JP3533138B2 - スズ触媒含有ｒｔｖ−１−アルコキシ組成物、およびその安定化方法 - Google Patents
スズ触媒含有ｒｔｖ−１−アルコキシ組成物、およびその安定化方法Info
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- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
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- C08G77/12—Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
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- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
- C08G77/18—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to alkoxy or aryloxy groups
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スズ触媒および界
面活性剤を含有しているＲＴＶ−１−アルコキシ組成物
に関する。
面活性剤を含有しているＲＴＶ−１−アルコキシ組成物
に関する。
【０００２】オルガノポリシロキサンという概念は本発
明の範囲ではダイマー、オリゴマーおよびポリマーのシ
ロキサンを含むものとする。
明の範囲ではダイマー、オリゴマーおよびポリマーのシ
ロキサンを含むものとする。
【０００３】
【従来の技術】ＲＴＶ−１（自然加硫１成分）−シリコ
ーンゴムおよびＲＴＶ−２（自然加硫２成分）−シリコ
ーンゴム中での縮合触媒としてのジアルキルスズ（Ｉ
Ｖ）化合物の使用は一般に公知である。しかしＲＴＶ−
１−アルコキシ組成物中でこれらのスズ化合物は、アル
コール基によりシロキサン鎖の不所望の分解、つまり同
時に平衡化を触媒し、その際、もはや架橋することがで
きないポリシロキサン鎖のアルコキシ末端基を生じ、ひ
いては該組成物の十分な架橋がもはや可能ではない、つ
まり特定の使用の際に加硫が得られないか、または十分
に安定した加硫物が得られないという欠点を有してい
る。ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物を貯蔵することがで
きる期間として挙げられる貯蔵安定性は、平衡化により
その特性を著しく失うことなく劇的に低下する。
ーンゴムおよびＲＴＶ−２（自然加硫２成分）−シリコ
ーンゴム中での縮合触媒としてのジアルキルスズ（Ｉ
Ｖ）化合物の使用は一般に公知である。しかしＲＴＶ−
１−アルコキシ組成物中でこれらのスズ化合物は、アル
コール基によりシロキサン鎖の不所望の分解、つまり同
時に平衡化を触媒し、その際、もはや架橋することがで
きないポリシロキサン鎖のアルコキシ末端基を生じ、ひ
いては該組成物の十分な架橋がもはや可能ではない、つ
まり特定の使用の際に加硫が得られないか、または十分
に安定した加硫物が得られないという欠点を有してい
る。ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物を貯蔵することがで
きる期間として挙げられる貯蔵安定性は、平衡化により
その特性を著しく失うことなく劇的に低下する。
【０００４】貯蔵安定性を延長するための公知の方法は
次のものである。
次のものである。
【０００５】例えばＵＳ−Ａ−３３３４０６７号から公
知であるのは、チタンまたはアルミニウムキレート触媒
によるスズ触媒の代用である。ここでの欠点は、組成物
の黄変であり、これにより半透明ではないくすんだ組成
物が可能であるのみである。
知であるのは、チタンまたはアルミニウムキレート触媒
によるスズ触媒の代用である。ここでの欠点は、組成物
の黄変であり、これにより半透明ではないくすんだ組成
物が可能であるのみである。
【０００６】例えばＥＰ−Ａ−７４７４４３号から公知
であるのは、一般式Ｔｉ（ＯＲ）4のチタン触媒による
スズ触媒の代用であるが、これはシラノール基を有して
いないシロキサンを加工することができるのみであると
いう欠点を有する。
であるのは、一般式Ｔｉ（ＯＲ）4のチタン触媒による
スズ触媒の代用であるが、これはシラノール基を有して
いないシロキサンを加工することができるのみであると
いう欠点を有する。
【０００７】カップリング剤の使用はそのような触媒の
場合、触媒活性に不利な影響を与えるため制限される。
場合、触媒活性に不利な影響を与えるため制限される。
【０００８】スズ触媒の量の減少は、極めて緩慢な加硫
という欠点を有する。
という欠点を有する。
【０００９】例えばＵＳ−Ａ−４５１７３３７号から公
知であるのは、それほどアグレッシブではないスズ触
媒、例えばスズキレート触媒の使用である。キレート化
合物、例えばアセチルアセトネートが過剰量で必要であ
る。しかしこれは揮発性であり、かつ毒物学的に問題が
あり、かつ健康を損ね、かつ加硫物の黄変につながる場
合がある。
知であるのは、それほどアグレッシブではないスズ触
媒、例えばスズキレート触媒の使用である。キレート化
合物、例えばアセチルアセトネートが過剰量で必要であ
る。しかしこれは揮発性であり、かつ毒物学的に問題が
あり、かつ健康を損ね、かつ加硫物の黄変につながる場
合がある。
【００１０】例えばＵＳ−Ａ−４４１７０４２号から公
知であるのは、アルコール補足剤、つまりその高い反応
性に基づいてアルコールと反応するスカベンジャーの添
加である。しかしこの添加はコスト高であり、かつ付着
挙動を低下させる。
知であるのは、アルコール補足剤、つまりその高い反応
性に基づいてアルコールと反応するスカベンジャーの添
加である。しかしこの添加はコスト高であり、かつ付着
挙動を低下させる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、前記の方法の欠点を有しておらず、高い貯蔵安定性
を有するスズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物を
提供することである。
は、前記の方法の欠点を有しておらず、高い貯蔵安定性
