後、反応混合物をヘプタン 100ccで希
釈し、濾過した。沈殿物は、ヘプタンでの洗浄及び乾燥
後、重量2.4ｇを有し、主としてグルコースで構成され
ていることが判明した。
釈し、濾過した。沈殿物は、ヘプタンでの洗浄及び乾燥
後、重量2.4ｇを有し、主としてグルコースで構成され
ていることが判明した。
【００７７】一方、濾液をCH3ONa 65mgと混合し、得ら
れた混合物を蒸留した。初めにRotavapor内において20m
mHg、50−100℃でヘプタンが回収され、ついで0.1mmHg
において油浴で210℃に加熱することによりトリオール
（Ｖ）76ｇが回収された。
れた混合物を蒸留した。初めにRotavapor内において20m
mHg、50−100℃でヘプタンが回収され、ついで0.1mmHg
において油浴で210℃に加熱することによりトリオール
（Ｖ）76ｇが回収された。
【００７８】蒸留残渣を水50ccに溶解させ、ついで実施
例２の如く処理したところ、該蒸留残渣から、水溶液の
蒸発後、固状、泡様のわずかに黄色の生成物29ｇを得
た。
例２の如く処理したところ、該蒸留残渣から、水溶液の
蒸発後、固状、泡様のわずかに黄色の生成物29ｇを得
た。
【００７９】50％（ｗ／ｗ）水溶液は470nmにおいて吸
光度0.175（Ｅ470＝0.35）を示した。
光度0.175（Ｅ470＝0.35）を示した。
【００８０】
【実施例５】アセタール交換反応によるブチル−グルコシドからのヒ
ドロキシアルキル−ポリグルコシドの調製 ｎ−ブタノール 100cc、無水のグルコース 18ｇ及びPy
・p−TSA 0.3ｇを実施例２の装置に充填した。
ドロキシアルキル−ポリグルコシドの調製 ｎ−ブタノール 100cc、無水のグルコース 18ｇ及びPy
・p−TSA 0.3ｇを実施例２の装置に充填した。
【００８１】生成と同時に水を除去しながら、反応混合
物をMarcussonによって還流させ、無色透明の溶液を得
た。該溶液は、α−及びβ−ブチル−グルコシドの混合
物のＮ−ブタノール溶液でなる。
物をMarcussonによって還流させ、無色透明の溶液を得
た。該溶液は、α−及びβ−ブチル−グルコシドの混合
物のＮ−ブタノール溶液でなる。
【００８２】グリコール−エーテル（IV）100ｇを添加
し、反応容器の内部温度を115℃に維持しながらブタノ
ールを減圧下で留去した。
し、反応容器の内部温度を115℃に維持しながらブタノ
ールを減圧下で留去した。
【００８３】４時間後、薄層クロマトグラフィー（溶離
剤：クロロホルム／メタノール＝３／１）によってブチ
ル−グルコシドの消失が確認された。
剤：クロロホルム／メタノール＝３／１）によってブチ
ル−グルコシドの消失が確認された。
【００８４】反応混合物をヘプタン 100ccで希釈し、各
種の不溶物を濾去し、得られた溶液をCH3ONa 65mgでア
ルカリ化し、ついで蒸留した。
種の不溶物を濾去し、得られた溶液をCH3ONa 65mgでア
ルカリ化し、ついで蒸留した。
【００８５】実施例２の如く操作することによって、脱
色、抽出及び蒸発の各処理の後、固状、ガラス様のわず
かに黄色に着色した生成物25ｇを得た。
色、抽出及び蒸発の各処理の後、固状、ガラス様のわず
かに黄色に着色した生成物25ｇを得た。
【００８６】50％（ｗ／ｗ）水溶液は470nmにおいて吸
光度0.1（Ｅ470＝0.2）を有する。
光度0.1（Ｅ470＝0.2）を有する。
【００８７】
【実施例６】グリコール−エーテル（IV）500ｇ及び無
水のグルコース 90ｇを、撹拌機、温度計及び蒸留ヘッ
ドを具備するフラスコ（１リットル）に充填した。
水のグルコース 90ｇを、撹拌機、温度計及び蒸留ヘッ
ドを具備するフラスコ（１リットル）に充填した。
【００８８】反応混合物を119−120℃に加熱し、ついで
ピリジンと平均鎖長15炭素原子を有する第２級アルキル
スルホン酸（単に「SASA」と表示する）との塩３ｇを添
加した。
ピリジンと平均鎖長15炭素原子を有する第２級アルキル
スルホン酸（単に「SASA」と表示する）との塩３ｇを添
加した。
【００８９】該触媒の調製は次のとおりである。すなわ
ち、特開平２−275663号に開示の如く操作することによ
って得たSASA（平均分子量（MWave）293を有する第２級
アルキルスルホン酸68％、MWave373の第２級アルキルジ
スルホン酸８％、H2SO4 ８％及び水残余でなる）25ｇを
