JP3538725B2 - 排ガス処理装置 - Google Patents

排ガス処理装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、排ガス中の有害物
質を連続して吸着除去する排ガス処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】排ガス中に含まれる有害物質を無害化処
理する場合、排ガス量が多く有害物質の濃度が低い条件
下では排ガスと有害物質を同一工程で処理するよりも、
排ガスから有害物質を分離、濃縮し少量の高濃度ガスと
して処理する方が処理装置の小型化、運転費、保守費の
低減の点で有利となる。排ガスから有害物質を分離、濃
縮するために回転するロータ型の吸着材を用いたものは
回転ロータ式吸着濃縮装置と呼ばれている。その典型的
な従来の回転ロータ式吸着濃縮装置の構成を次に示す。
【０００３】図５は従来の回転ロータ式吸着濃縮装置の
構成を示す斜視図である。
【０００４】本図に示すように回転ロータ式吸着濃縮装
置はロータ２をタイミングベルト３とモータ４で回転中
心軸５の回りに回転させるロータ駆動装置６、ロータ２
の内部を浄化領域７、再生領域８及び冷却領域９に分け
るガス分配区画１０及びガス分配区画１１、浄化領域７
に有害物質を含む被処理ガス１２を流通させる被処理ガ
ス吸引ファン１３、再生領域８に再生ガス１４を流通さ
せる再生ガス吸引ファン１５、外気を１７５℃まで加熱
し再生ガス１４とするガス加熱装置１６、冷却領域９に
冷却ガス１７を流通させる冷却ガス吸引ファン１８及び
被処理ガス１２から吸着、再生及び濃縮した濃縮ガス３
１中の有害物質を焼却する触媒燃焼装置１９から構成さ
れる。
【０００５】図６は従来の回転ロータ式吸着濃縮装置の
ロータ構成を示す斜視図である。本図に示すようにロー
タ２は金属製円筒２０にハニカム形吸着材１を充填し、
回転中心軸５を貫通するシャフト２１でロータ２を支持
して回転中心軸５の回りに回転可能な構造としている。
【０００６】図７は従来の回転ロータ式吸着濃縮装置の
ガス分配区画の構成を示す斜視図である。
【０００７】本図に示すようにガス分配区画１０はガス
分配区画１１と面対称構造である。ガス分配区画１０は
直方体の中空の箱でロータ２と対向する面はロータ２と
径が同じ円形穴２２が切り抜いてある。ガス分配区画１
０の中に円形穴２２の開口面に対し垂直に仕切板２３、
仕切板２４及び仕切板２５を配置しガス分配区画１０内
を浄化領域７、再生領域８及び冷却領域９の三つの領域
に分割する。仕切板２３、仕切板２４及び仕切板２５が
ロータ２と当接する部分と円形穴２２の周囲にシール材
２６を貼り付け、分割した三つの領域の間、外気とガス
分配区画１０、ロータ２の内部の間の気密を保持する。
円形穴２２がある面と反対側の面には分割した三つの領
域にそれぞれ異なる種類のガスを流通させる接続口２７
が配置されている。
【０００８】図８は従来の回転ロータ式吸着濃縮装置内
のガス流通状態を示す説明図である。 有害物質を含む
常温の被処理ガス１２を回転中心軸５に対し平行に浄化
領域７へ供給すると被処理ガス１２中の有害物質はハニ
カム形吸着材１に吸着されて被処理ガス１２は浄化ガス
３０となる。浄化ガス３０はガス分配区画１１を経て被
処理ガス吸引ファン１３により大気へ放出される。ハニ
カム形吸着材１は浄化領域７内で有害物質を吸着し次第
に吸着能力は低下するが、ロータ２は回転しているので
再生領域８へ移動する。
【０００９】ガス加熱装置１６により１７５℃まで加熱
された再生ガス１４が再生領域８に流れているので再生
領域８に移動したハニカム形吸着材１の温度は上昇し、
有害物質はハニカム形吸着材１から脱離する。脱離した
有害物質は再生ガス１４により搬送され濃縮ガス３１と
なるが、再生ガス１４の流量は被処理ガス１２の流量の
１／１０程度なので濃縮ガス３１中の有害物質の濃度は
被処理ガス１２の１０倍となる。この濃縮ガス３１をガ
ス分配区画１０を経て再生ガス吸引ファン１５により触
媒燃焼装置１９へ供給し有害物質を燃焼させる。再生領
