JP3531116B2 - はんだ付け装置用の窒素ガス供給方法及び装置 - Google Patents
はんだ付け装置用の窒素ガス供給方法及び装置Info
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Description
素ガス供給方法及び装置に関し、詳しくは、電子部品製
造工場等において、はんだ付け工程を窒素ガス雰囲気中
にて行うはんだ付け装置に酸素含有量の少ない高純度窒
素ガスを供給する方法及び装置に関する。
に電子部品を表面実装するには、基板に形成された銅箔
等の回路パターンの電極部に電子部品を装着した後、溶
融はんだと接触させるフロー法と、はんだとフラックス
とを混合したクリームはんだの上に電子部品を載せて熱
処理するリフロー法とが、一般に行われている。
気中で行われていたが、大気中にあっては、銅箔等から
なる回路パターンやはんだが、加熱により酸化しやす
く、はんだのヌレ性が低下して、電子部品を基板に良好
に接合できなくなったり、リフロー法においては、クリ
ームはんだに使用されるフラックスが加熱処理中に酸化
が進む分、多量に必要となり、加熱処理後の基板上に多
く残るため、このフラックス除去のためにフロン洗浄が
必要となるなどの問題があった。
が酸化しないように、酸素をほとんど含まない窒素ガス
雰囲気中で加熱処理を行う方法が広く用いられるように
なってきた。このときの窒素ガス雰囲気中の酸素濃度
は、一般に0.1容積%以下(窒素純度99.9容積%
に相当)が適当とされている。
従来から圧力変動吸着分離(PSA)式窒素発生装置、
膜式窒素発生装置、液化窒素ガス貯蔵供給装置、燃焼式
窒素発生装置等が知られている。この内、液化窒素ガス
貯蔵供給装置は、高純度の窒素(99.9999容積%
以上)を容易に入手できるが、低温貯槽及び蒸発設備等
を設ける必要があり、設備が大きくなり、設備コストも
高いという欠点があるだけでなく、さらに高圧ガス取締
法の適応を受けるので、保安の面でもはんだ付け装置用
の窒素発生装置としては一般的ではない。
灯油や重油を高温度(1000℃付近)で燃焼させて酸
素含有濃度の低い窒素を発生させる装置であるが、高温
度で燃焼させるため、窒素酸化物(NOx)の発生を避
けることができないなどの問題がある。
窒素発生装置として、PSA式窒素発生装置,膜式窒素
発生装置が注目されている。
付け装置においては、はんだ付工程部分の密閉性が良く
ないため、大気の洩れ込みにより、はんだ付け装置内の
雰囲気中の酸素濃度が増加するので、実際に必要な窒素
雰囲気純度よりも高純度な99.99容積%や99.9
99容積%の純度のものを供給することが必要となって
いる。
PSA式窒素発生装置は、99.99容積%や99.9
99容積%の窒素ガスを得ることが可能ではあるが、こ
れらの高純度の窒素ガスを得ようとすると、製品窒素の
回収率が低下するため、原料空気の圧縮機用として、よ
り大きな動力を必要とするとともに、装置構成も大規模
なものとなる不都合があった。
が小さいという点で他の装置と比較して勝っているが、
膜性能が未熟であるため、単段では高純度の窒素ガスを
得られず、また多段化すると経済的な問題が出てくる。
しかし、95〜99容積%の純度(酸素濃度で1〜5容
積%)ならば、十分に経済性のある窒素ガスが得られる
ため、さらにこの窒素ガスを高純度化する方法が求めら
れている。
積%の純度の窒素を製造する窒素発生装置の後段で水素
を用いた精製装置により含有酸素を除去し、高純度の窒
素ガスを得る方法が知られている(特公昭62−229
23号公報参照)。
置で使用する水素は、通常、ボンベで供給されるため、
定期的に水素ボンベを交換する必要があるので面倒なだ
けでなく、一般にはんだ付け装置を設置する電子部品工
場等で新たに水素ボンベを設置することは安全管理の面
から好ましくない。
を使用せずに酸素含有濃度の低い高純度窒素を小さな設
