JP3535766B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

Info

Publication number
JP3535766B2
JP3535766B2 JP10595399A JP10595399A JP3535766B2 JP 3535766 B2 JP3535766 B2 JP 3535766B2 JP 10595399 A JP10595399 A JP 10595399A JP 10595399 A JP10595399 A JP 10595399A JP 3535766 B2 JP3535766 B2 JP 3535766B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data input
output line
pull
line pair
amplifier circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP10595399A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000298994A (ja
Inventor
真盛 藤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Electronics Corp
Original Assignee
NEC Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Electronics Corp filed Critical NEC Electronics Corp
Priority to JP10595399A priority Critical patent/JP3535766B2/ja
Priority to US09/547,934 priority patent/US6219269B1/en
Priority to KR10-2000-0019278A priority patent/KR100385595B1/ko
Publication of JP2000298994A publication Critical patent/JP2000298994A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3535766B2 publication Critical patent/JP3535766B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4096Input/output [I/O] data management or control circuits, e.g. reading or writing circuits, I/O drivers or bit-line switches 
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/02Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
    • G11C5/025Geometric lay-out considerations of storage- and peripheral-blocks in a semiconductor storage device
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1048Data bus control circuits, e.g. precharging, presetting, equalising

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Databases & Information Systems (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はランダムアクセスメ
モリ等の半導体記憶装置に関し、特に、データ読み出し
速度の向上を図った半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体記憶装置には、複数個のメ
モリセルが格子状に配列して設けられている。図6は従
来の半導体記憶装置の構成を示す回路配置図、図7は図
6中の領域Bの構成を示す回路図、図8は従来のセンス
アンプを示す回路図である。
【0003】従来の半導体記憶装置には、センスアンプ
領域SA及び駆動回路領域SWDが格子状に配列して設
けられている。また、センスアンプ領域SAの1列毎に
列選択回路YDEC、プルアップトランジスタ領域PI
O及び差動増幅回路DAが設けられている。更に、駆動
回路領域SWDの1行毎に行選択回路XDECが設けら
れている。
【0004】図7に示すように、第(n+1)行目のセ
ンスアンプ領域SAには、(m+1)個のセンスアンプ
SA0n乃至SAmnが設けられている。なお、図7で
は、サブワード駆動回路SWDは一部の領域のみを図示
してある。各センスアンプには、相補ビット線対が接続
されている。例えばセンスアンプSAmnには、相補ビ
ット線対BLTmn及びBLNmnが接続されている。
また、各駆動回路領域SWDには、(i+1)個のサブ
ワード駆動回路SWD0乃至SWDiが設けられてい
る。サブワード駆動回路SWD0乃至SWDiには、夫
々サブワード線SWL0乃至SWLiが接続されてい
る。そして、1組のセンスアンプ領域SA及び駆動回路
領域SWDにおいて、各相補ビット線対と各サブワード
線との交点にメモリセルが配置されている。例えば、サ
ブワード線SWDiとビット線BLTmnとの交点に
は、メモリセルMmiが配置されている。
【0005】センスアンプは、図8に示すように、4個
のMOSトランジスタFFPT、FFPN、FFNT及
びFFNNを有するCMOSのフリップフロップ回路に
よって構成されている。非活性状態においては、相補ビ
ット線対BLN及びBLT並びに信号線SAP及びSA
Nは、全て電源電位と接地電位との中間の同一電位に保
持される。
【0006】また、第(n+1)行目のセンスアンプS
A0n乃至SAmnに接続されたビット線BLT0n乃
至BLTmnには、電界効果トランジスタからなるスイ
ッチを介して局所データ入出力線LIOTnが接続さ
れ、ビット線BLN0n乃至BLNmnには、電界効果