過剰量のピリジンと反応させる。シロップ様の溶液が得
られ、これをRotavaporにおいて減圧下100℃で完全に脱
水させる。残渣をエチルエーテル 100ccで希釈する。得
られた沈殿物（ピリジニウムスルフェートでなる）を濾
去し、エーテル溶液を再び蒸発乾固させる。わずかに黄
色のペースト 23ｇが得られ、これをグルコシデーショ
ン反応にそのままで使用する。
ち、特開平２−275663号に開示の如く操作することによ
って得たSASA（平均分子量（MWave）293を有する第２級
アルキルスルホン酸68％、MWave373の第２級アルキルジ
スルホン酸８％、H2SO4 ８％及び水残余でなる）25ｇを
過剰量のピリジンと反応させる。シロップ様の溶液が得
られ、これをRotavaporにおいて減圧下100℃で完全に脱
水させる。残渣をエチルエーテル 100ccで希釈する。得
られた沈殿物（ピリジニウムスルフェートでなる）を濾
去し、エーテル溶液を再び蒸発乾固させる。わずかに黄
色のペースト 23ｇが得られ、これをグルコシデーショ
ン反応にそのままで使用する。
【００９０】触媒の添加後直ちに、反応装置を真空ポン
プに接続し、系内の圧力を25mmHgに低下させた。反応中
に生成した水を−80℃に冷却したトラップ内で集めた。
減圧下での加熱を６時間続け、その間に水8.7ｇを集め
た。
プに接続し、系内の圧力を25mmHgに低下させた。反応中
に生成した水を−80℃に冷却したトラップ内で集めた。
減圧下での加熱を６時間続け、その間に水8.7ｇを集め
た。
【００９１】反応混合物を冷却し、冷たいヘキサン 500
ccで希釈し、不溶物を濾去した。
ccで希釈し、不溶物を濾去した。
【００９２】沈殿物を完全にヘキサンで洗浄し、乾燥さ
せたところ、白色の結晶性化合物15.1ｇを得た。HPLC分
析の結果、該化合物は実質的にグルコースでなるもので
あり、従って再利用される。
せたところ、白色の結晶性化合物15.1ｇを得た。HPLC分
析の結果、該化合物は実質的にグルコースでなるもので
あり、従って再利用される。
【００９３】一方、ヘキサン溶液をCH3ONa 0.4ｇと混合
し、初めにRotavapor内において30−40mmHg、50−100℃
で減圧蒸留してヘキサンを回収し、ついで0.1mmHgにお
いて油浴で190℃に加熱することによってグリコール−
エーテル（IV）423ｇ以上を回収した。
し、初めにRotavapor内において30−40mmHg、50−100℃
で減圧蒸留してヘキサンを回収し、ついで0.1mmHgにお
いて油浴で190℃に加熱することによってグリコール−
エーテル（IV）423ｇ以上を回収した。
【００９４】蒸留残渣（143ｇ）をH2O 200ccに溶解さ
せ、10％（ｗ／ｗ）NaOH水溶液を添加することにより溶
液のpH値を８−９に維持しながら、60−70℃においてH2
O2で処理することによって脱色した。
せ、10％（ｗ／ｗ）NaOH水溶液を添加することにより溶
液のpH値を８−９に維持しながら、60−70℃においてH2
O2で処理することによって脱色した。
【００９５】ついで、水溶液を酢酸エチル 300ccずつで
２回抽出し、つづいて濃縮乾固させた。
２回抽出し、つづいて濃縮乾固させた。
【００９６】固状、ガラス様のわずかに黄色に着色した
生成物127ｇを得た。該生成物は実施例２で得られたも
のと同様の組成を示した。
生成物127ｇを得た。該生成物は実施例２で得られたも
のと同様の組成を示した。
【００９７】
【実施例７】実施例６のものと同じ装置に、グリコール
−エーテル（IV）500ｇ及び無水のグルコース 90ｇを充
填した。
−エーテル（IV）500ｇ及び無水のグルコース 90ｇを充
填した。
【００９８】反応混合物を119−120℃に加熱し、Py・p
−TSA 1.5ｇを添加した。
−TSA 1.5ｇを添加した。
【００９９】触媒の添加直後に反応装置を真空ポンプに
接続し、系の内部圧力を25mmHgに低下させた。反応中に
生成する水を−80℃に冷却したトラップ内で集めた。減
圧下での加熱を６時間続け、水9.0ｇを回収した。
接続し、系の内部圧力を25mmHgに低下させた。反応中に
生成する水を−80℃に冷却したトラップ内で集めた。減
圧下での加熱を６時間続け、水9.0ｇを回収した。
【０１００】ついで、実施例６の如くして操作すること
により、ヘキサンでの希釈、濾過の後、グルコース 14.