置スペースで、経済的に発生させる方法を鋭意検討し
た。その結果、はんだ付け装置を有する電子部品工場等
では、各種電子部品の洗浄等でアルコールを使用してい
る点に注目し、このアルコールを用いて窒素ガス中の酸
素を除去する方法及び装置を考案した。
だ付け装置用の窒素ガス供給方法は、膜分離装置で分離
した窒素ガスを、はんだ付け工程を窒素ガス雰囲気中に
て行うはんだ付け装置に供給する方法において、前記窒
素ガスに、水素を除く常温で気体又は液体の可燃性物質
を添加した後、触媒層に通して含有する酸素を除去する
にあたり、前記膜分離装置で分離した窒素ガスの一部を
分岐し、該分岐した窒素ガスにより液状可燃性物質を収
容した容器内を加圧し、該加圧により前記容器内から前
記液状可燃性物質を導出して残部の窒素ガスに添加する
ことを特徴とするものであり、さらに、前記可燃性物質
の添加及び前記触媒層による酸素除去を複数回繰返して
行うこと、前記可燃性物質がアルコールであること、前
記触媒層が、触媒として白金,パラジウム等の貴金属及
び酸化クロム(III) ,二酸化マンガン,酸化銅(II),酸
化鉄(III) ,酸化ニッケル等の金属酸化物のいずれか単
独あるいは二種以上を組合わせたものであること、前記
窒素ガス中の酸素量を分析計及び流量計により検出し、
該検出された酸素量に応じて前記可燃性物質の添加量を
制御することを特徴としている。
ス供給装置は、はんだ付け工程を窒素ガス雰囲気中にて
行うはんだ付け装置に供給する窒素ガスを分離する膜分
離装置と、前記窒素ガスに水素を除く常温で気体又は液
体の可燃性物質を添加する可燃性物質添加手段と、窒素
ガス中に含まれる酸素と前記可燃性物質とを反応させる
触媒層とを備えたはんだ付け装置用の窒素ガス供給装置
において、前記可燃性物質添加手段は、液状可燃性物質
を収容する容器と、該容器に前記膜分離装置で分離した
窒素ガスの一部を導入して加圧する経路と、該容器から
液状可燃性物質を導出して前記触媒層の入口側に導入す
る経路とを備えていることを特徴とするものであり、さ
らに、前記可燃性物質の添加手段及び前記触媒層が、複
数段設けられていること、加えて、前記可燃性物質がア
ルコールであること、前記触媒層が、触媒として白金,
パラジウム等の貴金属及び酸化クロム(III) ,二酸化マ
ンガン,酸化銅(II),酸化鉄(III) ,酸化ニッケル等の
金属酸化物のいずれか単独あるいは二種以上を組合わせ
たものであること、前記窒素ガス中の酸素濃度を測定す
る分析計及び窒素ガス流量を測定する流量計と、該分析
計及び流量計により測定された酸素濃度及び流量から酸
素量を算出する演算手段と、該算出された酸素量に応じ
て前記可燃性物質の添加量を制御する制御手段とを備え
たことを特徴とし、さらに、このような窒素ガス供給装
置をはんだ付け装置に一体的に組込んだことを特徴とす
るものである。
発生装置から得られた不純物として酸素を含む窒素ガス
である。膜式窒素発生装置としては、経済効率や装置の
設置スペースの縮小等から、比較的低純度、例えば95
〜99容積%の窒素ガスを発生させる構成のものを使用
することが望ましい。なお、この膜式窒素発生装置は、
95容積%程度の窒素ガスを発生させる際には、他の窒
素発生源に比べて窒素の回収率が高く、効率のよい運転
を行える利点を有しており、また、装置構成が単純で小
型化できる利点も有している。
めに添加する可燃性物質としては、窒素中の酸素と反応
して水や二酸化炭素を生成する物質であって、水素を除
く常温で気体又は液体の各種物質を用いることができ、
例えば、メタノール,エタノール,2−プロパノール,
ブタノール等のアルコール類をはじめとして、一酸化炭
素や、各種のアルデヒド類,ケトン類,エーテル類,炭
化水素を用いることが可能である。これらの各種可燃性
物質の中で、特にアルコール類、とりわけエタノールや
2−プロパノールは、はんだ付け装置を設置する電子部