トランジスタからなるスイッチを介して局所データ入出
力線LIONnが接続されている。列選択回路YDEC
には、(m+1)個のYデコーダYDEC0乃至YDE
Cmが設けられており、各Yデコーダに夫々列選択線Y
SW0乃至YSWmが接続されている。各列選択線YS
W0乃至YSWmは各列を構成する(n+1)個のセン
スアンプにおける前記電界効果トランジスタのゲートに
接続されており、YデコーダYDEC0乃至YDECm
により、スイッチのオン/オフが切替えられる。
【0007】第(n+1)行目の局所データ入出力線L
IOTn及びLIONnには、IO接続信号SWIOn
によりオン/オフが切替えられる電界効果トランジスタ
からなるスイッチが接続されている。そして、このスイ
ッチを介して各局所データ入出力線LIOT0乃至LI
OTn及びLION0乃至LIONnに夫々広域データ
入出力線GIOT及びGIONが接続されている。広域
データ入出力線GIOT及びGIONは、プルアップト
ランジスタ領域PIOを介して差動増幅回路DAに接続
されている。プルアップトランジスタ領域PIOには、
プルアップ信号SWPIOによりオン/オフが切替えら
れるプルアップトランジスタPUT及びPUNが設けら
れている。
【0008】このように、センスアンプ領域SAと駆動
回路領域SWDとを格子状に配置しているのは、各セン
スアンプ及びサブワード駆動回路の駆動能力に制限があ
り、これらの1個に接続されるメモリセルの個数に限界
があるからである。従って、大容量のメモリセルアレイ
を実現するためには、図6のように格子状の配置とする
ことが必須とされている。
【0009】次に、このように構成された従来の半導体
記憶装置における動作について説明する。ここでは、便
宜上、初期状態でビット線BLTmnに接続されたメモ
リセルにハイ電位が蓄積されており、このデータを読み
出す工程を説明するが、他のビット線に接続されている
メモリセルにハイ又はロウ電位が蓄積され、これを読み
出す場合でも、動作に本質的な相違はない。図9(a)
乃至(c)は従来の半導体記憶装置の動作を示す動作波
形図である。
【0010】非活性状態においては、前述のように、相
補ビット線対並びにセンスアンプの信号線SAP及びS
ANは、全て電源電位と接地電位との中間の同一電位に
保持されている。
【0011】メモリセルMm0に蓄積されたデータを読
み出す際には、行選択回路XDECに外部から入力され
た行アドレス信号によって選択されたサブワード駆動回
路SWD0に接続されたサブワード線SWL0が活性化
され、メモリセルMm0がビット線BLTmnに接続さ
れる。この結果、メモリセルMm0に蓄えられていたハ
イ電荷がビット線BLTmnに分配され、ビット線BL
Tmnの電位がビット線BLNmnの電位よりわずかに
高くなる。
【0012】その後、センスアンプSAmnの信号線S
AP及びSANは夫々電源電位、接地電位に駆動され
る。この結果、ビット線BLNmnは接地電位に、ビッ
ト線BLTmnは電源電位に駆動される。
【0013】次いで、列選択回路YDECに外部から入
力された列アドレス信号によって選択された列選択線Y
SWmがハイレベルとなる。この結果、ビット線BLN
mn及びBLTmnは夫々局所データ入出力線LION
n、LIOTnに接続される。これにより、局所データ
入出力線LIONnは接地電位に、局所データ入出力線
LIOTnは電源電位に駆動される。列選択線YSWm
がハイレベルとなることにより、列選択線YSWmに接
続されている他のセンスアンプSAm0乃至SAm(n
−1)も、夫々局所データ入出力線LION0乃至LI
ON(n−1)及びLIOT0乃至LION(n−1)
に接続されるが、これらの局所データ入出力線は、全て
電源電位と接地電位との中間の同一電位に保持されたま
まなので、動作には影響を与えない。
【0014】また、列選択線YSWmがハイレベルとな
るのと実質的に同時に、IO線接続信号SWIOnがハ
イになり、局所データ入出力線LIONn及びLIOT
nが夫々広域データ入出力線GION、GIOTに接続
される。この時、IO線接続信号SWIO0乃至SWI
O(n−1)はロウ電位のままであり、他の局所データ
入出力線LION0乃至LION(n−1)及びLIO
T0乃至LION(n−1)は広域データ入出力線GI
ON及びGIOTに接続されていない状態のままであ
る。更に、プルアップ信号SWPIOがオンし、広域デ
ータ入出力線GION及びGIOTの双方の電位が夫々
プルアップトランジスタPUN及びPUTによってプル
アップされる。
【0015】この結果、局所データ入出力線LIOTn
及び広域データ入出力線GIOTは、センスアンプSA
mn及びプルアップトランジスタPUTによってプルア
ップされ、プルダウンする経路が存在しないことから、
これらの信号線には電源電位が保持される。一方、局所
データ入出力線LIONn及び広域データ入出力線GI
ONは、センスアンプSAmnによってプルダウンされ
ながら、プルアップトランジスタPUNによってプルア
ップされる。このため、局所データ入出力線LION及
び広域データ入出力線GIONは、電源電位と接地電位
との中間の電位を示す。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、差動増
幅回路DAに入力される信号量は、差動増幅回路DAが
プルアップトランジスタ領域PIOの近傍に配置されて
いることから、センスアンプSAmnのNチャネルトラ
ンジスタから差動増幅回路DAまでの信号経路の抵抗と
プルアップトランジスタPUT又はPUNのオン抵抗と
の比によって定まる。前者は、センスアンプSAmnの
Nチャネルトランジスタのオン抵抗、列選択線YSWm
を伝達する信号がゲートに入力されるトランジスタのオ
ン抵抗、局所データ入出力線LION又はLIOTの配
線抵抗、各局所データ入出力線LION及びLIOTと
各広域データ入出力線GION及びGIOT間のトラン
ジスタのオン抵抗及び各広域データ入出力線GION及
びGIOTの配線抵抗を足し合わせたものである。従っ
て、センスアンプSAから差動増幅回路DAまでの電流
経路を構成する要素のうち、いずれかが大きな抵抗を有
していれば、他の要素の抵抗をいくら下げても電流経路
全体の抵抗値はほとんど変化しないことになる。
【0017】チップに搭載するメモリセルを増やしなが
ら、チップ面積削減等のためにメモリセルアレイの規模
