JP3531521B2 - 真空圧力調整装置 - Google Patents
真空圧力調整装置Info
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Description
作動する流体圧機器に対し、調整された所定の真空圧力
を供給することが可能な真空圧力調整装置に関する。
吸着用パッド等の吸着手段を用いてワークを吸着・搬送
することが行われている。前記吸着用パッドに対して真
空ポンプから真空圧力を供給する場合、真空ポンプと吸
着用パッドとの間には、真空ポンプからの真空圧力を所
定の値に調整して吸着用パッドに供給する、例えば、真
空レギュレータ等の真空圧力調整装置が設けられる。
ュレータを図4に示す(特開平7−295655号公報
参照)。
の真空圧力供給源2に接続される真空ポート3と吸着用
パッド等の真空圧作動機器4に接続される調圧ポート5
とが形成されたハウジング6を備える。
に沿って延在する孔部7が形成され、前記孔部7内には
弁軸8が摺動自在に設けられる。前記弁軸8には、第1
圧縮コイルばね9のばね力によって弁座10に着座する
ように付勢された弁体11が連結され、前記弁体11に
は、ゴム等の弾性体からなり、前記弁座10に当接する
シール部材12が固着されている。この場合、前記弁体
11は、第1圧縮コイルばね9のばね力によって、常
時、弁閉状態となるように付勢されており、弾性体から
なる前記シール部材12が環状の突起部からなる弁座1
0に食い込んだ状態で着座している(図5参照)。
して外部に連通する大気室14と、バイパス孔15を介
して調圧ポート5に連通する真空室16とがダイヤフラ
ム17によって区画形成されている。
連動ディスク18には、前記弁軸8により開閉される連
通ポート19が形成されている。また、ハウジング6の
内部には、弁体11に対して弁座10から離間する方向
に付勢するばね力を有する第2圧縮コイルばね20が配
設され、前記第2圧縮コイルばね20は、ハンドル21
によりそのばね力が調整されるように設けられている。
よって調圧ポート5の真空圧力が設定され、前記真空圧
力が所定圧以下となったときには、大気が調圧ポート5
に供給されるように設けられている。
従来技術に係る真空レギュレータ1では、弁体11が弁
閉状態にある場合、第1圧縮コイルばね9のばね力によ
って該弁体11のシール部材12が弁座10に食い込ん
だ状態にあるため、ハンドル21を回動操作し所定の真
空圧力を微調整してもその応答感度が鈍いという不都合
がある。
れた他の真空圧力に再設定する場合、弁体11が弁座1
0から確実に離間して弁開状態とし、真空ポート3と調
圧ポート5とを連通させて前記調圧ポート5から導出さ
れる真空圧力を変化させることが必要である。前記弁体
11が弁開状態となるためには、まず、弁座10に対し
てシール部材12が食い込んでいる分だけ弁体11が僅
かに変位し、続いて、前記弁体11のシール部材12が
弁座10から離間して所定のクリアランスが形成される
必要がある。
弁座10に対してシール部材12が食い込んでいる分だ
け弁体11が僅かに変位しても真空圧力が変化しない、
いわゆる不感帯が生じるため、真空圧力が変化を開始す
るまでに時間がかかり、応答速度が遅くなるという不都
合がある。
では、ある所定の真空圧力を微調整して他の真空圧力に
再設定した場合、前記不感帯が生じるために、再設定さ
れた真空圧力の設定精度が劣るとともに、その設定作業
に多くの時間を要し煩雑であるという不都合がある。
なされたものであり、不感帯を減少させることにより応
答感度および設定精度を向上させ、しかも真空圧力の設
定作業を簡便に遂行することが可能な真空圧力調整装置
を提供することを目的とする。
めに、本発明は、真空圧力によって作動する流体圧機器
に対し、調整された所定の真空圧力を供給する真空圧力
調整装置であって、真空圧力供給源に接続される真空ポ
ートと、真空圧作動機器に接続される調圧ポートと、大
気に連通する大気ポートとを有するハウジングと、前記
ハウジングの軸線方向に沿った一端部に回動自在に設け
られたハンドルを有し、前記ハンドルの回動作用下に所
定の真空圧力を設定する操作部と、前記ハウジングの内
部に軸線方向に沿って変位自在に設けられ、着座部に着
座することにより、前記真空ポートと前記調圧ポートと
の連通を遮断する弁体と、前記大気ポートから導入され
た大気を、着座部に着座する弁体と前記着座部との間を
経由して真空ポート側に向かって吸引することにより、
前記着座部に着座する前記弁体の食い込みを阻止する大
気吸引手段と、を備え、前記大気吸引手段は、大気ポー
トから導入された大気をダイヤフラムによって閉塞され
た真空室に導入するブリード通路と、前記真空室に導入
された大気を調圧ポートに導入するフィードバック通路
とを含み、弁体が着座部に着座した弁閉状態にある場
合、前記調圧ポートに導入された大気は、着座部と弁体