品工場等で電子部品の洗浄用として使われているので、
水素ボンベのように新たに設置する必要もなく、既設の
設備を利用できる利点を有するだけでなく、取扱いも簡
単であることから、本発明で用いる可燃性物質として最
も適している。
ス中に不純物として含まれる酸素が完全燃焼反応で水あ
るいは二酸化炭素に変換されるのに必要十分な量(化学
量論量)で良いが、反応後の酸素を数ppm以下まで除
去しようとする場合は、僅かに過剰の可燃性物質、例え
ば化学量論量に対して5〜20%、特に10〜15%程
度の可燃性物質を過剰に添加することが好ましい。この
とき、酸素除去が終了した精製窒素ガスに、水や二酸化
炭素以外に一酸化炭素あるいは水素等の還元性ガスが含
まれる。これらは、過剰に添加した可燃性ガスの不完全
燃焼や自己分解反応により生成されるものである。そし
て、この還元性ガスを含む精製窒素ガスがはんだ付け装
置に供給された場合、酸化したはんだの酸素や、はんだ
付けを行う炉内の雰囲気ガス中の酸素と還元性ガスとが
反応して、はんだのヌレ性を向上させる効果がある。そ
のため、過剰に可燃性物質を添加して、還元性ガスを含
む窒素ガスをはんだ付け装置へ供給することにより、従
来使用していたフラックスの使用量の減量やはんだ付け
後の洗浄処理の簡素化、あるいは、洗浄処理不要のフラ
ックスの使用等が可能になる。
は、酸素と可燃性物質とを効率良く、かつ、比較的低温
(300℃以下)で反応させることができるものを選択
することが望ましい。このような触媒としては、例え
ば、白金[Pt],パラジウム[Pd]等の貴金属及び
酸化クロム(III) [Cr2 O3 ],二酸化マンガン[M
nO2 ],酸化銅(II)[CuO],酸化鉄(III) [Fe
2 O3 ],酸化ニッケル[NiO]等を挙げることがで
き、これらを単独あるいは複数種組み合わせて使用する
ことができる。さらに、触媒の耐熱性を高めるため、こ
れらの触媒成分を、ゼオライトやアルミナ等に担持させ
たものを用いても良い。
中の酸素を除去してはんだ付け装置に供給する第1の参
考例を説明する。膜式窒素発生装置1から発生した原料
窒素ガスは、管2から熱交換器3,管4を経て予熱器5
に導入され、ガス状あるいは液状の可燃性物質は、流量
計6,流量調節弁7にて原料窒素ガス中の酸素分の除去
に必要な化学量論量あるいは確実に除去するために僅か
に過剰量に調節された後、管8から前記管4を流れる原
料窒素ガス中に添加される。
計13と流量計14で測定した酸素濃度及び流量を演算
器15で処理し、供給されている原料窒素ガス中の酸素
を除去するのに必要な化学量論量としての可燃性物質の
供給量を算出し、前記流量調節弁7の開度を調節して、
必要に応じて流量計6の流量データを参考にして可燃性
物質の供給量を増減する。
予熱器5で電気ヒーター等により所定温度に加熱された
後、触媒層9に導入され、原料窒素ガス中に含まれる不
純物酸素は、前記可燃性物質との触媒反応により水や二
酸化炭素に変換されて除去され、酸素含有量が少なく、
水,二酸化炭素を含む精製窒素ガスが管10に導出され
る。
ガスは、その反応熱によって高温になっているので、熱
交換器3で前記原料窒素ガスとの熱交換により冷却され
た後、水分除去装置11で水分が除去され、はんだ付け
装置12に供給される。
付けでは、上述の酸素除去が終了した精製窒素ガス中に
水あるいは二酸化炭素が含まれていても、回路パターン
やはんだが酸化することがないため、これらを含んだ状
態で、そのまま使用することが可能であり、水分除去装
置11を通さなくても差し支えない。逆に、必要があれ
ば、二酸化炭素除去装置を設けて二酸化炭素を除去する
工程を付加しても良い。
で、酸素濃度が高い原料窒素ガスを処理する場合に好適
な装置構成を示している。すなわち、原料窒素ガス中に
含まれる不純物酸素濃度が高い場合、一度に触媒反応を
行うと、反応熱によって触媒層の温度が、触媒の耐熱温
度以上となることがあるが、本実施例はこれを解決する