を大きくする場合、局所データ入出力信号線及び広域デ
ータ入出力線の配線長を伸ばす必要があるが、この結
果、電流経路の抵抗値が増大する。
【0018】局所データ入出力線に接続されるセンスア
ンプの数を削減すれば、必要とされる広域データ入出力
線の本数は増えることになるが、局所データ入出力線の
長さを短くすることは可能である。しかしながら、メモ
リセルアレイの大きさと差動増幅回路を配置できる場所
が決まっている場合には、広域データ入出力線を短くす
ることはできない。
【0019】また、センスアンプから差動増幅回路まで
の総抵抗値を一定とし、プルアップトランジスタの能力
を低下させることによっても差動増幅回路に入力される
信号量を増すことができるが、この場合には、差動増幅
回路近傍での電位変化が遅くなり、この結果、読み出し
動作全体の速度が低下してしまう。
【0020】前述のような構成の場合、ビット線BLT
mnに接続されるメモリセルのデータを読み出すとき
が、最もセンスアンプから差動増幅回路までの経路が長
く、アレイ規模増大による差動増幅回路の入力信号への
影響が大きい。しかし、他のセンスアンプのデータを読
み出す場合にも、同様の信号量の低下が生じる。
【0021】このように、従来の半導体記憶装置におい
ては、差動増幅回路に与えられる信号量は、プルアップ
トランジスタのソース電位とセンスアンプのプルダウン
トランジスタのソース電源間の抵抗との抵抗分割によっ
て定まる。即ち、センスアンプのプルダウントランジス
タの能力、プルアップトランジスタの能力及び両トラン
ジスタ間の配線抵抗により信号量が決定される。
【0022】メモリセルアレイが大規模化すると、必然
的にデータ入出力線の長さが伸びるが、この結果、デー
タ入出力線の総抵抗値が上昇してしまう。また、装置全
体の微細化のため、データ入出力線の幅を縮小する必要
性がある。これもデータ入出力線の抵抗値を上昇させる
原因となっている。これに対して、単位当たりのトラン
ジスタ能力は微細化によって増加するため、差動増幅回
路に与えられる信号量は、相対的にデータ入出力線の抵
抗値に依存する割合が大きくなる。この結果、各トラン
ジスタサイズを調整しても、十分な信号量が得られない
可能性がある。
【0023】前述のように、局所データ入出力線の分割
数を増やし、各局所データ入出力線の長さを短縮すれ
ば、広域入出力データ線の本数は増加するが、局所デー
タ入出力線の配線抵抗を低下させることは可能である。
しかしながら、差動増幅回路をメモリセルアレイの端部
に配置する限り、広域データ入出力線を短縮することは
できない。また、出力パッドがメモリセルアレイの外側
に配置されるため、差動増幅回路をメモリセルアレイの
端部に配置することは必須である。
【0024】更に、従来の半導体記憶装置では、プルア
ップトランジスタが差動増幅回路の近傍に配置されてい
るため、最悪の場合、局所データ入出力線の配線抵抗全
部と広域データ入出力線の配線抵抗を全部足し合わせた
抵抗値で電圧降下が生じてしまい、増幅回路の信号量は
著しく減少する。これにより、増幅回路の動作速度が低
下するばかりではなく、動作が不可能になることもある
という問題点がある。
【0025】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、増幅回路に入力される信号量を十分に確保
し読み出し速度を向上させることができる半導体記憶装
置を提供することを目的とする。
【0026】
【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体記憶
装置は、格子状に配置された複数個のセンスアンプと、
行を構成する複数個の前記センスアンプに接続された複
数組の第1のデータ入出力線対と、前記各第1のデータ
入出力線対に接続された複数個のスイッチ素子と、外部
から入力された列選択信号に関連づけて複数個の前記ス
イッチ素子のうちから1個をオン状態とする選択手段
と、前記各スイッチ素子に接続された第2のデータ入出
力線対と、この第2のデータ入出力線対を伝達する信号
を増幅する増幅回路と、前記複数個のセンスアンプのう
ち1個が前記第1のデータ入出力線対及び前記第2のデ
ータ入出力線対を介して前記増幅回路に電気的に接続さ
れている期間中に前記第2のデータ入出力線対の電位を
プルアップするプルアップ手段と、を有し、前記第2の
データ入出力線対の前記増幅回路と前記プルアップ手段
との間には、少なくとも1個の前記スイッチ素子との接
続点が設けられていることを特徴とする。
【0027】なお、本発明においては、複数個の前記セ
ンスアンプは、少なくとも2個の相互に独立して活性化
され前記第2のデータ入出力線対を共有する群に分配さ
れ、前記プルアップ手段は、2個の前記群間の境界に配
置されていてもよい。
【0028】また、前記プルアップ手段は、前記第2の
データ入出力線対と電源電位との間に接続された2個の
電界効果トランジスタを有することができる。
【0029】本発明に係る他の半導体記憶装置は、格子
状に配置された複数個のセンスアンプと、行を構成する
複数個の前記センスアンプに接続された複数組の第1の
データ入出力線対と、前記各第1のデータ入出力線対に
接続された複数個のスイッチ素子と、外部から入力され
た列選択信号に関連づけて複数個の前記スイッチ素子の
うちから1個をオン状態とする選択手段と、前記各スイ
ッチ素子に接続された第2のデータ入出力線対と、この
第2のデータ入出力線を伝達する信号を増幅する増幅回
路と、前記複数個のセンスアンプのうち1個が前記第1
のデータ入出力線対及び前記第2のデータ入出力線対を
介して前記増幅回路に電気的に接続されている期間中に
前記各第1のデータ入出力線対の電位をプルアップする
複数個のプルアップ手段と、を有することを特徴とす
る。
【0030】なお、本発明においては、前記各プルアッ
プ手段は、夫々前記第1のデータ入出力線に接続された
2個の電界効果トランジスタを有することができる。
【0031】また、前記増幅回路は、差動増幅回路であ
ってもよい。
【0032】本発明においては、プルアップ手段と増幅
回路との間に少なくとも1個のスイッチ素子との接続点
が設けられている、即ち、プルアップ手段が従来のもの
よりも増幅回路から離れて設けられているので、増幅回
路に入力される信号量に与える第2のデータ入出力線の
長さによる影響を低減することができる。この結果、セ
ンスアンプに接続されたメモリセルからのデータ読み出