を有するスズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物を
提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】前記課題は本発明によ
り、界面活性剤（Ｔ）を含有するスズ触媒含有ＲＴＶ−
１−アルコキシ組成物において、界面活性剤は一般式
（Ｉ）： −Ｏ−［（ＣＲαＲβ）u−Ｏ］v− （Ｉ） ［式中、ＲαおよびＲβは、水素基を表すか、または場
合によりヒドロキシル基、フッ素基、塩素基、臭素基、
Ｃ1〜Ｃ10−アルコキシアルキル基もしくはシアノ基で
置換された一価のＣ1〜Ｃ10−炭化水素基を表し、ｕ
は、１〜６の整数値を表し、かつｖは、３〜１００の値
を表す］の二価のポリエーテル単位を含有しており、そ
の際、該ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物は、一般式（Ｉ
Ｉ）： （ＨＯ）aＯＰ（−Ｏ−［（ＣＲ1 2）b−Ｏ］c［（ＣＲ2 2）d］e−Ｌ−Ｍ）(3 − a) （ＩＩ） ［式中、ａは、１または２の値を表し、Ｒ1およびＲ
2は、水素基、メチル基またはヒドロキシル基を表し、
ｂおよびｄは、２または３の値を表し、ｃは、２〜１５
の整数値を表し、ｅは、０または１の値を表し、Ｌは、
−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＣＯＮＲ3−、Ｎ
Ｒ4ＣＯ−および−ＣＯ−の群からの基を表し、Ｒ3およ
びＲ4は、水素基またはＣ1〜Ｃ10−アルキル基を表し、
かつＭは、場合によりヒドロキシル基、フッ素基、塩素
基、臭素基、Ｃ1〜Ｃ10−アルコキシアルキル基もしく
はシアノ基で置換された一価のＣ1〜Ｃ20−炭化水素基
を表すが、ただしその際、それぞれの炭素原子に接して
いる基Ｒ1およびＲ2は１個だけがヒドロキシル基であっ
てもよい］の酸性の燐酸エステルを含有していないこと
を特徴とするスズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物により解決される。
り、界面活性剤（Ｔ）を含有するスズ触媒含有ＲＴＶ−
１−アルコキシ組成物において、界面活性剤は一般式
（Ｉ）： −Ｏ−［（ＣＲαＲβ）u−Ｏ］v− （Ｉ） ［式中、ＲαおよびＲβは、水素基を表すか、または場
合によりヒドロキシル基、フッ素基、塩素基、臭素基、
Ｃ1〜Ｃ10−アルコキシアルキル基もしくはシアノ基で
置換された一価のＣ1〜Ｃ10−炭化水素基を表し、ｕ
は、１〜６の整数値を表し、かつｖは、３〜１００の値
を表す］の二価のポリエーテル単位を含有しており、そ
の際、該ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物は、一般式（Ｉ
Ｉ）： （ＨＯ）aＯＰ（−Ｏ−［（ＣＲ1 2）b−Ｏ］c［（ＣＲ2 2）d］e−Ｌ−Ｍ）(3 − a) （ＩＩ） ［式中、ａは、１または２の値を表し、Ｒ1およびＲ
2は、水素基、メチル基またはヒドロキシル基を表し、
ｂおよびｄは、２または３の値を表し、ｃは、２〜１５
の整数値を表し、ｅは、０または１の値を表し、Ｌは、
−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＣＯＮＲ3−、Ｎ
Ｒ4ＣＯ−および−ＣＯ−の群からの基を表し、Ｒ3およ
びＲ4は、水素基またはＣ1〜Ｃ10−アルキル基を表し、
かつＭは、場合によりヒドロキシル基、フッ素基、塩素
基、臭素基、Ｃ1〜Ｃ10−アルコキシアルキル基もしく
はシアノ基で置換された一価のＣ1〜Ｃ20−炭化水素基
を表すが、ただしその際、それぞれの炭素原子に接して
いる基Ｒ1およびＲ2は１個だけがヒドロキシル基であっ
てもよい］の酸性の燐酸エステルを含有していないこと
を特徴とするスズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物により解決される。
【００１３】同様に本発明のもう１つの課題は、スズ触
媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物を安定化するため
の方法において、該組成物に前記の一般式（Ｉ）の二価
のポリエーテル単位を含有している界面活性剤（Ｔ）を
添加することを特徴とする、スズ触媒含有ＲＴＶ−１−
アルコキシ組成物の安定化方法により解決される。
媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物を安定化するため
の方法において、該組成物に前記の一般式（Ｉ）の二価
のポリエーテル単位を含有している界面活性剤（Ｔ）を
添加することを特徴とする、スズ触媒含有ＲＴＶ−１−
アルコキシ組成物の安定化方法により解決される。
【００１４】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物への界面活性剤（Ｔ）の添加は、減感またはスズ触媒
の平衡化作用の抑制をもたらし、このことにより貯蔵安
定性が劇的に上昇する。同時に、使用されるスズ化合物
の所望の縮合触媒を活性化する。燐酸エステルにより現
場で末端ブロックされたポリシロキサンも加工可能なま
まである。
物への界面活性剤（Ｔ）の添加は、減感またはスズ触媒
の平衡化作用の抑制をもたらし、このことにより貯蔵安
定性が劇的に上昇する。同時に、使用されるスズ化合物
の所望の縮合触媒を活性化する。燐酸エステルにより現
場で末端ブロックされたポリシロキサンも加工可能なま
まである。
【００１５】有利には界面活性剤（Ｔ）は、一般式
（Ｉ）の二価のポリエーテル単位を少なくとも２０質量
％、特に少なくとも５０質量％含有している。
（Ｉ）の二価のポリエーテル単位を少なくとも２０質量
％、特に少なくとも５０質量％含有している。
【００１６】有利には一般式（Ｉ）中で相互に無関係
に、ＲαおよびＲβは水素基または一価の非置換炭化水
素基を表し、特に水素基またはＣ1〜Ｃ3−アルキル基、
例えばメチル基またはエチル基を表し、ｕは、１〜４、
特に２または３の整数値を表し、かつｖは、３〜２５、
特に５〜１０の整数値を表す。
に、ＲαおよびＲβは水素基または一価の非置換炭化水
素基を表し、特に水素基またはＣ1〜Ｃ3−アルキル基、
例えばメチル基またはエチル基を表し、ｕは、１〜４、