との間のクリアランスを介して真空ポート側に向かって
吸引されることを特徴とする。
大気の流量を微小量に絞る絞り孔が形成された絞り部材
を設けると好適である。
弁閉状態にある場合、ブリード通路を介して大気ポート
から導入された大気をダイヤフラムによって閉塞された
真空室に導入し、続いて、フィードバック通路を介して
前記真空室に導入された大気を調圧ポートに導入し、さ
らに、前記調圧ポートに導入された大気は、着座部と弁
体との間のクリアランスを介して真空ポート側に向かっ
て吸引されることにより、前記着座部に着座部に着座す
る前記弁体の食い込みが阻止される。
る不感帯を減少させることにより、応答感度および設定
精度が向上する。
ついて好適な実施の形態を挙げ、添付の図面を参照しな
がら以下詳細に説明する。
実施の形態に係る真空レギュレータを示す。
は、略直方体状を呈するボデイ部32と、前記ボデイ部
32の上部に一体的に連結されるボンネット34と、前
記ボンネット34の上部側に回動自在に設けられる操作
部36とから構成される。なお、前記ボデイ部32およ
びボンネット34は、ハウジングとして機能するもので
ある。
一体的に積層された第1ボデイ40および第2ボデイ4
2を有し、前記第1ボデイ40の相互に対向する両側面
には、真空圧力供給源44に接続される真空ポート46
と吸着用パッド等の真空圧作動機器48に接続される調
圧ポート50とが所定間隔離間して同軸状に形成されて
いる。前記真空ポート46と調圧ポート50との間に
は、該真空ポート46と調圧ポート50とを連通させる
連通路52が形成される。
形成された孔部54を閉塞する閉塞部材56が螺入さ
れ、前記閉塞部材56には後述する弁体58の端部が摺
動するガイド孔60が形成されている。
向に沿って延在する孔部62が形成され、前記孔部62
に沿って弁体58が変位自在に設けられる。前記弁体5
8の中間部には徐々に直径が拡径する傘部64が形成さ
れ、前記傘部64の傾斜面には、例えば、ゴム等の弾性
体からなるシール部材66が固着されている。第1ボデ
イ40の略中央部には、環状の凸部からなる着座部68
が形成され、前記着座部68に前記弁体58のシール部
材66が着座することにより連通路52が遮断される。
ング体71が嵌合され、前記リング体71と閉塞部材5
6の環状凹部73との間に第1ばね部材74が係着され
る。該弁体58は、前記第1ばね部材74のばね力によ
って該弁体58のシール部材66が着座部68に着座し
て、常時、弁閉状態となるように付勢されている。
は、前記弁体58を着座部68から離間する方向に向か
って付勢する第2ばね部材75を介してダイヤフラム7
2が介装され、前記ダイヤフラム72の膨出した周縁部
77は、第2ボデイ42に形成された環状凹部とボンネ
ット34の壁面との間で挟持される。前記ダイヤフラム
72の上部側には、ボンネット34によって閉塞され、
フィードバック通路76によって調圧ポート50に連通
する真空室78が設けられ、該ダイヤフラム72の下部
側には、通路80を介して大気と連通する大気室82が
設けられる。従って、第2ボデイ42およびボンネット
34によって閉塞された内部空間は、ダイヤフラム72
を間にして上部側の真空室78と下部側の大気室82と
に区画形成されている。なお、前記大気室82には、ダ
イヤフラム72を上方に向かって押圧する第3ばね部材
84が配設されている。
2に設けられたブリード通路86を介して大気ポート8
8に連通するように設けられているとともに、フィード
バック通路76を介して調圧ポート50と連通するよう
に設けられている。前記ブリード通路86には、図2に
示されるように、微小な直径からなるブリード孔(絞り
孔)90が形成された絞り部材92が設けられ、前記ブ
リード孔90によって真空室78に流入する大気の吸い
込み量が絞られる。なお、参照符号94a、94bは、
ブリード通路86およびフィードバック通路76にそれ
ぞれ介装されたシールリングを示し、参照符号95は、
ブリード通路86およびフィードバック通路76を気密
に保持するボール状の栓部材を示す。
側との間で該ダイヤフラム72の中央部を挟持する一組
のディスク部材96、98が設けられ、下面側のディス
ク部材98には真空室78と大気室82とを連通させる
貫通孔によって連通ポート100が形成されている。前
記連通ポート100は、弁体58の一端部がディスク部
材98の着座部102に着座することにより閉塞され、
前記弁体58の一端部が着座部102から離間すること
により開成するように設けられている。
部を囲繞することにより大気室82を気密に保持するシ
ール部材を示し、参照符号106は、前記シール部材1
04を係止するリング体を示す。
動自在に設けられた真空圧力設定用のハンドル108
と、断面角形状の一端部110が前記ハンドル108の
断面角形状の孔部内に嵌合され、外周面にねじ部112