し速度が向上する。
【0033】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例に係る半導
体記憶装置について、添付の図面を参照して具体的に説
明する。図1は本発明の第1の実施例に係る半導体記憶
装置の構成を示す回路配置図、図2は図1中の領域Aの
構成を示す回路図である。
【0034】第1の実施例に係る半導体記憶装置には、
センスアンプ領域SA及び駆動回路領域SWDが格子状
に配列して設けられている。これらのセンスアンプ領域
SA及び駆動回路領域SWDは、2つのアレイ領域(第
1アレイ領域R0、第2アレイ領域R1)のいずれかに
属している。そして、各アレイ領域において、センスア
ンプ領域SAの1列毎に列選択回路YDECが設けら
れ、駆動回路領域SWDの1行毎に行選択回路XDEC
が設けられている。列選択回路YDECは、各アレイ領
域において、アレイ領域間の境界近傍に配置されてい
る。また、センスアンプ領域SAの1列毎に、第1アレ
イ領域R0及び第2アレイ領域R1に共通するプルアッ
プトランジスタ領域PIOがアレイ領域間の境界に設け
られている。更に、センスアンプ領域SAの1列毎に、
第1アレイ領域R0及び第2アレイ領域R1に共通する
差動増幅回路DAが第1アレイ領域R0の端部に設けら
れている。
【0035】図2に示すように、第1アレイ領域R0中
の第(n+1)行目のセンスアンプ領域SAには、(m
+1)個のセンスアンプSA0n0乃至SAmn0が設
けられている。なお、図2では、サブワード駆動回路S
WD、これに接続されたサブワード線及びメモリセルは
省略している。各センスアンプには、相補ビット線対が
接続されている。例えばセンスアンプSAmn0には、
相補ビット線対BLTmn0及びBLNmn0が接続さ
れている。また、各駆動回路領域SWD(図2に図示せ
ず)には、(i+1)個のサブワード駆動回路が設けら
れている。各サブワード駆動回路には、夫々1本のサブ
ワード線が接続されている。そして、1組のセンスアン
プ領域SA及び駆動回路領域SWDにおいて、各相補ビ
ット線対と各サブワード線との交点にメモリセルが配置
されている。
【0036】各センスアンプは、図8に示す従来のもの
と同様に、4個のMOSトランジスタを有するCMOS
のフリップフロップ回路によって構成されている。非活
性状態においては、相補ビット線対及びセンスアンプに
設けられた2本の信号線は、全て電源電位と接地電位と
の中間の同一電位に保持される。
【0037】また、第1アレイ領域R0中の第(n+
1)行目のセンスアンプSA0n0乃至SAmn0に接
続されたビット線BLT0n0乃至BLTmn0には、
電界効果トランジスタからなるスイッチを介して局所デ
ータ入出力線LIOTn0が接続され、ビット線BLN
0n0乃至BLNmn0には、電界効果トランジスタか
らなるスイッチを介して局所データ入出力線LIONn
0が接続されている。列選択回路YDECには、(m+
1)個のYデコーダYDEC00乃至YDECm0が設
けられており、各Yデコーダに夫々列選択線YSW00
乃至YSWm0が接続されている。各列選択線YSW0
0乃至YSWm0は各列を構成する(n+1)個のセン
スアンプにおける前記電界効果トランジスタのゲートに
接続されており、YデコーダYDEC00乃至YDEC
m0により、スイッチのオン/オフが切替えられる。
【0038】第1アレイ領域R0中の第(n+1)行目
の局所データ入出力線LIOTn0及びLIONn0に
は、IO接続信号SWIOn0によりオン/オフが切替
えられる電界効果トランジスタからなるスイッチが接続
されている。そして、このスイッチを介して各局所デー
タ入出力線LIOT00乃至LIOTn0及びLION
00乃至LIONn0に夫々広域データ入出力線GIO
T及びGIONが接続されている。第1アレイ領域R0
内に配置された広域データ入出力線GIOT及びGIO
Nは、直接差動増幅回路DAに接続されている。一方、
第2アレイ領域R1中に配置された広域データ入出力線
GIOT及びGIONは、プルアップトランジスタ領域
PIOを介して差動増幅回路DAに接続されている。プ
ルアップトランジスタ領域PIOには、プルアップ信号
SWPIOによりオン/オフが切替えられるプルアップ
トランジスタPUT及びPUNが設けられている。
【0039】なお、第2アレイ領域R1は、第1アレイ
領域R0と同様の構成を有しているので、その詳細な説
明は省略する。
【0040】次に、上述のように構成された第1の実施
例の半導体装置の動作について説明する。ここでは、便
宜上、初期状態で第2アレイ領域R1中のビット線BL
Tmn1に接続されたメモリセルにハイ電位が蓄積され
ており、このデータを読み出す工程を説明するが、他の
ビット線に接続されているメモリセルにハイ又はロウ電
位が蓄積され、これを読み出す場合でも、動作に本質的
な相違はない。図3(a)乃至(c)は本発明の第1の
実施例に係る半導体記憶装置の動作を示す動作波形図で
ある。
【0041】非活性状態においては、前述のように、相
補ビット線対及びセンスアンプの信号線は、全て電源電
位と接地電位との中間の同一電位に保持されている。
【0042】メモリセルに蓄積されたデータ(ハイ電
位)を読み出す際には、行選択回路XDECに外部から
入力された行アドレス信号によって選択された1個のサ
ブワード駆動回路に接続された1本のサブワード線が活
性化され、読み出し対象のメモリセルがビット線BLT
mn1に接続される。この結果、メモリセルに蓄えられ
ていたハイ電荷がビット線BLTmn1に分配され、ビ
ット線BLTmn1の電位がビット線BLNmn1の電
位よりわずかに高くなる。
【0043】その後、センスアンプSAmn1の2本の
信号線が夫々電源電位、接地電位に駆動される。この結
果、ビット線BLNmn1は接地電位に、ビット線BL
Tmn1は電源電位に駆動される。
【0044】次いで、列選択回路YDECに外部から入
力された列アドレス信号によって選択された列選択線Y
SWm1がハイレベルとなる。この結果、ビット線BL
Nmn1及びBLTmn1は夫々局所データ入出力線L
IONn1、LIOTn1に接続される。これにより、
局所データ入出力線LIONn1は接地電位に、局所デ
ータ入出力線LIOTn1は電源電位に駆動される。
【0045】列選択線YSWm1がハイレベルとなるこ
とにより、列選択線YSWm1に接続されている他のセ