特に２または３の整数値を表し、かつｖは、３〜２５、
特に５〜１０の整数値を表す。
【００１７】界面活性剤（Ｔ）は、非イオン性、アニオ
ン性またはカチオン性界面活性剤、特に乳化剤であって
もよい。
ン性またはカチオン性界面活性剤、特に乳化剤であって
もよい。
【００１８】界面活性剤（Ｔ）の例は次のものである：
脂肪酸エステル、例えば式Ｒ′−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ−Ｒ″
のもの；脂肪アルキルエーテルカルボキシレート、例え
ば式Ｒ′−Ｙ−ＣＨ2ＣＯＯＸのもの；脂肪アルコール
ポリグリコールエーテル、例えば式Ｒ′−Ｙ−Ｒ″のも
の；フェノールポリグリコールエーテル、例えば式Ａｒ
−Ｙ−Ｒ′のもの；脂肪アルキルエーテルスルフェー
ト、例えば式Ｒ′−Ｙ−ＳＯ3Ｘのもの；アルキルエー
テルホスフェート、ポリエーテル基を有するポリジメチ
ルシロキサン、オキシエチレート(oxethylate)およびそ
のエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール、ポリエチレングリコールジエーテ
ル、ポリプロピレングリコールジエーテルおよびそのコ
ポリマー、脂肪アミノキシエチレート(Fettaminoxethyl
ate)、ポリグリコールスルホネート。
脂肪酸エステル、例えば式Ｒ′−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ−Ｒ″
のもの；脂肪アルキルエーテルカルボキシレート、例え
ば式Ｒ′−Ｙ−ＣＨ2ＣＯＯＸのもの；脂肪アルコール
ポリグリコールエーテル、例えば式Ｒ′−Ｙ−Ｒ″のも
の；フェノールポリグリコールエーテル、例えば式Ａｒ
−Ｙ−Ｒ′のもの；脂肪アルキルエーテルスルフェー
ト、例えば式Ｒ′−Ｙ−ＳＯ3Ｘのもの；アルキルエー
テルホスフェート、ポリエーテル基を有するポリジメチ
ルシロキサン、オキシエチレート(oxethylate)およびそ
のエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール、ポリエチレングリコールジエーテ
ル、ポリプロピレングリコールジエーテルおよびそのコ
ポリマー、脂肪アミノキシエチレート(Fettaminoxethyl
ate)、ポリグリコールスルホネート。
【００１９】前記の界面活性剤（Ｔ）で、Ｒ′、Ｒ″
は、Ｃ6〜Ｃ30−アルキル基を表し、Ｙは、一般式
（Ｉ）の二価のポリエーテル単位を表し、Ｘは、Ｎａま
たはＫを表し、かつＡｒは、Ｃ6〜Ｃ30−アリール基ま
たはＣ7−Ｃ30−アラルキル基を表す。
は、Ｃ6〜Ｃ30−アルキル基を表し、Ｙは、一般式
（Ｉ）の二価のポリエーテル単位を表し、Ｘは、Ｎａま
たはＫを表し、かつＡｒは、Ｃ6〜Ｃ30−アリール基ま
たはＣ7−Ｃ30−アラルキル基を表す。
【００２０】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物は、界面活性剤（Ｔ）を有利には０．０１質量％以
上、特に０．１質量％以上、および有利には１０質量％
以下、特に５質量％以下含有している。
物は、界面活性剤（Ｔ）を有利には０．０１質量％以
上、特に０．１質量％以上、および有利には１０質量％
以下、特に５質量％以下含有している。
【００２１】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物は、（Ａ）アルコキシ基末端のオルガノポリシロキサ
ンおよび（Ｂ）少なくとも３つのアルコキシ基を有する
アルコキシシランおよび／またはその部分水解物を含有
している。
物は、（Ａ）アルコキシ基末端のオルガノポリシロキサ
ンおよび（Ｂ）少なくとも３つのアルコキシ基を有する
アルコキシシランおよび／またはその部分水解物を含有
している。
【００２２】アルコキシ基末端オルガノポリシロキサン
（Ａ）は、有利には一般式（ＩＩＩ）： Ｒ5 f（Ｒ6Ｏ）3-fＳｉ−（Ｏ−ＳｉＲ2）g−Ｏ−ＳｉＲ5 f（Ｒ6Ｏ）3-f （ＩＩＩ） ［式中、Ｒ、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ場合によりフッ
素基、塩素基、臭素基、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシアルキル
基またはシアノ基で置換された一価のＣ1〜Ｃ8−炭化水
素基を表し、ｆは、０または１の値を表し、ｇは、０．
０５〜１０００Ｐａｓのオルガノポリシロキサン（Ａ）
の粘度に相応する値を表す］の直鎖状のジオルガノシロ
キサンである。
（Ａ）は、有利には一般式（ＩＩＩ）： Ｒ5 f（Ｒ6Ｏ）3-fＳｉ−（Ｏ−ＳｉＲ2）g−Ｏ−ＳｉＲ5 f（Ｒ6Ｏ）3-f （ＩＩＩ） ［式中、Ｒ、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ場合によりフッ
素基、塩素基、臭素基、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシアルキル
基またはシアノ基で置換された一価のＣ1〜Ｃ8−炭化水
素基を表し、ｆは、０または１の値を表し、ｇは、０．
０５〜１０００Ｐａｓのオルガノポリシロキサン（Ａ）
の粘度に相応する値を表す］の直鎖状のジオルガノシロ
キサンである。
【００２３】基Ｒ、Ｒ5およびＲ6として、非置換のＣ1
〜Ｃ4−アルキル基が有利であり、その際、メチル基が
特に有利である。
〜Ｃ4−アルキル基が有利であり、その際、メチル基が
特に有利である。
【００２４】オルガノポリシロキサン（Ａ）は、その都
度２３℃で測定して、有利には１００〜７０００００ｍ
Ｐａｓ、特に２００００〜３５００００ｍＰａｓの粘度
を有する。
度２３℃で測定して、有利には１００〜７０００００ｍ
Ｐａｓ、特に２００００〜３５００００ｍＰａｓの粘度
を有する。
【００２５】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物は、オルガノポリシロキサン（Ａ）を有利には３５質
量％以上、特に４５質量％以上、および有利には８０質
量％以下、特に７０質量％以下を含有している。
物は、オルガノポリシロキサン（Ａ）を有利には３５質
量％以上、特に４５質量％以上、および有利には８０質
量％以下、特に７０質量％以下を含有している。