5ｇを得た。
により、ヘキサンでの希釈、濾過の後、グルコース 14.
5ｇを得た。
【０１０１】一方、ヘキサン相からは、減圧蒸留、水で
の希釈、脱色、抽出及び乾燥の各操作の後、実施例２で
得られた生成物と同一の特性を示す界面活性剤126ｇを
得た。
の希釈、脱色、抽出及び乾燥の各操作の後、実施例２で
得られた生成物と同一の特性を示す界面活性剤126ｇを
得た。
【０１０２】
【実施例８】実施例７と同様にして、ただし触媒として
無水のｐ−トルエンスルホン酸 1.02ｇ（実施例７のPy
・p−TSA 1.5ｇとモル数の上で同一）を使用して操作を
行った。
無水のｐ−トルエンスルホン酸 1.02ｇ（実施例７のPy
・p−TSA 1.5ｇとモル数の上で同一）を使用して操作を
行った。
【０１０３】実施例７のものと同量（9.0ｇ）の水が得
られるまで、反応混合物を圧力25mmHgにおいて119−120
℃で加熱した。加熱時間は２時間45分である。
られるまで、反応混合物を圧力25mmHgにおいて119−120
℃で加熱した。加熱時間は２時間45分である。
【０１０４】加熱終了後、実施例７で観察されたものと
は異なり、反応混合物は、非常に細かく、沈降が困難な
粒状物でなる固相の存在のため濁った外観を示した。
は異なり、反応混合物は、非常に細かく、沈降が困難な
粒状物でなる固相の存在のため濁った外観を示した。
【０１０５】濾過操作（実施例７では、数分間で実施さ
れた）も、フリットフィルターをつまらせる傾向にある
非常に細かく沈殿物の影響により、極めて煩雑であっ
た。
れた）も、フリットフィルターをつまらせる傾向にある
非常に細かく沈殿物の影響により、極めて煩雑であっ
た。
【０１０６】白色の沈殿物は、ヘプタンでの洗浄、乾燥
の後、重量18.2ｇを有しており、実施例７で得られたグ
ルコースとは異なり、フェーリング試薬によって還元さ
れなかった。
の後、重量18.2ｇを有しており、実施例７で得られたグ
ルコースとは異なり、フェーリング試薬によって還元さ
れなかった。
【０１０７】Ｃ18Hypersilカラムを使用し、H2O及びCH3
CNの100％から０％までのグラディエントで溶出するこ
とによって行ったHPLC分析では、保持時間約16分に相当
する弱いピークを示した（同じ条件下においてグルコー
スは保持時間約2.5分を有する）。
CNの100％から０％までのグラディエントで溶出するこ
とによって行ったHPLC分析では、保持時間約16分に相当
する弱いピークを示した（同じ条件下においてグルコー
スは保持時間約2.5分を有する）。
【０１０８】従ってポリグルコシド構造はこの化合物に
起因するものであり、実施例７で回収されたグルコース
の場合とは異なり、再使用及び再循環されない。
起因するものであり、実施例７で回収されたグルコース
の場合とは異なり、再使用及び再循環されない。
【０１０９】
【実施例９】ドデセン−α−エポキシドのエチレングリコールによる
開環 撹拌機、温度計及び窒素注入用の浸漬チューブを具備す
るフラスコ（１リットル）にエチレングリコール 600ｇを充
填した。
開環 撹拌機、温度計及び窒素注入用の浸漬チューブを具備す
るフラスコ（１リットル）にエチレングリコール 600ｇを充
填した。
【０１１０】金属ナトリウム 1.5ｇを少量ずつ添加し、
完全に溶解するまで反応混合物を撹拌した。
完全に溶解するまで反応混合物を撹拌した。
【０１１１】得られた溶液にドデセン−α−エポキシド
（純度92％）200ccを添加し、混合物を110−120℃で１
時間加熱し、その間、エポキシドの消失を薄層クロマト
グラフィー（溶離剤：石油エーテル／エチルエーテル＝
２／１）で監視した。
（純度92％）200ccを添加し、混合物を110−120℃で１
時間加熱し、その間、エポキシドの消失を薄層クロマト
グラフィー（溶離剤：石油エーテル／エチルエーテル＝
２／１）で監視した。
【０１１２】反応生成物を減圧蒸留し、初めに過剰のエ
チレングリコールを回収し、ついで160−165℃／0.2mmH
gで蒸留されるフラクションを回収した。
チレングリコールを回収し、ついで160−165℃／0.2mmH
gで蒸留されるフラクションを回収した。
【０１１３】後者のフラクションは、室温で固化する式
（VI）で表される生成物210ｇで構成されていた。
（VI）で表される生成物210ｇで構成されていた。
【実施例１０】生成物（VI）とグルコースとの反応
前記実施例２のものと同じ反応装置に、生成物（VI）10
0ｇ及びグルコース 18ｇを充填した。
0ｇ及びグルコース 18ｇを充填した。
【０１１４】反応混合物を120℃に加熱し、Py・p−TSA
0.3ｇを添加した。
0.3ｇを添加した。
【０１１５】反応装置を真空ポンプに接続し、内部圧力
を25mmHgに低下させた。
を25mmHgに低下させた。
【０１１６】均一で、透明でかつわずかに黄色に着色し
た溶液が得られるまで（約45分間）同じ温度での加熱を
続けた。
た溶液が得られるまで（約45分間）同じ温度での加熱を
続けた。
【０１１７】反応混合物をCH3ONa 70mgで中和し、減圧
蒸留した。グリコール−エーテル（VI）82.6ｇが回収さ
れた。
蒸留した。グリコール−エーテル（VI）82.6ｇが回収さ
れた。
【０１１８】実施例２の如く水60ccに溶解させ、脱色
し、抽出したところ、残渣から、水溶液の蒸発後、白色
の固状生成物32.1ｇを得た。
し、抽出したところ、残渣から、水溶液の蒸発後、白色
の固状生成物32.1ｇを得た。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(73)特許権者 591004261
エニリチェルケ・ソシエタ・ペル・アチ
オニ
ＥＮＩＲＩＣＥＲＣＨＥ ＳＯＣＩＥＴ
Ａ ＰＥＲ ＡＺＩＯＮＩ
イタリー国ミラノ州サンドナトミラネー
ゼ市ビア・エッフェ・マリターノ26
(72)発明者 ジャンピエートロ・ボルソッチ
イタリー国ノバーラ市ストラーダ・パス
トーレ14
(72)発明者 マッシーモ・チアリ
イタリー国ミラノ市ビア・ドロミーチ１
(72)発明者 ツーリオ・ペルリッゾン
イタリー国パデルノ・ドゥニャーノ市ビ
ア・サン・ミケーレ・デル・カルソ22
(72)発明者 ジョバンニ・アニェース
イタリー国ノバーラ市ビア・ベルトーナ
６
(56)参考文献 特表 平４−500967（ＪＰ，Ａ)
特表 平４−502614（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07H 15/00 - 15/08
C07B 61/00
ＣＡ（ＳＴＮ)
ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (11)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） （式中、Ｒは−CH2−、−CH2−CH2−又は−CH2−CH(OH)
−であり；Ｒ1及びＲ2はそれぞれ炭素数１−１８のアル
キル基であるか、Ｒ1又はＲ2は水素原子であってもよい
が、同時に水素原子であることはなく、（Ｒ1＋Ｒ2）の
炭素原子の合計は常に１８個以下であり；Ｇは、還元糖
からH2O １分子が除去された残基であり、ｎは１−５の
整数である）で表されるヒドロキシアルキルグルコシド
の製法において、該製法は、（ａ）酸性触媒及び塩基性
触媒の中から選ばれる触媒の存在下、一般式（ III ） （式中、Ｒ 1 及びＲ 2 は前記と同意義である）で表わされ
る炭素数８−２０のオレフィンのエポキシド（ III ）を
ジオール又はトリオールと反応させて、一般式（ II ） （式中、Ｒ、Ｒ 1 及びＲ 2 は前記と同意義である）で表わ
されるグリコール−エーテル（II）を生成させる工程；
（ｂ）前記グリコール−エーテル（II）と、還元糖又は
加水分解によって還元糖を提供しうる化合物との、又は
前記還元糖から誘導されるメチル−、エチル−又はブチ
ル−グルコシドとのグリコシデーション反応を行う工程
を包含してなり、前記工程（ｂ）の反応を、ベンゼン−
又はアルキルベンゼンスルホン酸、ナフタレン−又はア
ルキルナフタレンスルホン酸、第１級、第２級又は第３
級アルキルスルホン酸、モノアルキルスルフェート、モ
ノ−及びジアルキルホスフェート、アルキル−、アリー
ル−又はアルキルアリールジスルホン酸（いずれの脂肪
族鎖も炭素原子１−２０個を含有するものであり、スル
ホン基は陽イオン交換樹脂を含有する）の中から選ばれ
る強い有機酸及びピロリジン、ピコリン、ルチジン、コ
リジン、キノリン、イソキノリン、キナルジン、ピラジ
ン、プテリジン、テトラメチル尿素の中から選ばれる弱
い有機塩基でなる二元触媒の存在下で行うことを特徴と
する、ヒドロキシアルキルグルコシドの製法。 - 【請求項２】工程（ｂ）で使用する二元触媒が、ピリジ
ンとアルキルベンゼンスルホン酸又は第２級アルキルス
ルホン酸との塩の中から選ばれるものである、請求項１
記載のヒドロキシアルキルグルコシドの製法。 - 【請求項３】工程（ｂ）で使用する二元触媒が、ピリジ
ンと炭素数１４−１７の第２級アルキルスルホン酸（SA
SA）との塩である、請求項１又は２記載のヒドロキシア
ルキルグルコシドの製法。 - 【請求項４】工程（ｂ）で使用する二元触媒が、強い有
機酸と弱い有機塩基とを等量で混合することによって調
製されたものである、請求項１−３のいずれか１項記載
のヒドロキシアルキルグルコシドの製法。 - 【請求項５】工程（ｂ）に当たり、二元触媒を還元糖又
はその等価物１モル当たり0.001−０.１モルの量で使用
する、請求項１−４のいずれか１項記載のヒドロキシア
ルキルグルコシドの製法。 - 【請求項６】工程（ｂ）に当たり、二元触媒を、還元糖
又はその等価物１モル当たり0.01−0.05モルの量で使用
する、請求項５記載のヒドロキシアルキルグルコシドの
製法。 - 【請求項７】工程（ｂ）に当たり、還元糖又はその等価
物：グリコール−エーテル（II）のモル比が１：２−
１：１０である、請求項１記載のヒドロキシアルキルグ
ルコシドの製法。 - 【請求項８】還元糖又はその等価物：グリコール−エー
テル（II）のモル比が１：３−１：６である、請求項７
記載のヒドロキシアルキルグルコシドの製法。 - 【請求項９】工程（ｂ）で使用する反応溶媒がグリコー
ル−エーテル（II）である、請求項１記載のヒドロキシ
アルキルグルコシドの製法。 - 【請求項１０】工程（ｂ）の反応を温度９０−130℃で
行う、請求項１記載のヒドロキシアルキルグルコシドの
製法。 - 【請求項１１】反応温度が110−120℃である、請求項１
０記載のヒドロキシアルキルグルコシドの製法。
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