ンスアンプSAm01乃至SAm(n−1)1も、夫々
局所データ入出力線LION01乃至LION(n−
1)1及びLIOT01乃至LION(n−1)1に接
続されるが、これらの局所データ入出力線は、全て電源
電位と接地電位との中間の同一電位に保持されたままな
ので、動作には影響を与えない。
【0046】また、列選択線YSWm1がハイレベルと
なるのと実質的に同時に、IO線接続信号SWIOn1
がハイレベルになり、局所データ入出力線LIONn1
及びLIOTn1が夫々広域データ入出力線GION、
GIOTに接続される。この時、IO線接続信号SWI
O01乃至SWIO(n−1)1はロウ電位のままであ
り、他の局所データ入出力線LION01乃至LION
(n−1)1及びLIOT01乃至LION(n−1)
1は広域データ入出力線GION及びGIOTに接続さ
れていない状態のままである。更に、プルアップ信号S
WPIO1がオンし、広域データ入出力線GION及び
GIOTの双方の電位が夫々プルアップトランジスタP
UN及びPUTによってプルアップされる。
【0047】この結果、局所データ入出力線LIOTn
1及び広域データ入出力線GIOTは、センスアンプS
Amn1及びプルアップトランジスタPUTによってプ
ルアップされ、プルダウンする経路が存在しないことか
ら、これらの信号線には電源電位が保持される。一方、
局所データ入出力線LIONn1及び広域データ入出力
線GIONは、センスアンプSAmn1によってプルダ
ウンされながら、プルアップトランジスタPUNによっ
てプルアップされる。このため、局所データ入出力線L
IONn1及び広域データ入出力線GIONは、電源電
位と接地電位との中間の電位を示す。
【0048】この時、広域データ入出力線GION又は
GIOTに接続された局所データ入出力線LIOTn1
又はLIONn1がプルアップトランジスタPUN又は
PUTと差動増幅回路DAとの間にはないので、差動増
幅回路DAに入力される信号量は、センスアンプSAm
n1のNチャネルトランジスタからプルアップトランジ
スタPUN又はPUTまでの信号経路の抵抗とプルアッ
プトランジスタPUN又はPUTのオン抵抗との分圧比
によって定まる。
【0049】従って、差動増幅回路DAに入力される信
号量は、広域データ入出力線GION又はGIOT全体
の配線抵抗にはほとんど依存しない。
【0050】なお、第2アレイ領域R1中に配置された
メモリセルからデータの読み出しを行う場合には、上述
の場合と同様に、広域データ入出力線GION又はGI
OTに接続される局所データ入出力線がプルアップトラ
ンジスタPUN又はPUTと差動増幅回路DAとの間に
はないので、差動増幅回路DAに入力される信号量は、
広域データ入出力線GION又はGIOT全体の配線抵
抗にはほとんど依存しない。
【0051】一方、第1アレイ領域R0中に配置された
メモリセルからデータの読み出しを行う場合には、広域
データ入出力線GION又はGIOTに接続される局所
データ入出力線LION00乃至LIONn0のいずれ
か及び局所データ入出力線LIOT00乃至LIOTn
0のいずれかがプルアップトランジスタPUN又はPU
Tと差動増幅回路DAとの間に存在することになる。こ
のため、差動増幅回路DAに入力される信号量は、セン
スアンプのNチャネルトランジスタから局所データ入出
力線及び広域データ入出力線間のトランジスタまでの信
号経路の抵抗とプルアップトランジスタPUN又はPU
Tから局所データ入出力線及び広域データ入出力線間の
トランジスタまでの信号経路の抵抗との分圧比によって
定まる。なお、前者の信号経路の抵抗には、局所データ
入出力線及び広域データ入出力線間のトランジスタのオ
ン抵抗が含まれる。
【0052】従って、差動増幅回路DAに入力される信
号量は、広域データ入出力線GION又はGIOT全体
の配線抵抗にはほとんど依存しない。
【0053】このように、本実施例によれば、データの
読み出しが行われるメモリセルがどの領域に配置されて
いても、差動増幅回路DAに入力される信号量は、広域
データ入出力線GION又はGIOT全体の配線抵抗に
はほとんど依存しない。従って、メモリセルアレイの規
模を大きくしても、差動増幅回路DAに十分な信号量が
入力される。なお、差動増幅回路DAに入力される信号
量が最も小さくなる場合は、従来のものと同様に、ビッ
ト線BLTmn1に接続されたメモリセルのデータを読
み出す場合であるが、この場合でも、差動増幅回路DA
への信号量に関係するのは、広域データ入出力線の配線
抵抗の半分のみである。
【0054】なお、第1の実施例では、2つのアレイ領
域R0及びR1を相互に対称に配置し、アレイ領域間に
双方のアレイ領域用に列デコーダ列を配置しているが、
アレイ領域を相互に並進配置にしたり、3個以上のアレ
イ領域を配置し、同一の広域データ入出力線によりこれ
らを接続しても、本発明の効果を得ることが可能であ
る。
【0055】次に、本発明の第2の実施例について説明
する。第2の実施例においては、プルアップトランジス
タが各局所データ入出力線と広域データ入出力線との間
に接続されている。図4は本発明の第2の実施例に係る
半導体記憶装置の構成を示す回路図である。
【0056】第2の実施例に係る半導体記憶装置には、
センスアンプ領域及び駆動回路領域が格子状に配列して
設けられている。また、センスアンプ領域の1列毎に列
選択回路及び差動増幅回路DAが設けられている。更
に、駆動回路領域の1行毎に行選択回路が設けられてい
る。
【0057】図4に示すように、第(n+1)行目のセ
ンスアンプ領域には、(m+1)個のセンスアンプSA
0n乃至SAmnが設けられている。なお、図4では、
サブワード駆動回路、これに接続されたサブワード線及
びメモリセルは省略している。各センスアンプには、相
補ビット線対が接続されている。例えばセンスアンプS
Amnには、相補ビット線対BLTmn及びBLNmn
が接続されている。また、各駆動回路領域(図示せず)
には、(i+1)個のサブワード駆動回路が設けられて
いる。各サブワード駆動回路には、夫々1本のサブワー
ド線が接続されている。そして、1組のセンスアンプ領
域及び駆動回路領域において、各相補ビット線対と各サ
ブワード線との交点にメモリセルが配置されている。
【0058】各センスアンプは、図8に示す従来のもの
と同様に、4個のMOSトランジスタを有するCMOS
のフリップフロップ回路によって構成されている。非活
