JP6463071B2 - 気体制御装置及び気体制御装置におけるリークの低減方法 - Google Patents

Description

本発明は、気体処理装置及びリークの低減方法に関する。

ハニカム型の揮発性有機化合物（ＶＯＣ：Volatile Organic Compounds）濃縮ロータや除湿ロータを用いた吸着装置がある。特許文献１には、安全のため、窒素等の不活性ガスを用いてロータの再生を行う有機溶剤回収システムが提案されている。また、特許文献２及び特許文献３には、ロータの周囲であってケーシング又はハウジング内部の空間に加圧した気体を導入することにより、ロータ内からロータ外への気体のリーク量を低減する技術が提案されている。

特開２０１１−３１１５９号公報 特開昭５３−２５９５８号公報 特開平１１−１８３０７１号公報

ハニカム型のＶＯＣ濃縮ロータや除湿ロータを用いた吸着装置がある。このような吸着装置のロータは、例えば、ＶＯＣの吸着や除湿など、所定の処理を行う処理ゾーン、処理ゾーンの機能を再生させる再生ゾーン、といったように機能の異なるゾーンが複数設けられている。また、例えば再生ゾーンを通過する生産コストの高い気体（例えば、不活性ガス）が外部へ漏れることにより、コストが増大してしまう。一方、従来提案されていたロータの外部空間に加圧した気体を導入する手法では、逆に高圧側の外部空間から低圧側のロータ内部へ気体が流入してしまう。特に、加圧した気体として空気を用いる場合、再生ゾーンの酸素濃度が高くなると、ＶＯＣが燃焼爆発を起こす危険性が高まることが懸念される。また、加圧した気体として生産コストの高い気体を用いる場合、再生ゾーンだけでなく処理ゾーンにも当該気体が流入することになり、コストが増大するという問題がある。

図１は、従来技術に係る吸着装置における、気体の漏れを説明するための断面図の一例である。なお、ここでいう断面図とは、吸着装置が備えるロータを、気体が流れる方向に沿って再生ゾーン及び処理ゾーンがそれぞれ分割されるように切断した縦断面であるものとする。図２は、図１に示した吸着装置のロータの正面図である。なお、ここでいう正面図とは、ロータを、奥行き方向に気体が流れる方向から見たときの図面であるものとする。図１に示した従来の吸着装置１Ｘは、再生ゾーン２１Ｘ及び処理ゾーン２２Ｘを有するロータ２Ｘを備える。また、吸着装置１Ｘでは、ロータ２Ｘの外部からの気体の漏れ（外周リーク）を抑制する外周シール部材３Ｘが、ロータ２Ｘの外周に沿って設けられ、再生ゾーン２１Ｘと処理ゾーン２２Ｘとの間での気体の混合を抑制するゾーン間シール材４Ｘが、ロータ２Ｘの表面に設けられている。なお、図の「−」記号は、外気を基準とした相対的な圧力の大きさを示す。ただし、大小関係を模式的に示すものであって、符号の数の比が圧力の比を表すわけではない。例えば、再生ゾーン２１Ｘの入口側の圧力は「−−」であり、再生ゾーン２１Ｘの出口側の圧力は「−−−」であり、再生ゾーン２１Ｘの入口側の圧力の方が再生ゾーン２１Ｘの出口側の圧力よりも高いことを示す。また、ロータ２Ｘの通過前よりも通過後の方が圧力は下がる。

図１及び２に示すように、再生ゾーン２１Ｘ及び処理ゾーン２２Ｘをそれぞれ負圧（−）とすることで外部へのリークを抑制できるが、逆に外部から再生ゾーン２１Ｘ及び処理ゾーン２２Ｘへ気体の流入が生じる。特に、酸素を含む空気が外部から再生ゾーン２１Ｘに流入すると、ＶＯＣが燃焼爆発を起こす危険性が高まることが懸念される。また、除湿ロータの場合も、生産コストの高い除湿空気の系外への漏出や、系内への湿り空気の流入といった問題がある。

また、図３は、再生ゾーン２１Ｘ内を正圧（＋）にしたロータ２Ｘを備える吸着装置１Ｘの一例を示す図である。再生ゾーン２１Ｘ内を正圧にすると、外部から再生ゾーン２１Ｘへの酸素の流入が抑制できるが、再生ゾーン２１Ｘから外部への気体のリーク（外周リーク）が発生する。特に、再生ゾーン２１Ｘに生産コストの高い不活性ガスを用いる場合、リークした分の不活性ガスを補う必要が生じ、ランニングコストが上昇する。また、不活性ガスはＶＯＣを含むため、環境への影響という観点からも外周リークの発生は好ましくない。

また、図４は、従来技術に係る吸着装置について、外周部のシール材の幅を従来よりも大きくした断面図の一例を示す。図４に示す吸着装置１Ｘでは、ロータ２Ｘの表面に設けられた外周シール部材３Ｘのシール幅が図１に示す吸着装置１Ｘよりも大きく設計されている。図１や図４に示す吸着装置１Ｘの外周シール部材３Ｘは、例えばフッ素ゴムで構成することができる。図１に示す従来の吸着装置１Ｘは、例えば外周シール部材３Ｘの幅を５ｍｍとすることができる。これに対し、図４に示す吸着装置１Ｘは、例えば外周シール部材３Ｘの幅を５０ｍｍとすることができる。また、ロータ２Ｘの気体が通過する方向の両端には外周に沿ってフランジ状の部分（フランジ部）２３Ｘが設けられ、幅の大きな外周シール部材３Ｘとフランジ部２３Ｘとが対向している。フランジ部２３Ｘの幅は、外周シール部材３Ｘの幅とほぼ同じである。このように、外周シール部材３Ｘの幅を大きくすることで、リーク量を減少させることができる。しかしながら、図４に示す吸着装置１Ｘでも間隙から差圧に応じて気体の移動が発生する。また、図４に示す吸着装置１Ｘでは、径の大きいロータ２Ｘ（例えば、直径２〜３ｍ）の場合、外周シール部材３Ｘを設ける面積も大きくなるため、外周シール部材３Ｘをフランジ部２３Ｘの表面にできる限り隙間なく対向させるためには極めて高精度な加工や調整が必要となる。このような高精度な加工や調整は、製造時だけでなく、メンテナンスの際にも必要とされる。加工や調整に不備があり外周シール部材３Ｘとフランジ部２３Ｘとの摩擦力が増加すれば、動作に必要な駆動力が増大し、駆動モータや回転ベルトに損傷等の不具合が生じるおそれがある。