が刻設された軸部材114と、ハンドル108の回動作
用下に前記ねじ部112に螺回して軸部材114の軸線
方向に沿って変位するばね受け部材116とを有する。
タ30は、基本的には以上のように構成されるものであ
り、次にその動作並びに作用効果について説明する。
を介して真空ポート46に真空圧力供給源44を接続
し、一方、調圧ポート50に、例えば、吸着用パッド等
の真空圧作動機器48を接続しておく。
ル108を所定方向に回動させ、軸部材114を螺回す
るばね受け部材116の変位作用下に第2ばね部材75
のばね力によってダイヤフラム72が下方側に押圧さ
れ、前記ダイヤフラム72および弁体58が一体的に下
方側に変位し、前記弁体58が着座部68から離間する
ことにより連通路52が開成され、真空ポート46と調
圧ポート50とが連通する。
に調圧された真空圧力が調圧ポート50に接続された真
空圧作動機器48に安定して供給される。
機器48に供給される真空圧力は、フィードバック通路
76を介して真空室78に導入されるため、前記真空室
78の真空圧力は調圧ポート50と略同圧に設定され
る。この場合、真空室78内に導入された真空圧力の作
用下に、ダイヤフラム72および一組のディスク部材9
6、98には一体的に上方に向かって引き戻す力が付与
され、このダイヤフラム72および一組のディスク部材
96、98を上方に向かって引き戻す力と第2ばね部材
75のばね力とが平衡することにより、弁体58が着座
部68に着座して弁閉状態となり、予め設定された所望
の真空圧力が調圧ポート50を介して真空圧作動機器4
8に供給される。
吸着用パッドからワークが離脱したときのように、真空
圧作動機器48に大気の吸い込みによる圧力変化が生じ
た場合、調圧ポート50側の真空圧力が低下し、同時に
真空室78の真空圧力も低下する。従って、ダイヤフラ
ム72に付与される上方に向かって引き戻す力が減少
し、第2ばね部材75のばね力との平衡状態がくずれ、
前記引き戻す力に対して第2ばね部材75のばね力が打
ち勝った状態となる。
ディスク部材96、98は、前記第2ばね部材75のば
ね力の作用下に下方側に向かって変位し、前記ダイヤフ
ラム72と一体的に弁体58も下方側に向かって変位す
ることにより、該弁体58が着座部68から離間して弁
開状態となる。この結果、連通路52を介して真空ポー
ト46と調圧ポート50とが連通し、調圧ポート50側
の真空圧力が増大する。なお、大気の吸い込みが止まる
まで前記弁体58は弁開状態を維持し、大気の吸い込み
が停止することにより弁体58が弁閉状態となる。
作動機器48に導出される真空圧力を低下させる(真空
圧力を大気圧側に変更する)ように調整する場合、ハン
ドル108を所定方向に回動させると、前記ハンドル1
08の回動作用下に第2ばね部材75のばね力が減少
し、ダイヤフラム72に付与される上方に向かって引き
戻す力が前記第2ばね部材75のばね力に打ち勝った状
態となる。従って、ダイヤフラム72および一組のディ
スク部材96、98が上方に向かって変位することによ
り連通ポート100が開成され、前記連通ポート100
を介して大気室82から真空室78に向かって大気が流
入する。この結果、真空室78内に大気が吸い込まれる
ことにより真空室78の真空圧力が低下し、同時に、フ
ィードバック通路76を介して真空室78の真空圧力が
供給される調圧ポート50の真空圧力も低下する。この
ように、ハンドル108の回動作用下に変化した第2ば
ね部材75の新たなばね力とダイヤフラム72に付与さ
れる上方に向かって引き戻す力とが再度平衡する時点で
連通ポート100が閉塞し、再設定された真空圧力が調
圧ポート50を介して真空圧作動機器48に導出され
る。
合、図3の矢印に示されるように、大気ポート88から
吸い込まれた大気は、ブリード通路86に設けられた絞
り部材92のブリード孔90によってその流通量が微小
量に絞られた後、ブリード通路86に連通する真空室7
8に導入され、さらに、フィードバック通路76を介し
て調圧ポート50に供給される。この微小量の大気は、
さらに、着座部68に着座する弁体58を通過して真空
ポート46側に吸引される。
合であっても、常時、微少量のエアーが着座部68に着
座する弁体58を通過して真空ポート46側に吸引され
ることにより、弁体58のシール部材66と着座部68
との間に微小なクリアランスが形成され、この微小なク
リアランスによって弁体58のシール部材66が着座部
68に食い込むことが阻止される。
第2ばね部材75のばね力と真空室78内の真空圧力の
作用下にダイヤフラム72を上方に向かって引き戻す力
とが平衡することにより、真空圧力を設定圧に保持する
機能を有する。このため、大気ポート88を通じて常時
吸い込まれているエアーは、その逃げとして弁体58の
シール部材66の着座部68との間を通過することによ
り、前記シール部材66と着座部68との間に微小のク