性状態においては、相補ビット線対及びセンスアンプに
設けられた2本の信号線は、全て電源電位と接地電位と
の中間の同一電位に保持される。
【0059】また、第(n+1)行目のセンスアンプS
A0n乃至SAmnに接続されたビット線BLT0n乃
至BLTmnには、電界効果トランジスタからなるスイ
ッチを介して局所データ入出力線LIOTnが接続さ
れ、ビット線BLN0n乃至BLNmnには、電界効果
トランジスタからなるスイッチを介して局所データ入出
力線LIONnが接続されている。列選択回路には、
(m+1)個のYデコーダYDEC0乃至YDECmが
設けられており、各Yデコーダに夫々列選択線YSW0
乃至YSWmが接続されている。各列選択線YSW0乃
至YSWmは各列を構成する(n+1)個のセンスアン
プにおける前記電界効果トランジスタのゲートに接続さ
れており、YデコーダYDEC0乃至YDECmによ
り、スイッチのオン/オフが切替えられる。
【0060】第(n+1)行目の局所データ入出力線L
IOTnには、プルアップトランジスタPUTnが接続
され、局所データ入出力線LIONnには、プルアップ
トランジスタPUNnが接続されている。プルアップト
ランジスタPUTn及びPUNnのオン/オフは、プル
アップ信号SWPIOnにより切替えられる。更に、局
所データ入出力線LIOTn及びLIONnには、IO
接続信号SWIOnによりオン/オフが切替えられる電
界効果トランジスタからなるスイッチが接続されてい
る。そして、このスイッチを介して各局所データ入出力
線LIOT0乃至LIOTn及びLION0乃至LIO
Nnに夫々広域データ入出力線GIOT及びGIONが
接続されている。広域データ入出力線GIOT及びGI
ONは、差動増幅回路DAに接続されている。
【0061】次に、上述のように構成された第2の実施
例の半導体装置の動作について説明する。ここでは、便
宜上、初期状態でビット線BLTmnに接続されたメモ
リセルにハイ電位が蓄積されており、このデータを読み
出す工程を説明するが、他のビット線に接続されている
メモリセルにハイ又はロウ電位が蓄積され、これを読み
出す場合でも、動作に本質的な相違はない。図5(a)
乃至(c)は本発明の第2の実施例に係る半導体記憶装
置の動作を示す動作波形図である。
【0062】非活性状態においては、前述のように、相
補ビット線対及びセンスアンプの信号線は、全て電源電
位と接地電位との中間の同一電位に保持されている。
【0063】メモリセルに蓄積されたデータ(ハイ電
位)を読み出す際には、行選択回路に外部から入力され
た行アドレス信号によって選択された1個のサブワード
駆動回路に接続された1本のサブワード線が活性化さ
れ、読み出し対象のメモリセルがビット線BLTmnに
接続される。この結果、メモリセルに蓄えられていたハ
イ電荷がビット線BLTmnに分配され、ビット線BL
Tmnの電位がビット線BLNmnの電位よりわずかに
高くなる。
【0064】その後、センスアンプSAmnの2本の信
号線が夫々電源電位、接地電位に駆動される。この結
果、ビット線BLNmnは接地電位に、ビット線BLT
mnは電源電位に駆動される。
【0065】次いで、列選択回路に外部から入力された
列アドレス信号によって選択された列選択線YSWmが
ハイレベルとなる。この結果、ビット線BLNmn及び
BLTmnは夫々局所データ入出力線LIONn、LI
OTnに接続される。これにより、局所データ入出力線
LIONnは接地電位に、局所データ入出力線LIOT
nは電源電位に駆動される。
【0066】また、列選択線YSWmがハイレベルとな
るのと実質的に同時に、IO線接続信号SWIOnがハ
イレベルになり、更にこれに連動してプルアップ信号S
WPIOnがハイレベルとなる。この結果、局所データ
入出力線LIONn及びLIOTnが夫々広域データ入
出力線GION、GIOTに接続されると共に、局所デ
ータ入出力線LIONn及びLIOTnがプルアップト
ランジスタPUNn又はPUTnによりプルアップされ
る。
【0067】列選択線YSWmがハイレベルとなること
により、列選択線YSWmに接続されている他のセンス
アンプSAm0乃至SAm(n−1)も、夫々局所デー
タ入出力線LION0乃至LION(n−1)及びLI
OT0乃至LION(n−1)に接続されるが、これら
の局所データ入出力線は、全て電源電位と接地電位との
中間の同一電位に保持されたままであり、プルアップト
ランジスタPUN0乃至PUN(n−1)及びPUT0
乃至PUT(n−1)はオフのままであるので、動作に
は影響を与えない。
【0068】また、IO線接続信号SWIO0乃至SW
IO(n−1)はロウ電位のままであり、他の局所デー
タ入出力線LION0乃至LION(n−1)及びLI
OT0乃至LION(n−1)は広域データ入出力線G
ION及びGIOTに接続されていない状態のままであ
る。
【0069】この結果、局所データ入出力線LIOTn
及び広域データ入出力線GIOTは、センスアンプSA
mn及びプルアップトランジスタPUTnによってプル
アップされ、プルダウンする経路が存在しないことか
ら、これらの信号線には電源電位が保持される。一方、
局所データ入出力線LIONn及び広域データ入出力線
GIONは、センスアンプSAmnによってプルダウン
されながら、プルアップトランジスタPUNnによって
プルアップされる。このため、局所データ入出力線LI
ONn及び広域データ入出力線GIONは、電源電位と
接地電位との中間の電位を示す。
【0070】このときの差動増幅回路DAに入力される
信号量は、センスアンプSAmnのNチャネルトランジ
スタからプルアップトランジスタPUNn又はPUTn
までの信号経路の抵抗とプルアップトランジスタPUN
n又はPUTnのオン抵抗との比によって定まる。前者
は、センスアンプSAmnのNチャネルトランジスタの
オン抵抗、列選択線YSWmを伝達する信号がゲートに
入力されるトランジスタのオン抵抗、局所データ入出力
線LION又はLIOTの配線抵抗を足し合わせたもの
である。従って、差動増幅回路DAに入力される信号量
は、広域データ入出力線GION又はGIOTの配線抵
抗には関係しない。即ち、差動増幅回路DAに入力され
る信号量は、広域データ入出力線GION又はGIOT
には依存しない。このため、メモリセルアレイが大規模
化した場合であっても、差動増幅回路DAに入力される
信号量を減少させずに、十分な信号量を確保することが