また、図５は、吸着装置１Ｘの内部であってロータ２Ｘの外周部の空間１１Ｘに、加圧した気体を導入し、再生ゾーン２１Ｘ及び処理ゾーン２２Ｘから外部への外部リークを低減する吸着装置の一例を示す断面図である。図５の例では、外周部の空間１１Ｘの方が再生通気路５１Ｘよりも内部の圧力が高くなっているため、加圧した気体が外周部からロータ２Ｘに流入することになる。一般的に、再生ゾーン２１Ｘの入口付近の圧力よりも、出口付近の圧力の方が低くなるところ、仮に外周部の空間１１Ｘの圧力を再生ゾーン２１Ｘの入口側の圧力と均衡させたとしても、再生ゾーン２１の出口側では外周部の空間１１Ｘから再生通気路５１Ｘへの流入が発生する。したがって、加圧した気体に空気を用いる場合、再生ゾーン２１Ｘの酸素濃度が上昇し、ＶＯＣが燃焼爆発を起こす危険性が高まることが懸念される。一方、加圧した気体に生産コストの大きい不活性ガスを用いる場合、処理ゾーン２２Ｘに不活性ガスが流出してしまうため、コストが上昇するおそれがある。また、仮に外周部の空間１１Ｘの圧力を再生ゾーン２１Ｘの出口側の圧力と均衡させたとしても、再生ゾーン２１の入口側では再生通気路５１Ｘから外周部の空間１１Ｘへの流出が発生する。したがって、再生ゾーン２１Ｘに生産コストの大きい不活性ガスを流す場合、外周部の空間１１Ｘや処理ゾーン２２Ｘに不活性ガスが流出してしまうため、コストが上昇するおそれがある。

本発明は、上記の問題に鑑み、シール材の高精度な加工や調整を行うことなく、ロータ内外における気体の混合を抑制できる技術を提供することを課題とする。

本発明に係る気体処理装置は、第１の気体が所定の方向に流れる第１通気路と、第１の気体とは異なる第２の気体が流れる第２通気路と、第１通気路の一部を構成する第１通気ゾーンと、第２通気路の一部を構成する第２通気ゾーンとを有し、第１通気路及び第２通気路に跨って配置される回転自在なロータと、第１通気ゾーンの上流端と外気との間に設けられる第１圧力制御ゾーンと、第１通気ゾーンの下流端と外気との間に設けられる第２圧力制御ゾーンとを備える。また、第１圧力制御ゾーンの圧力及び第２圧力制御ゾーンの圧力は、それぞれ第１の気体と外気との混合を抑制するように制御される。

このようにすれば、第１圧力制御ゾーンと第２圧力制御ゾーンとで個別に圧力を制御することができる。したがって、第１通気ゾーンの上流端（入口付近）と下流端（出口付近）とで、それぞれ効果的に外周リークを低減させることができる。また、このような構成によれば、ロータの表面にロータの表面からの気体の漏れを抑制するシール材を設けた場合でも、このシール材の幅は、従来通りとすることができる。したがって、気体の漏れの抑制効果を高めるためにシール材の幅を従来よりも大きくした場合に懸念される、極めて高精度な加工や調整も不要となる。また、メンテナンスの際に極めて高精度な加工や調整を行う必要がないので、メンテナンスも容易となる。すなわち、シール材の高精度な加工や調整が不要で、処理風量や再生風量を可変制御した場合でも、ロータ内外における気体の混合を抑制できるようになる。このような第１圧力制御ゾーン及び第２圧力制御ゾーンは、ＶＯＣ濃縮ロータのほか除湿ロータにも適用でき、生産コストの高い除湿空気の系外への漏出や、系内への湿り空気の流入を抑制できる。

また、本発明に係る気体処理装置は、第１通気ゾーンの入口付近と第１圧力制御ゾーンとの差圧が小さくなるように制御されると共に、第１通気ゾーンの出口付近と第２圧力制御ゾーンとの差圧が小さくなるように制御されるようにしてもよい。具体的には、このように圧力を制御することにより、第１の気体と外気との混合を抑制することができるようになる。

また、第１圧力制御ゾーンと第２圧力制御ゾーンとは、通気量を調整する流量調整部を介して連結されるようにしてもよい。なお、流量調整部は、第１圧力制御ゾーンと第２圧力制御ゾーンとを連結する流路の中間に設けられるようにしてもよい。

また、第１圧力制御ゾーンと第２圧力制御ゾーンとは、ロータ内の第３通気ゾーンを介して連結されるようにしてもよい。このようにすれば、第１圧力制御ゾーンと第２圧力制御ゾーンとの間にバイパスダクト及び流量調整部を設ける必要がなくなる。

第２通気路を通過した第２の気体の一部が、第１圧力制御ゾーン及び第２圧力制御ゾーンに供給されるようにしてもよい。このようにすれば、通気路の一部を共通化し、また給気源設備を有効に利用できる。

また、第２通気ゾーンは、第２通気路を流れる気体に対して所定の処理を行う処理ゾーンであり、第１通気ゾーンは、処理ゾーンとしての第２通気ゾーンの機能を再生させる再生ゾーンであってもよい。本発明は、例えば、このような気体処理装置に適用することができる。

また、前記流量調整部は、第２圧力制御ゾーンの通気量を調整する第２流量調整部であ
り、第１圧力制御ゾーンの通気量を調整する第１流量調整部と、第１圧力制御ゾーンと、第１通気ゾーンの入口付近との差圧を検知する第１圧力検知部と、第２圧力制御ゾーンと、第１通気ゾーンの出口付近との差圧を検知する第２圧力検知部と、第１圧力検知部の検知結果に基づいて、第１圧力制御ゾーンと、第１通気ゾーンの入口付近との差圧が小さくなるように第１流量調整部を制御する第１制御部と、第２圧力検知部の検知結果に基づいて、第２圧力制御ゾーンと、第１通気ゾーンの出口付近との差圧が小さくなるように第２流量調整部を制御する第２制御部とをさらに備えるようにしてもよい。具体的には、このような構成によって、第１の気体と外気との混合を抑制することができるようになる。

なお、上記課題を解決するための手段の内容は、本発明の課題や技術的思想を逸脱しない範囲で可能な限り組み合わせることができる。また、課題を解決するための手段の内容は、気体処理装置におけるリークの低減方法として提供するようにしてもよい。