域８で有害物質を脱離したハニカム形吸着材１はロータ
２の回転により冷却領域９へ移動する。冷却領域９の中
は冷却ガス吸引ファン１８により常温の冷却ガス１７が
流れているのでハニカム形吸着材１は冷却ガス１７と接
触して常温に冷却される。冷却されたハニカム形吸着材
１は吸着能力を回復し、吸着に適した温度になっている
のでロータ２の回転により浄化領域７へ移動し吸着に用
いられる。
【００１０】このように回転ロータ式吸着濃縮装置のハ
ニカム形吸着材１は吸着能力を飽和させることなく被処
理ガス１２中の有害物質の吸着を連続して行うことがで
きる。また、濃縮ガス３１中の有害物質の濃度は被処理
ガス１２より高く、流量は少なくなるので有害物質の処
理は直接被処理ガス１２に対して行うより有利となる。
例えば、有害物質が可燃性の場合濃縮ガス３１を再生ガ
ス吸引ファン１５から直接触媒燃焼装置１９へ導き燃焼
させればよく、濃縮ガス３１を燃焼温度まで予熱する熱
量は被処理ガス１２の全量を燃焼温度まで予熱する熱量
に比較すれば遥かに少なく経済的である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】回転ロータ式吸着濃縮
装置の特徴はハニカム形吸着材１を充填したロータ２を
回転させ、回転位置によって被処理ガス１２中の有害物
質の吸着、ハニカム形吸着材１の再生及び冷却という異
なる工程が同時に進行していることにある。従ってロー
タ２の浄化領域７、再生領域８及び冷却領域９の各領域
間の気密は重要であり、例えば再生領域８から浄化領域
７へ濃縮ガス３１が漏洩するとハニカム形吸着材１の吸
着能力が低下する。また、逆に浄化領域７の浄化ガス３
０が再生領域８へ漏洩したり冷却領域９の冷却ガス１７
が再生領域８へ漏洩したりすると濃縮ガス３１の流量が
増加し、触媒燃焼装置１９の負担が増加する。図７に示
した仕切板２３、仕切板２４及び仕切板２５に取り付け
られたシール材２６により各領域間の気密は保持される
が、シール材２６が接触する摺動面はハニカム形吸着材
１で構成され、平面度と強度に限界があるので各領域間
の完全な気密保持は困難である。従って従来の回転ロー
タ式吸着濃縮装置は被処理ガス１２中の有害物質の除去
効率、有害物質の濃縮効率が必ずしも満足できる値では
無い。
【００１２】本発明の目的は、排ガス中の有害物質の除
去効率及び除去された有害物質の濃縮効率を向上させる
ことにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的は、通気性を有
する吸着材を充填した円筒形ロータと、円筒形ロータを
回転させる円筒形ロータ回転手段と、円筒形ロータの軸
方向両端面に摺動自在に配置し円筒形ロータの回転につ
れて吸着材が排ガス中の有害物質を吸着浄化する浄化工
程と吸着した有害物質を高温ガスにより脱離する再生工
程と低温ガスにより吸着温度まで冷却される冷却工程の
各工程となるように設定する工程区画設定手段と、工程
区画設定手段に有害物質を含む排ガスを供給する排ガス
供給手段と、工程区画設定手段に高温ガスを供給する高
温ガス供給手段と、工程区画設定手段に低温ガスを供給
する低温ガス供給手段とを備えた排ガス処理装置におい
て、高温ガス供給手段と低温ガス供給手段のガス供給方
向が排ガス供給手段と同方向となるように配置し、工程
区画設定手段入口における有害物質を含む排ガスと高温
ガスと低温ガスのそれぞれの入口圧力が等しくなるよう
に調整する入口圧力調整手段と、浄化工程、再生工程、
冷却工程における吸着材の開口面積比を調整する開口面
積比調整手段とを設けたことにより達成される。
【００１４】上記構成によれば、各ガス流の流れの方向
を同じにして吸着材入口の各ガス流の静圧分布の方向を
同じとし、各領域のガス入口を圧力調整手段により調整
して吸着材入口の各ガス流の静圧を等しくし、各領域の
開口面積比を調整して温度、体積流量が異なる各ガス流
の線速度が等しくなるようにして各領域を通過するガス
流の圧力損失を等しくし吸着材の各領域間の静圧差を無