ものである。
熱交換器3,予熱器5,流量計6,流量調節弁7,可燃
性物質添加用の管8及び触媒層9を、それぞれ二組設け
て触媒反応を2段階で行うように構成したものである。
熱交換器3aを経て供給される原料窒素ガスには、前記
同様に、管2に設けた分析計及び流量計(図示せず)か
らのデータにより得られる化学量論量より少ない量、例
えば約半量の可燃性物質が、第1流量計6a,第1流量
調節弁7aを介して第1添加管8aから管4内を流れる
原料窒素ガス中に添加される。
第1予熱器5aで所定温度に加熱された後、第1触媒層
9aに導入され、添加された可燃性物質の量に応じた酸
素が反応して水,二酸化炭素になる。第1触媒層9aを
出た粗精製窒素ガスは、管10aから前記第1熱交換器
3aに導入されて降温した後、管10bから第2熱交換
器3bに導入されて再び昇温し、管10cに導出され
る。この管10cには、第2流量計6b,第2流量調節
弁7bを介して可燃性物質を添加する第2添加管8bが
設けられており、粗精製窒素ガス中に残存する酸素を除
去し、更に供給する窒素ガスを還元雰囲気にするために
必要十分な可燃性物質が添加される。
2に設けた分析計及び流量計からのデータで、全ての酸
素を除去するのに必要な可燃性物質量を算出し、これを
適当な割合で二分してそれぞれ添加するようにしてもよ
く、管10bにも分析計を設けて残存酸素量を測定し、
これによって2段目の可燃性物質の添加量を制御するよ
うにしてもよい。
酸素が除去された精製窒素ガスは、管10dから第2熱
交換器3bを経た後、前記同様に、水分除去装置11で
水分が除去され、はんだ付け装置12に供給される。
で、液状の可燃性物質を添加するのに適した構成を示す
ものであって、前記図1の参考例と同様の構成を有する
装置に、液状可燃性物質添加系統21を付加したもので
ある。この液状可燃性物質添加系統21は、アルコール
等の液状可燃性物質を収容する容器22と、該容器22
内に膜式窒素発生装置1から管2に導出された窒素ガス
の一部を分岐して導入するための管23と、該容器22
内から液状可燃性物質を導出する管24とにより構成さ
れており、該管24は、流量計6,流量調節弁7及び管
8を介して原料窒素ガスが流れる管4に接続されてい
る。
圧に耐えられる構造のものであり、前記管23は、容器
22の上部空間に開口し、管24は、容器22の底部近
傍に開口している。また、前記管2と管23には、それ
ぞれ圧力調節弁25,26が設けられており、熱交換器
3に向かう原料窒素ガスと容器22に向かう加圧用窒素
ガス(分岐窒素ガス)は、それぞれ両圧力調節弁25,
26により所定の圧力に調節される。
液状可燃性物質の量は、両圧力調節弁25,26により
調節された両窒素ガスの圧力差、容器22の位置(液ヘ
ッド)、流量調節弁7の設定流量等により決定すること
ができ、通常は、はんだ付け装置12への精製窒素ガス
供給圧力から原料窒素ガスを設定し、該圧力状態の原料
窒素ガス中に液状可燃性物質を導入できるよう加圧用窒
素ガスの圧力を設定するとともに、原料窒素ガス中の酸
素濃度及び原料窒素ガスの流量に応じて流量調節弁7を
制御し、液状可燃性物質の添加量を調節する。なお、両
圧力調節弁25,26の制御のみで液状可燃性物質の添
加量を制御できる場合は、流量計6や流量調節弁7を省
略してもよい。また、精製窒素ガスの供給圧力が高く、
原料窒素ガスの圧力を下げられない場合には、圧力調節
弁26に増圧弁を用いて加圧用窒素ガスの圧力を高めれ
ばよい。
系統21によれば、容器22内の液状可燃性物質は、膜
式窒素発生装置1から管2に導出されて管23に分岐し
た加圧用窒素ガスにより加圧され、管24から流量計
6,流量調節弁7及び管8を介して管4内を流れる原料
窒素ガスに添加される。液状可燃性物質が添加された原
料窒素ガスは、以下、前記第1実施例と同様に、予熱器
5で所定温度に加温され、触媒層9で触媒反応により酸