本発明によれば、シール材の高精度な加工や調整が不要であって、処理風量や再生風量を可変制御した場合でも、ロータ内外における気体の混合を抑制できる技術を提供することができる。

図１は、従来技術に係る吸着装置において、気体の漏れを説明する断面図の一例を示す。 図２は、従来技術に係る吸着装置において、気体の漏れを説明する正面図の一例を示す。 図３は、再生ゾーン内を正圧にしたロータを備える吸着装置の一例を示す図である。 図４は、従来技術に係る吸着装置について、外周部のシール材の幅を従来よりも大きくした断面図の一例を示す。 図５は、吸着装置の内部であってロータの外周部の空間に、加圧した気体を導入し、再生ゾーン及び処理ゾーンから外部への外部リークを低減する吸着装置の一例を示す断面図である。 図６は、第１実施形態に係る吸着装置の概要を示す斜視図である。 図７は、第１実施形態に係る吸着装置の概要を示す正面図である。 図８は、第１実施形態に係る吸着装置の概要を示すシステム構成図である。 図９は、吸着装置が実行する処理の一例を示す処理フロー図である。 図１０は、圧力制御ゾーンの入口側におけるＩＮＶ出力／ＭＤ開度と差圧との関係を示すグラフである。 図１１は、圧力制御ゾーンの出口側におけるＭＤ開度と差圧との関係を示すグラフである。 図１２は、第２実施形態に係る吸着装置の概要を示すシステム構成図である。 図１３は、第３実施形態に係る吸着装置の概要を示すシステム構成図である。 図１４は、第４実施形態に係る吸着装置の概要を示すシステム構成図である。 図１５は、第５実施形態に係る吸着装置の概要を示すシステム構成図である。 図１６は、第５実施形態に係る吸着装置の概要を示す正面図である。 図１７は、ロータの変形例を説明するためのシステム構成図である。

次に、本発明の実施形態について、図面に基づいて説明する。以下に説明する実施形態は例示にすぎず、本発明は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。

＜吸着装置の構成＞
図６は、第１実施形態に係る吸着装置（「気体処理装置」とも呼ぶ）の概要を示す斜視図である。図７は、第１実施形態に係る吸着装置の正面図を示す。図８は、第１実施形態に係る吸着装置のシステム構成図を示す。第１実施形態に係る吸着装置（ロータカセット）１は、圧力制御ゾーン（ＰＣＺ：Pressure Control Zone）１１、ロータ２、再生通気
路５１（図８では５１ａ及び５１ｂ）、処理通気路５２（図８では５２ａ及び５２ｂ）、ファン６、入口側ダンパ７１、出口側ダンパ（バイパスダンパ）７２、入口側差圧計８１、出口側差圧計８２、入口側コントローラ９１、出口側コントローラ９２、駆動源１０１を備える。

ロータ２は、例えばハニカム型のＶＯＣ濃縮ロータ、除湿ロータ等であり、再生通気路５１及び処理通気路５２に跨って配置されている。なお、図８等の図面における「＋」及び「−」は、大気圧を基準（±０）とした相対的な圧力の大きさを示す。ただし、大小関係を模式的に示すものであって、符号の数の比が圧力の比を表すわけではない。例えば、再生ゾーン２１の入口側の圧力は「＋＋＋」であり、再生ゾーン２１の出口側の圧力は「＋＋」である。これは、再生ゾーン２１の入口側の圧力の方が、再生ゾーン２１の出口側の圧力よりも高いことを示している。

再生通気路５１は、本発明の第１通気路の一例であり、ロータ２の吸着材の吸着性能を再生するための気体が流れる通気路である。再生通気路５１を流れる気体には、空気、不活性ガス（Ｎ_２）、高温で送られるガス、負圧にすることで吸着材から有害成分を脱着するための吸引ガスが例示される。図８では、気体が流れる方向に基づいて、再生通気路５１のうちロータ２への入口側を再生通気路５１ａ、ロータ２からの出口側を再生通気路５１ｂとしている。図示は省略するが、再生通気路５１には、再生通気路用ファン、再生ヒータ等を設置することができる。

処理通気路５２は、本発明の第２通気路の一例であり、ロータ２で処理される気体が流れる通気路である。ロータ２で処理される気体が流れる方向は、ロータ２を再生するための気体が流れる方向と逆向きになるよう設計されている。処理通気路５２を流れる気体には、揮発性有機化合物（ＶＯＣ：Volatile Organic Compounds）を含む空気、調湿対象となる空気、例えば半導体などの先端製造プロセスで、製造の阻害要因となる空気中の水分や分子状汚染物質から製品を守るといった、浄化に供される空気が例示される。図８では、気体が流れる方向に基づいて、処理通気路５２のうちロータ２への入口側を処理通気路５２ａ、ロータ２からの出口側を処理通気路５２ｂとしている。図示は省略するが、処理通気路５２には、処理通気路用ファン等を設置することができる。

図６〜図８の例では、再生通気路５１及び処理通気路５２の断面形状はそれぞれほぼ半円となっているが、このような例には限定されない。例えば、再生通気路５１及び処理通気路５２の断面形状は互いに面積の異なる扇形としてもよい。同様に、再生ゾーン２１及び処理ゾーン２２の断面形状が互いに面積の異なる扇形であってもよく、さらにロータ２は機能の異なる第３のゾーンを有していてもよい。

気体処理装置としての吸着装置１は、ロータ２の周囲にチャンバを備える。チャンバは、ロータ２の再生ゾーン２１又は処理ゾーン２２の通気面に対向する一方の開口と、例えばダクト等に接続される他方の開口とを備える。そして、チャンバは、例えば仕切り板によって、再生通気路５１、処理通気路５２、圧力制御用通気路５３の夫々に相当する室に仕切られている。このようにロータ２の入口側及び出口側に再生通気路５１又は処理通気
路５２を構成する室が設けられ、各室はロータ２内の再生ゾーン又は処理ゾーンと連通する。再生通気路５１、処理通気路５２の夫々は、吸着装置１の入口側と出口側の夫々に、ダクトなどを通じてさらに延びる。チャンバとロータ２との境界、換言するとロータ２の入口側、出口側夫々の外周には、通気路から外部への気体の漏れを抑制するパッキン等の外周シール材３がチャンバの仕切り板の端部に設けられている。また、ロータ２の表面に近接するチャンバの仕切り板の端部には、各ゾーン間の気体の混合を抑制するゾーン間シール材４が設けられている。なお、上述したダクト等から吸着装置１のチャンバへは流路の断面積が拡大しており、同様に吸着装置１のチャンバから上述したダクトへは流路の断面積が縮小している。また、本実施形態では、ロータ２の再生ゾーン２１と連通する室の外周であって、ロータ２の通気面とは接しない位置に、圧力制御ゾーン１１が設けられる。また、断面視において、圧力制御ゾーン１１の内周は、再生ゾーン２１の外周に沿っている。