【００２６】アルコキシシラン（Ｂ）は、有利には一般
式（ＩＶ）： Ｒ7 μＳｉ（ＯＲ8）4- μ （ＩＶ） ［式中、Ｒ7およびＲ8は、場合によりフッ素基、塩素
基、臭素基、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシアルキル基またはシ
アノ基で置換された一価のＣ1〜Ｃ13−炭化水素基を表
し、かつμは０または１の値を表す］を有する。
式（ＩＶ）： Ｒ7 μＳｉ（ＯＲ8）4- μ （ＩＶ） ［式中、Ｒ7およびＲ8は、場合によりフッ素基、塩素
基、臭素基、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシアルキル基またはシ
アノ基で置換された一価のＣ1〜Ｃ13−炭化水素基を表
し、かつμは０または１の値を表す］を有する。
【００２７】アルコキシシラン（Ｂ）の部分水解物は、
特に２〜４つのアルコキシシランの加水分解および縮合
により生じる。部分水解物（Ｂ）は、例えばヘキサメト
キシジシロキサンおよびヘキサエトキシジシロキサンで
ある。
特に２〜４つのアルコキシシランの加水分解および縮合
により生じる。部分水解物（Ｂ）は、例えばヘキサメト
キシジシロキサンおよびヘキサエトキシジシロキサンで
ある。
【００２８】有利にはＲ7は、非置換のＣ1〜Ｃ6−炭化
水素基、特にメチル基、エチル基およびプロピル基を表
す。
水素基、特にメチル基、エチル基およびプロピル基を表
す。
【００２９】有利にはＲ8は、非置換のＣ1〜Ｃ6−炭化
水素基、特にメチル基、エチル基、ビニル基およびプロ
ピル基を表す。
水素基、特にメチル基、エチル基、ビニル基およびプロ
ピル基を表す。
【００３０】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物は、アルコキシシラン（Ｂ）および／またはその部分
水解物を有利には０．５質量％以上、特に２質量％以
上、および有利には８質量％以下、特に６質量％以下含
有する。
物は、アルコキシシラン（Ｂ）および／またはその部分
水解物を有利には０．５質量％以上、特に２質量％以
上、および有利には８質量％以下、特に６質量％以下含
有する。
【００３１】スズ触媒は有利には有機スズ化合物、例え
ばジ−ｎ−ブチルスズジアセテート、ジ−ｎ−ブチルス
ズジラウレートおよび酸素を介してケイ素に結合してお
り、場合によりアルコキシ基により置換された１分子あ
たり少なくとも２つの一価の炭化水素基を加水分解可能
な基として有しているシランまたはそのオリゴマーと、
ジオルガノスズジアシレートとの反応生成物であり、そ
の際、これらの反応生成物中でスズ原子のすべての原子
価は基≡ＳｉＯＳｎ≡または≡ＣＯＳｎ≡の酸素原子に
より、もしくはＳｎＣ結合した一価の有機基により飽和
である。
ばジ−ｎ−ブチルスズジアセテート、ジ−ｎ−ブチルス
ズジラウレートおよび酸素を介してケイ素に結合してお
り、場合によりアルコキシ基により置換された１分子あ
たり少なくとも２つの一価の炭化水素基を加水分解可能
な基として有しているシランまたはそのオリゴマーと、
ジオルガノスズジアシレートとの反応生成物であり、そ
の際、これらの反応生成物中でスズ原子のすべての原子
価は基≡ＳｉＯＳｎ≡または≡ＣＯＳｎ≡の酸素原子に
より、もしくはＳｎＣ結合した一価の有機基により飽和
である。
【００３２】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物は、スズ触媒を有利には０．０１質量％以上、特に
０．１質量％以上、および有利には３質量％以下、特に
１質量％以下含有している。
物は、スズ触媒を有利には０．０１質量％以上、特に
０．１質量％以上、および有利には３質量％以下、特に
１質量％以下含有している。
【００３３】前記の成分に対して付加的にスズ触媒含有
ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物は、その他の自体公知の
成分、例えば架橋剤、充填剤、顔料、可溶性着色剤、香
料、可塑剤、殺真菌剤、（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2単位およ
びＳｉＯ4/2単位を含む樹脂状のオルガノポリシロキサ
ン、純粋な有機樹脂、例えばアクリロニトリル、スチレ
ン、ビニルクロリドまたはプロピレンのホモポリマーま
たは混合ポリマー（その際、このような純粋な有機樹
脂、特にスチレンおよびｎ−ブチルアクリレートからな
る混合ポリマーは、すでに末端の単位中でそれぞれ１つ
のＳｉ結合したヒドロキシル基を有しているジオルガノ
ポリシロキサンの存在下に、遊離基を用いた上記のモノ
マーの重合により得ることができる）、腐食防止剤、酸
化防止剤、熱安定化剤、溶剤、電気的特性に影響を与え
るための薬剤、例えば導電性のカーボンブラック、難燃
化剤、光保護剤および皮膜形成時間を延長するための薬
剤、例えばＳｉＣ結合したメルカプトアルキル基を有す
るシラン、ならびに気泡を形成する薬剤(zellenerzeuge
nde Mittel)、例えばアゾジカルボンアミドを含有して
いてもよい。同様にカップリング剤も添加することがで
きる。
ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物は、その他の自体公知の
成分、例えば架橋剤、充填剤、顔料、可溶性着色剤、香
料、可塑剤、殺真菌剤、（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2単位およ
びＳｉＯ4/2単位を含む樹脂状のオルガノポリシロキサ
ン、純粋な有機樹脂、例えばアクリロニトリル、スチレ
ン、ビニルクロリドまたはプロピレンのホモポリマーま
たは混合ポリマー（その際、このような純粋な有機樹
脂、特にスチレンおよびｎ−ブチルアクリレートからな
る混合ポリマーは、すでに末端の単位中でそれぞれ１つ
のＳｉ結合したヒドロキシル基を有しているジオルガノ
ポリシロキサンの存在下に、遊離基を用いた上記のモノ
マーの重合により得ることができる）、腐食防止剤、酸
化防止剤、熱安定化剤、溶剤、電気的特性に影響を与え
るための薬剤、例えば導電性のカーボンブラック、難燃
化剤、光保護剤および皮膜形成時間を延長するための薬
剤、例えばＳｉＣ結合したメルカプトアルキル基を有す