素が除去され、管10,熱交換器3,水分除去装置11
を経てはんだ付け装置12に供給される。
窒素ガスで液状可燃性物質を加圧して添加するように構
成したことにより、液状可燃性物質を圧送するためのポ
ンプ等が不要になり、また、ポンプにより液状可燃性物
質を供給する場合には、供給液量に脈動が生じるのを避
けられないが、ガス加圧による液供給であるから脈動の
ない均一な液添加を行うことができ、安定した状態で反
応させることができる。しかも、容器22内の液状可燃
性物質が不活性ガスの窒素ガスでシールされた状態にな
るため、防爆の点でも有効である。
窒素ガスの供給に合わせて可燃性物質の供給を開始しな
ければならないが、本実施例によれば、膜式窒素発生装
置1で原料窒素ガスが発生すると同時に、その圧力で可
燃性物質の添加が行われるので、窒素ガスの供給開始と
可燃性物質の添加開始とを同期させることを極めて容易
に行うことができる。また、装置を停止させる場合も、
ガス圧力が失われると自動的に可燃性物質の添加も停止
するので安全である。
もので、前記第1実施例と第2実施例とを組み合わせた
と同様の構成を有している。すなわち、原料窒素ガスを
精製する系統として、触媒層が第1触媒層9aと第2触
媒層9bとの2段階に設置されるとともに、各触媒層に
対応して、第1予熱器5aと第2予熱器5b、第1流量
計6aと第2流量計6b、第1流量調節弁7aと第2流
量調節弁7b、第1添加管8aと第1添加管8bがそれ
ぞれ設けられている。
管2から分岐して液状可燃性物質を収容した容器22内
に加圧用窒素ガスを導入する管23と、容器22内から
液状可燃性物質を導出する管24と、圧力調節弁26と
を備えており、前記同様に、管2に設けられた圧力調節
弁25の上流から管23に原料窒素ガスの一部を分岐
し、該分岐した窒素ガスにより容器22内の液状可燃性
物質を加圧して管24に導出する。
は、第1流量調節弁7a及び第2流量調節弁7bにより
流量調節された後、第1の流れは第1添加管8aから管
4内の原料窒素ガスに、第2の流れは第2添加管8bか
ら管10a内の粗精製窒素ガスに、それぞれ添加され
る。
例のように熱交換器を分割することなく、管2からの原
料窒素ガスと管10dの精製窒素ガスとを熱交換器3で
熱交換させるように構成しており、第1触媒層9aから
管10aに導出した粗精製窒素ガスは、熱交換器を経る
ことなく、そのままの温度で第2添加管8bから液状可
燃性物質を添加され、第2触媒層9bに導入される。
燃性物質を導出する管24から先を2系統に分岐した
が、加圧用窒素ガスを分岐する管23からを2系統に分
割し、容器2の加圧圧力を異なる圧力にして液状可燃性
物質の添加量を調整するように構成することも可能であ
る。
にも、用いる可燃性物質の性状や量等に応じて適宜最適
な方法を選択することができ、例えば液状の可燃性物質
を入れた容器に原料窒素ガスの一部をバブリングさせて
可燃性物質の蒸気を原料窒素ガス中に同伴させるように
してもよく、液状の可燃性物質を液送ポンプ等で予熱器
部分に送り、予熱器で蒸発させて添加するようにしても
よい。
は、膜式窒素発生装置1から得た窒素96.4容積%、
酸素の3.6容積%の低純度窒素ガスを用い、両触媒層
9a,9bには、それぞれアルミナ[Al2 O3 ]に白
金を0.5重量%担持させた触媒(3〜8メッシュ)
を、内径28.4mmのステンレススチール製の管に6
0g充填したものを用いた。また、可燃性物質としては
エタノールを用いた。
中の3.6容積%の酸素を除去するために必要なエタノ
ールの化学量論量は、1.2容積%であることから、1
段目の触媒層9aの前段で0.6容積%に相当するエタ
ノールを添加し、2段目の触媒層9bの前段で0.66
容積%に相当するエタノールを添加した。したがって、
エタノールは、化学量論量より10%過剰に添加したこ
とになる。
れぞれ150℃に加熱して両触媒層9a,9bに導入し
た。1段目の触媒層9aから導出した粗精製窒素ガス中
に残存する酸素をガスクロマトグラフで分析したとこ
ろ、酸素量は1.8容積%まで減少しており、2段目の
触媒層9bから導出した精製窒素ガス中の酸素量は、分
析計の検出下限界である3ppm以下であった。
パラジウムを1.0重量%担持させた触媒(5mm×5
φのペレット)を用いるとともに、触媒層9a,9bに
導入する温度を250℃とした以外は、同様に操作を行
った。その結果、実験例1と同様に、1段目の触媒層9
aから導出した粗精製窒素ガス中に残存する酸素量は
1.8容積%まで減少しており、2段目の触媒層9bか
ら導出した精製窒素ガス中の酸素量は、分析計の検出下
限界である3ppm以下であった。
媒層,可燃性物質には実験例1と同じものを使用し、膜
式窒素発生装置1から発生した窒素96.4容積%、酸
素の3.6容積%、圧力5kgf/cm2 の原料窒素ガ
スを圧力調節弁(減圧弁)25で3kgf/cm2 にす
るとともに、一部を分岐して加圧用窒素ガスとし、該加
圧用窒素ガスの圧力を圧力調節弁(減圧弁)26で4k
gf/cm2 にした。
によりエタノールの添加量を調節し、酸素を除去するた
めに必要な化学量論量より10%過剰量になるようにし
た。150℃に加熱して触媒層9に導入し、触媒反応さ
せた結果、精製窒素ガス中に残留している酸素量は、分
析計の検出下限界である3ppm以下であった。
触媒層9への導入温度を250℃にするとともに、原料
窒素ガスの圧力を、膜式窒素発生装置1から発生した圧
力5kgf/cm2 のままとし、一方、エタノール添加
側の圧力を原料窒素ガス側よりも高める必要があること
から、圧力調節弁26に増圧弁を使用して加圧用窒素ガ
スの圧力を6kgf/cm2 とした。
10%過剰量のエタノールを添加して酸素の除去を行っ
た結果、精製窒素ガス中に残留している酸素量は、同じ
く3ppm以下であった。
け装置用の窒素ガス供給方法及び装置は、比較的低純
度、例えば95〜99容積%の窒素ガスを製造する膜式
窒素発生装置から得た原料窒素ガスに、アルコール等の
可燃性物質を添加し、さらに可燃性物質を反応に必要な
化学量論量に対して過剰に添加することで、酸素をpp
mレベルまで除去可能であり、かつ、精製窒素ガス中に
還元性ガスを有することで、はんだ付け装置に供給する
のに適した窒素ガスを連続して得ることができ、水素を
用いる従来方法のようなボンベ交換の手間もなく、安全
面でも優れている。また、前記可燃性物質を過剰に添加
することによって、窒素ガスを還元性とし、はんだのヌ
レ性を向上させる効果が得られる。
品の洗浄等に使用されているアルコールの一部を可燃性
物質として用いることができるので経済的である。しか
も、膜式窒素発生装置とはんだ付け装置との間に可燃性
物質の添加手段、通常は簡単な配管と触媒層とを付加す
るだけで装置を構成することができるので、設置スペー
スも小さく、はんだ付け装置に組み込むことも可能であ
る。
るとともに、該液状可燃性物質を原料窒素ガスの一部で
加圧して添加するように構成することにより、可燃性物
質の添加を容易かつ安全に行うことができ、また、安定
した状態で触媒反応させることができる。
る。
…流量計、7…流量調節弁、9…触媒層、11…水分除
去装置、12…はんだ付け装置、13…酸素濃度分析
計、14…流量計、15…演算器、21…液状可燃性物
質添加系統、22…容器、25,26…圧力調節弁
Claims (7)
- 【請求項1】 膜分離装置で分離した窒素ガスを、はん
だ付け工程を窒素ガス雰囲気中にて行うはんだ付け装置
に供給する方法において、前記窒素ガスに、水素を除く
常温で気体又は液体の可燃性物質を添加した後、触媒層
に通して含有する酸素を除去するにあたり、前記膜分離
装置で分離した窒素ガスの一部を分岐し、該分岐した窒
素ガスにより液状可燃性物質を収容した容器内を加圧
し、該加圧により前記容器内から前記液状可燃性物質を
導出して残部の窒素ガスに添加することを特徴とするは
んだ付け装置用の窒素ガス供給方法。 - 【請求項2】 前記可燃性物質の添加及び前記触媒層に
よる酸素除去を複数回繰返して行うことを特徴とする請
求項1記載のはんだ付け装置用の窒素ガス供給方法。 - 【請求項3】 前記可燃性物質がアルコールであること
を特徴とする請求項1又は2記載の記載のはんだ付け装
置用の窒素ガス供給方法。 - 【請求項4】 前記触媒層が、触媒として白金,パラジ
ウム等の貴金属及び酸化クロム(III) ,二酸化マンガ
ン,酸化銅(II),酸化鉄(III) ,酸化ニッケル等の金属
酸化物のいずれか単独あるいは二種以上を組合わせたも
のであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1
項に記載のはんだ付け装置用の窒素ガス供給方法。 - 【請求項5】 前記窒素ガス中の酸素量を分析計及び流
量計により検出し、該検出された酸素量に応じて前記可
燃性物質の添加量を制御することを特徴とする請求項1
乃至4のいずれか1項に記載のはんだ付け装置用の窒素
ガス供給方法。 - 【請求項6】 はんだ付け工程を窒素ガス雰囲気中にて
行うはんだ付け装置に供給する窒素ガスを分離する膜分
離装置と、前記窒素ガスに水素を除く常温で気体又は液
体の可燃性物質を添加する可燃性物質添加手段と、窒素
ガス中に含まれる酸素と前記可燃性物質とを反応させる
触媒層とを備えたはんだ付け装置用の窒素ガス供給装置
において、前記可燃性物質添加手段は、液状可燃性物質
を収容する容器と、該容器に前記膜分離装置で分離した
窒素ガスの一部を導入して加圧する経路と、該容器から
液状可燃性物質を導出して前記触媒層の入口側に導入す
る経路とを備えていることを特徴とするはんだ付け装置
用の窒素ガス供給装置。 - 【請求項7】 前記可燃性物質の添加手段及び前記触媒
層が、複数段設けられていることを特徴とする請求項6
記載のはんだ付け装置用の窒素ガス供給装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17938393A JP3531116B2 (ja) | 1992-10-20 | 1993-07-20 | はんだ付け装置用の窒素ガス供給方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (3)
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---|---|---|---|
JP4-282056 | 1992-10-20 | ||
JP28205692 | 1992-10-20 | ||
JP17938393A JP3531116B2 (ja) | 1992-10-20 | 1993-07-20 | はんだ付け装置用の窒素ガス供給方法及び装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH06183705A JPH06183705A (ja) | 1994-07-05 |
JP3531116B2 true JP3531116B2 (ja) | 2004-05-24 |
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CN101920369B (zh) * | 2010-08-25 | 2012-08-22 | 盐城市康杰机械制造有限公司 | 铝钎焊炉中的氮气供应结构 |
-
1993
- 1993-07-20 JP JP17938393A patent/JP3531116B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH06183705A (ja) | 1994-07-05 |
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