ロータ２は、処理通気路５２を流れる気体に含まれるＶＯＣを吸着する機能や、湿分を吸着し、処理通気路５２を流れる気体を調湿する機能、ガスなどの気体中からアンモニア等の化学物質やオゾン等の有害物質除去する機能を有する。ロータ２は、例えばシリカゲルを添着したロータ、ゼオライトを添着したロータ、高分子収着剤を添着したロータ、塩化リチウム等の吸湿剤等を含浸させたロータによって構成することができる。また、ロータ２は、ベルトやチェーン等の動力伝達機構で接続されたギアモータ等の駆動源１０１によって回転自在になっている。

また、再生通気路５１のうち特にロータ２内を通過する部分を、再生ゾーン２１と呼ぶ。同様に、処理通気路５２のうち特にロータ２内を通過する部分を、処理ゾーン２２と呼ぶ。再生ゾーン２１は、本発明の第１ゾーンの一例であり、ロータ２の吸着剤を再生し、又は吸着された湿気等の物質を脱離するための気体が通過することで再生される。処理ゾーン２２は、本発明の第２ゾーンの一例であり、処理通気路５２を流れる気体に含まれるＶＯＣの吸着や、処理通気路５２を流れる気体を調湿する。

圧力制御ゾーン１１は、再生通気路５１及び処理通気路５２から独立した通気路である。圧力制御ゾーン１１は２つの室に区画されており、再生ゾーン２１の入口側（上流側）に、ロータ２の外周に沿って設けられた圧力制御ゾーン１１ａと、再生ゾーン２１の出口側（下流側）に、ロータ２の外周に沿って設けられた圧力制御ゾーン１１ｂとを含む。圧力制御ゾーン１１ａと圧力制御ゾーン１１ｂとは、バイパスダクト１２で接続されており、圧力制御ゾーン１１ａから圧力制御ゾーン１１ｂへ気体が流れる。圧力制御ゾーン１１を流れる気体は、例えば空気である。

また、圧力制御ゾーン１１ａ、圧力制御ゾーン１１ｂは、それぞれの上流に入口側ダンパ７１、出口側ダンパ７２が接続されており、これらの開度を制御することにより内部の圧力が制御される。入口側ダンパ７１、出口側ダンパ７２は、本発明の第１流量調整部、第２流量調整部の一例であり、例えばモータを駆動させることで開度を変更できるモータダンパである。なお、図８の例では、出口側ダンパ７２は、バイパスダクト１２の途中に設けられている。そして、出口側ダンパ７２は、入口側ダンパ７１及び圧力制御ゾーン１１ａを経た気体を圧力制御ゾーン１１ｂへ供給する。

図８に示すように、入口側ダンパ７１、出口側ダンパ７２は、それぞれ入口側コントローラ９１、出口側コントローラ９２と電気的に接続されており、これらによって制御される。また、入口側コントローラ９１、出口側コントローラ９２は、それぞれ入口側差圧計８１、出口側差圧計８２と接続されている。入口側差圧計８１、出口側差圧計８２は、本発明の第１圧力検知部、第２圧力検知部の一例である。入口側差圧計８１は、再生ゾーン２１の入口側（すなわち、再生通気路５１ａ内）の圧力と圧力制御ゾーン１１ａ内の圧力
との差分を測定し、入口側コントローラ９１に出力する。出口側差圧計８２は、再生ゾーン２１の出口側（すなわち、再生通気路５１ｂ内）の圧力と圧力制御ゾーン１１ｂ内の圧力との差分を測定し、出口側コントローラ９２に出力する。入口側差圧計８１及び出口側差圧計８２は、例えば一般的なデジタル微差圧計である。

入口側コントローラ９１は、本発明の第１制御部の一例であり、入力された差圧に基づいてファン６や入口側ダンパ７１の開度を変更し、再生ゾーン２１の入口側と圧力制御ゾーン１１ａとの差圧が小さくなるように制御する。具体的には、入口側コントローラ９１は、中央処理演算装置（ＣＰＵ：Central Processing Unit）、メモリ、操作部、表示部
等を備えるＣＰＵユニットに装備させることができる。例えば、ＰＩＤ制御コントローラ（Proportional-Integral-Derivative Controller）を用いることができる。ＣＰＵがメ
モリに格納された制御プログラムを実行することで、ファン６、入口側ダンパ７１等が制御される。出口側コントローラ９２は、本発明の第２制御部の一例であり、入力された差圧に基づいて出口側ダンパ７２の開度を変更し、再生ゾーン２１の出口側と圧力制御ゾーン１１ｂとの差圧が小さくなるように制御する。出口側コントローラ９２も、ＣＰＵ、メモリ、操作部、表示部等を備えるＣＰＵユニットに装備させることができ、例えばＰＩＤ制御コントローラを用いるようにしてもよい。ＣＰＵがメモリに格納された制御プログラムを実行することで、出口側ダンパ７２等が制御される。入口側コントローラ９１及び出口側コントローラ９２の制御プログラムの実行例は、図９を参照して後述する。

上述した制御によれば、再生ゾーン２１の出入口付近と圧力制御ゾーン１１内とが同程度の圧力となるため、再生通気路５１から外部への気体の流出も外部から再生通気路５１への外気の流入も抑制される。特に、再生ゾーン２１の入口側と出口側とでは再生通気路５１内の圧力に差が生じるところ、本実施形態では再生ゾーン２１の入口側と出口側とにそれぞれ対応する圧力制御ゾーン１１ａと圧力制御ゾーン１１ｂとを設け、入口付近と出口付近とで個別に圧力を制御するため、効果的に外周リークを低減させることができるようになっている。なお、圧力制御ゾーン１１に例えば空気を流す場合、圧力制御ゾーン１１から外部（吸着装置１内）へのリークは許容される。すなわち、空気の漏出は不活性ガスの場合と比較してコストの問題が小さく、空気が外部の大気中へ漏出してもＶＯＣと混合する場合と異なり安全上の問題も生じない。また、再生ゾーン２１側から処理ゾーン２２側へのリークについては図示を省略するが、別途リーク防止手段を設けてもよい。

ファン６は、本発明の第１流量調整部又は第２流量調整部の一例であり、圧力制御ゾーン１１ａの上流に設けられ、圧力制御ゾーン１１ａ及び圧力制御ゾーン１１ｂに気体を送る。ファン６は、入口側コントローラ９１と電気的に接続され、ＯＮ、ＯＦＦの制御だけでなく出力状態がインバータ制御可能となっている。

＜吸着装置の動作＞
次に、第１実施形態に係る吸着装置１の動作例について説明する。図９は、吸着装置の処理フローを示す。以下の処理は、入口側コントローラ９１及び出口側コントローラ９２が実行する。ステップＳ０１では、差圧及び設定値が取得される。具体的には、入口側の差圧（ＰＶ）、及び入口側の設定値（ＳＶ＝±０）が取得され、出口側の差圧（ＰＶ）、及び出口側の設定値（ＳＶ＝±０）が取得される。入口側の差圧は、入口側差圧計８１によって計測された計測値であり、出口側の差圧は、出口側差圧計８２によって計測された計測値である。入口側の設定値、及び出口側の設定値は、既定値であり、予め入口側コントローラ９１及び出口側コントローラ９２に記憶されている。差圧、及び設定値が取得されると、ステップＳ０２へ進む。

ステップＳ０２では、差圧の判定が行われる。具体的には、入口側の差圧と入口側の設定値が対比され、出口側の差圧と出口側の設定値が対比される。差圧の大小関係が判定さ
れると、ステップＳ０３へ進む。

ステップＳ０３では、差圧の判定結果に基づいて、ファン及びダンパが制御される。ここで、図１０に、圧力制御ゾーンの入口側におけるＩＮＶ出力／ＭＤ開度と差圧との関係を示す。図１０の縦軸はＩＮＶ出力／ＭＤ開度を示し、横軸は差圧を示す。具体的には、入口側の差圧（ＰＶ）が入口側の設定値（ＳＶ＝±０）よりも小さい（すなわち、圧力制御ゾーン１１ａの圧力＜再生ゾーン２１の入口側の圧力）場合、入口側ダンパ７１の開度が大きくなるように制御される。その結果、入口側の差圧（ＰＶ）が入口側の設定値（ＳＶ＝±０）に近づいてゆく。入口側ダンパ７１が全開になっても、なお入口側の差圧（ＰＶ）が入口側の設定値（ＳＶ＝±０）を下回っている場合、ファン６のインバータ出力周波数が上がるように制御される。その結果、入口側の差圧（ＰＶ）が入口側の設定値（ＳＶ＝±０）に更に近づいてゆく。

また、入口側の差圧（ＰＶ）が入口側の設定値（ＳＶ＝±０）よりも大きい（すなわち、圧力制御ゾーン１１ａの圧力＞再生ゾーン２１の入口側の圧力）場合、ファン６のインバータ出力周波数が下がるように制御される。その結果、入口側の差圧（ＰＶ）が入口側の設定値（ＳＶ＝±０）に近づいてゆく。ファン６のインバータ出力周波数が下限値（例えば、２０Ｈｚ）になっても、なお入口側の差圧（ＰＶ）が入口側の設定値（ＳＶ＝±０）を上回っている場合、入口側ダンパ７１の開度が閉じるように制御される。その結果、入口側の差圧（ＰＶ）が入口側の設定値（ＳＶ＝±０）に近づいてゆく。

また、図１１に、圧力制御ゾーンの出口側におけるＭＤ開度と差圧との関係を示す。図１１の縦軸はＭＤ開度を示し、横軸は差圧を示す。出口側の差圧（ＰＶ）が出口側の設定値（ＳＶ＝±０）よりも小さい（すなわち、圧力制御ゾーン１１ｂの圧力＜再生ゾーン２１の出口側の圧力）場合、出口側ダンパ７２の開度が大きくなるように制御される。その結果、出口側の差圧（ＰＶ）が出口側の設定値（ＳＶ＝±０）に近づいてゆく。

また、出口側の差圧（ＰＶ）が出口側の設定値（ＳＶ＝±０）よりも大きい（すなわち、圧力制御ゾーン１１ｂの圧力＞再生ゾーン２１の出口側の圧力）場合、出口側ダンパ７２の開度が小さくなるように制御される。その結果、出口側の差圧（ＰＶ）が出口側の設定値（ＳＶ＝±０）に近づいてゆく。以上により、吸着装置の処理が完了する。

＜効果＞
以上説明した第１実施形態に係る吸着装置１によれば、ロータ２の処理ゾーン２２により、処理通気路５２を流れる気体に含まれるＶＯＣの吸着や、処理通気路５２を流れる気体の調湿が可能となる。また、ロータ２の再生ゾーン２１により、ロータ２の再生が可能となる。特に、ロータ２の入口付近に設けられた圧力制御ゾーン１１の圧力と再生ゾーン２１の入口側の圧力が同じになるように制御され、ロータ２の出口側に設けられた圧力制御ゾーン１１の圧力と再生ゾーン２１の出口側の圧力が同じになるように制御される。このように、本実施形態ではロータ２の入口付近と出口付近とで個別に圧力を制御するため、効果的に外周リークを低減させることができる。

また、圧力制御ゾーン１１に例えば空気を流す場合、圧力制御ゾーン１１から外部（大気中）へのリークは許容される。すなわち、空気の漏出は不活性ガスの場合と比較してコストの問題が小さく、空気が外部の大気中へ漏出してもＶＯＣと混合する場合と異なり安全上の問題もない。

第１実施形態に係る吸着装置１では、外周シール材３の幅を従来通り（例えば、５ｍｍ）とすることができる。したがって、外周シール材３の幅を従来よりも大きくした場合に懸念される、極めて高精度な加工や調整も不要である。また、メンテナンスの際に極めて
高精度な加工や調整を行う必要がないので、メンテナンスも容易となる。

＜第２実施形態＞
図１２は、第２実施形態に係る吸着装置の構成例を示す。なお、第１実施形態と共通する構成要素については対応する符号を付し、以下では差異を中心に説明する。