可能である。
【0071】なお、第2の実施例においては、メモリセ
ルアレイを1個のみ配置しているが、本発明はこれに限
定されるものではなく、第1の実施例と同様に、複数個
のメモリセルアレイを配置し、同一の広域データ入出力
線によりこれらを接続しても、本発明の効果を得ること
が可能である。
【0072】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
プルアップ手段と増幅回路との間に少なくとも1個のス
イッチ素子との接続点を設け、プルアップ手段を従来の
ものよりも増幅回路から離しているので、増幅回路に入
力される信号量に与える第2のデータ入出力線の長さに
よる影響を低減することができる。この結果、センスア
ンプに接続されたメモリセルからのデータ読み出し速度
を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例に係る半導体記憶装置の
構成を示す回路配置図である。
【図2】図1中の領域Aの構成を示す回路図である。
【図3】(a)乃至(c)は本発明の第1の実施例に係
る半導体記憶装置の動作を示す動作波形図である。
【図4】本発明の第2の実施例に係る半導体記憶装置の
構成を示す回路図である。
【図5】(a)乃至(c)は本発明の第2の実施例に係
る半導体記憶装置の動作を示す動作波形図である。
【図6】従来の半導体記憶装置の構成を示す回路配置図
である。
【図7】図6中の領域Bの構成を示す回路図である。
【図8】従来のセンスアンプを示す回路図である。
【図9】(a)乃至(c)は従来の半導体記憶装置の動
作を示す動作波形図である。
【符号の説明】
SA;センスアンプ領域 SWD;駆動回路領域 YDEC;列選択回路 XDEC;行選択回路 DA;差動増幅回路 PIO;プルアップトランジスタ領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 11/401 - 11/419 G11C 16/00 - 16/34

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 格子状に配置された複数個のセンスアン
    プと、行を構成する複数個の前記センスアンプに接続さ
    れた複数組の第1のデータ入出力線対と、前記各第1の
    データ入出力線対に接続された複数個のスイッチ素子
    と、外部から入力された列選択信号に関連づけて複数個
    の前記スイッチ素子のうちから1個をオン状態とする選
    択手段と、前記各スイッチ素子に接続された第2のデー
    タ入出力線対と、この第2のデータ入出力線対を伝達す
    る信号を増幅する増幅回路と、前記複数個のセンスアン
    プのうち1個が前記第1のデータ入出力線対及び前記第
    2のデータ入出力線対を介して前記増幅回路に電気的に
    接続されている期間中に前記第2のデータ入出力線対の
    電位をプルアップするプルアップ手段と、を有し、前記
    第2のデータ入出力線対の前記増幅回路と前記プルアッ
    プ手段との間には、少なくとも1個の前記スイッチ素子
    との接続点が設けられていることを特徴とする半導体記
    憶装置。
  2. 【請求項2】 複数個の前記センスアンプは、少なくと
    も2個の相互に独立して活性化され前記第2のデータ入
    出力線対を共有する群に分配され、前記プルアップ手段
    は、2個の前記群間の境界に配置されていることを特徴
    とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記プルアップ手段は、前記第2のデー
    タ入出力線対と電源電位との間に接続された2個の電界
    効果トランジスタを有することを特徴とする請求項1又
    は2に記載の半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 格子状に配置された複数個のセンスアン
    プと、行を構成する複数個の前記センスアンプに接続さ
    れた複数組の第1のデータ入出力線対と、前記各第1の
    データ入出力線対に接続された複数個のスイッチ素子
    と、外部から入力された列選択信号に関連づけて複数個
    の前記スイッチ素子のうちから1個をオン状態とする選
    択手段と、前記各スイッチ素子に接続された第2のデー
    タ入出力線対と、この第2のデータ入出力線を伝達する
    信号を増幅する増幅回路と、前記複数個のセンスアンプ
    のうち1個が前記第1のデータ入出力線対及び前記第2
    のデータ入出力線対を介して前記増幅回路に電気的に接
    続されている期間中に前記各第1のデータ入出力線対の
    電位をプルアップする複数個のプルアップ手段と、を有
    することを特徴とする半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 前記各プルアップ手段は、夫々前記第1
    のデータ入出力線に接続された2個の電界効果トランジ
    スタを有することを特徴とする請求項4に記載の半導体
    記憶装置。
  6. 【請求項6】 前記増幅回路は、差動増幅回路であるこ
    とを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の
    半導体記憶装置。
JP10595399A 1999-04-13 1999-04-13 半導体記憶装置 Expired - Fee Related JP3535766B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10595399A JP3535766B2 (ja) 1999-04-13 1999-04-13 半導体記憶装置
US09/547,934 US6219269B1 (en) 1999-04-13 2000-04-11 Semiconductor memory device capable of improving read operation speed