るシラン、ならびに気泡を形成する薬剤(zellenerzeuge
nde Mittel)、例えばアゾジカルボンアミドを含有して
いてもよい。同様にカップリング剤も添加することがで
きる。
【００３４】アルコキシシラン（Ｂ）に対して付加的に
スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物中に存在し
ていてもよいその他の添加剤は、ビス（トリアルコキシ
シリル）Ｃ1〜Ｃ12−アルカンであり、その際、アルコ
キシ基はＯＲ8、例えばビス（トリメトキシシリル）エ
タンを表す。
スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物中に存在し
ていてもよいその他の添加剤は、ビス（トリアルコキシ
シリル）Ｃ1〜Ｃ12−アルカンであり、その際、アルコ
キシ基はＯＲ8、例えばビス（トリメトキシシリル）エ
タンを表す。
【００３５】有利にはスズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコ
キシ組成物は充填剤を含有する。充填剤の例は、非補強
充填剤、つまり５０ｍ2／ｇまでのＢＥＴ表面積を有す
る充填剤、例えばカルボン酸で被覆したチョーク、石
英、ケイソウ土、珪酸カルシウム、珪酸ジルコニウム、
ゼオライト、金属酸化物粉末、例えば酸化アルミニウ
ム、酸化チタン、酸化鉄または酸化亜鉛もしくはこれら
の混合酸化物、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、石膏、
窒化ケイ素、炭化ケイ素、窒化ホウ素、ガラス粉末およ
びプラスチック粉末、例えばポリアクリロニトリル粉
末；補強充填剤、つまり５０ｍ2／ｇより大のＢＥＴ表
面積を有する充填剤、例えば熱分解法により製造した珪
酸、沈降珪酸、カーボンブラック、例えばファーネスブ
ラック、アセチレンブラックおよびＢＥＴ表面積の大き
いケイ素−アルミニウム−混合酸化物；繊維状の充填
剤、例えばアスベストならびにプラスチック繊維であ
る。
キシ組成物は充填剤を含有する。充填剤の例は、非補強
充填剤、つまり５０ｍ2／ｇまでのＢＥＴ表面積を有す
る充填剤、例えばカルボン酸で被覆したチョーク、石
英、ケイソウ土、珪酸カルシウム、珪酸ジルコニウム、
ゼオライト、金属酸化物粉末、例えば酸化アルミニウ
ム、酸化チタン、酸化鉄または酸化亜鉛もしくはこれら
の混合酸化物、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、石膏、
窒化ケイ素、炭化ケイ素、窒化ホウ素、ガラス粉末およ
びプラスチック粉末、例えばポリアクリロニトリル粉
末；補強充填剤、つまり５０ｍ2／ｇより大のＢＥＴ表
面積を有する充填剤、例えば熱分解法により製造した珪
酸、沈降珪酸、カーボンブラック、例えばファーネスブ
ラック、アセチレンブラックおよびＢＥＴ表面積の大き
いケイ素−アルミニウム−混合酸化物；繊維状の充填
剤、例えばアスベストならびにプラスチック繊維であ
る。
【００３６】前記の充填剤は、例えばオルガノシランも
しくはオルガノシロキサンでの、またはステアリン酸で
の処理により、あるいはヒドロキシル基をエーテル化し
てアルコキシ基にすることにより疎水化されていてもよ
い。これは１種類の充填剤であってもよいが、少なくと
も２種類の充填剤の混合物もまた使用することができ
る。
しくはオルガノシロキサンでの、またはステアリン酸で
の処理により、あるいはヒドロキシル基をエーテル化し
てアルコキシ基にすることにより疎水化されていてもよ
い。これは１種類の充填剤であってもよいが、少なくと
も２種類の充填剤の混合物もまた使用することができ
る。
【００３７】充填剤として補強充填剤を単独で使用する
場合、透明なＲＴＶ−１−アルコキシ組成物を製造する
ことができる。
場合、透明なＲＴＶ−１−アルコキシ組成物を製造する
ことができる。
【００３８】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物は、充填剤を有利には２質量％以上、特に５質量％以
上、および有利には４０質量％以下、特に１５質量％以
下含有する。
物は、充填剤を有利には２質量％以上、特に５質量％以
上、および有利には４０質量％以下、特に１５質量％以
下含有する。
【００３９】可塑剤として例えばアルキル芳香族化合
物、室温で液状の、トリメチルシロキシ基により末端ブ
ロックされたジメチルポリシロキサンまたは燐酸エステ
ルを使用することができる。可塑剤として使用される有
利なジメチルポリシロキサンは、一般式（Ｖ）： Ｒ9 3Ｓｉ−（Ｏ−ＳｉＲ10 2）h−Ｏ−ＳｉＲ9 3 （Ｖ） ［式中、Ｒ9およびＲ10は、Ｒを表し、かつｈは、１０
〜５００ｍＰａｓのジメチルポリシロキサンの粘度に相
応する値を有する］を有している。
物、室温で液状の、トリメチルシロキシ基により末端ブ
ロックされたジメチルポリシロキサンまたは燐酸エステ
ルを使用することができる。可塑剤として使用される有
利なジメチルポリシロキサンは、一般式（Ｖ）： Ｒ9 3Ｓｉ−（Ｏ−ＳｉＲ10 2）h−Ｏ−ＳｉＲ9 3 （Ｖ） ［式中、Ｒ9およびＲ10は、Ｒを表し、かつｈは、１０
〜５００ｍＰａｓのジメチルポリシロキサンの粘度に相
応する値を有する］を有している。
【００４０】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物は、可塑剤を有利には１０質量％以上、特に２０質量
％以上、および有利には５０質量％以下、特に３５質量
％以下含有する。
物は、可塑剤を有利には１０質量％以上、特に２０質量
％以上、および有利には５０質量％以下、特に３５質量
％以下含有する。
【００４１】カップリング剤として例えばアミノアルキ
ル官能性のシランを使用することができる。一般式（Ｖ
Ｉ）： Ｚ−（ＣＨ2）3−Ｓｉ（ＯＲ11）3 （ＶＩ） ［式中、Ｚは、ＮＨ2、ＮＨ−ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2、ＮＨＲ
およびグリシドキシを表し、かつＲ11は、Ｒの意味を有
する］のシランは有利である。
ル官能性のシランを使用することができる。一般式（Ｖ
Ｉ）： Ｚ−（ＣＨ2）3−Ｓｉ（ＯＲ11）3 （ＶＩ） ［式中、Ｚは、ＮＨ2、ＮＨ−ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2、ＮＨＲ
およびグリシドキシを表し、かつＲ11は、Ｒの意味を有
する］のシランは有利である。
【００４２】γ−アミノプロピルトリエトキシシランは
特に有利である。
特に有利である。
【００４３】有利にはスズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコ
キシ組成物は、カップリング剤を含有していないか、ま
たは１質量％以上、および有利には４質量％以下、特に
３質量％以下含有している。
キシ組成物は、カップリング剤を含有していないか、ま
たは１質量％以上、および有利には４質量％以下、特に
３質量％以下含有している。
【００４４】一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）中ですべての基
Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒα、Ｒβ、Ｒ、Ｒ1〜Ｒ11ならびにすべ
ての変項ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｍ、ｕ、ｖ
およびμは、相互に無関係に同じか、または異なってい
る。
Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒα、Ｒβ、Ｒ、Ｒ1〜Ｒ11ならびにすべ
ての変項ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｍ、ｕ、ｖ
およびμは、相互に無関係に同じか、または異なってい
る。
【００４５】すべての式中でケイ素原子は四価である。
【００４６】スズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物の架橋に関して空気の通例の含水量は十分である。架
橋は、所望の場合、室温よりも高いか、または低い温度
で、例えば−５℃〜１０℃で、または３０℃〜５０℃で
実施することができる。
物の架橋に関して空気の通例の含水量は十分である。架
橋は、所望の場合、室温よりも高いか、または低い温度
で、例えば−５℃〜１０℃で、または３０℃〜５０℃で
実施することができる。
【００４７】従ってスズ触媒含有ＲＴＶ−１−アルコキ
シ組成物は、例えば垂直に走っている継ぎ目を含めた継
ぎ目、および類似の例えば内法の幅１０〜４０ｍｍの間
隙、例えば建物、車両、船舶および航空機のためのパッ
キング組成物として、あるいは例えば窓の建設における
接着剤またはパテとして、ならびに例えば保護被覆また
はゴム弾性成形体の製造のために、ならびに電気もしく
は電子装置の絶縁のために適切である。
シ組成物は、例えば垂直に走っている継ぎ目を含めた継
ぎ目、および類似の例えば内法の幅１０〜４０ｍｍの間
隙、例えば建物、車両、船舶および航空機のためのパッ
キング組成物として、あるいは例えば窓の建設における
接着剤またはパテとして、ならびに例えば保護被覆また
はゴム弾性成形体の製造のために、ならびに電気もしく
は電子装置の絶縁のために適切である。
【００４８】以下に記載の実施例ですべての部のパーセ
ンテージの記載は、その他の記載が無い限り質量に対す
るものである。さらにすべての粘度は２５℃の温度での
記載である。その他の記載が無い限り、以下の実施例は
大気圧で、つまり約１０００ｈＰａであり、かつ室温、
つまり約２０℃もしくは反応体を室温で添加する際に付
加的な加熱または冷却なしで生じる温度で実施する。
ンテージの記載は、その他の記載が無い限り質量に対す
るものである。さらにすべての粘度は２５℃の温度での
記載である。その他の記載が無い限り、以下の実施例は
大気圧で、つまり約１０００ｈＰａであり、かつ室温、
つまり約２０℃もしくは反応体を室温で添加する際に付
加的な加熱または冷却なしで生じる温度で実施する。
【００４９】
【実施例】ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物（＝コンパウ
ンド）の、弾性ゴムへの加硫に基づいて、貯蔵安定性を
貯蔵時間の機能として測定する。コンパウンドの老化を
５０℃での貯蔵により促進する。
ンド）の、弾性ゴムへの加硫に基づいて、貯蔵安定性を
貯蔵時間の機能として測定する。コンパウンドの老化を
５０℃での貯蔵により促進する。
【００５０】例１〜４：真空装置を有する遊星型ミキサ
ー中で、水の遮断下に、−ＯＳｉ（ＯＣＨ3）2（Ｃ
Ｈ3）−末端基を有し、８００００ｍＰａｓの粘度を有
するポリジメチルシロキサン５５．４質量部を、−ＯＳ
ｉ（ＣＨ3）3−末端基を有するポリジメチルシロキサン
（粘度１００ｍＰａｓ）３１．２質量部およびメチルト
リメトキシシラン４．０質量部、乳化剤１．０質量部と
混合する。次いで熱分解法珪酸８．０質量部を混合し、
最後にスズ触媒（テトラエトキシシラン４部とジブチル
スズジアセテート２．２質量部とから製造した反応生成
物）０．４質量部を混合する。真空下での均質化の後、
該コンパウンドを湿気遮断性の容器に充填する。使用し
た界面活性剤および結果は第１表に記載されている。
ー中で、水の遮断下に、−ＯＳｉ（ＯＣＨ3）2（Ｃ
Ｈ3）−末端基を有し、８００００ｍＰａｓの粘度を有
するポリジメチルシロキサン５５．４質量部を、−ＯＳ
ｉ（ＣＨ3）3−末端基を有するポリジメチルシロキサン
（粘度１００ｍＰａｓ）３１．２質量部およびメチルト
リメトキシシラン４．０質量部、乳化剤１．０質量部と
混合する。次いで熱分解法珪酸８．０質量部を混合し、
最後にスズ触媒（テトラエトキシシラン４部とジブチル
スズジアセテート２．２質量部とから製造した反応生成
物）０．４質量部を混合する。真空下での均質化の後、
該コンパウンドを湿気遮断性の容器に充填する。使用し
た界面活性剤および結果は第１表に記載されている。
【００５１】比較例５（本発明によらない）：例１〜４
と同様に行うが、ただし乳化剤を添加しない。結果は第
１表に記載されている。
と同様に行うが、ただし乳化剤を添加しない。結果は第
１表に記載されている。
【００５２】第１表
コンパウンドは界面活性剤の添加で加硫する一方で、添
加剤を使用しないとゴムは得られない。二倍量の触媒を
用いて比較例５を実施すると、ＲＴで３日の貯蔵後に、
少なくともわずかな部分的加硫が見られる。５０℃での
２週間の貯蔵後に、コンパウンドはもはや加硫しない。
これらの例は、所望の触媒作用の活性化および不所望の
平衡化の抑制を示している。
加剤を使用しないとゴムは得られない。二倍量の触媒を
用いて比較例５を実施すると、ＲＴで３日の貯蔵後に、
少なくともわずかな部分的加硫が見られる。５０℃での
２週間の貯蔵後に、コンパウンドはもはや加硫しない。
これらの例は、所望の触媒作用の活性化および不所望の
平衡化の抑制を示している。
【００５３】
【表１】
【００５４】例６〜９：真空装置を有する遊星型ミキサ
ー中で、水の遮断下に、−ＯＳｉ（ＯＣＨ3）2（Ｃ
Ｈ3）−末端基を有し、８００００ｍＰａｓの粘度を有
するポリジメチルシロキサン５４．４質量部を、−Ｓｉ
（ＣＨ3）3−末端基を有するポリジメチルシロキサン
（粘度１００ｍＰａｓ）３０．５質量部、メチルトリメ
トキシシラン４．０質量部、３−アミノプロピル基含有
ポリジメチルシロキサン１．８質量部および乳化剤１．
０質量部と混合する。次いで熱分解法珪酸７．９質量部
を混合し、最後にスズ触媒（テトラエトキシシラン４部
とジブチルスズジアセテート２．２質量部とから製造し
た反応生成物）０．４質量部を混合する。真空下での均
質化の後、該コンパウンドを湿気遮断性の容器に充填す
る。使用した界面活性剤および被膜形成時間（ＨＢＺ）
は第１表に記載されている。
ー中で、水の遮断下に、−ＯＳｉ（ＯＣＨ3）2（Ｃ
Ｈ3）−末端基を有し、８００００ｍＰａｓの粘度を有
するポリジメチルシロキサン５４．４質量部を、−Ｓｉ
（ＣＨ3）3−末端基を有するポリジメチルシロキサン
（粘度１００ｍＰａｓ）３０．５質量部、メチルトリメ
トキシシラン４．０質量部、３−アミノプロピル基含有
ポリジメチルシロキサン１．８質量部および乳化剤１．
０質量部と混合する。次いで熱分解法珪酸７．９質量部
を混合し、最後にスズ触媒（テトラエトキシシラン４部
とジブチルスズジアセテート２．２質量部とから製造し
た反応生成物）０．４質量部を混合する。真空下での均
質化の後、該コンパウンドを湿気遮断性の容器に充填す
る。使用した界面活性剤および被膜形成時間（ＨＢＺ）
は第１表に記載されている。
【００５５】比較例１０（本発明によらない）：例６〜
９に記載したように行うが、ただし乳化剤を添加しな
い。結果は第２表に記載されている。
９に記載したように行うが、ただし乳化剤を添加しな
い。結果は第２表に記載されている。
【００５６】
【表２】
【００５７】比較例１０に関するＨＢＺは安定している
にもかかわらず、加硫は平衡化の開始により阻害される
ことが明らかにされうる。
にもかかわらず、加硫は平衡化の開始により阻害される
ことが明らかにされうる。
【００５８】例１１：真空装置を有する遊星型ミキサー
中で、水の遮断下に、ＯＨ−末端基を有し、８００００
ｍＰａｓの粘度を有するポリジメチルシロキサン５４．
０質量部を、ＯＳｉ（ＣＨ3）3−末端基を有するポリジ
メチルシロキサン（粘度１００ｍＰａｓ）３０質量部お
よびメチルトリメトキシシランとビニルトリメトキシシ
ランとからなる２：１の混合物４質量部、ポリグリコー
ルホスフェート０．８質量部および酸性の燐酸エステル
０．２質量部と混合する。ついでアミノプロピル基含有
カップリング剤２．２質量部を添加し、熱分解法珪酸
８．５質量部を混合し、かつ最後にスズ触媒（テトラエ
トキシシラン４部とジブチルスズジアセテート２．２質
量部とから製造した反応生成物）０．４質量部を混合す
る。真空下での均質化の後、該コンパウンドを湿気遮断
性の容器に充填する。模範的な組成物の被膜形成時間
は、２０分の出発値を有しており、この値は２８日／５
０℃および５６日／５０℃でも変化しない。該コンパウ
ンドは良好に加硫する。
中で、水の遮断下に、ＯＨ−末端基を有し、８００００
ｍＰａｓの粘度を有するポリジメチルシロキサン５４．
０質量部を、ＯＳｉ（ＣＨ3）3−末端基を有するポリジ
メチルシロキサン（粘度１００ｍＰａｓ）３０質量部お
よびメチルトリメトキシシランとビニルトリメトキシシ
ランとからなる２：１の混合物４質量部、ポリグリコー
ルホスフェート０．８質量部および酸性の燐酸エステル
０．２質量部と混合する。ついでアミノプロピル基含有
カップリング剤２．２質量部を添加し、熱分解法珪酸
８．５質量部を混合し、かつ最後にスズ触媒（テトラエ
トキシシラン４部とジブチルスズジアセテート２．２質
量部とから製造した反応生成物）０．４質量部を混合す
る。真空下での均質化の後、該コンパウンドを湿気遮断
性の容器に充填する。模範的な組成物の被膜形成時間
は、２０分の出発値を有しており、この値は２８日／５
０℃および５６日／５０℃でも変化しない。該コンパウ
ンドは良好に加硫する。
【００５９】比較例１２（本発明によらない）：例１１
と同様に行うが、ただし乳化剤を添加しない。該組成物
は３−アミノプロピル基含有カップリング剤の添加後
に、完全にコンパウンド化することができない。という
のもこれは不均質でゴム状になるからである。
と同様に行うが、ただし乳化剤を添加しない。該組成物
は３−アミノプロピル基含有カップリング剤の添加後
に、完全にコンパウンド化することができない。という
のもこれは不均質でゴム状になるからである。
【００６０】現場で末端ブロックしたシロキサンの加工
性は保持されていることが示される。同時に、ＲＴＶ−
１−アルコキシ組成物の長期間安定性が示される。
性は保持されていることが示される。同時に、ＲＴＶ−
１−アルコキシ組成物の長期間安定性が示される。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ズザンネ シュトラウスベルガー
ドイツ連邦共和国 メーリング ハイデ
ガッセ ４
(72)発明者 ヴォルフガング ヘヒトル
ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン ロ
ーベルト−コッホ−シュトラーセ 53
(56)参考文献 特開 平10−292167（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−183902（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−58590（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−43262（ＪＰ，Ａ)