第２実施形態に係る吸着装置１は、ロータ２が第１実施形態と同じく、再生ゾーン２１及び処理ゾーン２２を含む。また、ロータ２の外周に沿って、再生ゾーン２１の通気方向両端部の外周には圧力制御ゾーン１１（１１ａ及び１１ｂ）が設けられている。但し、第２実施形態に係る再生ゾーン２１は、大気よりも圧力の低い「負圧」になっている。これに伴い、本実施形態に係るファン６は圧力制御ゾーン１１の下流側に設けられている。また、入口側ダンパ７１は、再生ゾーン２１の入口側（上流側）に存在する圧力制御ゾーン１１ａと、再生ゾーン２１の出口側（下流側）に存在する圧力制御ゾーン１１ｂとの間（例えばバイパスダクト１２の中間）に設けられている。また、出口側ダンパ７２は、圧力制御ゾーン１１ｂとファン６との間に設けられている。そして、再生ゾーン２１の入口付近（再生通気路５１ａ）と圧力制御ゾーン１１ａとの差圧が小さくなるように制御され、再生ゾーン２１の出口付近（再生通気路５１ｂ）と圧力制御ゾーン１１ｂとの差圧が小さくなるように制御される。

具体的には、図１２では図示を省略したコントローラが制御を行う。コントローラは、入口側と出口側とにそれぞれ設けるようにしてもよい。例えば、コントローラは、まず、入口側、出口側の差圧及びそれぞれの設定値を取得する。その後、コントローラは、差圧と設定値との大小関係を判定する。そして、再生ゾーン２１の入口付近（再生通気路５１ａ）よりも圧力制御ゾーン１１ａの方が内部の圧力が低い場合、コントローラは入口側ダンパ７１の開度が小さくなるように制御する。一方、再生ゾーン２１の入口付近よりも圧力制御ゾーン１１ａの方が内部の圧力が高い場合、コントローラは入口側ダンパ７１の開度が大きくなるように制御する。また、再生ゾーン２１の出口付近（再生通気路５１ｂ）よりも圧力制御ゾーン１１ｂの方が内部の圧力が低い場合、コントローラは出口側ダンパ７２の開度が小さくなるように制御する。なお、出口側ダンパ７２の開度を全開にしても、再生ゾーン２１の出口付近よりも圧力制御ゾーン１１ｂの方が内部の圧力が低いときは、ファン６のインバータ出力周波数を上げる。一方、再生ゾーン２１の出口付近よりも圧力制御ゾーン１１ｂの方が内部の圧力が高い場合、コントローラは出口側ダンパ７２の開度が大きくなるように制御する。なお、このときファン６のインバータ出力周波数を適宜下げるようにしてもよい。

第２実施形態に係る構成も、再生ゾーン２１の入口付近に設けられた圧力制御ゾーン１１ａの圧力と再生ゾーン２１の入口側の圧力が同じになるように制御され、再生ゾーン２１の出口側に設けられた圧力制御ゾーン１１ｂの圧力と再生ゾーン２１の出口側の圧力が同じになるように制御される。但し、第２実施形態では再生ゾーン２１内が負圧になっているため、上述の構成により再生ゾーン２１への外気の流入を低減させることができるようになる。第１実施形態及び第２実施形態を総括すると、再生ゾーン２１の入口付近及び出口付近についてそれぞれ圧力制御ゾーンとの差圧が小さくなるようにすることで、再生ゾーン２１の上流端又は下流端と外気との間での気体（再生通気路５１内の気体又は外気）の移動を抑制することができるようになるといえる。

＜第３実施形態＞
図１３は、第３実施形態に係る吸着装置の構成例を示す。なお、第１実施形態と共通する構成要素については対応する符号を付し、以下では差異を中心に説明する。

第３実施形態は、圧力制御ゾーン１１が独立した系統でなく、処理通気路５２から処理
済みの気体（例えば、処理済みの空気）を圧力制御ゾーン１１に供給する。すなわち、処理通気路５２（例えば処理ゾーン２２の出口側）を分岐させ、ロータ２で処理される気体の一部を圧力制御ゾーン１１に供給すると共に、圧力制御ゾーン１１を通過した気体を処理通気路５２（例えば処理ゾーン２２の入口側）に環流させる。なお、圧力制御ゾーン１１の構成や流量の制御については、第１実施形態と同様である。

第３実施形態のような構成であっても、第１実施形態と同様の作用及び効果が得られる。

＜第４実施形態＞
図１４は、第４実施形態に係る吸着装置の構成例を示す。なお、第１実施形態と共通する構成要素については対応する符号を付し、以下では差異を中心に説明する。

第４実施形態に係る吸着装置１は、バイパスダクト１２を有していない。また、再生ゾーン２１の入口側に設けられる圧力制御ゾーン１１ａと、再生ゾーン２１の出口側に設けられる圧力制御ゾーン１１ｂとが独立して制御される。すなわち、第４実施形態に係る吸着装置１は、入口側ファン６１と、入口側ダンパ７１と、圧力制御ゾーン１１ａとを含む系統と、出口側ファン６２と、出口側ダンパ７２と、圧力制御ゾーン１１ｂとを含む系統とを有している。第４実施形態でも、再生ゾーン２１の入口付近（再生通気路５１ａ）と圧力制御ゾーン１１ａとの差圧が小さくなるように制御され、再生ゾーン２１の出口付近（再生通気路５１ｂ）と圧力制御ゾーン１１ｂとの差圧が小さくなるように制御される。

具体的には、図１４では図示を省略したコントローラが制御を行う。コントローラは、入口側と出口側とにそれぞれ設けるようにしてもよい。例えば、コントローラは、まず、入口側、出口側の差圧及びそれぞれの設定値を取得する。その後、コントローラは、差圧と設定値との大小関係を判定する。そして、再生ゾーン２１の入口付近（再生通気路５１ａ）よりも圧力制御ゾーン１１ａの方が内部の圧力が低い場合、コントローラは入口側ダンパ７１の開度が大きくなるように制御する。なお、入口側ダンパ７１の開度を全開にしても、再生ゾーン２１の入口付近よりも圧力制御ゾーン１１ａの方が内部の圧力が低いときは、入口側ファン６１のインバータ出力周波数を上げる。一方、再生ゾーン２１の入口付近よりも圧力制御ゾーン１１ａの方が内部の圧力が高い場合、コントローラは入口側ダンパ７１の開度が小さくなるように制御する。なお、このとき入口側ファン６１のインバータ出力周波数を適宜下げるようにしてもよい。また、再生ゾーン２１の出口付近（再生通気路５１ｂ）よりも圧力制御ゾーン１１ｂの方が内部の圧力が低い場合、コントローラは出口側ダンパ７２の開度が大きくなるように制御する。なお、出口側ダンパ７２の開度を全開にしても、再生ゾーン２１の出口付近よりも圧力制御ゾーン１１ｂの方が内部の圧力が低いときは、出口側ファン６２のインバータ出力周波数を上げる。一方、再生ゾーン２１の出口付近よりも圧力制御ゾーン１１ｂの方が内部の圧力が高い場合、コントローラは出口側ダンパ７２の開度が小さくなるように制御する。なお、このとき出口側ファン６２のインバータ出力周波数を適宜下げるようにしてもよい。

第４実施形態のような構成であっても、第１実施形態と同様の作用及び効果が得られる。

＜第５実施形態＞
図１５は、第５実施形態に係る吸着装置の構成例を示す断面図である。また、図１６は、第５実施形態に係る吸着装置の構成例を示す正面図である。なお、第１実施形態と共通する構成要素については対応する符号を付し、以下では差異を中心に説明する。

第５実施形態では、ロータ内の外周部分に圧力制御ゾーンを設ける。すなわち、圧力制
御ゾーン１１がロータ２（特に再生ゾーン２１）内の外周縁に沿った区域（図１５の１１）と、当該区域に連通するチャンバ内の室（図１５の１１ａ及び１１ｂ）とを通過するようになっている。なお、図１５では、圧力制御ゾーン１１のうちロータ２の入口側（上流側）周辺を特に圧力制御ゾーン１１ａと呼び、圧力制御ゾーン１１のうちロータ２の出口側（下流側）周辺を特に圧力制御ゾーン１１ｂと呼ぶ。また、圧力制御ゾーン１１の上流にはファン６を有し、圧力制御ゾーン１１の下流側にはダンパ７を有する。また、図１５に太い矢印で示す各通気路は、チャンバと接続されたダクトによって形成される。図１５では図示を省略しているが、圧力制御ゾーン１１と再生通気路５１とを仕切る仕切り板のロータ２の表面に近接する端部には、各ゾーン間の気体の混合を抑制するゾーン間シール材を有する。また、図１５に示すように処理通気路５２の外周に圧力制御ゾーンを設けてもよいし、再生通気路５１の外周のみに圧力制御ゾーン１１を設け、処理通気路５２の外周には圧力制御ゾーンを設けないようにしてもよい。また、ロータ２はフランジ部を有していなくてもよい。

第５実施形態の構成では、ロータ２の入口側と出口側とでは、圧力制御ゾーン１１内の圧力も低下する。したがって、入口側と出口側との間にダンパを設けなくても、圧力制御ゾーン１１の入口側と再生ゾーン２１の入口側との差圧、及び圧力制御ゾーン１１の出口側と再生ゾーン２１の出口側との差圧を、それぞれ均衡させることができる。

具体的には、図１５及び図１６では図示を省略したコントローラが制御を行う。コントローラは、入口側と出口側とにそれぞれ設けるようにしてもよい。例えば、コントローラは、まず、入口側、出口側の差圧及びそれぞれの設定値を取得する。その後、コントローラは、差圧と設定値との大小関係を判定する。そして、再生ゾーン２１の入口付近（再生通気路５１ａ）よりも圧力制御ゾーン１１ａの方が内部の圧力が低い場合、コントローラはファン６のインバータ出力周波数を上げるように制御する。このとき、ダンパ７の開度が小さくなるように制御してもよいし、これらの制御を任意のバランスで交互に行ってもよい。一方、再生ゾーン２１の入口付近よりも圧力制御ゾーン１１ａの方が内部の圧力が高い場合、コントローラはファン６のインバータ出力周波数を下げるように制御する。このとき、ダンパ７の開度が大きくなるように制御してもよいし、これらの制御を任意のバランスで交互に行ってもよい。また、再生ゾーン２１の出口付近（再生通気路５１ｂ）よりも圧力制御ゾーン１１ｂの方が内部の圧力が低い場合、コントローラはダンパ７の開度が小さくなるように制御する。このとき、ファン６のインバータ出力周波数を上げるように制御してもよいし、これらの制御を任意のバランスで交互に行ってもよい。一方、再生ゾーン２１の入口付近よりも圧力制御ゾーン１１ａの方が内部の圧力が高い場合、コントローラはダンパ７の開度が大きくなるように制御する。このとき、ファン６のインバータ出力周波数を下げるように制御してもよいし、これらの制御を任意のバランスで交互に行ってもよい。

第５実施形態のような構成であっても、第１実施形態と同様の作用及び効果が得られる。

なお、上記した種々の内容は、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲に於いて可能な限り組合せることができる。

例えば、第２実施形態に示した再生ゾーン及び圧力制御ゾーンを負圧とする態様は、第３実施形態、第４実施形態又は第５実施形態に適用するようにしてもよい。また、第３実施形態に示した処理対象の気体の一部を圧力制御ゾーンに供給する態様は、第２実施形態、第４実施形態又は第５実施形態に適用するようにしてもよい。

また、上述した実施形態ではロータの通気方向両端にフランジ部を設ける例を示したが
、このような構成には限定されない。図１７は、ロータの通気方向の中間部分に、ロータの外周に沿って仕切り部材を設け、ロータの外側に室を形成した例である。この例では、ロータの非通気面である側壁面を壁面の一部として共有する室（圧力制御ゾーン）１１ａ及び１１ｂが形成されている。このような圧力制御ゾーン１１ａ及び１１ｂ、並びにロータ２の通気面と連通する室（図１７の再生通気路５１ａ及び５１ｂや、処理通気路５２ａ及び５２ｂ）は、１つのロータカセット内のチャンバを仕切ることによって形成してもよい。本発明においては、再生ゾーンの上流端と外気との間及び再生ゾーンの下流端と外気との間のそれぞれに圧力制御ゾーンを設けることができる様々な構成を採用し得る。

また、上述した実施例では、図１５及び図１６を除き再生通気路の周囲に圧力制御ゾーンを設けた。しかし、処理通気路と外気との混合を防ぐ場合は、処理通気路の周囲に圧力制御ゾーンを設けるようにしてもよい。

また、ロータ２は、触媒機能を有するものでもよい。例えば、ロータ２に、電荷移動型高性能触媒（ＣＴ触媒）を添加するようにしてもよい。これにより、触媒作用により、ロータ２に付着した悪臭成分や汚れ成分を分解し消臭することができる。

１・・・吸着装置
１１（１１ａ，１１ｂ）・・・制御ゾーン
２・・・ロータ
２１・・・再生ゾーン
２２・・・処理ゾーン
５１・・・再生通気路
５２・・・処理通気路
６・・・ファン
６１・・・入口側ファン
６２・・・出口側ファン
７１・・・入口側ダンパ
７２・・・出口側ダンパ
８１・・・入口側差圧計
８２・・・出口側差圧計
９１・・・入口側コントローラ
９２・・・出口側コントローラ

Claims (8)

1. 第１の気体が所定の方向に流れる第１通気路と、
   前記第１通気路を流れる気体とは異なる第２の気体が流れる第２通気路と、
   吸着材を有し、前記第１通気路及び前記第２通気路に跨って配置される回転自在なロータと、
   前記ロータより上流側の前記第１通気路と、系外と、を仕切り、第１圧力制御ゾーンを形成する第１の仕切板と、
   前記ロータより下流側の前記第１通気路と、系外と、を仕切り、第２圧力制御ゾーンを形成する第２の仕切板と、
   前記第１圧力制御ゾーンよりも上流に設けられ、前記第１圧力制御ゾーンに流入する気体が通過する部分に設けられる第１のダンパと、
   前記第２圧力制御ゾーンよりも上流に設けられ、前記第２圧力制御ゾーンに流入する気体が通過する部分に設けられる第２のダンパと、
   前記第１のダンパの開度を制御して前記第１圧力制御ゾーンに流入する気体の流入量を調整することにより、前記第１圧力制御ゾーンの圧力を制御し、前記第２のダンパの開度を制御して前記第２圧力制御ゾーンに流入する気体の流入量を調整することにより、前記第２圧力制御ゾーンの圧力を制御する制御部と、を備え、
   前記第１通気路を流れる第１の気体が通過する第１通気ゾーンが形成され、
   前記第２通気路を流れる第２の気体が通過する第２通気ゾーンが形成され、
   前記制御部は、前記第１通気ゾーンの入口付近と前記第１圧力制御ゾーンとの差圧が小さくなるように前記第１のダンパの開度を調整すると共に、前記第１通気ゾーンの出口付近と前記第２圧力制御ゾーンとの差圧が小さくなるように前記第２のダンパの開度を調整する、
   気体制御装置。
2. 前記第１圧力制御ゾーンと前記第２圧力制御ゾーンとは、連結され、
   前記第２のダンパは、前記第１圧力制御ゾーンと前記第２圧力制御ゾーンとの間に設けられる、
   請求項１に記載の気体制御装置。
3. 前記第１圧力制御ゾーンから流出した気体が前記ロータへ流入する第３通気ゾーンが形
   成され、
   前記第３通気ゾーンから流出した気体は前記第２圧力制御ゾーンへ流入する、
   請求項１に記載の気体制御装置。
4. 前記第２通気路から分岐し、前記第１圧力制御ゾーン及び前記第２圧力制御ゾーンと連通する分岐管をさらに備える、
   請求項１から３のいずれか一項に記載の気体制御装置。
5. 第２の気体は、吸着対象物質を含み、
   前記第２通気ゾーンは、前記第２通気路を流れる第２の気体が、前記ロータに流入することにより、第２の気体に含まれる吸着対象物質が前記吸着材によって吸着されるゾーンであり、
   前記第１通気ゾーンは、前記第１通気路を流れる第１の気体が、前記ロータに流入することにより、前記吸着材の機能が再生されるゾーンである、
   請求項１から４の何れか１項に記載の気体制御装置。
6. 前記制御部は、
   前記第１圧力制御ゾーンと、前記第１通気ゾーンの入口付近との差圧を検知する第１圧力検知部と、
   前記第２圧力制御ゾーンと、前記第１通気ゾーンの出口付近との差圧を検知する第２圧力検知部と、をさらに備え、
   前記制御部は、前記第１圧力検知部の検知結果に基づいて、前記第１のダンパの開度を制御し、
   前記制御部は、前記第２圧力検知部の検知結果に基づいて、前記第２のダンパの開度を制御する、
   請求項２に記載の気体制御装置。
7. 前記制御部は、前記第１のダンパの開度、及び前記第２のダンパの開度を調整することにより、前記第１通気路を流れる気体が前記第１圧力制御ゾーンあるいは前記第２圧力制御ゾーンを介して系外へ流出すること、及び系外から前記第１圧力制御ゾーンあるいは前記第２圧力制御ゾーンを介して前記第１通気路へ気体が流入することを制御する、
   請求項１から６のうち何れか１項に記載の気体制御装置。
8. 第１の気体が所定の方向に流れる第１通気路と、
   前記第１通気路を流れる気体とは異なる第２の気体が流れる第２通気路と、
   吸着材を有し、前記第１通気路及び前記第２通気路に跨って配置される回転自在なロータと、
   前記ロータより上流側の前記第１通気路と、系外と、を仕切り、第１圧力制御ゾーンを形成する第１の仕切板と、
   前記ロータより下流側の前記第１通気路と、系外と、を仕切り、第２圧力制御ゾーンを形成する第２の仕切板と、
   前記第１圧力制御ゾーンよりも上流に設けられ、前記第１圧力制御ゾーンに流入する気体が通過する部分に設けられる第１のダンパと、
   前記第２圧力制御ゾーンよりも上流に設けられ、前記第２圧力制御ゾーンに流入する気体が通過する部分に設けられる第２のダンパと、
   前記第１のダンパの開度を制御して前記第１圧力制御ゾーンに流入する気体の流入量を調整することにより、前記第１圧力制御ゾーンの圧力を制御し、前記第２のダンパの開度を制御して前記第２圧力制御ゾーンに流入する気体の流入量を調整することにより、前記第２圧力制御ゾーンの圧力を制御する制御部と、を備える気体制御装置におけるリークの低減方法であって、
   前記第１通気路を流れる第１の気体が通過する第１通気ゾーンが形成され、
   前記第２通気路を流れる第２の気体が通過する第２通気ゾーンが形成され、
   前記制御部は、前記第１通気ゾーンの入口付近と前記第１圧力制御ゾーンとの差圧が小さくなるように前記第１のダンパの開度を調整すると共に、前記第１通気ゾーンの出口付近と前記第２圧力制御ゾーンとの差圧が小さくなるように前記第２のダンパの開度を調整する、
   気体制御装置におけるリークの低減方法。

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