KR10-2000-0019278A KR100385595B1 (ko) 1999-04-13 2000-04-12 독출 동작속도를 개선할 수 있는 반도체 메모리 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10595399A JP3535766B2 (ja) 1999-04-13 1999-04-13 半導体記憶装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000298994A JP2000298994A (ja) 2000-10-24
JP3535766B2 true JP3535766B2 (ja) 2004-06-07

Family

ID=14421205

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10595399A Expired - Fee Related JP3535766B2 (ja) 1999-04-13 1999-04-13 半導体記憶装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6219269B1 (ja)
JP (1) JP3535766B2 (ja)
KR (1) KR100385595B1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4632107B2 (ja) * 2000-06-29 2011-02-16 エルピーダメモリ株式会社 半導体記憶装置
KR100374633B1 (ko) * 2000-08-14 2003-03-04 삼성전자주식회사 리던던시 효율을 향상시키는 칼럼 리던던시 구조를 갖는반도체 메모리 장치
JP2013196737A (ja) 2012-03-22 2013-09-30 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0620465A (ja) 1991-09-02 1994-01-28 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP2729423B2 (ja) 1991-10-29 1998-03-18 三菱電機株式会社 半導体記憶装置
JPH0927190A (ja) 1995-07-07 1997-01-28 Ricoh Co Ltd シリアルメモリの読出し装置
JP3992781B2 (ja) * 1997-04-15 2007-10-17 富士通株式会社 半導体記憶装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000298994A (ja) 2000-10-24
US6219269B1 (en) 2001-04-17
KR20000071670A (ko) 2000-11-25
KR100385595B1 (ko) 2003-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4992986A (en) Semiconductor memory
KR100576844B1 (ko) 반도체집적회로장치
JP4552258B2 (ja) 半導体記憶装置
JPH0447584A (ja) 半導体メモリ
EP0264929B1 (en) Semiconductor memory device with improved bit line arrangement
US5870343A (en) DRAM sensing scheme for eliminating bit-line coupling noise
US6125070A (en) Semiconductor memory device having multiple global I/O line pairs
US5299157A (en) Semiconductor memories with serial sensing scheme
US6016279A (en) DRAM sensing scheme and isolation circuit
US5323345A (en) Semiconductor memory device having read/write circuitry
JP3453552B2 (ja) 半導体記憶装置
US5966338A (en) Dram with new I/O data path configuration
US8976563B2 (en) Semiconductor memory device
JPH0528767A (ja) 副入出力線を有するデータ伝送回路
US5666306A (en) Multiplication of storage capacitance in memory cells by using the Miller effect
JP3535766B2 (ja) 半導体記憶装置
JPH10302472A (ja) 半導体メモリ装置
JPH09270195A (ja) 半導体記憶装置
US5995410A (en) Multiplication of storage capacitance in memory cells by using the Miller effect
CN100416699C (zh) 半导体存储装置
US5084842A (en) Dynamic random access memory with enhanced sense-amplifier circuit
US5497349A (en) Dynamic random access memory device having first and second I/O line groups isolated from each other
WO2002054405A2 (en) Memory architecture with controllable bitline lengths
JPH0414435B2 (ja)
US5140555A (en) Semiconductor integrated device having uniform noise between a pair of undecided voltage portions

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040217

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040312

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees