JP3518051B2 - 回折格子パターンの作製方法及び装置 - Google Patents
回折格子パターンの作製方法及び装置Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/0236—Form or shape of the hologram when not registered to the substrate, e.g. trimming the hologram to alphanumerical shape
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- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光を用い、その
２光束干渉法によって回折格子パターンを作製する作製
方法及び装置に係り、特に、装置構造が極めて簡単で、
かつ装置の調整も簡便に出来、しかも感光材料の塗布さ
れた乾板を損傷することなく任意の形の回折格子のパタ
ーンを高精度、かつ自動的に連続して作製し得る回折格
子パターンの作製方法及び装置に関する。
２光束干渉法によって回折格子パターンを作製する作製
方法及び装置に係り、特に、装置構造が極めて簡単で、
かつ装置の調整も簡便に出来、しかも感光材料の塗布さ
れた乾板を損傷することなく任意の形の回折格子のパタ
ーンを高精度、かつ自動的に連続して作製し得る回折格
子パターンの作製方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、レーザ光源のようなコヒーレン
ト光源を用い、これからのレーザ光を２光束に分け、再
び感光材料で同時に露光することにより干渉縞を記録す
ることが出来る。この干渉縞は前記２光束に分かれたレ
ーザ光の入射角により干渉縞のピッチ（空間周波数の逆
数）が変り、干渉縞の方向は前記２光束の入射方向によ
って変る。また、干渉縞の濃さは２光束のレーザ光の光
強度によって変る。すなわち、干渉縞のピッチ，方向お
よび濃さが観察時における色調，視角方向および輝度に
それぞれ関係する。
ト光源を用い、これからのレーザ光を２光束に分け、再
び感光材料で同時に露光することにより干渉縞を記録す
ることが出来る。この干渉縞は前記２光束に分かれたレ
ーザ光の入射角により干渉縞のピッチ（空間周波数の逆
数）が変り、干渉縞の方向は前記２光束の入射方向によ
って変る。また、干渉縞の濃さは２光束のレーザ光の光
強度によって変る。すなわち、干渉縞のピッチ，方向お
よび濃さが観察時における色調，視角方向および輝度に
それぞれ関係する。
【０００３】２光束のレーザ光の干渉によって回折格子
を形成して回折格子パターンを有するディスプレイを作
製する方法としては、例えば特開平５−２４１００８号
公報に開示された技術が上げられる。図７はその概要構
造を示すものである。レーザ光源１６から光学系を介し
て送られてきたレーザ光１７は切抜部又は透過部からな
るマスクパターン１８を有するマスク１９に入射され、
マスク１９の前面に配置される回折格子形成体２０で回
折される。回折格子形成体２０から焦点ｆ1を距ててレ
ンズ２１を配置すると±１次回折光および０次回折光が
レンズ２１に入射される。０次回折光をストッパ２２で
カットすると±１次回折光が次のレンズ２３に入射し、
レンズ２３で屈折し、焦点ｆ2だけレンズ２３から距て
た位置の感光材料を塗布した乾板２４に集束される。±
１次回折光の２光束干渉により乾板２４に回折格子２５
が形成される。この回折格子２５はマスクパターンと同
形のパターン内に形成される。一方、乾板２４を載置す
るＸ−Ｙステージ２６をＸ，Ｙ方向に動かし回折格子形
成体２０をθ方位に動かすことにより乾板２４上の任意
の位置に回折格子パターンを複数個形成することが出来
る。
を形成して回折格子パターンを有するディスプレイを作
製する方法としては、例えば特開平５−２４１００８号
公報に開示された技術が上げられる。図７はその概要構
造を示すものである。レーザ光源１６から光学系を介し
て送られてきたレーザ光１７は切抜部又は透過部からな
るマスクパターン１８を有するマスク１９に入射され、
マスク１９の前面に配置される回折格子形成体２０で回
折される。回折格子形成体２０から焦点ｆ1を距ててレ
ンズ２１を配置すると±１次回折光および０次回折光が
レンズ２１に入射される。０次回折光をストッパ２２で
カットすると±１次回折光が次のレンズ２３に入射し、
レンズ２３で屈折し、焦点ｆ2だけレンズ２３から距て
た位置の感光材料を塗布した乾板２４に集束される。±
１次回折光の２光束干渉により乾板２４に回折格子２５
が形成される。この回折格子２５はマスクパターンと同
形のパターン内に形成される。一方、乾板２４を載置す
るＸ−Ｙステージ２６をＸ，Ｙ方向に動かし回折格子形
成体２０をθ方位に動かすことにより乾板２４上の任意
の位置に回折格子パターンを複数個形成することが出来
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】図７に示した従来技術
の場合、＋１次回折光および−１次回折光のいずれもレ
ンズ２１の周辺部を通過する。そのため、非点収差と球
面収差が同時に発生し、像面湾曲や歪曲が起こり、良好
な結像が得られない問題点がある。図６は図４に示した
パターン２７を有するマスク２８を用いて前記の従来技
術によりレジスト上に作製した回折格子パターン１５ａ
を示す。図示のようにこの回折格子パターン１５ａは収
差や湾曲の影響を受け、かなり変形した形状が作製さ
れ、高品質のものが得られない問題点があった。
の場合、＋１次回折光および−１次回折光のいずれもレ
ンズ２１の周辺部を通過する。そのため、非点収差と球
面収差が同時に発生し、像面湾曲や歪曲が起こり、良好
な結像が得られない問題点がある。図６は図４に示した
パターン２７を有するマスク２８を用いて前記の従来技
術によりレジスト上に作製した回折格子パターン１５ａ
を示す。図示のようにこの回折格子パターン１５ａは収
差や湾曲の影響を受け、かなり変形した形状が作製さ
れ、高品質のものが得られない問題点があった。
【０００５】本発明は、以上の問題点を解決するもので
レンズや回折格子形成体のような複雑な光学系を用いず
装置構成が極めて簡単で、かつ装置の調整も極めて簡便
であり、像面湾曲や歪曲がなく高品質の回折格子パター
ンを作製する回折格子パターンの作製方法及び装置を提
供することを目的とする。
レンズや回折格子形成体のような複雑な光学系を用いず
装置構成が極めて簡単で、かつ装置の調整も極めて簡便
であり、像面湾曲や歪曲がなく高品質の回折格子パター
ンを作製する回折格子パターンの作製方法及び装置を提
供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、以上の目的を
達成するために、レーザ光を用い、その２光束干渉によ
って所望のパターン内に回折格子を作製する方法であっ
て、前記パターンを規定するマスクの切抜部又は透光部
を通過した入射角の異なる２種類の物体光とこれ等に交
差する１種類のの参照光を感光材料を塗布した第１の乾
板上に露光してホログラムからなるマスタを撮影する第
１の工程と、感光材料を塗布した別の第２の乾板をマス
タの前方に配置し、該マスタの後方から前記参照光の共
役光を入射し、回折により再生した２種類の物体光の２
光束干渉により、回折格子パターンを撮影する第２の工
程からなる回折格子パターンの作製方法を特徴とする。
更に、前記第２の工程は、マスタに対して前記第２の乾
板の位置および方位を相対的に変えながら逐次露光を行
い、回折格子パターンを複数個作製することを特徴とす
る。また、レーザ光を用い、その２光束干渉によって回
折格子パターンを作製する装置であって、前記パターン
を規定するマスクの切抜部又は透光部を通過した入射角
の異なる２種類の物体光とこれ等に交差する１種類の参
照光を感光材料を塗布した第１の乾板上に露光してホロ
グラムからなるマスタを撮影する第１の光学装置と、感
光材料を塗布した別の第２の乾板を前記マスタに対向し
てＸ−Ｙ−θステージに載置し、該Ｘ−Ｙ−θステージ
を任意のＸ，Ｙ，θ方向又は方位に移動させながら開閉
によって露光，非露光を行うシャッタを通して前記参照
光の共役光をマスタに入射し、回折により再生した２種
類の物体光の２光束干渉により回折格子パターンを複数
個撮影する第２の光学装置とからなる回折格子パターン
の作製装置を構成するものである。更に具体的に、前記
第１の光学装置が、レーザ光源からシャッタを介して出
射されるレーザ光を互いに入射角の異なる２種類の物体
光とこれ等と交差する参照光に分割する第１の光学系
と、前記パターンを規定する切抜部又は透光部を形成す
るマスクと、該マスクと相対向して配置される感光材料
を塗布した第１の乾板とから構成され、前記第２の光学
装置は、前記マスクの切抜部又は透光部を通過した２種
類の物体光と参照光との干渉により第１の乾板上に露光
されたホログラムのマスタと、該マスタの前方において
前記第１の乾板と同じ位置に配置された感光材料を塗布
した第２の乾板と、該第２の乾板を載置しコントローラ
で同期制御されるＸ−Ｙ−θステージと、レーザ光源か
らシャッタを介して出射されるレーザ光を前記参照光と
共役は共役光にする第２の光学系とからなる回折格子パ
ターンの作製装置を構成するものである。
達成するために、レーザ光を用い、その２光束干渉によ
って所望のパターン内に回折格子を作製する方法であっ
て、前記パターンを規定するマスクの切抜部又は透光部
を通過した入射角の異なる２種類の物体光とこれ等に交
差する１種類のの参照光を感光材料を塗布した第１の乾
板上に露光してホログラムからなるマスタを撮影する第
１の工程と、感光材料を塗布した別の第２の乾板をマス
タの前方に配置し、該マスタの後方から前記参照光の共
役光を入射し、回折により再生した２種類の物体光の２
光束干渉により、回折格子パターンを撮影する第２の工
程からなる回折格子パターンの作製方法を特徴とする。
更に、前記第２の工程は、マスタに対して前記第２の乾
板の位置および方位を相対的に変えながら逐次露光を行
い、回折格子パターンを複数個作製することを特徴とす
る。また、レーザ光を用い、その２光束干渉によって回
折格子パターンを作製する装置であって、前記パターン
を規定するマスクの切抜部又は透光部を通過した入射角
の異なる２種類の物体光とこれ等に交差する１種類の参
照光を感光材料を塗布した第１の乾板上に露光してホロ
グラムからなるマスタを撮影する第１の光学装置と、感
光材料を塗布した別の第２の乾板を前記マスタに対向し
てＸ−Ｙ−θステージに載置し、該Ｘ−Ｙ−θステージ
を任意のＸ，Ｙ，θ方向又は方位に移動させながら開閉
によって露光，非露光を行うシャッタを通して前記参照
光の共役光をマスタに入射し、回折により再生した２種
類の物体光の２光束干渉により回折格子パターンを複数
個撮影する第２の光学装置とからなる回折格子パターン
の作製装置を構成するものである。更に具体的に、前記
第１の光学装置が、レーザ光源からシャッタを介して出
射されるレーザ光を互いに入射角の異なる２種類の物体
光とこれ等と交差する参照光に分割する第１の光学系
と、前記パターンを規定する切抜部又は透光部を形成す
るマスクと、該マスクと相対向して配置される感光材料
を塗布した第１の乾板とから構成され、前記第２の光学
装置は、前記マスクの切抜部又は透光部を通過した２種
類の物体光と参照光との干渉により第１の乾板上に露光
されたホログラムのマスタと、該マスタの前方において
前記第１の乾板と同じ位置に配置された感光材料を塗布
した第２の乾板と、該第２の乾板を載置しコントローラ
で同期制御されるＸ−Ｙ−θステージと、レーザ光源か
らシャッタを介して出射されるレーザ光を前記参照光と
共役は共役光にする第２の光学系とからなる回折格子パ
ターンの作製装置を構成するものである。
【０００７】
【作用】レーザ光源から放射したレーザ光の一部はマス
クの切抜部又は透過部を通過し互いに入射角の異なる２
光束の物体光となり第１の乾板に照射される。一方、レ
ーザ光源から放射したレーザ光の他部は前記２光束の物
体光と交差する参照光となり前記第１の乾板上に照射さ
れる。この物体光と参照光の干渉により第１の乾板上に
ホログラムからなるマスタが撮影される。次に、このマ
スタの前方に前記マスタが配置されていたと同一の間隔
を保持して第２の乾板を相対向して配置する。前記参照
光と共役の共役光を前記マスタの後方から当てるとマス
タから互いに交差する物体光が再生され第２の乾板上で
干渉し、回折格子を形成する。この回折格子は前記マス
クパターンの規定された内部に形成される。コントロー
ラによりＸ−Ｙ−θステージをＸ，Ｙ方向およびθ方位
に移動することにより複数個の回折格子パターンを撮影
することが出来る。
クの切抜部又は透過部を通過し互いに入射角の異なる２
光束の物体光となり第１の乾板に照射される。一方、レ
ーザ光源から放射したレーザ光の他部は前記２光束の物
体光と交差する参照光となり前記第１の乾板上に照射さ
れる。この物体光と参照光の干渉により第１の乾板上に
ホログラムからなるマスタが撮影される。次に、このマ
スタの前方に前記マスタが配置されていたと同一の間隔
を保持して第２の乾板を相対向して配置する。前記参照
光と共役の共役光を前記マスタの後方から当てるとマス
タから互いに交差する物体光が再生され第２の乾板上で
干渉し、回折格子を形成する。この回折格子は前記マス
クパターンの規定された内部に形成される。コントロー
ラによりＸ−Ｙ−θステージをＸ，Ｙ方向およびθ方位
に移動することにより複数個の回折格子パターンを撮影
することが出来る。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。図１および図２は本実施例の回折格子パターンの作
製装置の概要構成を示す構成図であり、図３は本実施例
の回折格子パターンの作製方法を説明するためのフロー
チャートであり、図５は図４に示したパターンのマスク
を用いて本実施例により作製した複数個回折格子パター
ンの一例を示す平面図である。
る。図１および図２は本実施例の回折格子パターンの作
製装置の概要構成を示す構成図であり、図３は本実施例
の回折格子パターンの作製方法を説明するためのフロー
チャートであり、図５は図４に示したパターンのマスク
を用いて本実施例により作製した複数個回折格子パター
ンの一例を示す平面図である。
【０００９】本実施例の回折格子パターンの作製装置は
図１に示す第１の光学装置１と、図２に示す第２の光学
装置２からなる。まず、図１に示すように、第１の光学
装置１は、レーザ光源３，シャッタ４，第１の光学系
５，レンズ６，６，パターンを規定する切抜部又は透過
部（以下、パターン７という）を有するマスク８および
感光材料を塗布した第１の乾板９等からなる。なお、本
実施例では第１の乾板９は銀塩乾板９からなる。次に、
図３のフローチャートを参照しながら第１の光学装置１
の動作を説明する。レーザ光源３からシャッタ４を通っ
たレーザ光は第１の光学系５により３分割される（ステ
ップ１００）。その中の２つはレンズ６，６を通り、矢
印Ａ，Ｂで示す２光束の物体光となる。なお、２光束の
物体光は互いに交差し、かつマスク８のパターン７に向
かって傾斜して照射される（ステップ１０１）。一方、
残りの１つは矢印Ｃで示す参照光となる。なお、参照光
は前記物体光と交差する。マスク８のパターン７を通過
した物体光は銀塩乾板９の２個所Ｄ，Ｅの部分に照射さ
れ、参照光と干渉し露光される（ステップ１０２）。こ
の干渉により第１の乾板９の位置Ｄ，Ｅにはホログラム
からなるマスタホログラム９ａが作製される（ステップ
１０３）。以上により第１の工程が終了する。
図１に示す第１の光学装置１と、図２に示す第２の光学
装置２からなる。まず、図１に示すように、第１の光学
装置１は、レーザ光源３，シャッタ４，第１の光学系
５，レンズ６，６，パターンを規定する切抜部又は透過
部（以下、パターン７という）を有するマスク８および
感光材料を塗布した第１の乾板９等からなる。なお、本
実施例では第１の乾板９は銀塩乾板９からなる。次に、
図３のフローチャートを参照しながら第１の光学装置１
の動作を説明する。レーザ光源３からシャッタ４を通っ
たレーザ光は第１の光学系５により３分割される（ステ
ップ１００）。その中の２つはレンズ６，６を通り、矢
印Ａ，Ｂで示す２光束の物体光となる。なお、２光束の
物体光は互いに交差し、かつマスク８のパターン７に向
かって傾斜して照射される（ステップ１０１）。一方、
残りの１つは矢印Ｃで示す参照光となる。なお、参照光
は前記物体光と交差する。マスク８のパターン７を通過
した物体光は銀塩乾板９の２個所Ｄ，Ｅの部分に照射さ
れ、参照光と干渉し露光される（ステップ１０２）。こ
の干渉により第１の乾板９の位置Ｄ，Ｅにはホログラム
からなるマスタホログラム９ａが作製される（ステップ
１０３）。以上により第１の工程が終了する。
【００１０】図２に示すように、第２の光学装置２は、
レーザ光源３ａ，電磁型のシャッタ４ａ、第２の光学系
１０、感光材料を塗布した第２の乾板１１，第２の乾板
１１を載置するＸ−Ｙ−θステージ１２，およびＸ−Ｙ
−θステージ１２とシャッタ４ａを制御するコントロー
ラ１３等からなる。なお、レーザ光源３ａおよびシャッ
タ４ａは第１の光学装置１のそれ等と共通のものでもよ
い。また、本実施例では第２の乾板１１はフォトレジス
トを成膜したガラス（以下、フォトレジストガラス１１
という）からなる。Ｘ−Ｙ−θステージ１２上に載置さ
れるフォトレジストガラス１１とマスタホログラム９ａ
とを第１の光学装置におけるマスク８と第１の乾板９と
同一の関係になるように互いに配置する（ステップ１０
４）。第１の光学装置１における参照光と共役な共役光
を図示の矢印Ｆのようにマスタホログラム９ａの後方か
ら照射する（ステップ１０５）。共役光がマスタホログ
ラム９ａに照射されるとマスタホログラム９ａから２光
束の物体光が再生される。この物体光はフォトレジスト
ガラス１１に集束され、互いに干渉して回折格子１４を
形成する。回折格子１４はマスクパターンと同一の形状
のパターン内に形成されるものである。以上により回折
格子１４を有する回折格子パターン１５が作製される
（ステップ１０６）。フォトレジストガラス１１上に撮
影された回折格子パターン１５は現像されて凹凸の形で
記録される。記録されたパターンは銀鏡スプレー等で導
電膜を形成し、Ｎｉ電鋳により原版となり、熱可塑性樹
脂が塗られた基材に高温高圧でエンボス成型されて複製
化される。フォトレジストガラス１１上に複数個の回折
格子パターン１５を作製する場合はコントローラ１３に
よりＸ−Ｙ−θステージ１２およびシャッタ４ａを同期
制御することにより乾板の位置，角度を変えて容易に作
製することが出来る（ステップ１０７）。
レーザ光源３ａ，電磁型のシャッタ４ａ、第２の光学系
１０、感光材料を塗布した第２の乾板１１，第２の乾板
１１を載置するＸ−Ｙ−θステージ１２，およびＸ−Ｙ
−θステージ１２とシャッタ４ａを制御するコントロー
ラ１３等からなる。なお、レーザ光源３ａおよびシャッ
タ４ａは第１の光学装置１のそれ等と共通のものでもよ
い。また、本実施例では第２の乾板１１はフォトレジス
トを成膜したガラス（以下、フォトレジストガラス１１
という）からなる。Ｘ−Ｙ−θステージ１２上に載置さ
れるフォトレジストガラス１１とマスタホログラム９ａ
とを第１の光学装置におけるマスク８と第１の乾板９と
同一の関係になるように互いに配置する（ステップ１０
４）。第１の光学装置１における参照光と共役な共役光
を図示の矢印Ｆのようにマスタホログラム９ａの後方か
ら照射する（ステップ１０５）。共役光がマスタホログ
ラム９ａに照射されるとマスタホログラム９ａから２光
束の物体光が再生される。この物体光はフォトレジスト
ガラス１１に集束され、互いに干渉して回折格子１４を
形成する。回折格子１４はマスクパターンと同一の形状
のパターン内に形成されるものである。以上により回折
格子１４を有する回折格子パターン１５が作製される
（ステップ１０６）。フォトレジストガラス１１上に撮
影された回折格子パターン１５は現像されて凹凸の形で
記録される。記録されたパターンは銀鏡スプレー等で導
電膜を形成し、Ｎｉ電鋳により原版となり、熱可塑性樹
脂が塗られた基材に高温高圧でエンボス成型されて複製
化される。フォトレジストガラス１１上に複数個の回折
格子パターン１５を作製する場合はコントローラ１３に
よりＸ−Ｙ−θステージ１２およびシャッタ４ａを同期
制御することにより乾板の位置，角度を変えて容易に作
製することが出来る（ステップ１０７）。
【００１１】図５は図４のパターン２７をマスク２８と
して使用した場合の本実施例による複数個の回折格子パ
ターン１５を示すものであり、図６の回折格子パターン
１５ａと対応されるものである。図示のように、本実施
例の回折格子パターン１５はマスタ２８の形状を忠実に
再現している。
して使用した場合の本実施例による複数個の回折格子パ
ターン１５を示すものであり、図６の回折格子パターン
１５ａと対応されるものである。図示のように、本実施
例の回折格子パターン１５はマスタ２８の形状を忠実に
再現している。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、次のような顕著な効果
を奏する。 １）従来技術のように、レンズや回折格子形成体のよう
な複雑な光学系を使用しないため装置構造が簡便になり
比較的安価に実施出来る。 ２）レンズを使用しないため像面湾曲や歪曲のない回折
格子パターンを得ることが出来、高品質でアイキャッチ
効果のある回折格子パターンを得ることが出来る。 ３）複数個の回折格子パターンを作製する場合はＸ−Ｙ
−θステージをコントローラで同期制御すればよく、極
めて簡単であり、かつ自動的に複数個の回折格子パター
ンが容易に作製される。 ４）Ｘ−Ｙ−θステージを使用することにより同じ空間
周波数のパターンがその位置および角度を自由自在に変
えられ、変化のある高品質の回折格子パターンを作製す
ることが出来る。 ５）レンズを使用しないため光の集束が容易に行われ、
装置の調整時間が短縮され作製時間の効率化が図れる。
を奏する。 １）従来技術のように、レンズや回折格子形成体のよう
な複雑な光学系を使用しないため装置構造が簡便になり
比較的安価に実施出来る。 ２）レンズを使用しないため像面湾曲や歪曲のない回折
格子パターンを得ることが出来、高品質でアイキャッチ
効果のある回折格子パターンを得ることが出来る。 ３）複数個の回折格子パターンを作製する場合はＸ−Ｙ
−θステージをコントローラで同期制御すればよく、極
めて簡単であり、かつ自動的に複数個の回折格子パター
ンが容易に作製される。 ４）Ｘ−Ｙ−θステージを使用することにより同じ空間
周波数のパターンがその位置および角度を自由自在に変
えられ、変化のある高品質の回折格子パターンを作製す
ることが出来る。 ５）レンズを使用しないため光の集束が容易に行われ、
装置の調整時間が短縮され作製時間の効率化が図れる。
【図１】本発明の一実施例に係る回折格子作製装置に含
まれる第１の光学装置の全体構成図。
まれる第１の光学装置の全体構成図。
【図２】本発明の一実施例に係る回折格子作製装置に含
まれる第２の光学装置の全体構成図。
まれる第２の光学装置の全体構成図。
【図３】本実施例の回折格子パターンの作製方法を説明
するためのフローチャート。
するためのフローチャート。
【図４】マスクパターンを示す平面図。
【図５】図４のマスクパターンを用いて本実施例により
作製された複数個の回折格子パターンを示す平面図。
作製された複数個の回折格子パターンを示す平面図。
【図６】図４のマスクパターンを用いて従来の回折格子
パターン作製方法によって作製された複数個の回折格子
パターンを示す平面図。
パターン作製方法によって作製された複数個の回折格子
パターンを示す平面図。
【図７】従来の回折格子パターンの作製装置の構成図。
１ 第１の光学装置
２ 第２の光学装置
３ レーザ光源
３ａ レーザ光源
４ シャッタ
４ａ シャッタ
５ 第１の光学系
６ レンズ
７ パターン
８ マスク
９ 第１の乾板
９ａ マスタホログラム
１０ 第２の光学系
１１ 第２の乾板（フォトレジストガラス）
１２ Ｘ−Ｙ−θステージ
１３ コントローラ
１４ 回折格子
１５ 回折格子パターン
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平３−144483（ＪＰ，Ａ)
特開 昭64−63902（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−180801（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−164789（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−61397（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 5/18
Claims (4)
- 【請求項１】 レーザ光を用い、その２光束干渉によっ
て所望のパターン内に回折格子を作製する方法であっ
て、前記パターンを規定するマスクの切抜部又は透光部
を通過した入射角の異なる２種類の物体光とこれ等に交
差する１種類のの参照光を感光材料を塗布した第１の乾
板上に露光してホログラムからなるマスタを撮影する第
１の工程と、感光材料を塗布した別の第２の乾板をマス
タの前方に配置し、該マスタの後方から前記参照光の共
役光を入射し、回折により再生した２種類の物体光の２
光束干渉により、回折格子パターンを撮影する第２の工
程からなることを特徴とする回折格子パターンの作製方
法。 - 【請求項２】 前記第２の工程は、マスタに対して前記
第２の乾板の位置および方位を相対的に変えながら逐次
露光を行い、回折格子パターンを複数個作製することを
特徴とする請求項１の回折格子パターンの作製方法。 - 【請求項３】 レーザ光を用い、その２光束干渉によっ
て回折格子パターンを作製する装置であって、前記パタ
ーンを規定するマスクの切抜部又は透光部を通過した入
射角の異なる２種類の物体光とこれ等に交差する１種類
のの参照光を感光材料を塗布した第１の乾板上に露光し
てホログラムからなるマスタを撮影する第１の光学装置
と、感光材料を塗布した別の第２の乾板を前記マスタに
対向してＸ−Ｙ−θステージに載置し、該Ｘ−Ｙ−θス
テージを任意のＸ，Ｙ，θ方向又は方位に移動させなが
ら開閉によって露光，非露光を行うシャッタを通して前
記参照光の共役光をマスタに入射し、回折により再生し
た２種類の物体光の２光束干渉により回折格子パターン
を複数個撮影する第２の光学装置とからなることを特徴
とする回折格子パターンの作製装置。 - 【請求項４】 前記第１の光学装置が、レーザ光源から
シャッタを介して出射されるレーザ光を互いに入射角の
異なる２種類の物体光とこれ等と交差する参照光に分割
する第１の光学系と、前記パターンを規定する切抜部又
は透光部を形成するマスクと、該マスクと相対向して配
置される感光材料を塗布した第１の乾板とから構成さ
れ、前記第２の光学装置は、前記マスクの切抜部又は透
光部を通過した２種類の物体光と参照光との干渉により
第１の乾板上に露光されたホログラムのマスタと、該マ
スタの前方において前記第１の乾板と同じ位置に配置さ
れた感光材料を塗布した第２の乾板と、該第２の乾板を
載置しコントローラで同期制御されるＸ−Ｙ−θステー
ジと、レーザ光源からシャッタを介して出射されるレー
ザ光を前記参照光と共役は共役光にする第２の光学系と
から構成されてなる請求項３の回折格子パターンの作製
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12289295A JP3518051B2 (ja) | 1995-05-23 | 1995-05-23 | 回折格子パターンの作製方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12289295A JP3518051B2 (ja) | 1995-05-23 | 1995-05-23 | 回折格子パターンの作製方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08313711A JPH08313711A (ja) | 1996-11-29 |
| JP3518051B2 true JP3518051B2 (ja) | 2004-04-12 |
Family
ID=14847222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12289295A Expired - Fee Related JP3518051B2 (ja) | 1995-05-23 | 1995-05-23 | 回折格子パターンの作製方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3518051B2 (ja) |
-
1995
- 1995-05-23 JP JP12289295A patent/JP3518051B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08313711A (ja) | 1996-11-29 |
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