特開 昭54−127960（ＪＰ，Ａ)
特開 昭53−130752（ＪＰ，Ａ)
特開 昭49−134759（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C08L 1/00 - 101/16
C08K 3/00 - 13/08
Claims (6)
- 【請求項１】 界面活性剤Ｔを含有しているスズ触媒含
有ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物において、（Ａ）アルコキシ基末端のオルガノポリシロキサン ３
５質量％以上、 （Ｂ）少なくとも３つのアルコキシ基を有するアルコキ
シシランおよび／またはその部分水解物 ０．５質量％
以上を含有し、さらにスズ触媒は、ジオルガノスズジア
シレートと、酸素を介してケイ素に結合しており、アル
コキシ基により置換されていてもよい一価の炭化水素基
を加水分解可能な基として、１分子あたり少なくとも２
つ有しているシランまたはそのオリゴマーとの反応生成
物であり、その際、これらの反応生成物中でスズ原子の
すべての原子価は基≡ＳｉＯＳｎ≡または≡ＣＯＳｎ≡
の酸素原子により、もしくはＳｎＣ結合した一価の有機
基により飽和であり 、界面活性剤Ｔは一般式Ｉ： −Ｏ−［（ＣＲαＲβ）ｕ−Ｏ］ｖ− Ｉ ［式中、 ＲαおよびＲβは、水素基を表すか、またはヒドロキシ
ル基、フッ素基、塩素基、臭素基、Ｃ１〜Ｃ１０−アル
コキシアルキル基もしくはシアノ基で置換されていても
よい一価のＣ１〜Ｃ１０−炭化水素基を表し、 ｕは、１〜６の整数値を表し、かつｖは、３〜１００の
値を表す］のポリエーテル単位を含有しており、その
際、該ＲＴＶ−１−アルコキシ組成物は、スズ触媒を
０．０１質量％以上および界面活性剤（Ｔ）を０．０１
質量％以上含有し、かつ一般式ＩＩ： (ＨＯ)ａＯＰ(−Ｏ−［(ＣＲ１ ２)ｂ−Ｏ］ｃ［(ＣＲ２
２)ｄ］ｅ−Ｌ−Ｍ)（３−ａ） ＩＩ ［式中、 ａは、１または２の値を表し、 Ｒ１およびＲ２は、水素基、メチル基またはヒドロキシ
ル基を表し、 ｂおよびｄは、２または３の値を表し、 ｃは、２〜１５の整数値を表し、 ｅは、０または１の値を表し、 Ｌは、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＣＯＮＲ３
−、ＮＲ４ＣＯ−および−ＣＯ−の群からの基を表し、 Ｒ３およびＲ４は、水素基またはＣ１〜Ｃ１０−アルキ
ル基を表し、かつＭは、ヒドロキシル基、フッ素基、塩
素基、臭素基、Ｃ１〜Ｃ１０−アルコキシアルキル基も
しくはシアノ基で置換されていてもよい一価のＣ１〜Ｃ
２０−炭化水素基を表すが、ただしその際、それぞれの
炭素原子に接している基Ｒ１およびＲ２は１個だけがヒ
ドロキシル基であってもよい］の酸性の燐酸エステルを
含有していないことを特徴とする、スズ触媒含有ＲＴＶ
−１−アルコキシ組成物。 - 【請求項２】 界面活性剤Ｔが、一般式Ｉのポリエーテ
ル単位を少なくとも２０質量％含有している、請求項１
記載のＲＴＶ−１−アルコキシ組成物。 - 【請求項３】 一般式Ｉ中のＲαおよびＲβが、相互に
無関係に水素基またはＣ１〜Ｃ３−アルキル基を表す、
請求項１または２記載のＲＴＶ−１−アルコキシ組成
物。 - 【請求項４】 （Ａ）アルコキシ基末端のオルガノポリ
シロキサン ３５質量％以上、 （Ｂ）少なくとも３つのアルコキシ基を有するアルコキ
シシランおよび／またはその部分水解物 ０．５質量％
以上およびスズ触媒を含有し、その際、スズ触媒は、ジ
オルガノスズジアシレートと、酸素を介してケイ素に結
合しており、アルコキシ基により置換されていてもよい
一価の炭化水素基を加水分解可能な基として、１分子あ
たり少なくとも２つ有しているシランまたはそのオリゴ
マーとの反応生成物であり、その際、これらの反応生成
物中でスズ原子のすべての原子価は基≡ＳｉＯＳｎ≡ま
たは≡ＣＯＳｎ≡の酸素原子により、もしくはＳｎＣ結
合した一価の有機基により飽和である、 スズ触媒含有Ｒ
ＴＶ−１−アルコキシ組成物を安定化するための方法に
おいて、一般式Ｉ： −Ｏ−［（ＣＲ α Ｒ β ） ｕ −Ｏ］ ｖ − Ｉ ［式中、 Ｒ α およびＲ β は、水素基を表すか、またはヒドロキシ
ル基、フッ素基、塩素 基、臭素基、Ｃ １ 〜Ｃ １０ −アル
コキシアルキル基もしくはシアノ基で置換されていても
よい一価のＣ １ 〜Ｃ １０ −炭化水素基を表し、 ｕは、１〜６の整数値を表し、かつｖは、３〜１００の
値を表す］のポ リエーテル単位を含有している界面活性
剤Ｔ ０．０１質量％以上を該組成物に添加するが、一
般式ＩＩ： (ＨＯ) ａ ＯＰ(−Ｏ−［(ＣＲ １ ２ ) ｂ −Ｏ］ ｃ ［(ＣＲ ２
２ ) ｄ ］ ｅ −Ｌ−Ｍ) （３−ａ） ＩＩ ［式中、 ａは、１または２の値を表し、 Ｒ １ およびＲ ２ は、水素基、メチル基またはヒドロキシ
ル基を表し、 ｂおよびｄは、２または３の値を表し、 ｃは、２〜１５の整数値を表し、 ｅは、０または１の値を表し、 Ｌは、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＣＯＮＲ ３
−、ＮＲ ４ ＣＯ−および−ＣＯ−の群からの基を表し、 Ｒ ３ およびＲ ４ は、水素基またはＣ １ 〜Ｃ １０ −アルキ
ル基を表し、かつＭは、ヒドロキシル基、フッ素基、塩
素基、臭素基、Ｃ １ 〜Ｃ １０ −アルコキシアルキル基も
しくはシアノ基で置換されていてもよい一価のＣ １ 〜Ｃ
２０ −炭化水素基を表すが、ただしその際、それぞれの
炭素原子に接している基Ｒ １ およびＲ ２ は１個だけがヒ
ドロキシル基であってもよい］の酸性の燐酸エステルを
添加しない ことを特徴とする、スズ触媒含有ＲＴＶ−１
−アルコキシ組成物の安定化方法。 - 【請求項５】 界面活性剤Ｔが、一般式Ｉのポリエーテ
ル単位を少なくとも２０質量％含有している、請求項４
記載の方法。 - 【請求項６】 一般式Ｉ中のＲαおよびＲβが、相互に
無関係に水素基またはＣ１〜Ｃ３−アルキル基を表す、
請求項４または５記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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