くすることにより、領域間のガス漏洩を防止し排ガス中
の有害物質の除去効率及び除去された有害物質の濃縮効
率を向上させることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
より説明する。
【００１６】図１は本発明の実施の形態の全体構成を示
す斜視図である。
【００１７】本実施の形態の回転ロータ式吸着濃縮装置
は図５に示したものと基本的な構成は同じであるが、浄
化領域７、再生領域８及び冷却領域９の各領域間のガス
入口は何れもガス分配区画１０（特許請求の範囲の工程
区画設定手段に該当）側に配置し各領域を通過するガス
流の方向は何れも同じである。ロータ２は図６に示した
ものと基本的な構成は同じで直径が２５０ｍｍ、長さ４
００ｍｍの円筒形であり２００個／６．４５ｃｍ2（１i
nch2）のセルを有するハニカム構造の吸着材１が充填さ
れている。このハニカム形吸着材１に見かけ容積１リッ
トル当り約１００ｇのペンタシル型ゼオライトが担持し
てある。ロータ２の中心にシャフト２１が貫通してお
り、さらにシャフト２１はガス分配区画１０，１１の回
転中心軸５を貫通し両端を軸受２８で支持しロータ駆動
装置６により６ｒ．ｐ．ｈの速度で回転させる。
【００１８】図２は本発明の実施の形態のガス分配区画
の構成を示す斜視図である。
【００１９】ガス分配区画１０は外径が３５０ｍｍ、長
さ２５０ｍｍの中空円筒形でありロータ２と同軸に配置
されている。ロータ２と対向する端面はロータ２と同じ
直径２５０ｍｍの円形穴２２となっている。ガス分配区
画１０の内部に円形穴２２の開口面に対し垂直に仕切板
２３、仕切板２４及び仕切板２５を配置し、ガス分配区
画１０の内部を三つの領域に分割する。仕切板２３、仕
切板２４及び仕切板２５がロータ２と接触する部分と円
形穴２２の周囲にシール材２６を接着し、分割した三つ
の領域間と外気とガス分配区画１０及びロータ２の内部
の間の気密を保持する。使用したシール材２６は幅１５
ｍｍ、厚さ１８ｍｍのシリコンゴムにテフロンシールテ
ープを接着したものである。ガス分配区画１０の円形穴
２２と反対側の端面にはロータ２の分割した三つの領域
にそれぞれに接続口２７が配置され、各領域に異なった
種類のガス流通させることができる。なお、ガス分配区
画１１はガス分配区画１０と面対称の構造である。
【００２０】図３は本発明の実施の形態の仕切板の構成
を示す正面図である。
【００２１】本図は仕切板２３、仕切板２４及び仕切板
２５をロータ２側から見たもので、再生領域８と冷却領
域９の間の仕切板２４はガス分配区画１０の外周壁と中
心部に溶接されている。一方、浄化領域７と再生領域８
の間の仕切板２５（特許請求の範囲の開口面積比調整手
段に該当）及び冷却領域９と浄化領域７の間の仕切板２
３（特許請求の範囲の開口面積比調整手段に該当）は断
面がＩ字形であり、ガス分配区画１０の外周壁と仕切板
２３及び仕切板２５、中心部と仕切板２３及び仕切板２
５間にシリシコンゴムのシール材２９を挿入し半固定の
状態にしてある。このため従来の回転ロータ式吸着濃縮
装置と異なり仕切板２３及び仕切板２５を円周方向に移
動させて浄化領域７、再生領域８及び冷却領域９の開口
面積比を任意の値に調整できる。開口面積比を調整する
のは各領域を通過するガスの線速度を等しくするため
で、ガスの線速度は領域を通過するガスの体積流量を領
域の開口面積で割ったものであるからロータ２の端面を
浄化領域７、再生領域８、冷却領域９に割り振る時にそ
の開口面積比を各領域を通過するガスの体積流量と一致
させればよい。浄化領域７のガス温度は例えば外気温と
同じで領域を通過中に変化しないの対し再生領域８及び
冷却領域９のガス温度はハニカム形吸着材１の再生のた
めに温度が高くなり、ガスの熱膨張で領域入口の体積流
量より領域通過中の体積流量が多い。例えば、流量２０
０Ｎｍ3／ｈの被処理ガス１２を回転ロータ式吸着濃縮
装置で吸着処理し、流量２０Ｎｍ3／ｈの再生ガス１４
を１７５℃で再生を行い、流量２０Ｎｍ3／ｈの冷却ガ
ス１７で冷却を行う場合にロータ２の開口面積比は浄化
領域７、再生領域８及び冷却領域９の順に１０：１：１
では無く１０：１．４：１．２としている。その結果ロ
ータ２の全開口面積の７９．４％を浄化領域７に、１
１．１％を再生領域８に、９．５％を冷却領域９に割り
当てた。再生領域８若しくは冷却領域９を流れるガスの
温度はロータ２の回転速度、ハニカム形吸着材１の熱容
量と熱拡散係数、再生ガス温度、被処理ガス１２の温度
と流量によって変化し、領域通過中にもガス温度は変化
しているので一義的にガスの熱膨張による流量補正を行
うことは困難である。従って図３に示すようにロータ２
を浄化領域７、再生領域８及び冷却領域９に分割する時
に開口面積比を調整可能な構造にして、実際の運転条件
に応じて調整する方が実用的である。 図４は図１に示
した回転ロータ式吸着濃縮装置内のガス流通状態を示す
説明図である。
【００２２】装置の動作は図５に示した従来のものと同
じであるが、ガスは何れもフイルタ３２を通過させダス
ト、異物を除去した後ガス分配区画１０から浄化領域
７、再生領域８及び冷却領域９の各領域に供給され、さ
らにガス分配区画１１へと全て同方向に流れる。再生ガ
ス１４は外気をガス加熱装置１６で１７５℃に昇温した
ものを用い、冷却ガス１７は外気をそのまま用いる。被
処理ガス１２、再生ガス１４及び冷却ガス１７の経路に
はそれぞれフイルタ３２の直後に入口圧調整バルブ３３
（特許請求の範囲の入口圧力調整手段に該当）を配置し
ているので被処理ガス吸引ファン１３、再生ガス吸引フ
ァン１５及び冷却ガス吸引ファン１８と共に調整してガ
ス分配区画１０における各領域のガス入口の静圧を等し
くできる。但し、本発明は実施の形態に記載のロータ２
の寸法、形状、回転方法、回転速度、充填したハニカム
形吸着材１の形状、ハニカム形吸着材１に担持した物質
の種類と量、ハニカムのセル密度、各領域を通過するガ
スの種類と温度に限定されるものでは無い。これらの条
件は装置の使用状態に応じて最適なものを選択すべきも
のである。また、各領域のガス入口の静圧を等しくする
手段は、入口圧力調整バルブ３３の開度調整に限られる
ものでは無く運転時のガス流量が安定しているならばフ
イルタ３２の厚さ、面積、空隙率を適宜選択してしても
良く、被処理ガス１２の一部を再生ガス１４、冷却ガス
１７に流用してガス入口を連結することも可能である。
本実施の形態では再生ガス１４を独立してガス加熱装置
１６で昇温したがそれに限定されるものでは無く触媒燃
焼装置１９の排気から熱交換器により熱を回収して再生
ガス１４の昇温に用いても良く、触媒燃焼装置１９の排
気の一部を再生領域８に循環させても良い。そして、使
用後の冷却ガス１７を再生ガス１４に用いて装置の熱効
率を高めても良い。濃縮ガス３１中の有害物質の処理も
触媒燃焼装置１９に限らず直接燃焼式、畜熱式の燃焼装
置を用いても良く、濃縮ガス３１を有害物質の露点以下
に冷却して液体として回収しても良く、適当な吸着材に
吸着させて廃棄しても良い。何れにしても装置の運転条
件を考慮して最適なものを選択すべきである。
【００２３】次に本実施の形態の装置と従来の装置との
性能比較を行った結果を説明する。従来の装置は比較例
１で表される装置と、比較例２で表される装置とがあり
比較例１は本実施の形態の装置と基本的に同じであるが
図５及び図８に示されるように再生ガス１４の流れる方
向が他のガスと反対方向となっている。また、比較例２
も本実施の形態の装置と基本的に同じであるがガス分配
区画１０とガス分配区画１１だけは図７に示されるもの
を用いた。このためロータ２の全開口面積の７５．０％
を浄化領域７に、１２．５％を再生領域８に、１２．５
％を冷却領域９に割り当てた。比較例２では各領域を流
れるガスの流量比と開口面積比が一致していないので領
域によりガスの圧力損失が異なる。
【００２４】比較試験方法１ 本実施の形態の装置と比較例１で表される装置の両方
を、有害物質としてトルエンを１００ｐｐｍ含む２０℃
の被処理ガス１２を流量２００Ｎｍ3／ｈで浄化領域７
に供給し、２０℃で流量２０Ｎｍ3／ｈの外気をガス加
熱装置１６により１７５℃に昇温して再生領域８に再生