リアランスが形成され、前記シール部材66が着座部6
8に食い込むことが阻止される。
対して弁体58のシール部材66が食い込んでいる分だ
け該弁体58を僅かに変位させる必要がなく、従来技術
のように真空圧力が変化しない、いわゆる不感帯を減少
させ、弁閉状態を弁開状態に瞬時に切り換えることがで
きることにより、応答速度を向上させることができる。
係る真空レギュレータ1と比較して応答感度を高めるこ
とができる。
圧力を微調整して他の真空圧力に再設定した場合、前記
不感帯を減少させることにより、再設定された真空圧力
の設定精度が向上し、しかも、その設定作業を簡便に遂
行することができる。
ば、以下の効果が得られる。
トから導入された微小量の大気が、着座部と弁体との間
を通過して真空ポート側に向かって、常時、吸引されて
いることにより、着座部に対して弁体が食い込んでいる
分だけ該弁体を僅かに変位させる必要がなく、真空圧力
が変化しない、いわゆる不感帯を減少させ、弁閉状態を
弁開状態に瞬時に切り換えることが可能となり、応答速
度を向上させることができる。この結果、従来技術に係
る真空レギュレータと比較して応答感度を高めることが
ことができる。
の真空圧力に再設定した場合、前記不感帯を減少させる
ことにより、再設定された真空圧力の設定精度が向上
し、しかも、その設定作業を簡便に遂行することができ
る。
軸線方向に沿った縦断面図である。
通路の拡大縦断面図である。
して微小量のエアーが真空ポート側に吸い込まれる状態
を示す動作説明図である。
沿った縦断面図である。
分拡大縦断面図である。
源 46…真空ポート 48…真空圧作動機
器 50…調圧ポート 52…連通路 58…弁体 64…傘部 68、102…着座部 72…ダイヤフラム 74、75、84…ばね部材 76…フィードバッ
ク通路 78…真空室 82…大気室 86…ブリード通路 88…大気ポート 90…ブリード孔 92…絞り部材 100…連通ポート 108…ハンドル 114…軸部材 116…ばね受け部
材
Claims (2)
- 【請求項1】真空圧力によって作動する流体圧機器に対
し、調整された所定の真空圧力を供給する真空圧力調整
装置であって、 真空圧力供給源に接続される真空ポートと、真空圧作動
機器に接続される調圧ポートと、大気に連通する大気ポ
ートとを有するハウジングと、 前記ハウジングの軸線方向に沿った一端部に回動自在に
設けられたハンドルを有し、前記ハンドルの回動作用下
に所定の真空圧力を設定する操作部と、 前記ハウジングの内部に軸線方向に沿って変位自在に設
けられ、着座部に着座することにより、前記真空ポート
と前記調圧ポートとの連通を遮断する弁体と、 前記大気ポートから導入された大気を、着座部に着座す
る弁体と前記着座部との間を経由して真空ポート側に向
かって吸引することにより、前記着座部に着座する前記
弁体の食い込みを阻止する大気吸引手段と、 を備え、 前記大気吸引手段は、大気ポートから導入された大気を
ダイヤフラムによって閉塞された真空室に導入するブリ
ード通路と、前記真空室に導入された大気を調圧ポート
に導入するフィードバック通路とを含み、 弁体が着座部に着座した弁閉状態にある場合、前記調圧
ポートに導入された大気は、着座部と弁体との間のクリ
アランスを介して真空ポート側に向かって吸引され るこ
とを特徴とする真空圧力調整装置。 - 【請求項2】請求項1記載の装置において、 前記大気吸引手段は、吸引される大気の流量を微小量に
絞る絞り孔が形成された絞り部材を有することを特徴と
する真空圧力調整装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07859099A JP3531521B2 (ja) | 1999-03-23 | 1999-03-23 | 真空圧力調整装置 |
TW089102458A TW457412B (en) | 1999-03-23 | 2000-02-15 | Vacuum pressure-adjusting apparatus |
CN00104124A CN1112622C (zh) | 1999-03-23 | 2000-03-14 | 真空压力调节装置 |
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KR1020000014015A KR100333053B1 (ko) | 1999-03-23 | 2000-03-20 | 진공압력 조정장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07859099A JP3531521B2 (ja) | 1999-03-23 | 1999-03-23 | 真空圧力調整装置 |
Publications (2)
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