ガス１４として供給し、２０℃で流量２０Ｎｍ3／ｈの
外気をそのまま冷却領域９に冷却ガス１７として供給す
る条件で運転し、定常状態に達した時に両装置の浄化ガ
ス３０、濃縮ガス３１の濃度を測定しガス分配区画１０
及びガス分配区画１１における浄化領域７、再生領域８
及び冷却領域９出入口の静圧を測定した。各ガスの流量
は装置の入口で測定し、浄化領域７における被処理ガス
１２の空間速度（ＳＶ）は１４，０００／ｈであった。
比較試験結果１ 表１に比較試験結果を示す。本実施の形態の浄化ガス３
０中の残留トルエン濃度は約２ｐｐｍであり、被処理ガ
ス１２に対する除去効率は９８％に達する。比較例１の
浄化ガス３０中の残留トルエン濃度は約８ｐｐｍであ
り、本実施の形態の４倍の残留トルエン濃度である。そ
して、本実施の形態の濃縮ガス３１中のトルエン濃度は
９６０ｐｐｍであるが、比較例１の濃縮ガス３１中のト
ルエン濃度は約８２０ｐｐｍである。本実施の形態のガ
ス分配区画１０における浄化領域７、再生領域８及び冷
却領域９の静圧は同じ−１８ｍｍＡｑであり、ガス分配
区画１１における各領域の静圧も同じ−６１ｍｍＡｑで
ある。故にガス分配区画１０及びガス分配区画１１の仕
切板２３におけるガス漏洩は無視できる。比較例１では
浄化ガス３０と冷却ガス１７に対し再生ガス１４は逆行
しているので再生領域８は−６１ｍｍＡｑとなり他の領
域より低くなっている。ガス分配区画１１における浄化
領域７と冷却領域９の静圧は同じ−６１ｍｍＡｑである
が、再生領域８では−１８ｍｍＡｑと他の領域より高く
なっている。従ってガス分配区画１０及びガス分配区画
１１の仕切板２３付近における再生領域８と他の領域間
でガス漏洩が起り、比較例１では本実施の形態より被処
理ガス１２のトルエン除去率も濃縮ガス３１の濃縮性能
も低下する。このように装置内でガスの流れ方向を一致
させると隣接する領域の静圧が等しくなるのでガス漏洩
が解消しトルエン除去率と濃縮性能は向上する。
【００２５】
【表１】
【００２６】比較試験方法２ 本実施の形態の装置と比較例２で表される装置の両方
を、有害物質としてトルエンを１００ｐｐｍ含む２０℃
の被処理ガス１２を流量１９０Ｎｍ3／ｈで浄化領域７
に供給し、２０℃で流量１９Ｎｍ3／ｈの外気をガス加
熱装置１６により１７５℃に昇温して再生領域８に再生
ガス１４として供給し、２０℃で流量１９Ｎｍ3／ｈの
外気をそのまま冷却領域９に冷却ガス１７として供給す
る条件で運転し、定常状態に達した時に両装置の浄化ガ
ス３０、濃縮ガス３１の濃度を測定しガス分配区画１０
及びガス分配区画１１における浄化領域７、再生領域８
及び冷却領域９出入口の静圧を測定した。各ガスの流量
は装置の入口で測定し、浄化領域７における被処理ガス
１２の空間速度は（ＳＶ）は１４，０００／ｈであっ
た。
【００２７】各ガス流量が比較例１より少ないのは比較
例２のロータ２における浄化領域の開口面積比が本実施
の形態より小さいので浄化領域７における被処理ガス１
２の空間速度（ＳＶ）を同じ１４，０００／ｈとするた
めに被処理ガス１２の流量を調整したためである。
【００２８】比較試験結果２ 表２に比較試験結果を示す。本実施の形態の浄化ガス３
０中の残留トルエン濃度は約２ｐｐｍであり、被処理ガ
ス１２に対する除去効率は９８％に達する。比較例１の
浄化ガス３０中の残留トルエン濃度は約１０ｐｐｍであ
り、本実施の形態の５倍の残留トルエン濃度である。そ
して、本実施の形態の濃縮ガス３１中のトルエン濃度は
９６０ｐｐｍであるが、比較例１の濃縮ガス３１中のト
ルエン濃度は約９６５ｐｐｍである。本実施の形態と比
較例２のガス分配区画１０における浄化領域７、再生領
域８及び冷却領域９の静圧は全て同じ−１８ｍｍＡｑで
ある。ガス分配区画１１における各領域の静圧も本実施
の形態では同じ−６１ｍｍＡｑであるが、比較例２では
ロータ２における各領域の開口面積比が流量比と一致し
ていないので各領域の圧力損失も一致せず、浄化領域７
の静圧が再生領域８、冷却領域９の静圧より低くなる。
故にガス分配区画１１中で静圧の高い再生領域８から静
圧の低い浄化領域７へ高濃度のトルエンを含む濃縮ガス
３１が漏洩しトルエン除去率が低下する。このように領
域間のガス漏洩を防止するにはガスの流れ方向のみなら
ず各領域の圧力損失も一致させる必要がある。
【００２９】
【表２】
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、各ガス流の流れの方向
を同じにし、各領域のガス入口に圧力調整手段と各領域
の開口面積比を調整する手段を設けることにより、各領
域のガス入口圧力と各領域を通過するガス流の圧力損失
を等しくして領域間のガス漏洩を防止し、排ガス中の有
害物質の除去効率及び除去された有害物質の濃縮効率を
向上させる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の全体構成を示す斜視図で
ある。
【図２】本発明の実施の形態のガス分配区画の構成を示
す斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態の仕切板の構成を示す正面
図である。
【図４】図１に示した回転ロータ式吸着濃縮装置内のガ
ス流通状態を示す説明図である。
【図５】従来の回転ロータ式吸着濃縮装置の構成を示す
斜視図である。
【図６】従来の回転ロータ式吸着濃縮装置のロータ構成
を示す斜視図である。
【図７】従来の回転ロータ式吸着濃縮装置のガス分配区
画の構成を示す斜視図である。
【図８】従来の回転ロータ式吸着濃縮装置内のガス流通
状態を示す説明図である。
【符号の説明】
１ ハニカム形吸着材 ２ ロータ ３ タイミングベルト ４ モータ ５ 回転中心軸 ６ ロータ駆動装置 ７ 浄化領域 ８ 再生領域 ９ 冷却領域 １０ ガス分配区画 １１ ガス分配区画 １２ 被処理ガス １３ 被処理ガス吸引ファン １４ 再生ガス １５ 再生ガス吸引ファン １６ ガス加熱装置 １７ 冷却ガス １８ 冷却ガス吸引ファン １９ 触媒燃焼装置 ２０ 金属製円筒 ２１ シャフト ２２ 円形穴 ２３ 仕切板 ２４ 仕切板 ２５ 仕切板 ２６ シール材 ２７ 接続口 ２８ 軸受 ２９ シール材 ３０ 浄化ガス ３１ 濃縮ガス ３２ フィルタ ３３ 入口圧調整バルブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01D 53/34 - 53/85 B01D 53/04 - 53/06 B01D 53/26

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 通気性を有する吸着材を充填した円筒形
    ロータと、該円筒形ロータを回転させる円筒形ロータ回
    転手段と、前記円筒形ロータの軸方向両端面に摺動自在
    に配置し前記円筒形ロータの回転につれて前記吸着材が
    排ガス中の有害物質を吸着浄化する浄化工程と吸着した
    有害物質を高温ガスにより脱離する再生工程と低温ガス
    により吸着温度まで冷却される冷却工程の各工程となる
    ように設定する工程区画設定手段と、前記工程区画設定
    手段に前記有害物質を含む排ガスを供給する排ガス供給
    手段と、前記工程区画設定手段に前記高温ガスを供給す
    る高温ガス供給手段と、前記工程区画設定手段に前記低
    温ガスを供給する低温ガス供給手段とを備えた排ガス処
    理装置において、 前記高温ガス供給手段と前記低温ガス供給手段のガス供
    給方向が前記排ガス供給手段と同方向となるように配置
    し、前記工程区画設定手段入口における前記有害物質を
    含む排ガスと前記高温ガスと前記低温ガスのそれぞれの
    入口圧力が等しくなるように調整する入口圧力調整手段
    と、前記浄化工程、前記再生工程、前記冷却工程におけ
    る前記吸着材の開口面積比を調整する開口面積比調整手
    段とを設けたことを特徴とする排ガス処理装置。
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